WO2013018467A1

WO2013018467A1 - ダイヤモンドライクカーボン傾斜構造黒色被覆膜とその製造方法及び黒色遮光板、それを用いたシャッター羽根

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Publication number: WO2013018467A1
Application number: PCT/JP2012/066255
Authority: WO
Inventors: 勝史小野; 水沼　昌平
Original assignee: 住友金属鉱山株式会社
Priority date: 2011-07-29
Filing date: 2012-06-26
Publication date: 2013-02-07
Also published as: TW201309821A

Abstract

　シャッター羽根の低反射性、黒色性、軽量性、摺動性、撥水性を向上させるダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜を提供すると共に、このＤＬＣ傾斜構造黒色被覆膜を表面層に持つ樹脂フィルムなどをベース基材とする軽量化された高温高湿特性に優れる黒色遮光板を提供する。　スパッタリング法で形成された、チタン、炭素、酸素を含有したダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜（Ａ）であって、ＤＬＣ傾斜構造黒色被覆膜（Ａ）の炭素含有量が、Ｃ／Ｔｉ原子数比として２．０～３０．０、酸素含有量が、Ｏ／Ｔｉ原子数比として０．８～２．２、かつＣ／Ｔｉ原子数比およびＯ／Ｔｉ原子数比が、膜厚方向で連続的に変化した構造を有し、ＤＬＣ傾斜構造黒色被覆膜（Ａ）の膜厚が、２０ｎｍ以上であることを特徴とするＤＬＣ傾斜構造黒色被覆膜。

Description

ダイヤモンドライクカーボン傾斜構造黒色被覆膜とその製造方法及び黒色遮光板、それを用いたシャッター羽根

　本発明は、ダイヤモンドライクカーボン（以下、ＤＬＣと称す場合もある。）傾斜構造黒色被覆膜とその製造方法及び黒色遮光板、それを用いたシャッター羽根材に関し、より詳しくは、光学部材の表面を低反射性、黒色性、かつ摺動性と撥水性のあるダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜と、これを用いた樹脂フィルムなどをベース基材とする黒色遮光板とその製造方法、それを用いたシャッター羽根に関する。

　近年、デジタルカメラの高速（機械式）シャッターの開発が活発に行われている。これは、シャッタースピードを高速にすれば、超高速の被写体をブレ無く撮影でき鮮明な画像が得られるためである。一般にシャッターは、シャッター羽根と呼ばれる複数の羽根が回転、移動することで開閉するが、シャッタースピードを高速化するためには、シャッター羽根が極めて短時間に動作と停止するように、軽量化し、かつ高摺動性を必要とする。更に、シャッター羽根は、シャッターが閉の状態では、フィルムなどの感光材やＣＣＤ、ＣＭＯＳなどの撮像素子の前面を覆って光を遮る役割を有しており、完全な遮光性を必要とする。それだけでなく、シャッター羽根は、シャッター羽根の複数枚が互いに重なり合って動作する際に、各羽根間の漏れ光の発生を防ぐために羽根表面の光反射率が低いこと、すなわち黒色度が高いことが望まれる。

　撮影機能を有した携帯電話、すなわちカメラ付携帯電話でも、近年、高画素で高画質の撮影が行えるよう、小型の機械式シャッターがレンズユニットに搭載され始めている。上記の携帯電話に組み込まれる機械式シャッターは、一般のデジタルカメラよりも、省電力による作動が要求される。そのためシャッター羽根の軽量化が特に強く要求される。
　更に、デジタルカメラや携帯電話のレンズユニットの製造では、従来からエポキシ樹脂系やアクリル樹脂系などの紫外線硬化性樹脂を用いて、各部品を固定していく方法が多く用いられているためシャッター羽根には、低反射性、黒色性、軽量性の他、紫外線を照射しても変形や変色しないという耐紫外線性が要求されている。変形してしまうと、羽根材表面に凹凸ができるので羽根同士がぶつかり、安定な摺動が得られなくなる。また、変色すると、羽根材で反射した反射光の色が変化してしまうため、撮像品質を低下させてしまう。

　また、デジタルカメラやカメラ付き携帯電話を高温高湿下の環境で使用する場合もある。特に、シャッター羽根が、高温高湿下で羽根材同士や接合される周辺部材に吸着してしまうと、羽根材の駆動に必要なトルクの上昇や期待される摺動性が低下し、画像の品質が劣化するため、羽根材表面には撥水性が求められている。

　上述のシャッター羽根に用いる遮光板の基材には、要求特性に応じて金属薄板、セラミックス薄板、ガラス板、樹脂板、又は樹脂フィルムなどが一般に用いられている。
　その金属薄板としては、ＳＵＳ、ＳＫ材、Ａｌ、Ｔｉ等の金属薄板を遮光膜の基材として用いることが出来る。金属薄板自体を遮光板としたものもあるが、金属光沢を有するため、表面の反射光による迷光の影響を回避したい場合には好ましくない。これに対して、金属薄板上に黒色潤滑塗装した遮光板は、低反射性と黒色性を有するが、金属薄板が重いためシャッタースピードの高速化には適さない。特許文献１には、アルミニウム合金などの金属製羽根材料の表面に硬質炭素膜を形成した遮光材が開示されている。
　しかし、金属板を使用しているためシャッタースピードの高速化は期待できない。また、表面に硬質炭素膜を形成してもその膜厚や組成によっては、遮光材の低反射特性は実現できず、反射光による迷光の発生は避けられない場合がある。上記金属薄板を基材に用いた遮光板をシャッター羽根材として使用すると、いずれも重量が大きいため、羽根を駆動する駆動モーターのトルクが大きくなり、消費電力が大きくなる、シャッタースピードが上げられない、羽根同士の接触による騒音が発生するなどの問題が発生する。

　これに対して、樹脂フィルムを基材として用いた遮光板も提案されている。特許文献２では、表面の反射を低減するためにマット加工した樹脂フィルムを使用した遮光板や、微細な多数の凹凸面を形成することで艶消し性を付与したフィルム状の遮光板が提案されている。
　また、特許文献３では、樹脂フィルム上に、艶消し塗料を含有した熱硬化性樹脂を塗膜した遮光フィルムが提案されている。しかし、これらは、樹脂フィルム自体の加工や艶消し剤の添加により表面の反射を低減させているに過ぎず、遮光羽根からの反射による迷光の影響を防止することは考慮されていない。

　樹脂フィルムを基材として用いた遮光板については、比重の軽さ、安価さ、可とう性からポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）を基材として用いる場合が多い。また、カーボンブラックやチタンブラックなどの黒色微粒子を内部に含有させて、透過率を低減したＰＥＴフィルムが広範に用いられている。例えば、特許文献４では、酸化チタンなどの針状又は粒状微細材料を含む塗膜を基材にコーティングすることが提案されている。

　しかし、高速シャッター羽根では、その摺動の高速化に応じてフィルムの厚みの低減が必要となるが、黒色微粒子を含有した黒色ＰＥＴ材の場合は、フィルムの厚みが薄くなると（例えば３８μｍ以下）、十分な遮光性を発揮することができず、シャッター羽根には使用できない。

　特許文献５では、樹脂フィルム上にスパッタリング法等により成膜された金属単体、混合物又は化合物からなる薄膜と、導電性、潤滑性及び耐擦傷性の特性を満たした特定元素の単体又は化合物などからなる薄膜（保護膜）を順次積層して得られる遮光羽根材料が提案されている。ここでは、最近の遮光羽根に要求される特性の低反射性、黒色性については言及されていない。また、保護膜の効果は、耐擦傷性に関するカーボンの効果しか示されておらず、具体的な膜厚、組成については示していない。

　また、特許文献６では、マグネシウム合金の表面にダイヤモンドライクカーボン膜（ＤＬＣ）を成膜した、剛性や潤滑性を高めたシャッター羽根材が提案されている。ダイヤモンドライクカーボンの特性は、その製造方法やｓｐ２結合炭素とｓｐ３結合炭素の存在比率に大きく左右される。ここでは、高剛性や高潤滑性が得られる最適なダイヤモンドライクカーボンの製造方法や組成などについては示していない。
　上記のように、シャッター羽根などの光学部品の表面を低反射率化、黒色化するための被覆膜材料はあるが、摺動性と撥水性に優れたものは見出されていなかった。

　このような状況下、基材として、ＳＵＳ、ＳＫ材、Ａｌ、Ｔｉ等の重量が比較的小さい金属薄板、あるいは樹脂フィルムを用い、羽根を駆動する駆動モーターのトルクや消費電力が抑えられ、シャッタースピードを上げることができ、羽根同士の接触による騒音がなく、さらに可視域における十分な遮光性と低反射性、撥水性を併せ持つシャッター羽根材が必要とされた。

特開平２－１１６８３７号公報特開平１－１２０５０３号公報特開平４－９８０２号公報特開２００２－４０５１２号公報特開２００６－１３８９７４号公報特開２０１０－１３４１５９号公報

　本発明では、シャッター羽根の低反射性、黒色性、軽量性、摺動性、撥水性を向上させることのできる被覆材料、すなわち、ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜を提供することを目的とする。さらに、該被覆膜を表面層に形成した樹脂フィルムなどをベース基材とし、軽量化された、高温高湿特性に優れた黒色遮光板を提供することを目的とする。

　本発明者等は、シャッター羽根などの光学部品の表面を高遮光性、低反射率化、黒色化とし、さらに摺動性、撥水性向上が可能な被覆膜材料を探索した結果、チタン、酸素、炭素を主成分とし、チタン量（Ｃ／Ｔｉ原子数比）、酸素量（Ｏ／Ｔｉ原子数比）が特定の範囲にあり、そのチタン量が膜厚方向に連続的に変化する構造を有し、ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜を形成する前に、更に金属遮光膜を基板表面上に形成し積層した黒色遮光板とすることで、上記性能を達成でき、高温高湿環境下でもその特徴を損なわないことを見出して本発明を完成するに至った。

　すなわち、本発明の第１の発明は、スパッタリング法で形成された、チタン、炭素、酸素を含有したダイヤモンドライクカーボン傾斜構造黒色被覆膜（Ａ）であって、このダイヤモンドライクカーボン傾斜構造黒色被覆膜（Ａ）の炭素含有量が、Ｃ／Ｔｉ原子数比として２．０～３０．０、酸素含有量が、Ｏ／Ｔｉ原子数比として０．８～２．２、かつＣ／Ｔｉ原子数比およびＯ／Ｔｉ原子数比が膜厚方向で連続的に変化した構造を有し、その膜厚が２０ｎｍ以上であることを特徴とするダイヤモンドライクカーボン傾斜構造黒色被覆膜である。

　本発明の第２の発明は、第１の発明におけるダイヤモンドライクカーボン傾斜構造黒色被覆膜（Ａ）のスパッタリング側の膜表面から膜厚方向に、酸素およびチタン含有量が増加し、炭素含有量が減少していることを特徴とするダイヤモンドライクカーボン傾斜構造黒色被覆膜である。

