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WO2018199148A1 - Electric element, actuator, and communication device - Google Patents

Electric element, actuator, and communication device Download PDF

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WO2018199148A1
WO2018199148A1 PCT/JP2018/016768 JP2018016768W WO2018199148A1 WO 2018199148 A1 WO2018199148 A1 WO 2018199148A1 JP 2018016768 W JP2018016768 W JP 2018016768W WO 2018199148 A1 WO2018199148 A1 WO 2018199148A1
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coil
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hall element
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PCT/JP2018/016768
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Inventor
伊藤 慎悟
Original Assignee
株式会社村田製作所
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Application filed by 株式会社村田製作所 filed Critical 株式会社村田製作所
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    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R33/00Arrangements or instruments for measuring magnetic variables
    • G01R33/02Measuring direction or magnitude of magnetic fields or magnetic flux
    • G01R33/06Measuring direction or magnitude of magnetic fields or magnetic flux using galvano-magnetic devices
    • G01R33/07Hall effect devices
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details

Definitions

  • An object of the present invention is to provide an electric element that can suppress a change in sensitivity of the Hall element even when the base substrate is thinned.
  • FIG. 1A is a side sectional view schematically showing the structure of the electric element 1 according to the first embodiment of the present invention
  • FIG. 1B is a schematic view of the coil 2 in FIG.
  • a coil 2 in FIG. 1A shows a cross section along AA ′ in FIG.
  • the insulating bases 2a, 2b, and 2c in which the conductive patterns 20 and 21 and the electrode 22 are formed and the via holes are filled with the conductive paste are laminated and integrated by a heating press or the like.
  • the conductive paste filled in the via holes is also heated and hardened to form interlayer connection conductors 6a, 6b, 6c, and 6d that electrically connect the conductor patterns of the respective insulating base materials.
  • Conductor patterns 20 and 21 and electrode 22 are electrically connected by interlayer connection conductors 6a, 6b, 6c, and 6d.
  • the coil 2 as shown in FIG. 2B is formed.
  • the base substrate 4 is formed from the same type of resin substrate as the insulating substrates 2a, 2b, 2c forming the coil 2.
  • the base substrate 4 can be formed using a thermoplastic resin such as liquid crystal polymer (LCP: Liquid Crystal Polymer).
  • LCP liquid Crystal Polymer
  • the base substrate 4 of the present embodiment has a first region R1 having a small thickness in the Z-axis direction and a second region R2 having a large thickness.
  • the thick second region R2 is formed, for example, by laminating a liquid crystal polymer in a portion corresponding to the thick second region R2 and integrating them with a hot press or the like.
  • the base substrate 4 of this embodiment can be formed by the following manufacturing method. First, two resin base materials in which a copper foil is stretched over the entire surface of one side are prepared. Next, the electrode 41, the electrode 42, and a wiring pattern (not shown) are formed by a patterning process such as photolithography. Next, the resin base material on which the electrode 41 and the wiring pattern are formed and the resin base material on which the electrode 42 and the wiring pattern are formed are laminated at a position corresponding to the thick second region R2, and are integrated by a heating press or the like. Make it. The base substrate 4 is formed as described above.
  • the thin first regions R1-1, R1-3, R1-4, and R1-5 of the base substrate 4 are used as one layer of resin substrate, and two thick second regions R2-
  • 1 is a two-layer resin base material
  • the present invention is not limited to such an embodiment, and the number of layers in each region can be changed as appropriate.
  • the coil 2 in the electric element 1 ⁇ / b> C of the present embodiment is different from the first embodiment in that the coil 2 is formed using insulating base materials 2 a, 2 b, and 2 b in which a through hole 9 is formed in the center.
  • the manufacturing method of the coil 2 is the same as that of the first embodiment, and the insulating base materials 2a, 2b, and 2b may be laminated so that the through holes 9 overlap with each other and integrated by a heating press or the like.

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Abstract

Provided is an electric element capable of suppressing changes in the sensitivity of Hall elements even when a base substrate is thinly formed. An electric element 1 comprises a coil 2 and a Hall element 3 connected to a single base substrate 4, wherein the base substrate 4 comprises a flexible resin substrate and has a thin first region R1 and a thick second region R2, the coil 2 is connected at the first region R1, and the Hall element 3 is connected at the second region R2.

Description

電気素子、アクチュエータ、および通信装置ELECTRIC ELEMENT, ACTUATOR, AND COMMUNICATION DEVICE
 この発明は、電気素子、アクチュエータ、および通信装置に関する。 The present invention relates to an electric element, an actuator, and a communication device.
 従来から、導体パターンによるコイルを複数層に渡って形成した電磁石を用いて構成されているアクチュエータが提案されている。 Conventionally, an actuator configured using an electromagnet in which a coil having a conductor pattern is formed over a plurality of layers has been proposed.
 例えば、特許文献1では、四角形の枠体状の絶縁基材であるプリントコイル基板の四辺に導体パターンのコイルを設け、このようなプリントコイル基板を複数用意して積層することにより、積層コイルを形成する。そして、特許文献1においては、この積層コイルを、移動可能に配置された永久磁石の下面に対向させることにより、アクチュエータを構成している。 For example, in Patent Document 1, a coil of a conductor pattern is provided on four sides of a printed coil board that is a rectangular frame-shaped insulating base material, and a plurality of such printed coil boards are prepared and laminated, whereby a laminated coil is obtained. Form. And in patent document 1, the actuator is comprised by making this laminated coil oppose the lower surface of the permanent magnet arrange | positioned so that a movement is possible.
特開2016-191849号公報JP 2016-191849 A
 しかしながら、特許文献1の電気素子は、ホール素子を配置するベース基材が積層されて厚く構成されているため、例えば薄型化の傾向にある携帯機器等に用いるには適していない。一方、携帯機器等に用いるためにベース基材を薄くした場合には、ベース基材が変形することによりホール素子のパッケージに応力がかかり、その結果、ホール素子の感度が変化するという問題があった。 However, the electric element of Patent Document 1 is not suitable for use in, for example, a portable device that tends to be thin because the base material on which the Hall element is arranged is laminated and thick. On the other hand, when the base substrate is thinned for use in a portable device or the like, the base substrate is deformed and stress is applied to the Hall element package, resulting in a change in Hall element sensitivity. It was.
 この発明の課題は、ベース基材を薄くした場合でも、ホール素子の感度の変化を抑えることのできる電気素子を提供することにある。 An object of the present invention is to provide an electric element that can suppress a change in sensitivity of the Hall element even when the base substrate is thinned.
 本発明の第1の態様は、コイルとホール素子が一つのベース基材に接続されている電気素子であって、前記ベース基材は可撓性を有する樹脂基材からなり、厚みの薄い第1領域と、厚い第2領域を有し、前記コイルは前記第1領域で接続されており、前記ホール素子は前記第2領域に接続されている、ことを特徴とする。 A first aspect of the present invention is an electric element in which a coil and a Hall element are connected to one base substrate, and the base substrate is made of a flexible resin substrate, and has a small thickness. One region and a thick second region, wherein the coil is connected in the first region, and the Hall element is connected to the second region.
 本発明によれば、ベース基材を薄くした場合でも、ホール素子の感度の変化を抑えることができる。 According to the present invention, even when the base substrate is thinned, the change in the sensitivity of the Hall element can be suppressed.