　本発明の第３の発明は、第１および第２の発明におけるダイヤモンドライクカーボン傾斜構造黒色被覆膜（Ａ）の膜厚が、２０～２００ｎｍであることを特徴とするダイヤモンドライクカーボン傾斜構造黒色被覆膜である。

　本発明の第４の発明は、第１から第３の発明におけるダイヤモンドライクカーボン傾斜構造黒色被覆膜（Ａ）中の炭素の組成が、ｓｐ２結合炭素とｓｐ３結合炭素が混在するものであることを特徴とするダイヤモンドライクカーボン傾斜構造黒色被覆膜である。

　本発明の第５の発明は、第１から第４の発明におけるダイヤモンドライクカーボン傾斜構造黒色被覆膜が、９０°以上の水に対する静的接触角を有することを特徴とするダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜である。

　本発明の第６の発明は、第１から第５の発明におけるダイヤモンドライクカーボン傾斜構造黒色被覆膜の動摩擦係数が、０．１以下であることを特徴とするダイヤモンドライクカーボン傾斜構造黒色被覆膜である。

　本発明の第７の発明は、第１から第６の発明におけるダイヤモンドライクカーボン傾斜構造黒色被覆膜の原子間力顕微鏡で測定した、１μｍ×１μｍの領域における算術平均高さ（Ｒａ）が、０．８ｎｍ以上であることを特徴とするダイヤモンドライクカーボン傾斜構造黒色被覆膜である。

　本発明の第８の発明は、第１から第７の発明におけるガラス基板にスパッタリング法により形成したダイヤモンドライクカーボン傾斜構造黒色被覆膜の波長３８０～７８０ｎｍにおける平行光線透過率が、平均値で２０～５０％であることを特徴とするダイヤモンドライクカーボン傾斜構造黒色被覆膜である。

　本発明の第９の発明は、チタン焼結体とカーボン焼結体の組合せ、または炭化チタン焼結体とカーボン焼結体の組合せから選ばれるスパッタリングターゲットを用いて、１．５Ｐａ以上の成膜ガス圧にてスパッタリングして、基板上にダイヤモンドライクカーボン傾斜構造黒色被覆膜を形成することを特徴とするダイヤモンドライクカーボン傾斜構造黒色被覆膜の製造方法である。

　本発明の第１０の発明は、第９の発明におけるチタン焼結体とカーボン焼結体の組合せ、または炭化チタン焼結体とカーボン焼結体の組合せから選ばれるターゲットを用いて、デュアルマグネトロンカソードまたはダブルマグネトロンカソードでスパッタリングして、基板上にダイヤモンドライクカーボン傾斜構造黒色被覆膜を形成することを特徴とするダイヤモンドライクカーボン傾斜構造黒色被覆膜の製造方法である。

　本発明の第１１の発明は、第９から１０の発明におけるチタン焼結体とカーボン焼結体の組合せ、または炭化チタン焼結体とカーボン焼結体の組合せから選ばれるターゲットを用いて、成膜中に成膜ガスとして酸素ガスを導入せず、アルゴン、またはヘリウムを主とする不活性ガスを導入してスパッタリング成膜し、焼結体に含有する酸素または成膜室内の残留ガス中の酸素、或いはその両者のいずれかを膜中に取り込むことを特徴とするダイヤモンドライクカーボン傾斜構造黒色被覆膜の製造方法である。

　本発明の第１２の発明は、基材（Ｂ）、金属遮光膜（Ｃ）、黒色被覆膜により構成される黒色遮光板であって、基材（Ｂ）が、その表面に微細な凹凸を有した樹脂フィルム、樹脂板、金属薄板、セラミックス薄板のいずれかで、基材（Ｂ）の少なくとも一方の面に設けられる膜厚４０ｎｍ以上の金属遮光膜（Ｃ）で、更に金属遮光膜（Ｃ）の表面上に設けられる黒色被覆膜が、第１から第８の発明のいずれかのダイヤモンドライクカーボン傾斜構造黒色被覆膜（Ａ）であることを特徴とする黒色遮光板である。

　本発明の第１３の発明は、第１２の発明における基材（Ｂ）が、ステンレス、ＳＫ（炭素鋼）、Ａｌ、Ｔｉの金属薄板、アルミナ、マグネシア、シリカ、ジルコニアのセラミックス薄板、ガラス板、樹脂板、樹脂フィルムから選ばれるいずれかであることを特徴とする黒色遮光板である。

　本発明の第１４の発明は、第１３の発明における樹脂フィルムが、５～２００μｍの厚みを有するポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエチレンテレフタレート、ポリフェニレンサルファイド、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルサルフォン、ポリカーボネートから選ばれるいずれかであることを特徴とする黒色遮光板である。

　本発明の第１５の発明は、第１２から第１４の発明における金属遮光膜（Ｃ）が、チタン、タンタル、タングステン、コバルト、ニッケル、ニオブ、鉄、亜鉛、銅、アルミニウム、珪素より選ばれた１種類以上の元素を主成分とする金属材料であることを特徴とする黒色遮光板である。

　本発明の第１６の発明は、第１２から第１５の発明における金属遮光膜（Ｃ）が、チタン膜、炭化チタン膜、炭化酸化チタン膜のいずれかであることを特徴とする黒色遮光板である。

　本発明の第１７の発明は、第１２から第１６の発明における黒色遮光板が、樹脂フィルム、樹脂板、金属薄板、セラミックス薄板のいずれかの基材両面に、同じ膜厚、かつ同じ組成の金属遮光膜（Ｃ）を備え、その金属遮光膜（Ｃ）の表面上に、同じ膜厚で同じ組成のダイヤモンドライクカーボン傾斜構造黒色被覆膜（Ａ）を積層して備え、前記基材を中心とした対称構造であることを特徴とする黒色遮光板である。

　本発明の第１８の発明は、第１２から第１７の発明における黒色遮光板が、金属遮光膜（Ｃ）の表面上に形成されたダイヤモンドライクカーボン傾斜構造黒色被覆膜（Ａ）の算術平均高さＲａが０．２～０．７μｍ、かつ波長３８０～７８０ｎｍにおけるダイヤモンドライクカーボン傾斜構造黒色被覆膜（Ａ）表面の平均正反射率が０．８％以下であることを特徴とする黒色遮光板である。

　本発明の第１９の発明は、第１２から第１８の発明の金属遮光膜（Ｃ）の表面上にダイヤモンドライクカーボン傾斜構造黒色被覆膜（Ａ）を設けた黒色遮光板の明度（Ｌ^*）が、２５～４５であることを特徴とする黒色遮光板である。

　本発明の第２０の発明は、着色樹脂フィルムを基材（Ｂ）として用い、その少なくとも一方の面に、前記金属遮光膜（Ｃ）を設け、その金属遮光膜（Ｃ）の表面上に第１から第１０の発明のダイヤモンドライクカーボン傾斜構造黒色被覆膜（Ａ）が備わる黒色遮光板であって、ダイヤモンドライクカーボン傾斜構造黒色被覆膜（Ａ）の膜厚が２０ｎｍ以上で、かつ波長３８０～７８０ｎｍにおける黒色遮光板表面の平均正反射率が１％以下であることを特徴とする黒色遮光板である。

　本発明の第２１の発明は、第２０の発明における着色樹脂フィルムが、表面凹凸性を有していることを特徴とする黒色遮光板である。

　本発明の第２２の発明は、第２０および第２１の発明におけるダイヤモンドライクカーボン傾斜構造黒色被覆膜（Ａ）の膜厚が、２０～２００ｎｍであることを特徴とする黒色遮光板である。

　本発明の第２３の発明は、第２０から第２２の発明における金属遮光膜（Ｃ）の膜厚が、２０～２００ｎｍであることを特徴とする黒色遮光板である。

　本発明の第２４の発明は、第２０から第２３の発明における着色樹脂フィルム上に金属遮光膜（Ｃ）を設け、その金属遮光膜（Ｃ）の表面上にダイヤモンドライクカーボン傾斜構造黒色被覆膜を形成して得られる黒色遮光板の明度（Ｌ^*）が、２５～４５であることを特徴とする黒色遮光板である。

　本発明の第２５の発明は、第２０～第２４の発明における着色樹脂フィルムの厚みが、２０～２００μｍであることを特徴とする黒色遮光板である。

　本発明の第２６の発明は、第１２から第２５の発明における黒色遮光板を打ち抜き加工して得られるシャッター羽根である。

　本発明のダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜は、スパッタリングで形成された、チタン、炭素、酸素を主成分としたダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）薄膜であって、炭素含有量がＣ／Ｔｉ原子数比として２．０～３０．０であり、酸素含有量がＯ／Ｔｉ原子数比として０．８～２．２であり、かつＣ／Ｔｉ原子数比、Ｏ／Ｔｉ原子数比が膜厚方向で連続的に変化するダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜であるため、高遮光性、低反射性、黒色性、摺動性、撥水性が求められる光学部材の被覆材料として有用である。さらに、高温高湿下での撥水性も高いことからデジタルカメラやカメラ付き携帯電話のシャッター羽根材の被覆材料として極めて有用である。

　また、本発明のダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜を樹脂フィルム上に形成した遮光板は、樹脂フィルムを基板に用いるため、従来の金属薄板をベースにした遮光板と比べて軽量性に優れる。ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜を被覆膜として形成しても低反射性、黒色性、遮光性も損なわないことから、デジタルカメラやカメラ付き携帯電話のシャッター羽根材として利用することができるため、工業的価値が極めて高い。

　さらに、本発明の黒色遮光板は、軽量化のため樹脂フィルム基板の厚みを３８μｍ以下に薄くしても、十分な遮光性を損なうことがないため、高速シャッターのシャッター羽根にも有効である。よって駆動モーターの小型化が可能となり、機械式シャッターの小型化が実現するなどのメリットがある。

樹脂フィルムの片面に金属遮光膜とダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜を形成した、本発明の黒色遮光板の断面を示す概略図である。樹脂フィルムの両面に金属遮光膜とダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜を形成した、本発明の黒色遮光板の断面を示す概略図である。着色性の基材の片面に金属遮光膜とダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜を形成した、本発明の黒色遮光板の断面を示す概略図である。着色性の基材の両面に金属遮光膜とダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜を形成した、本発明の黒色遮光板の断面を示す概略図である。本発明の黒色遮光板を製造するのに用いる巻き取り式スパッタリング装置の一例を示す模式図である。比較例１で得られたダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜の膜表面をＡＦＭで観察した写真である。実施例１で得られたダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜の膜表面をＡＦＭで観察した写真である。

　以下、本発明のダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜、黒色遮光板、及びその用途について図面を用いて説明する。

１．ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜（Ａ）
　本発明のダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜は、チタン、炭素、酸素を主成分とし、酸素含有量がＯ／Ｔｉ原子数比で０．８～２．２であり、炭素含有量がＣ／Ｔｉ原子数比として２．０～３０．０であり、かつＣ／ＴｉおよびＯ／Ｔｉ原子数比が膜厚方向で連続的に変化することを特徴としている。

　炭素含有量がＣ／Ｔｉ原子数比で２．０未満の場合は、ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜は、色味が黄色、茶色を呈し、低反射性や黒色性が損なわれてしまう。Ｃ／Ｔｉ原子数比が３０．０を超える場合でも、膜の色味は黄色または茶色を呈し、低反射性や黒色性を損ってしまうため好ましくない。

　また、酸素含有量がＯ／Ｔｉ原子数比で０．８未満の場合では、膜の光透過率が低く、光吸収による遮光性が増す一方、黒色性を損なってしまい、低反射性が得られない。Ｏ／Ｔｉ原子数比が２．２を超える場合は、撥水性に優れるものの、光透過性が高くなり、膜色は黄色や茶色を呈し、黒色性に劣ってしまうため好ましくない。

　上記黒色被覆膜中のＣ／Ｔｉ原子数比やＯ／Ｔｉ原子数比は、例えばＸＰＳ（Ｘ線光電子分光装置）を用いて分析できる。膜の最表面は酸素が多く結合されているため、真空中で１０ｎｍ程度の深さまでスパッタリングで除去し、その後に測定すれば膜中のＣ／Ｔｉ原子数比やＯ／Ｔｉ原子数比を定量化することができる。
　上記のような膜組成であっても、膜の低反射性や黒色性は、膜厚に依存し、膜厚が２０ｎｍ以上のときに膜による光吸収が充分に行われ、低反射性と黒色性を発揮することができる。一方、摺動性や撥水性が発揮できる膜厚は２０ｎｍ以上、好ましくは５０ｎｍ以上である。

　また、上記Ｃ／Ｔｉ原子数比やＯ／Ｔｉ原子数比は、ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜の膜厚方向に連続的に変化する。膜表面側のＣ／Ｔｉ原子数比およびＯ／Ｔｉ原子数比は膜内部に比べ大きくなり、膜最表面もチタン、酸素、炭素を含有した複合したダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）である黒色被覆膜が得られる。膜最表面にチタン、酸素を含有することから、ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）薄膜だけでは得られない撥水性（水に対する接触角９０°以上）、摺動性（動摩擦係数で０．１０以下）を付与することができる。

　また、上記Ｃ／Ｔｉ原子数比やＯ／Ｔｉ原子数比は、ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜の膜厚方向に連続的に変化するため、その黒色被覆膜中での組成差による界面のない構造をとることができ、下地膜との密着性に優れる。また、ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被膜内で消衰係数、屈折率差が生じ、膜表面での光反射を防止する効果が得られ、膜組成が単一な膜を形成した場合よりも低反射化にすることができる。

　本発明のダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜は、表面凹凸性があると好ましい。表面凹凸性は、原子間力顕微鏡で測定した、該黒色被覆膜表面１μｍ×１μｍの領域における算術平均高さ（Ｒａ）が０．８ｎｍ以上であり、好ましくは２．０ｎｍ以上である。これにより、反射光を散乱して、低反射性を確保でき、光学部材として有用なものとなる。

　本発明のダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜は、Ｔｉ、Ｃ、Ｏ以外の他の元素が、上記の特徴が損なわない程度に含まれていても構わない。
　一般に、スパッタリング成膜の原料として使うスパッタリングターゲットでは、その材料となる焼結体の焼結密度を向上するために焼結助剤が添加される。具体的には、焼結体ターゲットにＦｅ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｍｎ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｎｂ、Ｔａなどの元素が焼結助剤として添加され、添加された元素は、ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜中にも含まれることになる。こうしてダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜中に、上記元素が含まれるようになっても、その黒色被覆膜の特徴が損なわれなければ構わない。

　本発明のダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜はＳＵＳ、ＳＫ、Ａｌ、Ｔｉの金属薄板、アルミナやマグネシア、シリカの金属酸化物を主成分としたセラミックス薄板やガラス板、樹脂板、又は樹脂フィルムなどの基材表面に形成された金属遮光膜上に形成することで低反射化かつ黒色化でき、摺動性および撥水性、耐紫外線性に優れた黒色被覆膜として有効に使用することができる。

　また、ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜を形成する基材の表面を凹凸化すると、ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜の表面凹凸性をさらに増加させることができ、艶消しの効果も得られるようになる。
　基材が金属薄板、アルミナやマグネシア、シリカなどの金属酸化物を主成分としたセラミックス薄板やガラス板の場合、エッチング、ナノインプリンティング加工やショット材を使用したマット処理加工によって所定の表面凹凸を形成することができる。
　マット処理の場合は、ショット材に砂を使用したマット処理加工が一般的であるが、ショット材はこれに限定されない。樹脂フィルムや樹脂板を基材とする場合は、基材表面を上記の方法で凹凸化しておくことが有効である。

２．黒色被覆膜の形成方法
　本発明のダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜の形成方法は、特に制限されず、真空蒸着法、イオンビームアシスト蒸着法、ガスクラスターイオンビームアシスト蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビームスパッタリング法、マグネトロンスパッタリング法、バイアススパッタリング法、ＥＣＲ（Ｅｌｅｃｔｒｏｎ　Ｃｙｃｌｏｔｒｏｎ　Ｒｅｓｏｎａｎｃｅ）スパッタリング法、高周波（ＲＦ）スパッタリング法、熱ＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ　Ｖａｐｏｒ　Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法、プラズマＣＶＤ法、光ＣＶＤ法等の公知の方法を適宜採用することができる。なかでもスパッタリング法で製造することが好ましい。
　スパッタリング法で製造することで、基材上に高い密着力を有するダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜を形成することができる。

　スパッタリング法による製造装置は、特に制限されないが、例えば図５に示す巻取り式スパッタリング装置を用いることができる。
　まず、ロール状の樹脂フィルム基材１１が巻き出しロール１２にセットされ、ターボ分子ポンプ等の真空ポンプ１３で成膜室の真空槽１４内を排気した後、巻き出しロール１２から搬出されたフィルム１１が途中、冷却キャンロール１５の表面を通って、巻き取りロール１６によって巻き取られていく構成をとる。冷却キャンロール１５の表面の対向側には、２基のマグネトロンカソード１７が設置され、各カソードには膜の原料となるターゲット１８がそれぞれ取り付けられている。２基のマグネトロンカソード１７に設置するターゲット１８が、炭化チタン焼結体ターゲットとカーボン焼結体ターゲットの場合では、樹脂フィルム基材１１の搬送方向に対して、炭化チタン焼結体ターゲット上でまず成膜し、その後カーボン焼結体ターゲット上で成膜する。なお、巻き出しロール１２、巻き取りロール１６などで構成されるフィルム搬送部は、隔壁１９で成膜室の真空槽１４と隔離されている。

　通常、スパッタリング成膜は、０．２～０．８Ｐａのスパッタリングガス圧にて実施される場合が多いが、このような条件では図６のように表面が比較的平坦なものとなる。本発明のダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜は、チタン焼結体とカーボン焼結体、または炭化チタン焼結体とカーボン焼結体ターゲットを用いて、１．５Ｐａ以上の高いスパッタリングガス圧にてスパッタリング成膜を行うことで製造され、図７のように表面に突起ができ、上記の組成と組織を有する品質の高い酸化チタン、もしくは、炭化酸化チタンを複合したダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜となる。また、表面に突起が形成されることで、膜表面に光散乱効果によって低反射化を達成することができる。

　膜中のチタン、酸素、炭素を膜厚方向で連続的に変化させる方法として、スパッタリング用カソードに、デュアルマグネトロンカソードを使用し、成膜ガス圧を変えることで膜厚方向に対して組成に傾斜をつけた構造が得られる。このデュアルマグネトロンカソードは、２基のマグネトロンの原料ターゲットの表面の延長面がほぼ同一の平面上に位置するように配置されている。

　デュアルマグネトロンカソードによるスパッタリング法は、これら２基のマグネトロンの間に１～１００ｋＨｚ程度の周期で極性が入れ替わる矩形パルスの交流電力を印加し、２基のマグネトロンのうち、負の電位を印加されているマグネトロン（陰極として働いている状態）に取り付けられた原料ターゲット表面には正の電荷を持ったイオンが電界で加速されて衝突し、原料表面の原子がたたき出される（スパッタリング）ことによりスパッタ粒子が装置空間内に放出され、基材上に所望の薄膜を形成する。
　また、ダブルマグネトロンカソードを使用し、各カソードでのスパッタ電力を調整することで組成調整を行うことができる。

　すなわち、チタン焼結体とカーボン焼結体ターゲット、炭化チタン焼結体とカーボン焼結体を用いて、１．５Ｐａ以上の成膜ガス圧にてスパッタリング成膜すれば、Ｔｉ、Ｏ、Ｃを主成分とし、炭素量がＣ／Ｔｉ原子数比で２．０～３０．０であり、Ｏ／Ｔｉ原子数比が０．８～２．２となり、その原子数比が膜厚方向で連続的に変化する構造を得ることができ、その膜表面に突起を有するダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜を得ることができる。
　さらに、成膜ガス圧を１．５Ｐａ以上とすることで、膜表面に微細な突起ができるため、高温高湿下での水滴との接触面積が小さくなり、撥水性を発現することができる。

　上記したように、スパッタリング成膜の原料として使うスパッタリングターゲットの焼結密度を改善するために焼結助剤が添加されることが多い。
　本発明のダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜を成膜する時に用いる上記焼結体ターゲットには、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｍｎ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｎｂ、Ｔａなどの元素を、本発明の黒色被覆膜の特徴が損なわれない程度であれば、焼結助剤として添加することができる。

　また、本発明においては、成膜ガスとして、酸素ガスを全く供給せず、アルゴン、又はヘリウムを主とする不活性ガスのみを使用して、ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜を製造することもできる。この場合の膜中の酸素は、焼結体ターゲット中の含有酸素、及び／又は、スパッタリング成膜室内の残留ガス中の酸素が有効利用される。焼結体ターゲット中の含有酸素とスパッタリング成膜室内の残留ガス中の酸素は、非常に微量である。成膜ガス圧を高めると、成膜室内の酸素を膜中に取り込む割合が増加する。焼結体ターゲット中の含有酸素とスパッタリング成膜室内の残留ガス中の酸素が少なすぎるとき、すなわち、通常の成膜ガス圧である０．２～０．８Ｐａで行うスパッタリング成膜では十分に膜中に酸素が含まれず、その場合には、成膜ガス圧を１．５Ｐａ以上とすることで、十分に酸素を含ませて黒色被覆膜を得ることができる。