(A)は、本発明の第1の実施形態に係る電気素子の構造を模式的に示す側面断面図、(B)は、(A)のコイルを模式的に示す平面図である。(A) is side surface sectional drawing which shows typically the structure of the electric element which concerns on the 1st Embodiment of this invention, (B) is a top view which shows typically the coil of (A). (A),(B)は、コイル2の製造方法を説明するための図である。(A), (B) is a figure for demonstrating the manufacturing method of the coil 2. FIG. 第1の実施形態の電気素子の製造方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the manufacturing method of the electrical element of 1st Embodiment. 本発明の第2の実施形態における電気素子の構造を模式的に示す側面断面図である。It is side surface sectional drawing which shows typically the structure of the electric element in the 2nd Embodiment of this invention. (A)は、本発明の第3の実施形態における電気素子の構造を模式的に示す側面断面図、(B)は、本発明の第3の実施形態における電気素子を模式的に示す平面図である。(A) is side surface sectional drawing which shows typically the structure of the electrical element in the 3rd Embodiment of this invention, (B) is a top view which shows typically the electrical element in the 3rd Embodiment of this invention It is. 本発明の第4の実施形態におけるコイルを構成する各層における絶縁基材を模式的に示す平面図である。It is a top view which shows typically the insulating base material in each layer which comprises the coil in the 4th Embodiment of this invention. (A)は、第4の実施形態における電気素子を模式的に示す平面図であり、(B)は、第4の実施形態における電気素子を模式的に示す側面断面図である。(A) is a top view which shows typically the electric element in 4th Embodiment, (B) is side sectional drawing which shows typically the electric element in 4th Embodiment. 本発明の応用例のアクチュエータを模式的に示す側面断面図である。It is side surface sectional drawing which shows typically the actuator of the application example of this invention. 本発明の応用例の通信装置を模式的に示す側面断面図である。It is side surface sectional drawing which shows typically the communication apparatus of the application example of this invention.
 以降、図面を参照しながら、本発明を実施するための様々な実施形態を説明する。各図面中、同一の機能を有する対応する部材には、同一符号を付している。要点の説明または理解の容易性を考慮して、便宜上実施形態を分けて示すが、異なる実施形態で示した構成の部分的な置換または組み合わせは可能である。第2実施形態以降では第1実施形態と共通の事柄についての記述を省略し、異なる点についてのみ説明する。特に、同様の構成による同様の作用効果については、実施形態毎には逐次言及しないものとする。
 全ての図において、絶縁基材の厚み方向、つまり積層方向をZ軸方向として示し、Z軸と直交する平面において、永久磁石が移動する方向に対応する長手方向をX軸方向、それと直交する幅方向をY軸方向として示す。
Hereinafter, various embodiments for carrying out the present invention will be described with reference to the drawings. In the drawings, corresponding members having the same functions are denoted by the same reference numerals. In consideration of ease of explanation or understanding of the main points, the embodiments are shown separately for convenience, but partial replacement or combination of configurations shown in different embodiments is possible. In the second and subsequent embodiments, descriptions of matters common to the first embodiment are omitted, and only different points will be described. In particular, the same operation and effect of the same configuration will not be sequentially described for each embodiment.
In all the drawings, the thickness direction of the insulating substrate, that is, the stacking direction is shown as the Z-axis direction, and in the plane orthogonal to the Z-axis, the longitudinal direction corresponding to the direction in which the permanent magnet moves is the X-axis direction, The direction is shown as the Y-axis direction.
<第1の実施形態>
 図1(A)は、本発明の第1の実施形態に係る電気素子1の構造を模式的に示す側面断面図、図1(B)は、図1(A)のコイル2を模式的に示す平面図である。図1(A)のコイル2は、図1(B)におけるA-A’断面を示している。
<First Embodiment>
FIG. 1A is a side sectional view schematically showing the structure of the electric element 1 according to the first embodiment of the present invention, and FIG. 1B is a schematic view of the coil 2 in FIG. FIG. A coil 2 in FIG. 1A shows a cross section along AA ′ in FIG.
 本実施形態の電気素子1は、コイル2と、ホール素子3と、ベース基材4とを備えている。電気素子1は、例えば、アクチュエータ、またはRFID(Radio Frequency Identifier)リーダー等に用いられる。 The electric element 1 of the present embodiment includes a coil 2, a hall element 3, and a base substrate 4. The electric element 1 is used, for example, for an actuator or an RFID (Radio Frequency Identifier) reader.
 コイル2は、導体パターン20,21と、絶縁基材2a,2b,2c(図2(A)参照。)とで形成されている。図2(A),(B)は、コイル2の製造方法を説明するための図である。まず、図2(A)に示すように、片面の全面に銅箔が張られた3枚の絶縁基材2a,2b,2cを準備する。絶縁基材2a,2b,2cとしては、例えば、液晶ポリマ(LCP:Liquid Crystal Polymer)のような熱可塑性樹脂を用いることができる。次に、フォトリソ等のパターニング処理により、導体パターン20,21、および電極22を形成する。なお、導体パターン20,21については、Z軸方向から見て絶縁基材2a,2bの下面に形成し、電極22については、Z軸方向から見て絶縁基材2cの下面に形成する。次に、導体パターン20,21の銅箔が張られていない絶縁基材2a,2bの上面側から、および電極22の銅箔が張られていない絶縁基材2cの上面側から、レーザー加工等により、絶縁基材2a,2b,2cを貫通したビアホールを形成する。このビアホールに、Sn-Cu合金をはじめとする導電性材料を含む導電性ペーストを充填する。 The coil 2 is formed of conductor patterns 20 and 21 and insulating base materials 2a, 2b, and 2c (see FIG. 2A). 2A and 2B are views for explaining a method of manufacturing the coil 2. First, as shown in FIG. 2A, three insulating base materials 2a, 2b, and 2c in which a copper foil is stretched over the entire surface of one side are prepared. As the insulating bases 2a, 2b, and 2c, for example, a thermoplastic resin such as a liquid crystal polymer (LCP) can be used. Next, the conductor patterns 20 and 21 and the electrode 22 are formed by a patterning process such as photolithography. The conductor patterns 20 and 21 are formed on the lower surfaces of the insulating base materials 2a and 2b when viewed from the Z-axis direction, and the electrodes 22 are formed on the lower surface of the insulating base material 2c when viewed from the Z-axis direction. Next, laser processing or the like from the upper surface side of the insulating base material 2a, 2b where the copper foil of the conductor patterns 20, 21 is not stretched and from the upper surface side of the insulating base material 2c where the copper foil of the electrode 22 is not stretched. Thus, a via hole penetrating the insulating base materials 2a, 2b, 2c is formed. The via hole is filled with a conductive paste containing a conductive material such as a Sn—Cu alloy.
 次に、導体パターン20,21、および電極22が形成され、ビアホールに導電性ペーストが充填された絶縁基材2a,2b,2cを積層し、加熱プレス等により、一体化させる。このとき、ビアホールに充填されていた導電性ペーストも加熱されて硬化して、各絶縁基材の導体パターンを電気的に接続する層間接続導体6a,6b,6c,6dが形成される。層間接続導体6a,6b,6c,6dにより、導体パターン20,21、および電極22が電気的に接続される。以上のようにして、図2(B)に示すようなコイル2が形成される。 Next, the insulating bases 2a, 2b, and 2c in which the conductive patterns 20 and 21 and the electrode 22 are formed and the via holes are filled with the conductive paste are laminated and integrated by a heating press or the like. At this time, the conductive paste filled in the via holes is also heated and hardened to form interlayer connection conductors 6a, 6b, 6c, and 6d that electrically connect the conductor patterns of the respective insulating base materials. Conductor patterns 20 and 21 and electrode 22 are electrically connected by interlayer connection conductors 6a, 6b, 6c, and 6d. As described above, the coil 2 as shown in FIG. 2B is formed.
 図2(A)に示すように、導体パターン20,21は、絶縁基材2a,2bの下面において2ターン巻回され、矩形状のコイルを形成している。導体パターン20の端部20aは、層間接続導体6b,6cを介して電極22に接続されている。また、導体パターン21の端部21aは、層間接続導体6dを介して電極22に接続されている。電極22は、後述するベース基材4の電極41を介して、電流の供給源に接続されている。 As shown in FIG. 2A, the conductor patterns 20 and 21 are wound two turns on the lower surfaces of the insulating bases 2a and 2b to form a rectangular coil. The end 20a of the conductor pattern 20 is connected to the electrode 22 via the interlayer connection conductors 6b and 6c. Further, the end 21a of the conductor pattern 21 is connected to the electrode 22 through the interlayer connection conductor 6d. The electrode 22 is connected to a current supply source via an electrode 41 of the base substrate 4 described later.