　焼結体ターゲット中の含有酸素とスパッタリング成膜室内の残留ガス中の酸素を利用する成膜方法は、大面積に色味を均一に形成するときには極めて有効な方法である。酸素ガスを供給して通常のガス圧において成膜する通常の方法では、酸素ガスの供給が不均一であると、大面積成膜の場合は、膜中への酸素含有量のムラに起因して色味のムラが生じやすい。しかし、焼結体ターゲット中の含有酸素とスパッタリング成膜室内の残留ガス中の酸素を利用する成膜方法は、成膜面には均一に酸素が存在しているため、大面積成膜でも色味のムラが生じにくい。

　成膜温度は、基板の種類により異なるので規定しにくいが、金属薄板、アルミナやマグネシア、シリカなどの金属酸化物を主成分としたセラミックス薄板やガラス板であれば、例えば４００℃以下、樹脂板や樹脂フィルムであれば、例えば３００℃以下とすることができる。

３．基板（Ｂ）
　基板（Ｂ）にはステンレス、ＳＫ（炭素鋼）、Ａｌ、Ｔｉの金属薄板、アルミナ、マグネシア、シリカ、ジルコニアなどのセラミックス薄板、ガラス板、樹脂板、又は樹脂フィルムを用いることが出来る。
　その中でも軽量な黒色遮光板を実現するためには樹脂フィルムを用いることが好ましい。樹脂フィルムとしては、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエチレンテレフタレート、ポリフェニレンサルファイド、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルサルフォン、ポリカーボネートから選ばれる１種類であることが好ましい。

　この樹脂フィルムの厚みは、５～２００μｍであることが好ましく、より好ましくは１０～１５０μｍ、最も好ましくは２０～１２５μｍである。
　５μｍより薄い樹脂フィルムでは、ハンドリング性が悪くて取り扱いにくく、フィルムに傷や折れ目などの表面欠陥が付きやすくなるため好ましくない。樹脂フィルムが２００μｍより厚いと、小型化が進む絞り装置や光量調整用装置へ遮光羽根を複数枚搭載することができず、用途によっては不適となってしまう。

４．金属遮光膜（Ｃ）
　金属遮光膜は、基板の片面または両面に形成されるものであり、チタン、タンタル、タングステン、コバルト、ニッケル、ニオブ、鉄、亜鉛、銅、アルミニウム、又は珪素より選ばれた１種類以上の元素を主成分とする金属材料を用いることができる。このうち、Ｔｉ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ａｌ、或いはＮｉＴｉ合金などの金属材料が好ましい。

　また、これらの金属の窒化物、炭化物、炭化窒化物、炭化酸化物、窒化酸化物、炭化窒化酸化物を用いることができる。特に炭化チタン、炭化タングステン、炭化モリブデンなどの金属炭化物材料は、高温環境下での耐酸化性に優れ、耐熱性が良好なため好ましい。その中でも炭化チタンは、表面の黒色度が比較的高く、低反射性に優れており、黒色化の効果が増大されるため特に好ましい。また、炭化酸化チタン膜は、耐熱性に優れた金属遮光膜として利用できる。

　金属遮光膜はスパッタリングで成膜され、０．２～０．８Ｐａといった一般的に用いられるガス圧下で成膜すればよい。また、スパッタリングガスは、Ａｒガスの他、酸素が僅かに混合されたＡｒガスを用いても黒色遮光板の特性を満たせれば構わない。
　一般に、有機物である樹脂フィルムと無機物である金属膜などとの結合は弱い。本発明の金属遮光膜を樹脂フィルムの表面に形成するときも同じである。また、膜の付着力を高めるためには、成膜時のフィルム表面温度を高めることが有効である。しかし、樹脂フィルムの種類によっては、ＰＥＴなどのように、１３０℃以上に温度を上げると、ガラス転移点や分解温度を越えてしまうものもあるため、成膜時の樹脂フィルム表面温度はなるべく低温、例えば１００℃以下とすることが望ましい。

５．黒色遮光板
　本発明の黒色遮光板の構造を図１と図２に示す。樹脂フィルム、樹脂板、金属薄板又はセラミックス薄板から選ばれる基材１の片面もしくは両面に、膜厚４０ｎｍ以上の金属遮光膜３と上記のダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜２が順次形成された構造である。ここでは、これを第１の黒色遮光板と呼ぶ。

　また、本発明の黒色遮光板には、着色性の基材１ａの片面もしくは両面に、膜厚２０ｎｍ以上の金属遮光膜３と上記のダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜２が形成された構造のものが含まれる。その構造を図３と図４に示す。以下、これを第２の黒色遮光板と呼ぶ。

　このような構造を有することで、可視域、すなわち、波長３８０～７８０ｎｍにおける平均光学濃度が４．０より大きく、波長３８０～７８０ｎｍにおける黒色被覆膜表面の平均正反射率が０．８％以下となる光学部材が実現できる。平均光学濃度が４．０より大きいときに透過率はほぼゼロとなり、完全な遮光性を示す。
　ここで光学濃度（ＯＤ）とは、下記（１）式で示される透過率：Ｔ（％）の関数である。また、黒色被覆膜表面の正反射率とは、反射光が反射の法則に従い、入射光の入射角に等しい角度で表面から反射していく光の反射率を表している。

　以下、第１の黒色遮光板、第２の黒色遮光板について詳細に説明する。
（１）第１の黒色遮光板
　本発明の第１の黒色遮光板において、基板には樹脂フィルム、樹脂板、金属薄板又はセラミックス薄板などが選ばれる。その中でも樹脂フィルムが好ましい。樹脂フィルムとしては、例えば、ポリイミド（ＰＩ）、ポリアミドイミド（ＰＡＩ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリフェニレンサルファイド（ＰＰＳ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエーテルサルフォン（ＰＥＳ）、ポリカーボネート（ＰＣ）から選択される１種類以上の材質で構成されているフィルムや、これらのフィルムの表面にアクリルハードコートが施されたフィルムが利用できる。

　これらの樹脂フィルムは、一般に光透過性を有するため、完全な遮光性を持たせるには、表面に膜厚４０ｎｍ以上の金属遮光膜を形成しなければならない。金属遮光膜の膜厚は、好ましくは４０～２００ｎｍであり、より好ましくは７０～１５０ｎｍである。膜厚を２００ｎｍより厚くすると、金属遮光膜の成膜に長時間かかるため製造コストが高くなったり、必要な成膜材料が多くなって材料コストが高くなるので好ましくない。

　金属遮光膜を形成後、本発明のダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜を形成することが必要である。これによって、軽量性に優れて、十分な遮光性と黒色性、低反射性、摺動性、撥水性、耐紫外線性を有する黒色遮光板を実現することができる。このような基板上に形成されるダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜の膜厚は２０ｎｍ以上である。さらに４０ｎｍ以上、また１００ｎｍ以上が好ましく、より好ましくは１５０ｎｍ以上である。
　ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜の膜厚が２０ｎｍ未満では、波長３８０～７８０ｎｍにおける平均光学濃度は４．０より大きく、完全遮光性が得られるものの、ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜表面の平均正反射率が５％を超え、高い反射率となる。一方、膜厚が２００ｎｍを超える場合では、完全遮光性の黒色被覆膜が得られるが、スパッタリング時間が長くなり、コスト高になるという問題が生じる。

　また、金属遮光膜の表面にダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜が形成された黒色遮光板の明度（以下、Ｌ^*と表記する）は、２５～４５であることが好ましく、より好ましくは４０以下である。
　ここで、Ｌ^*値は、色彩のＣＩＥ表色系で表される明度（白黒度）を表し、可視光域での分光反射率から求められ、Ｌ^*値を２５未満とするためには、ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜の膜厚が２００ｎｍを超えるため、黒色度がより高くなり、低反射化することができ、完全遮光性は得られるものの、スパッタリング時間が長くなり、コスト高になるという問題が生じる。一方、Ｌ^*値が４５を越える場合には、上記とは逆の状態であり、黒色度が不足し、ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜表面での正反射率が高くなるという問題が生じ、好ましくない。

　また、樹脂フィルムが表面凹凸性を有していて、ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜の表面に凹凸が生じると正反射率を低減する、すなわち艶消しの効果をもたらすことができるので、光学部材として好ましいものとなる。特に黒色被覆膜の表面粗さ（算術平均高さＲａ）が０．２～０．７μｍであると、波長３８０～７８０ｎｍにおける黒色被覆膜表面の平均正反射率が０．８％以下となり、非常に低反射な黒色遮光板が実現できるため好ましい。ここで算術平均高さＲａとは、算術平均粗さとも言われ、粗さ曲線からその平均線の方向に基準長さだけ抜き取り、この抜き取り部分の平均線から測定曲線までの偏差の絶対値を合計して平均した値である。

　基材表面の凹凸は、ナノインプリンティング加工やショット材を使用したマット処理加工によって所定の表面凹凸を形成することができる。マット処理の場合は、ショット材に砂を使用したマット処理加工が一般的であるが、ショット材はこれに限定されない。樹脂フィルムを基材として金属遮光膜を形成する場合は、樹脂フィルムの表面を上記の方法で凹凸化しておくと有効である。

　また、本発明の黒色遮光板において、基板として樹脂フィルムを用いる場合、樹脂フィルムは柔らかいため、表面に形成する膜の応力の影響を受けて変形しやすい。これを回避するため、樹脂フィルムの両面に同じ構成、同じ膜厚の膜をフィルムに対称に形成することが有効である。つまり、樹脂フィルムの両面に同じ組成、同じ膜厚の金属遮光膜を形成した後、その両面（金属遮光膜上）に同じ組成、同じ膜厚の上記ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜を形成して得られる黒色遮光板は、変形が少ないものとなり好ましい。

（２）第２の黒色遮光板
　次に、本発明の第２の黒色遮光板であるが、これは着色樹脂フィルムを基材１とし、その片面もしくは両面に、膜厚２０ｎｍ以上の金属遮光膜を形成し、金属遮光膜の表面上に、ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜２が形成された構造をしている。

　着色樹脂フィルムは、黒色、褐色あるいは黒褐色などに着色されていることが望ましい。着色樹脂フィルムとしては、例えば、ポリイミド（ＰＩ）、ポリアミドイミド（ＰＡＩ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリフェニレンサルファイド（ＰＰＳ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエーテルサルフォン（ＰＥＳ）、ポリカーボネート（ＰＣ）から選択される１種類以上の材質で構成されているフィルムを基材とし、カーボンブラックやチタンブラック、アニリンブラックなどの黒色微粒子を内部に含有させて透過率を低減したフィルムが利用できる。

　また、該着色樹脂フィルムの表面を凹凸化すると、ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜の表面凹凸性がさらに増加して、艶消しの効果も得ることができる。
　この着色樹脂フィルムは、波長３８０～７８０ｎｍでの光透過率が１％以下であることが好ましく、より好ましくは０．１％以下である。

　着色樹脂フィルムの厚みは、２０～２００μｍの範囲が好ましく、より好ましくは３０～１５０μｍ、最も好ましくは５０～１２５μｍである。２０μｍより薄い着色樹脂フィルムでは、ハンドリング性が悪くて取り扱いにくく、フィルムに傷や折れ目などの表面欠陥が付きやすく、剛性が小さいため好ましくない。着色樹脂フィルムが２００μｍより厚いと、小型化が進むシャッター羽根装置へ遮光羽根を複数枚搭載することができず、用途によっては不適となってしまうため好ましくない。

　さらに、着色樹脂フィルムは、透明でないため、透過性の高い透明樹脂板、又は透明樹脂フィルムよりも、可視光域である波長３８０～７８０ｎｍでの光透過率が低く、基板上に形成される金属遮光膜やダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜の
膜厚を、第１の黒色遮光板と比べて薄くすることが可能となる。

　そのため、着色樹脂フィルム上に形成される金属遮光膜の膜厚は、２０～２００ｎｍの範囲が好ましく、より好ましくは３０～１００ｎｍである。金属遮光膜の膜厚が２０ｎｍ未満では、金属遮光膜上に形成するダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜を厚み２００ｎｍ形成しても黒色遮光板の波長３８０～７８０ｎｍの光学濃度が４を超えず、完全遮光性がなくなってしまう。２００ｎｍを超えると、膜厚が厚いためスパッタリング時間が非常に長くなり、製造コストの点で好ましくない。

　また、ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜の膜厚は、２０～２００ｎｍの範囲が好ましく、より好ましくは５０～１５０ｎｍである。黒色被覆膜の膜厚が２０ｎｍ以下では、波長３８０～７８０ｎｍの光透過率が０．１％以下の着色樹脂フィルムを用いても、黒色遮光板の明度（Ｌ^*値）が高くなる。一方、膜厚が２００ｎｍを超える場合では、非常に黒色遮光板の明度（Ｌ^*値）は低くなるが、ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜の成膜速度が小さいため、スパッタリング時間が長くなり、製造コストが高くなるとともに、製造上の問題として１バッチの処理開始時間がバッチ毎でずれが生じてしまい、安定的なルーチン化ができなくなってしまう。

　着色樹脂フィルム上に、金属遮光膜及びダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜を形成してなる黒色遮光板のＬ^*値は、２５～４５であることが好ましく、より好ましくは２５～４０である。黒色遮光板のＬ^*値が２５未満では、黒色度がより高くなり、低反射化となって完全遮光性は得られるが、黒色被覆膜の膜厚が２００ｎｍを超えてしまう。そのため、スパッタリング時間が長くなり、コスト高になるという問題が生じる。一方、Ｌ^*値が４５を越える場合には、黒色度が不足し、ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜表面での正反射率が高くなるという問題が生じ、好ましくない。

６．黒色被覆膜、又は黒色遮光板の用途
　本発明のダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜は、光学部材の表面被覆膜として適用でき、黒色遮光板は、端面クラックが生じないように特定の形状に打ち抜き加工を行って、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラのシャッター羽根として利用できる。
　以下に、実施例を用いて本発明を詳細する。

［スパッタリング用ターゲット］
　金属チタン、炭化チタン、カーボンターゲットは、それぞれ粉末を用い、ホットプレス焼結法で作製した。さらに、ＮｉＴｉターゲット（３ｗｔ％Ｔｉ含有）、Ｃｕターゲット、Ａｌターゲットなどの金属製ターゲットも溶解鋳造法を用いて作製したものを使用した。

［ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜の作製］
　上記、金属チタン（純度４Ｎ、６４×６００×６ｍｍｔ）とカーボン焼結体ターゲット（純度４Ｎ、６４×６００×６ｍｍｔ）、または炭化チタン（純度２Ｎ、６４×６００×６ｍｍｔ）とカーボン焼結体ターゲットを用いて、デュアルマグネトロンスパッタリングまたはダブルマグネトロンスパッタリング法でダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜を作製した。
　膜の組成は、デュアルマグネトロンカソードの場合では、成膜ガス圧を変え、ダブルマグネトロンカソードでの場合では、各カソードでの投入電力やガス圧を変え、調整した。スパッタリング法でのダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜を以下の手順で作製した。

　巻取り式マグネトロンスパッタリング装置のデュアルマグネトロンカソードまたはダブルマグネトロンカソードに上記スパッタリング用ターゲットを取り付け、該ターゲットに対向するように基板を取り付けた。なお、金属チタンターゲットとカーボン焼結体ターゲット、または炭化チタン焼結体ターゲットとカーボン焼結体ターゲットは、基板の走行方向に対して、カーボン焼結体ターゲットによるスパッタリングが後に実施されるように配置した。

　スパッタリング成膜は、ターゲットと基板との距離を７５ｍｍとし、チャンバ内の真空度が２×１０^－４～１×１０^－４Ｐａに達した時点で、純度９９．９９９９％のＡｒガスをチャンバ内に導入してガス圧０．３～８．０Ｐａとした。デュアルマグネトロンスパッタリングの場合は、交流電力１０００～２０００Ｗを、また、ダブルマグネトロンスパッタリングの場合は、ターゲット投入直流電力密度を０．７～５．２Ｗ／ｃｍ^２とし、プラズマを発生させた。基板を加熱することなく、さらに基板を走行しながら、基板上に所定の膜厚の膜を形成した。

＜膜特性の評価＞
（ａ）ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜の正反射率と平行光透過率
　得られたダイヤンモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜黒色被覆膜の、波長３８０～７８０ｎｍにおける正反射率と平行光透過率は、分光光度計（日本分光社製Ｖ－５７０）にて測定し、平行光透過率（Ｔ）から、下記（２）式に従って、光学濃度（ＯＤと記す。）を算出した。

　上記黒色被覆膜の光の正反射率とは、反射光が反射の法則に従い、入射光の入射角に等しい角度で表面から反射していく光の反射率を言う。入射角は５°で測定した。また、平行光透過率とは、ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜を透過してくる光線の平行な成分を意味しており、次式で表される。

（ｂ）ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜の組成、表面凹凸
　得られたダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜の組成（Ｏ／Ｔｉ原子数比、Ｃ／Ｔｉ原子数比）は、走査型Ｘ線光電子分光装置（ＵＬＶＡＣ－ＰＨＩ社製ＳＡＭ－４３００）で膜の深さ方向に対するＴｉ量、Ｏ量、Ｃ量を求め、算出した。
　なお、膜最表面は、酸素が多く結合されているため膜表面の組成については、真空中で１０ｎｍ程度の深さまでスパッタリングで除去した後、測定した。さらにスパッタリングと測定を繰り返すことで、深さ方向の組成を測定した。膜の断面組織は、高分解能透過型電子顕微鏡（ＴＥＭと記す場合がある）を用いて観察した。また、黒色被覆膜の表面凹凸は、原子間力顕微鏡（ＡＦＭと記す場合がある）を用いて測定した。

（ｃ）ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜の炭素結合状態の評価
　ブルカー・オプティクス製　顕微レーザーラマン（ＳＥＮＴＥＲＲＡ）を用いて、得られたダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜中の炭素の成分のｓｐ２結合炭素、ｓｐ３結合炭素の混在状態を調査した。ラマンスペクトルから、炭素に由来するｓｐ２結合炭素、ｓｐ３結合炭素のラマンピークをガウス波形によるピークフィッティングを行い、評価した。

（ｄ）黒色遮光板のＬ^*値
　得られた黒色遮光板のＬ^*値については、色彩計（ＢＹＫ－Ｇａｒｄｎｅｒ　ＧｍｂＨ社製　商品名スペクトロガイド）にて、光源Ｄ６５、視野角１０°で測定した。

（ｅ）動摩擦係数
　得られた黒色遮光板の動摩擦係数については、引張試験機（ＩＮＳＴＲＯＮ社製５５６６型）を用いて、ＪＩＳＫ７１２５に準拠し、評価した。

（ｆ）水に対する濡れ性
　得られた黒色遮光板の水に対する濡れ性は、全自動接触角測定装置（データフィジックス社製　ＯＣＡ３５）を用いて接触角を測定し評価した。測定条件は、滴下シリンジにハミルトンシリンジ５００μＬ、滴下ニードルにニードルＳＮＳ０２１／０１１を用い、液滴供給スピードは１μＬ／ｓｅｃ、滴下量は３μＬ、室温で行った。

（ｇ）耐紫外線性
　コンベア式紫外線照射装置を用い、光源は高圧水銀ランプを使用し、紫外線照射強度２５６ｍＷ／ｃｍ^２、照射時間４０分で行い、変形と変色の有無を評価した。

　ターゲットの組み合わせとして、チタンターゲットとカーボン焼結体ターゲットを用いて、デュアルマグネトロンスパッタリングで基板である厚み１．１ｍｍのガラス基板（コーニング７０５９）の上に、アルゴン（Ａｒ）ガスのみを導入して、交流電力を１０００Ｗに保ち、１．５Ｐａの成膜ガス圧で膜厚が２００ｎｍとなるようにスパッタリング成膜した。
　デュアルマグネトロンカソードでのデューティー比（各ターゲットのスパッタ時間の割合）は、チタンターゲットとカーボン焼結体ターゲットで、それぞれ０．５：０．５で行った。
　その膜特性の測定結果を表１に示した。

　成膜ガス圧を３．０Ｐａとした以外は、実施例１と同様にしてスパッタリング成膜を行った。その膜特性の測定結果を表１に示した。

　成膜ガス圧を６．０Ｐａとした以外は、実施例１と同様にしてスパッタリング成膜を行った。その膜特性の測定結果を表１に示した。

　交流電力を２０００Ｗに保ち、成膜ガス圧を８．０Ｐａとした以外は、実施例１と同様にしてスパッタリング成膜を行った。その膜特性の測定結果を表１に示した。

（比較例１）
　交流電力を２０００Ｗに保ち、その成膜ガス圧を１．４Ｐａとした以外は、実施例１と同様にしてスパッタリング成膜を行った。作製した膜特性の測定結果を表１に示した。

　実施例１～４は、成膜ガス圧１．５～８．０ＰａでＡｒガスのみ導入し成膜したが、膜厚方向での組成は、表１に示すように、Ｃ／Ｔｉ原子数比で２．０５～２９．００となった。一方、Ｏ／Ｔｉ原子数比では、０．８０～２．２０となった。
　実施例１～４ともに、Ｃ／Ｔｉ原子数比およびＯ／Ｔｉ原子数比は基板側で低く、膜表面側で高くなった。