 ホール素子3は、磁界を検出し、その大きさに比例したアナログ信号を出力する。電気素子1に対向して配置される部材等の位置検出に用いられる。ホール素子3は、樹脂でパッケージングされていてもよく、または、シリコーン樹脂若しくはエポキシ樹脂などでポッティングされていてもよい。あるいは、ホール素子3は、ジルコニア製等のカバーにより覆われていてもよい。本実施形態では、一例として、ホール素子としては、樹脂パッケージングされたものを用いている。図1(A)に示すように、Z軸方向から見たホール素子3の下面には、ホール素子3から出力されるアナログ信号を取り出すための電極30が設けられている。 Hall element 3 detects a magnetic field and outputs an analog signal proportional to the magnitude. It is used for detecting the position of a member or the like disposed to face the electric element 1. The Hall element 3 may be packaged with a resin, or may be potted with a silicone resin or an epoxy resin. Alternatively, the Hall element 3 may be covered with a cover made of zirconia or the like. In the present embodiment, as an example, the Hall element is a resin packaged one. As shown in FIG. 1A, an electrode 30 for taking out an analog signal output from the Hall element 3 is provided on the lower surface of the Hall element 3 viewed from the Z-axis direction.
 ベース基材4は、コイル2を形成する絶縁基材2a,2b,2cと同種の樹脂基材から形成される。例えば、液晶ポリマ(LCP:Liquid Crystal Polymer)のような熱可塑性樹脂を用いてベース基材4を形成することができる。本実施形態のベース基材4は、図1(A)に示すように、Z軸方向の厚みの薄い第1領域R1と、厚い第2領域R2を有している。厚い第2領域R2は、例えば、厚い第2領域R2に該当する部分において液晶ポリマを積層し、加熱プレス等により一体化させることにより形成される。また、本実施形態においては、Z軸方向から見たベース基材4の上面に、コイル2の電極22に対応する電極41と、ホール素子3の電極30に対応する電極42が形成されている。電極41,42は、例えば銅箔により形成される。 The base substrate 4 is formed from the same type of resin substrate as the insulating substrates 2a, 2b, 2c forming the coil 2. For example, the base substrate 4 can be formed using a thermoplastic resin such as liquid crystal polymer (LCP: Liquid Crystal Polymer). As shown in FIG. 1A, the base substrate 4 of the present embodiment has a first region R1 having a small thickness in the Z-axis direction and a second region R2 having a large thickness. The thick second region R2 is formed, for example, by laminating a liquid crystal polymer in a portion corresponding to the thick second region R2 and integrating them with a hot press or the like. In the present embodiment, an electrode 41 corresponding to the electrode 22 of the coil 2 and an electrode 42 corresponding to the electrode 30 of the Hall element 3 are formed on the upper surface of the base substrate 4 viewed from the Z-axis direction. . The electrodes 41 and 42 are made of, for example, copper foil.
 本実施形態のベース基材4は、下記のような製造方法で形成することができる。まず、片面の全面に銅箔が張られた2枚の樹脂基材を準備する。次に、フォトリソ等のパターニング処理により、電極41、電極42、および図示を省略する配線パターンを形成する。次に、電極41および配線パターンが形成された樹脂基材と、電極42および配線パターンが形成された樹脂基材とを、厚い第2領域R2に対応する位置において積層し、加熱プレス等により一体化させる。以上のようにして、ベース基材4が形成される。 The base substrate 4 of this embodiment can be formed by the following manufacturing method. First, two resin base materials in which a copper foil is stretched over the entire surface of one side are prepared. Next, the electrode 41, the electrode 42, and a wiring pattern (not shown) are formed by a patterning process such as photolithography. Next, the resin base material on which the electrode 41 and the wiring pattern are formed and the resin base material on which the electrode 42 and the wiring pattern are formed are laminated at a position corresponding to the thick second region R2, and are integrated by a heating press or the like. Make it. The base substrate 4 is formed as described above.
 本実施形態では、ベース基材4の第1領域R1の厚さは、80μmに設定されており、厚い第2領域R2の厚さは、130μmに設定されている。但し、これらの厚さは一例であり、電気素子1の用途等に応じて適宜変更可能である。 In the present embodiment, the thickness of the first region R1 of the base substrate 4 is set to 80 μm, and the thickness of the thick second region R2 is set to 130 μm. However, these thicknesses are examples, and can be appropriately changed according to the use of the electric element 1 and the like.
 図3は、本実施形態の電気素子1の製造方法を説明するための図である。図3に示すように、まず、上述のようにして製造したベース基材4と、上述のようにして製造したコイル2と、ホール素子3とを用意する。次に、コイル2の電極22とベース基材4の電極41とを半田7(図1(A)参照。)を用いて半田付けし、ホール素子3の電極30とベース基材4の電極42とを半田7(図1(A)参照。)を用いて半田付けする。 FIG. 3 is a diagram for explaining a method of manufacturing the electric element 1 of the present embodiment. As shown in FIG. 3, first, the base substrate 4 manufactured as described above, the coil 2 manufactured as described above, and the Hall element 3 are prepared. Next, the electrode 22 of the coil 2 and the electrode 41 of the base substrate 4 are soldered using the solder 7 (see FIG. 1A), and the electrode 30 of the Hall element 3 and the electrode 42 of the base substrate 4 are soldered. Are soldered using a solder 7 (see FIG. 1A).
 以上のようにして、コイル2がベース基材4の薄い第1領域R1に接続され、ホール素子3がベース基材4の厚い第2領域R2に接続された電気素子1が製造される。このように製造された電気素子1は、コイル2の導体パターン20,21に電流を供給することにより、コイル2の上面から下面、あるいは下面から上面に向かう方向の磁界が発生する。この磁界を用いてアクチュエータまたは通信装置として利用することができ。また、コイル2をアンテナとして用いることにより、通信装置として利用することができる。 As described above, the electric element 1 in which the coil 2 is connected to the thin first region R1 of the base substrate 4 and the Hall element 3 is connected to the thick second region R2 of the base substrate 4 is manufactured. The electrical element 1 thus manufactured generates a magnetic field in a direction from the upper surface to the lower surface or from the lower surface to the upper surface of the coil 2 by supplying current to the conductor patterns 20 and 21 of the coil 2. This magnetic field can be used as an actuator or a communication device. Moreover, it can utilize as a communication apparatus by using the coil 2 as an antenna.
 本実施形態においては、電気素子1は、ベース基材4が可撓性を有する樹脂基材で形成されているため、薄型化を図ることができ、かつ、ベース基材4の変形により種々の装置への取り付けを容易にすることができる。また、電気素子1は、ホール素子3が接続された領域が、ベース基材4の厚い第2領域R2となっているので、ホール素子3の接続部は変形しにくくなり、ベース基材4の変形により発生する応力がホール素子3に伝わることを抑制することができ、ホール素子3の感度が変化することを防止することができる。 In this embodiment, since the electric base 1 is formed of a flexible resin base material, the base base material 4 can be reduced in thickness, and various modifications can be made by deformation of the base base material 4. Attachment to the device can be facilitated. Moreover, since the area | region where the Hall element 3 was connected becomes the 2nd area | region R2 where the base base material 4 is thick, the electrical element 1 becomes difficult to deform | transform the connection part of the Hall element 3, and the base base material 4 of FIG. It can suppress that the stress which generate | occur | produces by a deformation | transformation is transmitted to the Hall element 3, and can prevent that the sensitivity of the Hall element 3 changes.