　波長３８０～７８０ｎｍにおける平均正光反射率は、１０．８～１５．１％と低く、平均透過率も２１．８～５３．４％の黒色な膜が得られた。

　また、膜中の炭素の結合状態は、ｓｐ２結合炭素とｓｐ３結合炭素の混在が確認された。
　膜表面の動摩擦係数は、０．１０以下であった。
　水に対する接触角はいずれの膜も９６～１１５°と９０°以上となり、撥水性に優れていることがわかった。
　膜表面の算術平均高さＲａは０．９２～３．０１ｎｍとなり、膜表面に凹凸が形成された。

　さらに、耐紫外線性試験後の膜の変色はなかった。このような黒色で平均正反射率が低く、動摩擦係数が非常に小さく、撥水性、耐紫外線性に優れているため、このような膜はシャッター羽根材の表面被覆膜として非常に有用である。

　一方、交流電力２０００Ｗ、ガス圧１．４Ｐａの条件でスパッタリング成膜した比較例１では、実施例１～４の膜と比べ、Ｃ／Ｔｉ原子数比は、１．５８～５．１０と基板側で低く、また、Ｏ／Ｔｉ原子数比は０．５３～０．７５と低く、膜色は茶色であった。また、波長３８０～７８０ｎｍにおける平均正反射率は、１９．４％と実施例１～４に比べ高く、平均透過率は１９．７％と逆に小さくなった。

　膜の表面粗さ（Ｒａ）は、０．７５ｎｍとなり、実施例１より小さく、平坦であった。水に対する接触角は、８５°と実施例１～４に比べ小さく、動摩擦係数は０．１４と大きくなった。耐紫外線性については実施例１～４と同様に変色は無く、良好であった。

　ターゲットの組み合わせとして、炭化チタンターゲットとカーボン焼結体ターゲットを用いた以外は、交流電力値、成膜ガス圧、デュアルマグネトロンカソードでのデューティー比、膜厚は実施例１と同様にして、ガラス基板上に膜を形成した。その膜特性の測定結果を表１に示した。

　ターゲットの組み合わせとして、炭化チタンターゲットとカーボン焼結体ターゲットを用いた以外は、交流電力値、成膜ガス圧、デュアルマグネトロンカソードでのデューティー比、膜厚は実施例２と同様にして、ガラス基板上に膜を形成した。その膜特性の測定結果を表１に示した。

　ターゲットの組み合わせとして、炭化チタンターゲットとカーボン焼結体ターゲットを用いた以外は、成膜ガス圧、デュアルマグネトロンカソードでのデューティー比、膜厚は実施例３と同様にして、ガラス基板上に膜を形成した。その膜特性の測定結果を表１に示した。

（比較例２）
　交流電力を２０００Ｗに保ち、その成膜ガス圧を１．４Ｐａとした以外は、実施例５と同様にしてスパッタリング成膜を行った。その膜特性の測定結果を表１に示した。

（比較例３）
　交流電力を１０００Ｗに保ち、その成膜ガス圧を８．０Ｐａとした以外は、実施例５と同様にしてスパッタリング成膜を行った。その膜特性の測定結果を表１に示した。

　実施例５～７では膜中のＣ／Ｔｉ原子数比が、２．０５～３０．００、Ｏ／Ｔｉ原子数比が、０．８０～２．１０となり、実施例５～７共にＣ／Ｔｉ原子数比は基板側で低く、膜表面側で高く、Ｏ／Ｔｉ原子数比は基板側が低く、膜表面側で高くなった。
　波長３８０～７８０ｎｍにおける平均正反射率は、１０．６～１６．９％と低く、平均透過率も２２．４～３４．６％の黒色な膜が得られた。
　膜の表面粗さ（Ｒａ）は、３．４２～４．１１ｎｍとなり、膜表面に凹凸が形成されていた。

　また、膜中の炭素の結合状態は、ｓｐ２結合炭素とｓｐ３結合炭素の混在を確認した。
　膜表面の動摩擦係数は、０．１０以下で、水に対する接触角は、いずれの膜も９８～１２４°と９０°以上となり、撥水性に優れていることがわかった。さらに、耐紫外線性試験後の膜の変色はなかった。
　このような黒色で平均正反射率が低く、動摩擦係数が非常に小さく、撥水性、耐紫外線性に優れているため、このような膜はシャッター羽根材の表面被覆膜として非常に有用である。

　比較例２は、１．５Ｐａ以上のガス圧で成膜した実施例５～７の膜と比べ、膜中のＣ／Ｔｉ原子数比は１．９５～１８．７０、Ｏ／Ｔｉ原子数比は０．６５～０．７８と低く、膜色は茶色であった。また、波長３８０～７８０ｎｍにおける平均正反射率は、１８．６％と高く、平均透過率は１８．９％と逆に小さくなった。膜の表面粗さ（Ｒａ）は、０．７８ｎｍと実施例１より小さく、平坦であった。水に対する接触角は、８８°と実施例５～７に比べ小さく、動摩擦係数は０．１７と大きくなった。耐紫外線性については実施例５～７と同様に変色は無く、良好であった。

　一方、比較例３は、表１から判るように膜中のＣ／Ｔｉ原子数比が４．３７～３１．２０、Ｏ／Ｔｉ原子数比が１．７８～２．２８となり、実施例５～７に比べ膜表面部で高くなり、平均正反射率は低く、平均透過率は高くなった。
　また、膜表面の凹凸は形成され、算術平均高さＲａは大きくなったが、凸部が丸みを帯びた形状を呈しているため動摩擦係数や撥水性は劣る結果となった。
　したがって、比較例２では平均正反射率が高く、黒色度が低く、さらに、水に対する接触角が小さく、動摩擦係数も高くなり、比較例３では光学特性は良好であったが、接触角が小さく、動摩擦係数も高いために、シャッター羽根材の表面被覆膜として適さないものであった。

　ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜の膜厚を２０ｎｍとした以外は、ターゲットの種類、成膜ガス圧は実施例３と同様にして作製した。その膜特性の測定結果を表１に示した。
　膜中のＣ／Ｔｉ原子数比は２．９６～２４．３、Ｏ／Ｔｉ原子数比は０．９５～１．５５となり、Ｃ／Ｔｉ原子数比とＯ／Ｔｉ原子数比ともに膜表面側で高くなった。

　得られたダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜波長の３８０～７８０ｎｍにおける平均正反射率は１７．８％、平均透過率は４８．６％の黒色な膜が得られた。膜の表面粗さ（Ｒａ）は、０．８４ｎｍであって、膜表面に凹凸が形成されていた。

　また、膜中の炭素の結合状態は、ｓｐ２結合炭素とｓｐ３結合炭素の混在を確認した。
　膜表面の動摩擦係数は、０．０９で、水に対する接触角は９１°となり、撥水性に優れていることがわかった。さらに、耐紫外線性試験後の膜の変色はなかった。
　このような黒色で平均正反射率が低く、動摩擦係数が非常に小さく、撥水性、耐紫外線性に優れているため、このような膜はシャッター羽根材の表面被覆膜として非常に有用である。

（比較例４）
　ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜の膜厚を１７ｎｍとした以外は、ターゲットの種類、成膜ガス圧は実施例３と同様にして作製した。その膜特性の測定結果を表１に示した。
　膜中のＣ／Ｔｉ原子数比は３．０４～２１．５、Ｏ／Ｔｉ原子数比は０．６２～０．７９となり、Ｏ／Ｔｉ原子数比が実施例３に比べ、低くなった。

　得られたダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜波長の３８０～７８０ｎｍにおける平均正反射率は２１．４％、平均透過率は５２．３％となり、実施例３に比べ、いずれも高くなった。得られた膜の色は、茶色であった。膜の表面粗さ（Ｒａ）は、０．７８ｎｍであって、膜表面に凹凸が形成されていた。

　膜中の炭素の結合状態は、ｓｐ２結合炭素とｓｐ３結合炭素の混在を確認した。
　膜表面の動摩擦係数は、０．０９で、水に対する接触角８４°であった。さらに、耐紫外線性試験後の膜の変色はなかった。
　したがって、動摩擦係数、耐紫外線性は実施例３と同様であるが、水に対する接触角が小さく、膜色が茶色で平均正反射率と平均透過率が高い比較例４の膜は、低反射かつ黒色が望まれるシャッター羽根材の表面被覆膜として不適切である。

　ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜の膜厚を２０ｎｍとした以外は、ターゲットの種類、成膜ガス圧は実施例７と同様にして作製した。その膜特性の測定結果を表１に示した。
　膜中のＣ／Ｔｉ原子数比は２．３８～２９．４、Ｏ／Ｔｉ原子数比は０．８８～１．４５となり、Ｃ／Ｔｉ原子数比とＯ／Ｔｉ原子数比ともに膜表面側で高くなった。

　得られたダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜波長の３８０～７８０ｎｍにおける平均正反射率は１６．２％、平均透過率は４９．１％の黒色な膜が得られた。膜の表面粗さ（Ｒａ）は、０．９３ｎｍであって、膜表面に凹凸が形成されていた。

　また、膜中の炭素の結合状態は、ｓｐ２結合炭素とｓｐ３結合炭素の混在を確認した。
　膜表面の動摩擦係数は、０．１０で、水に対する接触角は９３°となり、撥水性に優れていることがわかった。さらに、耐紫外線性試験後の膜の変色はなかった。
　このような黒色で平均正反射率が低く、動摩擦係数が非常に小さく、撥水性、耐紫外線性に優れているため、このような膜はシャッター羽根材の表面被覆膜として非常に有用である。

（比較例５）
　ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜の膜厚を１７ｎｍとした以外は、ターゲットの種類、成膜ガス圧は実施例７と同様にして作製した。その膜特性の測定結果を表１に示した。
　膜中のＣ／Ｔｉ原子数比は２．２１～２７．３、Ｏ／Ｔｉ原子数比は０．５２～０．７０となり、Ｏ／Ｔｉ原子数比が実施例７に比べ、低くなった。

　得られたダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜の波長３８０～７８０ｎｍにおける平均正反射率は２０．７％、平均透過率は５０．４％となり、実施例７に比べ、いずれも高くなった。得られた膜の色は、茶色であった。膜の表面粗さ（Ｒａ）は、０．７４ｎｍであって、膜表面に凹凸が形成されていた。

　膜中の炭素の結合状態は、ｓｐ２結合炭素とｓｐ３結合炭素の混在を確認した。
　膜表面の動摩擦係数は、０．０９で、水に対する接触角８７°であった。さらに、耐紫外線性試験後の膜の変色はなかった。
　したがって、動摩擦係数、撥水性、耐紫外線性は実施例７と同様であるが、膜色が茶色で平均正反射率と平均透過率が高い比較例５の膜は、低反射かつ黒色であって、撥水性が望まれるシャッター羽根材の表面被覆膜として不適切である。