 また、本実施形態においては、ベース基材4を、コイル2を形成する絶縁基材と同種の可撓性の樹脂基材で形成したので、ベース基材4にコイル2を実装した後に、熱収縮等による歪みを生じ難くすることでき、歪みに起因した応力がホール素子3に伝わり難くすることもできる。その結果、ホール素子3の感度が変化することを防止することができる。 Moreover, in this embodiment, since the base base material 4 was formed with the same kind of flexible resin base material as the insulating base material forming the coil 2, after mounting the coil 2 on the base base material 4, It is possible to make it difficult for distortion due to shrinkage or the like to occur, and it is also possible to make it difficult for stress resulting from the distortion to be transmitted to the Hall element 3. As a result, it is possible to prevent the sensitivity of the Hall element 3 from changing.
 さらに、本実施形態においては、ホール素子3をベース基材4の厚い第2領域R2に接続することにより、図1(A)に示すように、高さ方向(Z軸方向)において、コイル形成領域Bにホール素子3の少なくとも一部が重なるように配置することができ、ホール素子3の感度を高めることができる。 Furthermore, in the present embodiment, by connecting the Hall element 3 to the thick second region R2 of the base substrate 4, as shown in FIG. 1A, the coil is formed in the height direction (Z-axis direction). The Hall element 3 can be disposed so as to overlap at least part of the region B, and the sensitivity of the Hall element 3 can be increased.
 以上のように、本実施形態によれば、コイル2をベース基材4の薄い第1領域R1に接続し、ホール素子3をベース基材4の厚い第2領域R2に接続したので、電気素子1の薄型化を実現しつつ、ベース基材4の変形により発生する応力がホール素子3に伝わることを抑制して、ホール素子3の感度が変化することを防止することができる。 As described above, according to the present embodiment, the coil 2 is connected to the thin first region R1 of the base substrate 4 and the Hall element 3 is connected to the thick second region R2 of the base substrate 4, 1 can be achieved, and the stress generated by the deformation of the base substrate 4 can be suppressed from being transmitted to the Hall element 3, and the sensitivity of the Hall element 3 can be prevented from changing.
<変形例>
 本実施形態では、一例として、ベース基材4の薄い第1領域R1を1層の樹脂基材とし、ベース基材4の厚い第2領域R2を2層の樹脂基材とする態様について説明したが、本発明はこのような態様に限定される訳ではなく、各領域の積層数は適宜変更可能である。
<Modification>
In the present embodiment, as an example, a mode has been described in which the thin first region R1 of the base substrate 4 is a single-layer resin substrate, and the thick second region R2 of the base substrate 4 is a two-layer resin substrate. However, the present invention is not limited to such an embodiment, and the number of stacked layers in each region can be changed as appropriate.
 本実施形態では、一例として、コイル2を3層の絶縁基材2a,2b,2cにより構成する態様について説明したが、本発明はこのような態様に限定される訳ではなく、コイル2の積層数は適宜変更可能である。 In the present embodiment, as an example, a mode in which the coil 2 is configured by three layers of insulating base materials 2a, 2b, and 2c has been described. However, the present invention is not limited to such a mode, and the coil 2 is laminated. The number can be changed as appropriate.
 本実施形態では、一例として、導体パターン20,21により、矩形状のコイルを形成する態様について説明したが、本発明はこのような態様に限定される訳ではなく、コイルの形状は、円形状あるいは楕円状等であってもよい。 In this embodiment, the aspect which forms a rectangular coil by the conductor patterns 20 and 21 was demonstrated as an example, However, This invention is not necessarily limited to such an aspect, The shape of a coil is circular shape. Alternatively, it may be oval.
 また、本実施形態では、一例として、導体パターン20,21のターン数を2ターンとした態様について説明したが、本発明はこのような態様に限定される訳ではなく、ターン数は適宜変更可能である。また、導体パターン20,21のターン数を複数とし、それぞれのターン数を異ならせてもよい。この場合には、コイル2の上面側の導体パターン20のターン数を、導体パターン21のターン数よりも多くすることが好ましい。 In the present embodiment, as an example, the aspect in which the number of turns of the conductor patterns 20 and 21 is set to 2 has been described. However, the present invention is not limited to such an aspect, and the number of turns can be changed as appropriate. It is. Moreover, the number of turns of the conductor patterns 20 and 21 may be plural, and the number of turns may be different. In this case, it is preferable that the number of turns of the conductor pattern 20 on the upper surface side of the coil 2 is larger than the number of turns of the conductor pattern 21.
 本実施形態では、一例として、導体パターン20,21の線幅を等しくした態様について説明したが、本発明はこのような態様に限定される訳ではなく、導体パターン20の線幅と、導体パターン21の線幅とを異ならせてもよい。 In the present embodiment, the mode in which the line widths of the conductor patterns 20 and 21 are made equal is described as an example, but the present invention is not limited to such a mode, and the line width of the conductor pattern 20 and the conductor pattern The line width of 21 may be different.
<第2の実施形態>
 次に、本発明の第2の実施形態について図面を参照しつつ説明する。図4は、本実施形態における電気素子1Aの構造を模式的に示す側面断面図である。
<Second Embodiment>
Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 4 is a side sectional view schematically showing the structure of the electric element 1A in the present embodiment.
 本実施形態の電気素子1Aは、ベース基材4が、薄い第1領域R1-2で折り曲げられているところが第1の実施形態と異なる。図4に示すように、本実施形態の電気素子1Aは、ベース基材4における薄い第1領域は、第1領域R1-1および第1領域R1-2の2箇所に、また、厚い第2領域は、第2領域R2-1および第2領域R2-2の2箇所に設けられている。コイル2が接続されている薄い第1領域R1-1と、ホール素子3が接続されている厚い第2領域R2-1は、それぞれ第1の実施形態の第1領域R1、第2領域R2と同様である。しかし、本実施形態の電気素子1Aは、図4に示すように、ホール素子3が配置されている厚い第2領域R2-1を中心として、X軸方向の負方向側に、コイル2が配置されている薄い第1領域R1-1が設けられると共に、X軸方向の正方向側に、薄い第1領域R1-2が設けられている。第2領域R2-1よりもX軸方向の正方向側に設けられた薄い第1領域R1-2においては、ベース基材4が折り曲げられている。 The electric element 1A of the present embodiment is different from the first embodiment in that the base substrate 4 is bent at the thin first region R1-2. As shown in FIG. 4, in the electric element 1A according to the present embodiment, the thin first region of the base substrate 4 has two thick regions, the first region R1-1 and the first region R1-2, and the thick second region. The regions are provided at two locations, the second region R2-1 and the second region R2-2. The thin first region R1-1 to which the coil 2 is connected and the thick second region R2-1 to which the Hall element 3 is connected are the first region R1 and the second region R2 of the first embodiment, respectively. It is the same. However, in the electric element 1A of the present embodiment, as shown in FIG. 4, the coil 2 is arranged on the negative side in the X-axis direction with the thick second region R2-1 where the hall element 3 is arranged as the center. The thin first region R1-1 is provided, and the thin first region R1-2 is provided on the positive side in the X-axis direction. In the thin first region R1-2 provided on the positive side in the X-axis direction with respect to the second region R2-1, the base substrate 4 is bent.
 また、本実施形態の電気素子1Aは、ベース基材4が折り曲げられた薄い第1領域R1-2の折り曲げ方向側には、厚い第2領域R2-2が設けられ、この第2領域R2-2には、外部の取付部としてのコネクタ8が接続されている。 Further, in the electric element 1A of the present embodiment, a thick second region R2-2 is provided on the bending direction side of the thin first region R1-2 where the base substrate 4 is bent, and the second region R2- 2 is connected to a connector 8 as an external mounting portion.
 本実施形態においても、ベース基材4は、コイル2を形成する絶縁基材2a,2b,2cと同種の液晶ポリマ等の樹脂基材から形成される。本実施形態のベース基材4における2箇所の厚い第2領域R2-1,R2-2は、例えば、薄い第1領域R1-1,R1-2を単層の樹脂基材で構成し、2箇所の厚い第2領域R2-1,R2-2に該当する部分において樹脂基材を積層し、加熱プレス等により一体化させることにより形成される。また、本実施形態においては、ベース基材4の上面には、図4に示すように、電極41,42に加えて、コネクタ8の電極80に対応する電極43が形成されている。電極43は、電極41,42と同様に、例えば銅箔により形成される。 Also in this embodiment, the base substrate 4 is formed from a resin substrate such as a liquid crystal polymer of the same type as the insulating substrates 2a, 2b, 2c forming the coil 2. The two thick second regions R2-1 and R2-2 in the base substrate 4 of the present embodiment include, for example, the thin first regions R1-1 and R1-2 formed of a single-layer resin substrate. The resin base material is laminated at portions corresponding to the thick second regions R2-1 and R2-2, and integrated by a hot press or the like. In the present embodiment, as shown in FIG. 4, an electrode 43 corresponding to the electrode 80 of the connector 8 is formed on the upper surface of the base substrate 4 in addition to the electrodes 41 and 42. The electrode 43 is formed of a copper foil, for example, like the electrodes 41 and 42.
 本実施形態のベース基材4は、下記のような製造方法で形成することができる。まず、片面の全面に銅箔が張られた3枚の樹脂基材を準備する。次に、フォトリソ等のパターニング処理により、電極41、電極42、電極43、および図示を省略する配線パターンを形成する。次に、電極41および配線パターンが形成された樹脂基材と、電極42および配線パターンが形成された樹脂基材、および電極43および配線パターンが形成された樹脂基材とを、2箇所の厚い第2領域R2-1,R2-2に対応する位置において積層し、加熱プレス等により一体化させる。以上のようにして、ベース基材4が形成される。 The base substrate 4 of this embodiment can be formed by the following manufacturing method. First, three resin base materials in which a copper foil is stretched over the entire surface of one side are prepared. Next, the electrode 41, the electrode 42, the electrode 43, and a wiring pattern (not shown) are formed by a patterning process such as photolithography. Next, the resin base material on which the electrode 41 and the wiring pattern are formed, the resin base material on which the electrode 42 and the wiring pattern are formed, and the resin base material on which the electrode 43 and the wiring pattern are formed are thick at two places. They are stacked at positions corresponding to the second regions R2-1 and R2-2, and are integrated by a heating press or the like. The base substrate 4 is formed as described above.
 本実施形態では、ベース基材4の第1領域R1-1,R1-2の厚さは、80μmに設定されており、ホール素子3が接続される厚い第2領域R2-1の厚さは、130μmに設定されている。また、コネクタ8が接続される厚い第2領域R2-2の厚さは、130μmに設定されている。但し、これらの厚さは一例であり、電気素子1Aの用途等に応じて適宜変更可能である。 In the present embodiment, the thickness of the first regions R1-1 and R1-2 of the base substrate 4 is set to 80 μm, and the thickness of the thick second region R2-1 to which the Hall element 3 is connected is , 130 μm. The thickness of the thick second region R2-2 to which the connector 8 is connected is set to 130 μm. However, these thicknesses are examples, and can be appropriately changed according to the use of the electric element 1A.
 本実施形態では、以上のように製造したベース基材4に、第1の実施形態と同様にコイル2とホール素子3とを半田7により半田付けする。次に、ベース基材4に形成された電極43と、コネクタ8の電極80とを、半田7により半田付けする。そして、コイル2が接続されている薄い第1領域R1-1よりも、X軸方向の正方向側の薄い第1領域R1-2を折り曲げ、コイル2が接続されている薄い第1領域R1-1と、ホール素子3が接続されている厚い第2領域R2-1とを、所定位置に取り付ける。 In the present embodiment, the coil 2 and the Hall element 3 are soldered to the base substrate 4 manufactured as described above with the solder 7 in the same manner as in the first embodiment. Next, the electrode 43 formed on the base substrate 4 and the electrode 80 of the connector 8 are soldered with the solder 7. Then, the thin first region R1-2 on the positive side in the X-axis direction is bent from the thin first region R1-1 to which the coil 2 is connected, and the thin first region R1- to which the coil 2 is connected is bent. 1 and the thick second region R2-1 to which the Hall element 3 is connected are attached at predetermined positions.
 本実施形態においては、以上のように電気素子1Aの取り付け時に、ベース基材4の折り曲げ加工を行うが、折り曲げ加工を行う領域は、薄い第1領域R1-2なので、折り曲げ加工を容易に行うことができる。また、ホール素子3は厚い第2領域R2-1に接続されているので、以上のような折り曲げ加工を行う場合でも、折り曲げ加工による応力をホール素子3に伝わり難くすることができる。その結果、ホール素子3の感度が変化することを防止することができる。 In the present embodiment, as described above, the base substrate 4 is bent when the electric element 1A is attached. Since the region to be bent is the thin first region R1-2, the bending is easily performed. be able to. Further, since the Hall element 3 is connected to the thick second region R2-1, it is possible to make it difficult to transmit the stress due to the bending process to the Hall element 3 even when the bending process as described above is performed. As a result, it is possible to prevent the sensitivity of the Hall element 3 from changing.
 また、本実施形態のように、ベース基材4を折り曲げて、コネクタ8等の外部の取付部に取り付けられている場合には、内部応力、あるいは残留応力が発生していることが考えられるが、ホール素子3は厚い第2領域R2-1に接続されているので、以上のような内部応力、あるいは残留応力をホール素子3に伝わり難くすることができる。その結果、ホール素子3の感度が変化することを防止することができる。 Moreover, when the base substrate 4 is bent and attached to an external attachment portion such as the connector 8 as in this embodiment, it is considered that internal stress or residual stress is generated. Since the Hall element 3 is connected to the thick second region R2-1, the internal stress or residual stress as described above can be made difficult to be transmitted to the Hall element 3. As a result, it is possible to prevent the sensitivity of the Hall element 3 from changing.
 さらに、本実施形態においては、コネクタ8との接続部は、厚い第2領域R2-2としたので、コネクタ8との接合不良を抑制することができる。 Furthermore, in the present embodiment, since the connection portion with the connector 8 is the thick second region R2-2, it is possible to suppress poor bonding with the connector 8.
<変形例>
 本実施形態では、一例として、薄い第1領域を第1領域R1-1および第1領域R1-2の2箇所、厚い第2領域を第2領域R2-1および第2領域R2-2の2箇所とした態様について説明したが、本発明はこのような態様に限定される訳ではなく、薄い第1領域および厚い第2領域を設ける箇所数は、適宜変更可能である。
<Modification>
In the present embodiment, as an example, the thin first region is the two regions of the first region R1-1 and the first region R1-2, and the thick second region is the two regions of the second region R2-1 and the second region R2-2. Although the aspect made into the place was demonstrated, this invention is not necessarily limited to such an aspect, and the number of places which provide a thin 1st area | region and a thick 2nd area | region can be changed suitably.
 本実施形態では、一例として、ベース基材4の薄い第1領域R1を1層の樹脂基材とし、2箇所の厚い第2領域R2-1,R2-2を2層の樹脂基材とする態様について説明したが、本発明はこのような態様に限定される訳ではなく、各領域の積層数は適宜変更可能である。 In the present embodiment, as an example, the thin first region R1 of the base substrate 4 is a single layer resin substrate, and the two thick second regions R2-1 and R2-2 are a two layer resin substrate. Although the embodiment has been described, the present invention is not limited to such an embodiment, and the number of stacked layers in each region can be changed as appropriate.
 本実施形態においても、導体パターン20,21によるコイルの形状は、矩形状のコイルに限定される訳ではなく、導体パターン20,21のターン数も2ターンに限定される訳ではない。また、導体パターン20,21の線幅も適宜変更可能である。 Also in this embodiment, the coil shape of the conductor patterns 20 and 21 is not limited to a rectangular coil, and the number of turns of the conductor patterns 20 and 21 is not limited to two. Further, the line widths of the conductor patterns 20 and 21 can be changed as appropriate.