　スパッタリングターゲットに、チタンターゲットとカーボン焼結体ターゲットを用い、成膜に使用するカソード方式をダブルマグネトロンカソードに変えた。
　チタンターゲットの投入電力密度を５．２Ｗ／ｃｍ^２、カーボン焼結体ターゲットの投入電力密度を１．３Ｗ／ｃｍ^２として成膜を行った。
　膜厚は約２００ｎｍとし、成膜ガス圧を１．５Ｐａとし、ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜をガラス基板上に作製した。その膜特性の測定結果を表２に示した。

　膜中のＣ／Ｔｉ原子数比は、２．３２～７．５０となり、膜表面側で高くなった。また、Ｏ／Ｔｉ原子数比は、０．８５～０．９６となり、Ｏ／Ｔｉ原子数比も膜表面側で高くなった。

　得られたダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜の波長の３８０～７８０ｎｍにおける平均正反射率が１７．６％となった。また、平均透過率は３５．０％の黒色な膜が得られた。膜の表面粗さ（Ｒａ）は、０．９９ｎｍとなり、膜表面に凹凸が形成されていた。

　膜中の炭素の結合状態は、ｓｐ２結合炭素とｓｐ３結合炭素の混在を確認した。
　膜表面の動摩擦係数は、０．１０であった。水に対する接触角は９３°となり、撥水性に優れていることがわかった。さらに、耐紫外線性試験後の膜の変色はなかった。
　このような黒色で平均正反射率が低く、動摩擦係数が非常に小さく、撥水性、耐紫外線性に優れた実施例１０の膜は、シャッター羽根材の表面被覆膜として非常に有用である。

　成膜ガス圧を６．０Ｐａとした以外は、実施例１０と同様の条件でダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜をガラス基板上に作製した。その膜特性の測定結果を表２に示した。
　膜中のＣ／Ｔｉ原子数比は、２．６９～２１．５３となり、膜表面側で高くなった。また、Ｏ／Ｔｉ原子数比は、１．２５～１．９４となり、Ｏ／Ｔｉ原子数比も膜表面側で高くなった。

　得られたダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜の波長の３８０～７８０ｎｍにおける平均正反射率は１４．２％であり、平均透過率が４７．１％の黒色な膜が得られた。
　膜の表面粗さ（Ｒａ）は、２．７７ｎｍとなり、膜表面に凹凸が形成されていた。

　膜中の炭素の結合状態は、ｓｐ２結合炭素とｓｐ３結合炭素の混在を確認した。
　膜表面の動摩擦係数は、０．１０で、水に対する接触角は１０８°となり、撥水性に優れていることがわかった。さらに、耐紫外線性試験後の膜の変色はなかった。
　このような黒色で平均正反射率が低く、動摩擦係数が非常に小さく、撥水性、耐紫外線性に優れた実施例１１の膜は、シャッター羽根材の表面被覆膜として非常に有用である。

　ガス圧を８．０Ｐａに変えた以外は、実施例１０と同様にダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜をガラス基板上に作製した。その膜特性の測定結果を表２に示した。
　膜中のＣ／Ｔｉ原子数比は、４．２８～２８．７０となり、膜表面側で高くなった。また、Ｏ／Ｔｉ原子数比は、１．６４～２．２０となり、Ｏ／Ｔｉ原子数比も膜表面側で高くなった。

　得られたダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜の波長の３８０～７８０ｎｍにおける平均正反射率は１２．７％、平均透過率が５０．３％の黒色な膜が得られた。膜の表面粗さ（Ｒａ）は、３．１７ｎｍとなり、膜表面に凹凸の突起が形成されていた。

　膜中の炭素の結合状態は、ｓｐ２結合炭素とｓｐ３結合炭素の混在を確認した。
　膜表面の動摩擦係数は、０．０８で、水に対する接触角は１２０°となり、撥水性に優れていることがわかった。さらに、耐紫外線性試験後の膜の変色はなかった。
　このような黒色で平均正反射率が低く、動摩擦係数が非常に小さく、撥水性、耐紫外線性に優れた実施例１２の膜は、シャッター羽根材の表面被覆膜として非常に有用である。

（比較例６）
　成膜ガス圧を０．３Ｐａに変えた以外は、ターゲットの種類、ターゲットの投入電力密度を実施例１０と同様にして、ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜を作製した。その膜特性の測定結果を表２に示した。
　膜中のＣ／Ｔｉ原子数比は０．９５～１０．５２となり、膜表面側で高くなった。また、Ｏ／Ｔｉ原子数比は、０．４５～０．６２とＣ／Ｔｉ原子数比同様に、膜表面側で高くなった。Ｏ／Ｔｉ原子数比は実施例１０に比べ小さくなった。

　得られたダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜の波長の３８０～７８０ｎｍにおける平均正反射率が２４．５％となり、平均透過率は４．５％となった。
　実施例１０に比べ、平均正反射率は高く、平均透過率は低かった。また、膜色は、黄色や茶色を呈し、黒色ではなかった。膜の表面粗さ（Ｒａ）は、０．７４ｎｍとなり、実施例１０に比べ、小さくなり、膜表面は平坦であった。

　膜中の炭素の結合状態は、ｓｐ２結合炭素とｓｐ３結合炭素の混在を確認した。
　膜表面の動摩擦係数は、０．２８となり、実施例１０に比べ大きくなった。水に対する接触角は９０°未満となり、撥水性が悪いことがわかった。なお、耐紫外線性試験後の膜の変色はなかった。
　このような膜色が黒色ではなく、平均正反射率が高く、平均透過率が低く、動摩擦係数が大きく、さらに撥水性が悪い比較例６の膜は、低反射かつ黒色であって、低動摩擦係数が望まれるシャッター羽根材の表面被覆膜として不適切である。

（比較例７）
　成膜ガス圧を１．４Ｐａに変えた以外は、ターゲットの種類、ターゲットの投入電力密度を実施例１０と同様にして、ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜を作製した。その膜特性の測定結果を表２に示した。

　膜中のＣ／Ｔｉ原子数比は、１．４８～１５．８８となり、膜表面側で高くなった。また、Ｏ／Ｔｉ原子数比は、０．６７～０．７８とＣ／Ｔｉ原子数比同様に、膜表面側で高くなった。Ｏ／Ｔｉ原子数比は実施例１０に比べ小さくなった。

　得られたダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜の波長の３８０～７８０ｎｍにおける平均正反射率が、１８．９％となり、平均透過率は１５．７％となり、実施例１０に比べ、平均正反射率は高く、平均透過率は低かった。
　また、膜色は、黄色や茶色を呈し、黒色ではなかった。
　膜の表面粗さ（Ｒａ）は、０．４５ｎｍとなり、実施例１０に比べ、小さくなり、膜表面は平坦であった。

　膜中の炭素の結合状態は、ｓｐ２結合炭素とｓｐ３結合炭素の混在を確認した。
　膜表面の動摩擦係数は、０．１３となり、実施例１０に比べ大きくなった。水に対する接触角は９０°未満となり、撥水性が悪いことがわかった。なお、耐紫外線性試験後の膜の変色はなかった。
　このような膜色が黒色ではなく、平均正反射率が高く、平均透過率が低く、動摩擦係数が大きく、さらに撥水性が悪い比較例７の膜は、低反射かつ黒色であって、低動摩擦係数が望まれるシャッター羽根材の表面被覆膜として不適切である。

（比較例８）
　ターゲット２の投入電力密度を０．７Ｗ／ｃｍ^２に変えた以外は、実施例１２と同様にダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜をガラス基板上に作製した。その膜特性の測定結果を表２に示した。
　膜中のＣ／Ｔｉ原子数比は４．５０～２９．９０となり、膜表面側で高くなった。また、Ｏ／Ｔｉ原子数比は１．８４～２．３８となり、Ｏ／Ｔｉ原子数比も膜表面側で高くなった。

　得られたダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜の波長の３８０～７８０ｎｍにおける平均正反射率は１０．２％、平均透過率は５２．７％の黒色な膜が得られた。膜の表面粗さ（Ｒａ）は、３．８７ｎｍとなり、膜表面に凹凸が形成されていた。しかし、その凸部の先端部は実施例１２に比べ丸みを帯びた形状であった。

　また、膜中の炭素の結合状態は、ｓｐ２結合炭素とｓｐ３結合炭素の混在を確認した。
　膜表面の動摩擦係数は、０．１７で、水に対する接触角は８８°となり、実施例１２に比べ劣ることがわかった。さらに、耐紫外線性試験後の膜の変色はなかった。
　このような動摩擦係数が大きく、撥水性が乏しくなった比較例８は、高温高湿下での動作が不安定となるため、シャッター羽根材の表面被覆膜として利用することはできない。

　スパッタリングターゲットに、炭化チタンターゲットとカーボン焼結体ターゲットを用いた以外は、成膜ガス圧、ターゲット投入電力密度、膜厚は実施例１０と同様にして成膜を行った。その膜特性の測定結果を表２に示した。
　膜中のＣ／Ｔｉ原子数比は２．２５～２０．３０となり、膜表面側で高くなった。また、Ｏ／Ｔｉ原子数比は０．８２～０．９４となり、膜表面側で高くなった。

　得られたダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜の波長の３８０～７８０ｎｍにおける平均正反射率は１５．６％、平均透過率は２４．６％の黒色な膜が得られた。膜の表面粗さ（Ｒａ）は、１．２４ｎｍとなり、膜表面に凹凸が形成されていた。

　膜中の炭素の結合状態は、ｓｐ２結合炭素とｓｐ３結合炭素の混在を確認した。
　膜表面の動摩擦係数は、０．１０で、水に対する接触角は１０３°となり、撥水性に優れていることがわかった。さらに、耐紫外線性試験後の膜の変色はなかった。
　このような黒色で平均正反射率が低く、動摩擦係数が非常に小さく、撥水性、耐紫外線性に優れた実施例１３の膜はシャッター羽根材の表面被覆膜として非常に有用である。

　成膜ガス圧を６．０Ｐａに変えた以外は、ターゲットの種類、ターゲット投入電力密度、膜厚は実施例１３と同様にして成膜を行った。その膜特性の測定結果を表２に示した。
　膜中のＣ／Ｔｉ原子数比は２．７５～２８．６０となり、膜表面側で高くなった。また、Ｏ／Ｔｉ原子数比は１．１５～２．０５となり、膜表面側で高くなった。

　得られたダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜の波長の３８０～７８０ｎｍにおける平均正反射率は１１．５％、平均透過率は３８．６％の黒色な膜が得られた。膜の表面粗さ（Ｒａ）は、２．６６ｎｍとなり、膜表面に凹凸が形成されていた。

　膜中の炭素の結合状態は、ｓｐ２結合炭素とｓｐ３結合炭素の混在を確認した。
　膜表面の動摩擦係数は、０．０８で、水に対する接触角は１１９°となり、撥水性に優れていることがわかった。さらに、耐紫外線性試験後の膜の変色はなかった。
　このような黒色で平均正反射率が低く、動摩擦係数が非常に小さく、撥水性、耐紫外線性に優れた実施例１４の膜はシャッター羽根材の表面被覆膜として非常に有用である。