<第3の実施形態>
 次に、本発明の第3の実施形態について図面を参照しつつ説明する。図5(A)は、本実施形態における電気素子1Bの構造を模式的に示す側面断面図である。図5(B)は、本実施形態における電気素子1Bの構造を模式的に示す平面図である。図5(A)は、図5(B)におけるA-A’断面を示している。
<Third Embodiment>
Next, a third embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 5A is a side cross-sectional view schematically showing the structure of the electric element 1B in the present embodiment. FIG. 5B is a plan view schematically showing the structure of the electric element 1B in the present embodiment. FIG. 5A shows the AA ′ cross section in FIG.
 本実施形態の電気素子1Bは、ベース基材4に、2つのコイル2を接続するところが第2の実施形態と異なる。図5(A)に示すように、本実施形態の電気素子1Bは、X軸方向において、ホール素子3が接続されている厚い第2領域R2-1の両側に、2箇所の薄い第1領域R1-1,R1-3を設け、これらの2箇所の薄い第1領域R1-1,R1-3のそれぞれにコイル2を接続している。言い換えれば、2箇所のコイル2との接続部で挟まれる位置に、ホール素子3の接続部が設けられている。さらに、X軸方向において、ホール素子3が接続されている厚い第2領域R2-1から見て、コイル2が接続される薄い第1領域R1-1,R1-3の外側の薄い第1領域R1-4,R1-5は折り曲げられている。 The electrical element 1B of the present embodiment is different from the second embodiment in that the two coils 2 are connected to the base substrate 4. As shown in FIG. 5A, the electric element 1B of the present embodiment includes two thin first regions on both sides of the thick second region R2-1 to which the Hall element 3 is connected in the X-axis direction. R1-1 and R1-3 are provided, and the coil 2 is connected to each of these two thin first regions R1-1 and R1-3. In other words, the connection portion of the Hall element 3 is provided at a position sandwiched between the connection portions with the two coils 2. Further, in the X-axis direction, the thin first region outside the thin first regions R1-1 and R1-3 to which the coil 2 is connected as viewed from the thick second region R2-1 to which the Hall element 3 is connected. R1-4 and R1-5 are bent.
 本実施形態においても、ベース基材4は、コイル2を形成する絶縁基材2a,2b,2cと同種の液晶ポリマ等の樹脂基材から形成される。本実施形態のベース基材4における2箇所の厚い第2領域R2-1は、例えば、薄い第1領域R1-1,R1-3,R1-4,R1-5を単層の樹脂基材で構成し、厚い第2領域R2-1に該当する部分において樹脂基材を積層し、加熱プレス等により一体化させることにより形成される。また、本実施形態においては、ベース基材4の上面には、図5(A)に示すように、2つのコイル2に対応して、電極41がそれぞれの薄い第1領域R1-1,R1-3に形成されている。 Also in this embodiment, the base substrate 4 is formed from a resin substrate such as a liquid crystal polymer of the same type as the insulating substrates 2a, 2b, 2c forming the coil 2. The two thick second regions R2-1 in the base substrate 4 of the present embodiment include, for example, the thin first regions R1-1, R1-3, R1-4, and R1-5 as a single-layer resin substrate. It is formed by laminating a resin base material in a portion corresponding to the thick second region R2-1 and integrating them by a heating press or the like. Further, in the present embodiment, on the upper surface of the base substrate 4, as shown in FIG. 5A, corresponding to the two coils 2, the electrodes 41 are thin first regions R1-1 and R1. -3.
 本実施形態のベース基材4は、下記のような製造方法で形成することができる。まず、片面の全面に銅箔が張られた2枚の樹脂基材を準備する。次に、フォトリソ等のパターニング処理により、電極41、電極42、および図示を省略する配線パターンを形成する。この時、電極41については、上述のように2つのコイル2に対応するように、それぞれの薄い第1領域R1-1,R1-3に形成される。次に、電極41および配線パターンが形成された樹脂基材と、電極42および配線パターンが形成された樹脂基材とを、厚い第2領域R2-1に対応する位置において積層し、加熱プレス等により一体化させる。以上のようにして、ベース基材4が形成される。 The base substrate 4 of this embodiment can be formed by the following manufacturing method. First, two resin base materials in which a copper foil is stretched over the entire surface of one side are prepared. Next, the electrode 41, the electrode 42, and a wiring pattern (not shown) are formed by a patterning process such as photolithography. At this time, the electrodes 41 are formed in the thin first regions R1-1 and R1-3 so as to correspond to the two coils 2 as described above. Next, the resin base material on which the electrode 41 and the wiring pattern are formed and the resin base material on which the electrode 42 and the wiring pattern are formed are laminated at a position corresponding to the thick second region R2-1, To integrate. The base substrate 4 is formed as described above.
 本実施形態では、以上のように製造したベース基材4に、第1の実施形態と同様にホール素子3を半田7により半田付けし、2つのコイル2を半田7により半田付けする。次に、両端部の薄い第1領域R1-4,R1-5を折り曲げ、電気素子1Bを所定の位置に取り付ける。 In the present embodiment, the Hall element 3 is soldered to the base substrate 4 manufactured as described above with the solder 7 and the two coils 2 are soldered to the base 7 with the solder 7 as in the first embodiment. Next, the thin first regions R1-4 and R1-5 at both ends are bent, and the electric element 1B is attached to a predetermined position.
 本実施形態においては、以上のように電気素子1Bの取り付け時に、ベース基材4の折り曲げ加工を行うが、図5(A),(B)に示すように、2つのコイル2の実装部で挟まれる位置にホール素子3を配置したので、折り曲げ加工に伴う応力の発生を抑制することができ、ホール素子3の感度が変化することを防止することができる。また、折り曲げ加工を行う領域は、薄い第1領域R1-4,R1-5なので、折り曲げ加工を容易に行うことができる。さらに、折り曲げ加工後においても、ホール素子3の実装部の近傍において変形が生じたとしても、変形に伴う応力の発生を抑制することができ、ホール素子3の感度が変化することを防止することができる。 In the present embodiment, as described above, when the electric element 1B is attached, the base substrate 4 is bent, but as shown in FIGS. 5A and 5B, the mounting portion of the two coils 2 is used. Since the Hall element 3 is arranged at the sandwiched position, it is possible to suppress the generation of stress associated with the bending process and to prevent the Hall element 3 from changing in sensitivity. In addition, since the regions to be bent are thin first regions R1-4 and R1-5, the bending can be easily performed. Further, even after the bending process, even if deformation occurs in the vicinity of the mounting portion of the Hall element 3, it is possible to suppress the generation of stress accompanying the deformation and prevent the sensitivity of the Hall element 3 from changing. Can do.
<変形例>
 本実施形態では、一例として、2つのコイル2をベース基材4に取り付ける態様について説明したが、本発明はこのような態様に限定される訳ではなく、コイル2と、コイル2以外のIC等の部品を取り付けてもよい。
<Modification>
In this embodiment, the aspect which attaches the two coils 2 to the base base material 4 as an example was demonstrated, However, this invention is not necessarily limited to such an aspect, IC other than the coil 2, etc. These parts may be attached.
 本実施形態では、一例として、コイル2の実装部としての薄い第1領域R1-1,R1-3を2箇所、ホール素子3の実装部としての厚い第2領域R2-1を1箇所、および折り曲げ部としての薄い第1領域R1-4,R1-5を2箇所とした態様について説明した。しかし、本発明はこのような態様に限定される訳ではなく、各領域を設ける箇所数は、適宜変更可能である。 In the present embodiment, as an example, two thin first regions R1-1 and R1-3 as mounting portions of the coil 2, one thick second region R2-1 as mounting portions of the Hall element 3, and The mode in which the thin first regions R1-4 and R1-5 as the bent portions are provided in two places has been described. However, the present invention is not limited to such an embodiment, and the number of places where each region is provided can be changed as appropriate.
 本実施形態では、一例として、ベース基材4の薄い第1領域R1-1,R1-3,R1-4,R1-5を1層の樹脂基材とし、2箇所の厚い第2領域R2-1を2層の樹脂基材とする態様について説明したが、本発明はこのような態様に限定される訳ではなく、各領域の積層数は適宜変更可能である。 In the present embodiment, as an example, the thin first regions R1-1, R1-3, R1-4, and R1-5 of the base substrate 4 are used as one layer of resin substrate, and two thick second regions R2- Although the embodiment in which 1 is a two-layer resin base material has been described, the present invention is not limited to such an embodiment, and the number of layers in each region can be changed as appropriate.
 本実施形態においても、導体パターン20,21によるコイルの形状は、矩形状のコイルに限定される訳ではなく、導体パターン20,21のターン数も2ターンに限定される訳ではない。また、導体パターン20,21の線幅も適宜変更可能である。 Also in this embodiment, the coil shape of the conductor patterns 20 and 21 is not limited to a rectangular coil, and the number of turns of the conductor patterns 20 and 21 is not limited to two. Further, the line widths of the conductor patterns 20 and 21 can be changed as appropriate.
<第4の実施形態>
 次に、本発明の第4の実施形態について図面を参照しつつ説明する。図6は、本実施形態におけるコイル2を構成する各層における絶縁基材2a,2b,2bを模式的に示す平面図である。図7(A)は、本実施形態における電気素子1Cを模式的に示す平面図であり、図7(B)は、本実施形態における電気素子1Cを模式的に示す側面断面図である。図7(B)は、図7(A)におけるA-A’断面を示している。
<Fourth Embodiment>
Next, a fourth embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 6 is a plan view schematically showing the insulating bases 2a, 2b, 2b in each layer constituting the coil 2 in the present embodiment. FIG. 7A is a plan view schematically showing the electric element 1C in the present embodiment, and FIG. 7B is a side cross-sectional view schematically showing the electric element 1C in the present embodiment. FIG. 7B shows the AA ′ cross section in FIG.
 本実施形態の電気素子1Cにおけるコイル2は、図6に示すように、中央部に貫通孔9が形成された絶縁基材2a,2b,2bを用いて形成するところが第1の実施形態と異なる。コイル2の製造方法については、第1実施形態と同様であり、貫通孔9が重なるように絶縁基材2a,2b,2bを積層し、加熱プレス等により一体化すればよい。 As shown in FIG. 6, the coil 2 in the electric element 1 </ b> C of the present embodiment is different from the first embodiment in that the coil 2 is formed using insulating base materials 2 a, 2 b, and 2 b in which a through hole 9 is formed in the center. . The manufacturing method of the coil 2 is the same as that of the first embodiment, and the insulating base materials 2a, 2b, and 2b may be laminated so that the through holes 9 overlap with each other and integrated by a heating press or the like.
 また、本実施形態におけるベース基材4は、図7(B)に示すように、X軸方向においては、コイル2の2箇所の電極22に対応する2箇所の電極41が形成される薄い第1領域R1-6,R1-7の間に、ホール素子3を接続する厚い第2領域R2-1を設ける。ベース基材4は、上述した各実施形態と同様に、コイル2を形成する絶縁基材2a,2b,2cと同種の液晶ポリマ等の樹脂基材から形成される。本実施形態のベース基材4における厚い第2領域R2-1は、例えば、薄い第1領域R1-6,R1-7を単層の樹脂基材で構成し、厚い第2領域R2-1に該当する部分において樹脂基材を積層し、加熱プレス等により一体化させることにより形成される。 Further, as shown in FIG. 7B, the base substrate 4 in the present embodiment is a thin base plate in which two electrodes 41 corresponding to the two electrodes 22 of the coil 2 are formed in the X-axis direction. A thick second region R2-1 for connecting the Hall element 3 is provided between the first regions R1-6 and R1-7. The base substrate 4 is formed from a resin substrate such as a liquid crystal polymer of the same type as the insulating substrates 2a, 2b, and 2c forming the coil 2 as in the above-described embodiments. The thick second region R2-1 in the base substrate 4 of the present embodiment includes, for example, the thin first regions R1-6 and R1-7 made of a single-layer resin substrate, and the thick second region R2-1 It is formed by laminating a resin base material at a corresponding portion and integrating by a heat press or the like.
 本実施形態のベース基材4は、下記のような製造方法で形成することができる。まず、片面の全面に銅箔が張られた2枚の樹脂基材を準備する。次に、フォトリソ等のパターニング処理により、2箇所の電極41、電極42、および図示を省略する配線パターンを形成する。この時、2箇所の電極41の間は、ホール素子3の実装部を形成できるように開けておく。次に、2箇所の電極41が形成された樹脂基材上に、電極42および配線パターンが形成された樹脂基材を、2箇所の電極41の間に位置するように積層し、加熱プレス等により一体化させる。以上のようにして、ベース基材4が形成される。 The base substrate 4 of this embodiment can be formed by the following manufacturing method. First, two resin base materials in which a copper foil is stretched over the entire surface of one side are prepared. Next, two patterns of the electrode 41, the electrode 42, and a wiring pattern (not shown) are formed by a patterning process such as photolithography. At this time, a gap between the two electrodes 41 is opened so that a mounting portion for the Hall element 3 can be formed. Next, on the resin base material on which the two electrodes 41 are formed, the electrode base material and the resin base material on which the wiring pattern is formed are laminated so as to be positioned between the two electrode 41, and a heating press or the like. To integrate. The base substrate 4 is formed as described above.
 本実施形態では、以上のように製造したベース基材4に、第1の実施形態と同様に、ホール素子3を半田7により半田付けする。次に、コイル2の貫通孔9内にホール素子3が配置されるように、コイル2をベース基材4に半田7により半田付けする。 In the present embodiment, the Hall element 3 is soldered to the base substrate 4 manufactured as described above with the solder 7 as in the first embodiment. Next, the coil 2 is soldered to the base substrate 4 with the solder 7 so that the Hall element 3 is disposed in the through hole 9 of the coil 2.
 本実施形態においては、以上のように、コイル2の内側に厚い第2領域R2-1を形成してホール素子3を配置するようにしたので、コイル2の実装後においては、ホール素子3の周囲を変形し難くすることができ、応力の発生に伴うホール素子3の感度変化を抑制することができる。 In the present embodiment, as described above, the thick second region R2-1 is formed inside the coil 2 and the Hall element 3 is disposed. Therefore, after the coil 2 is mounted, The surroundings can be made difficult to deform, and the change in sensitivity of the Hall element 3 accompanying the generation of stress can be suppressed.
<変形例>
 本実施形態においても、第2実施形態および第3実施形態と同様に、折り曲げ部を設けるようにしてもよい。折り曲げ部は、薄い第1領域R1とすることが好ましい。
<Modification>
Also in the present embodiment, a bent portion may be provided as in the second embodiment and the third embodiment. It is preferable that the bent portion is a thin first region R1.
 本実施形態では、一例として、ベース基材4の薄い第1領域R1-6,R1-7を1層の樹脂基材とし、厚い第2領域R2-1を2層の樹脂基材とする態様について説明したが、本発明はこのような態様に限定される訳ではなく、各領域の積層数は適宜変更可能である。 In this embodiment, as an example, the thin first regions R1-6 and R1-7 of the base substrate 4 are used as one layer of resin base material, and the thick second regions R2-1 are used as two layers of resin base material. However, the present invention is not limited to such an embodiment, and the number of stacked layers in each region can be changed as appropriate.
 本実施形態においても、導体パターン20,21によるコイルの形状は、矩形状のコイルに限定される訳ではなく、導体パターン20,21のターン数も2ターンに限定される訳ではない。また、導体パターン20,21の線幅も適宜変更可能である。 Also in this embodiment, the coil shape of the conductor patterns 20 and 21 is not limited to a rectangular coil, and the number of turns of the conductor patterns 20 and 21 is not limited to two. Further, the line widths of the conductor patterns 20 and 21 can be changed as appropriate.
<応用例>
 上述した実施形態の電気素子1、1A、1B、1Cは、種々の機器に適用可能である。例えば、図8に示すように、アクチュエータ35に用いることができる。図8は、応用例のアクチュエータ35を模式的に示す側面断面図である。図8に示すように、アクチュエータ35は、第3実施形態で説明した電気素子1Cの上方(Z軸方向)に、移動体10がX軸方向の正方向および負方向に移動可能に設けられている。移動体10のZ軸方向における下面には、2つの永久磁石11が設けられている。このようなアクチュエータ35においては、コイル2の導体パターン20,21に電流を供給することにより、コイル2から磁界を発生させ、電磁力と永久磁石11との斥力および吸引力を利用して、移動体10をX軸方向の正方向および負方向に移動させることができる。
<Application example>
The electric elements 1, 1A, 1B, and 1C of the above-described embodiments can be applied to various devices. For example, as shown in FIG. FIG. 8 is a side sectional view schematically showing the actuator 35 of the application example. As shown in FIG. 8, the actuator 35 is provided above the electric element 1C described in the third embodiment (in the Z-axis direction) so that the movable body 10 can move in the positive and negative directions in the X-axis direction. Yes. Two permanent magnets 11 are provided on the lower surface of the moving body 10 in the Z-axis direction. In such an actuator 35, a current is supplied to the conductor patterns 20 and 21 of the coil 2 to generate a magnetic field from the coil 2, and the repulsive force and the attractive force between the electromagnetic force and the permanent magnet 11 are used to move. The body 10 can be moved in the positive and negative directions in the X-axis direction.
 なお、このようなアクチュエータを構成する際には、第3の実施形態で説明した電気素子1C以外の他の実施形態の電気素子も用いることが可能である。 When configuring such an actuator, it is also possible to use electric elements of other embodiments other than the electric element 1C described in the third embodiment.
 また、上述した実施形態の電気素子1、1A、1B、1Cは、例えば、図9に示すように、通信装置40に用いることができる。図9は、応用例の通信装置40を模式的に示す側面断面図である。図9に示す通信装置40においては、第1の実施形態で説明した電気素子1を、RFIDリーダーとして用いる。この通信装置40においては、RFタグ50を、RFIDリーダーとしての電気素子1の上方(Z軸方向)に持って来ることにより、RFタグ50の位置をホール素子3で検出しながら、タグ情報をRFIDリーダーとしての電気素子1により読み取ることができる。 Moreover, the electric elements 1, 1A, 1B, and 1C of the above-described embodiment can be used for a communication device 40 as shown in FIG. 9, for example. FIG. 9 is a side sectional view schematically showing the communication device 40 of the application example. In the communication device 40 shown in FIG. 9, the electric element 1 described in the first embodiment is used as an RFID reader. In this communication device 40, the tag information is detected while the position of the RF tag 50 is detected by the Hall element 3 by bringing the RF tag 50 above (in the Z-axis direction) the electric element 1 as an RFID reader. It can be read by the electric element 1 as an RFID reader.
 なお、このような通信装置を構成する際には、第1の実施形態で説明した電気素子1以外の他の実施形態の電気素子も用いることが可能である。 When configuring such a communication device, it is possible to use an electric element of another embodiment other than the electric element 1 described in the first embodiment.
 また、上述した例以外にも、磁界結合を用いる種々の装置に本発明を適用することが可能である。 In addition to the above-described examples, the present invention can be applied to various devices using magnetic field coupling.
 上述の実施形態の説明は、すべての点で例示であって、制限的なものではない。当業者にとって変形および変更が適宜可能である。本発明の範囲は、上述の実施形態ではなく、特許請求の範囲によって示される。さらに、本発明の範囲には、特許請求の範囲内と均等の範囲内での実施形態からの変更が含まれる。 The above description of the embodiment is illustrative in all respects and not restrictive. Modifications and changes can be made as appropriate by those skilled in the art. The scope of the present invention is shown not by the above embodiments but by the claims. Furthermore, the scope of the present invention includes modifications from the embodiments within the scope equivalent to the claims.
 本発明は、電磁石を用いた電気素子、および当該電気素子を用いたアクチュエータ、またはRFIDリーダー等の通信装置の分野に利用可能である。 The present invention can be used in the field of communication devices such as an electric element using an electromagnet, an actuator using the electric element, or an RFID reader.
1,1A,1B,1C 電気素子
2          コイル
3          ホール素子
4          ベース基材
8          コネクタ
20,21      導体パターン
30         アクチュエータ
40         通信装置
R1         第1領域
R1-1~R1-7  第1領域
R2         第2領域
R2-1,R2-2  第2領域
1, 1A, 1B, 1C Electrical element 2 Coil 3 Hall element 4 Base substrate 8 Connector 20, 21 Conductor pattern 30 Actuator 40 Communication device R1 First region R1-1 to R1-7 First region R2 Second region R2- 1, R2-2 2nd region

Claims (11)

  1.  コイルとホール素子が一つのベース基材に接続されている電気素子であって、
     前記ベース基材は可撓性を有する樹脂基材からなり、
     厚みの薄い第1領域と、厚い第2領域を有し、
     前記コイルは前記第1領域で接続されており、
     前記ホール素子は前記第2領域に接続されている、
    ことを特徴とする電気素子。
    An electrical element in which a coil and a Hall element are connected to one base substrate,
    The base substrate is made of a flexible resin substrate,
    A thin first region and a thick second region;
    The coils are connected in the first region;
    The Hall element is connected to the second region;
    An electrical element characterized by that.
  2.  前記コイルが絶縁基材と導体パターンで形成されており、
     前記コイルを形成する絶縁基材と、前記ベース基材が、同種の樹脂基材からなる、
    ことを特徴とする請求項1に記載の電気素子。
    The coil is formed of an insulating base material and a conductor pattern,
    The insulating base material forming the coil and the base base material are made of the same type of resin base material.
    The electrical element according to claim 1.
  3.  高さ方向でコイル形成領域に、少なくとも一部が重なるようにホール素子が配置されている、
    ことを特徴とする請求項1または請求項2に記載の電気素子。
    Hall elements are arranged so that at least a part thereof overlaps the coil formation region in the height direction.
    The electric element according to claim 1 or 2, wherein the electric element is provided.
  4.  前記ベース基材が前記第1領域で折り曲げられている、
    ことを特徴とする請求項1ないし請求項3のいずれか一に記載の電気素子。
    The base substrate is bent in the first region;
    The electrical device according to claim 1, wherein the electrical device is a device.
  5.  前記ベース基材が前記第1領域で折り曲げられて、外部の取付部に取り付けられている、
    ことを特徴とする請求項4に記載の電気素子。
    The base substrate is bent in the first region and attached to an external attachment portion;
    The electrical element according to claim 4, wherein
  6.  前記第1領域と前記第2領域の少なくとも一方が複数設けられている、
    ことを特徴とする請求項1ないし請求項5のいずれか一に記載の電気素子。
    A plurality of at least one of the first region and the second region are provided;
    The electrical device according to claim 1, wherein the electrical device is a device.
  7.  前記ホール素子が前記コイルに挟まれる領域に配置されている、
    ことを特徴とする請求項6に記載の電気素子。
    The Hall element is disposed in a region sandwiched between the coils,
    The electrical element according to claim 6.
  8.  前記折り曲げられている第1領域が、前記コイルが配置されている領域から見て、前記ホール素子が配置されている領域と反対側である、
    ことを特徴とする請求項4ないし請求項7のいずれかに記載の電気素子。
    The first region that is bent is opposite to the region where the Hall element is disposed, as viewed from the region where the coil is disposed.
    The electric element according to claim 4, wherein the electric element is any of the above.
  9.  前記コイルの内側に前記ホール素子が配置されている、
    ことを特徴とする請求項1ないし請求項8のいずれかに記載の電気素子。
    The Hall element is disposed inside the coil,
    9. The electric element according to claim 1, wherein
  10.  請求項1ないし請求項8のいずれかに記載の電気素子を備えるアクチュエータ。 An actuator comprising the electrical element according to any one of claims 1 to 8.
  11.  請求項1ないし請求項8のいずれかに記載の電気素子を備える通信装置。 A communication device comprising the electrical element according to any one of claims 1 to 8.
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