（比較例９）
　成膜ガス圧を０．３Ｐａに変えた以外は、ターゲットの種類、ターゲットの投入電力密度を実施例１３と同様にして、ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜を作製した。その膜特性の測定結果を表２に示した。
　膜中のＣ／Ｔｉ原子数比は１．３６～９．２０となり、膜表面側で高くなった。また、Ｏ／Ｔｉ原子数比は０．３５～０．５２とＣ／Ｔｉ原子数比同様に、膜表面側で高くなった。実施例１３に比べ、Ｏ／Ｔｉ原子数比が小さかった。

　得られたダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜の波長の３８０～７８０ｎｍにおける平均正反射率が２１．６％となり、平均透過率は８．７％となった。実施例１３に比べ、平均正反射率は高く、平均透過率は低かった。また、膜色は、黄色や茶色を呈し、黒色ではなかった。膜の表面粗さ（Ｒａ）は、０．６６ｎｍとなり、実施例１３に比べ小さくなり、膜表面は平坦であった。

　膜中の炭素の結合状態は、ｓｐ２結合炭素とｓｐ３結合炭素の混在を確認した。
　膜表面の動摩擦係数は、０．２１となり、実施例１３に比べ大きくなった。水に対する接触角は９０°未満となり、撥水性が悪いことがわかった。なお、耐紫外線性試験後の膜の変色はなかった。
　このような膜色が黒色ではなく、平均正反射率が高く、平均透過率が低く、動摩擦係数が大きく、さらに撥水性が悪い比較例９の膜は、低反射かつ黒色であって低動摩擦係数が望まれるシャッター羽根材の表面被覆膜として不適切である。

(比較例１０)
　成膜ガス圧を１．４Ｐａに変えた以外は、ターゲットの種類、ターゲットの投入電力密度を実施例１３と同様にして、ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜を作製した。その膜特性の測定結果を表２に示した。
　膜中のＣ／Ｔｉ原子数比は、１．８８～２７．６２となり、膜表面側で高くなった。また、Ｏ／Ｔｉ原子数比は、０．５４～０．７６とＣ／Ｔｉ原子数比同様に、膜表面側で高くなった。実施例１３に比べ、Ｏ／Ｔｉ原子数比が小さかった。

　得られたダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜の波長の３８０～７８０ｎｍにおける平均正反射率が１９．４％となり、平均透過率は１８．３％となった。実施例１３に比べ、平均正反射率は高く、平均透過率は低かった。また、膜色は、黄色や茶色を呈し、黒色ではなかった。膜の表面粗さ（Ｒａ）は、０．７６ｎｍとなり、実施例１３に比べ小さくなり、膜表面は平坦であった。

　膜中の炭素の結合状態は、ｓｐ２結合炭素とｓｐ３結合炭素の混在を確認した。
　膜表面の動摩擦係数は０．１５となり、実施例１３に比べ大きくなった。水に対する接触角は９０°未満となり、撥水性が悪いことがわかった。なお、耐紫外線性試験後の膜の変色はなかった。
　このような膜色が黒色ではなく、平均正反射率が高く、平均透過率が低く、動摩擦係数が大きく、さらに撥水性が悪い比較例１０の膜は、低反射かつ黒色であって低動摩擦係数が望まれるシャッター羽根材の表面被覆膜として不適切である。

　ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜の膜厚を２０ｎｍに変えた以外は、ターゲットの投入電力密度、成膜ガス圧、ターゲットの種類は実施例１１と同等にして成膜を行った。その膜特性の測定結果を表２に示した。
　膜中のＣ／Ｔｉ原子数比は２．９６～２４．３０となり、膜表面側で高くなった。また、Ｏ／Ｔｉ原子数比は０．９５～１．５５となり、膜表面側で高くなった。

　得られたダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜の波長の３８０～７８０ｎｍにおける平均正反射率は１７．８％、平均透過率は４８．６％の黒色な膜が得られた。膜の表面粗さ（Ｒａ）は、０．８４ｎｍとなり、膜表面に凹凸が形成されていた。

　膜中の炭素の結合状態は、ｓｐ２結合炭素とｓｐ３結合炭素の混在を確認した。
　膜表面の動摩擦係数は、０．０９で、水に対する接触角は９１°となり、撥水性に優れていることがわかった。さらに、耐紫外線性試験後の膜の変色はなかった。
　このような黒色で平均正反射率が低く、動摩擦係数が非常に小さく、撥水性、耐紫外線性に優れた実施例１５の膜はシャッター羽根材の表面被覆膜として非常に有用である。

　ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜の膜厚を２０ｎｍに変えた以外は、ターゲットの投入電力密度、成膜ガス圧、ターゲットの種類は実施例１４と同等にして成膜を行った。
　膜中のＣ／Ｔｉ原子数比は２．３８～２９．４となり、膜表面側で高くなった。また、Ｏ／Ｔｉ原子数比は０．８８～１．４５となり、膜表面側で高くなった。

　得られたダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜の波長の３８０～７８０ｎｍにおける平均正反射率は１６．２％、平均透過率は４９．１％の黒色な膜が得られた。膜の表面粗さ（Ｒａ）は、０．９３ｎｍとなり、膜表面に凹凸が形成されていた。

　膜中の炭素の結合状態は、ｓｐ２結合炭素とｓｐ３結合炭素の混在を確認した。
　膜表面の動摩擦係数は、０．１０で、水に対する接触角は９３°となり、撥水性に優れていることがわかった。さらに、耐紫外線性試験後の膜の変色はなかった。
　このような黒色で平均正反射率が低く、動摩擦係数が非常に小さく、撥水性、耐紫外線性に優れた実施例１６の膜はシャッター羽根材の表面被覆膜として非常に有用である。

　ターゲット１の投入電力密度を３．９Ｗ／ｃｍ^２に変えた以外は、成膜ガス圧、ターゲットの種類、膜厚は実施例１０と同様にして成膜を行った。その膜特性の測定結果を表２に示した。
　膜中のＣ／Ｔｉ原子数比は２．７９～２２．５３となり、膜表面側で高くなった。また、Ｏ／Ｔｉ原子数比は１．１５～２．０６となり、膜表面側で高くなった。

　得られたダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜の波長の３８０～７８０ｎｍにおける平均正反射率は１５．３％、平均透過率は３０．０％の黒色な膜が得られた。膜の表面粗さ（Ｒａ）は、１．１５ｎｍとなり、膜表面に凹凸が形成されていた。

　膜中の炭素の結合状態は、ｓｐ２結合炭素とｓｐ３結合炭素の混在を確認した。
　膜表面の動摩擦係数は、０．１０で、水に対する接触角は９３°となり、撥水性に優れていることがわかった。さらに、耐紫外線性試験後の膜の変色はなかった。
　このような黒色で平均正反射率が低く、動摩擦係数が非常に小さく、撥水性、耐紫外線性に優れた実施例１７の膜はシャッター羽根材の表面被覆膜として非常に有用である。

　ターゲットの投入電力密度を３．９Ｗ／ｃｍ^２に変えた以外は、成膜ガス圧、ターゲットの種類、膜厚は実施例１３と同様にして成膜を行った。その膜特性の測定結果を表２に示した。
　膜中のＣ／Ｔｉ原子数比は２．６８～２１．５３となり、膜表面側で高くなった。また、Ｏ／Ｔｉ原子数比は１．３５～２．１０となり、膜表面側で高くなった。

　得られたダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜の波長の３８０～７８０ｎｍにおける平均正反射率は１４．１％、平均透過率は４０．５％の黒色な膜が得られた。膜の表面粗さ（Ｒａ）は、１．２７ｎｍとなり、膜表面に凹凸が形成されていた。

　膜中の炭素の結合状態は、ｓｐ２結合炭素とｓｐ３結合炭素の混在を確認した。
　膜表面の動摩擦係数は、０．１０であった。水に対する接触角は９５°となり、撥水性に優れていることがわかった。さらに、耐紫外線性試験後の膜の変色はなかった。
　このような黒色で平均正反射率が低く、動摩擦係数が非常に小さく、撥水性、耐紫外線性に優れた実施例１８の膜はシャッター羽根材の表面被覆膜として非常に有用である。

（比較例１１）
　ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜の膜厚を１７ｎｍに変えた以外は、成膜ガス圧、ターゲットの種類、ターゲット投入電力密度は実施例１０と同様にして、成膜を行った。その膜特性の測定結果を表２に示した。
　膜中のＣ／Ｔｉ原子数比は３．２７～２１．５、Ｏ／Ｔｉ原子数比は０．４３～０．６９となった。Ｃ／Ｔｉ原子数比、Ｏ／Ｔｉ原子数比ともに同様に、膜表面側で高くなった。実施例１０に比べ、Ｏ／Ｔｉ原子数比が小さかった。

　得られたダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜の波長の３８０～７８０ｎｍにおける平均正反射率が２２．５％となり、平均透過率は４８．２％となった。実施例１０に比べ、平均正反射率は高かった。また、膜色は、茶色を呈し、黒色ではなかった。膜の表面粗さ（Ｒａ）は、０．６２ｎｍとなり、実施例１０に比べ小さくなり、膜表面は平坦であった。

　膜中の炭素の結合状態は、ｓｐ２結合炭素とｓｐ３結合炭素の混在を確認した。
　膜表面の動摩擦係数は、０．１０、水に対する接触角は８１°となり、撥水性が悪いことがわかった。なお、耐紫外線性試験後の膜の変色はなかった。
　このような膜色が黒色ではなく、平均正反射率が高く、撥水性が悪い比較例１１の膜は、低反射かつ黒色であることが望まれるシャッター羽根材の表面被覆膜として不適切である。

（比較例１２）
　ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜の膜厚を１７ｎｍに変えた以外は、成膜ガス圧、ターゲットの種類、ターゲット投入電力密度は実施例１３と同様にして、成膜を行った。その膜特性の測定結果を表２に示した。
　膜中のＣ／Ｔｉ原子数比は２．９１～２３．４０、Ｏ／Ｔｉ原子数比は０．５０～０．７３となった。Ｃ／Ｔｉ原子数比、Ｏ／Ｔｉ原子数比ともに同様に、膜表面側で高くなった。実施例１３に比べ、Ｏ／Ｔｉ原子数比が小さかった。

　得られたダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜の波長の３８０～７８０ｎｍにおける平均正反射率が２１．４％となり、平均透過率は５１．７％となった。実施例１３に比べ、平均正反射率は高かった。また、膜色は、茶色を呈し、黒色ではなかった。膜の表面粗さ（Ｒａ）は、０．７１ｎｍとなり、実施例１３に比べ小さくなり、膜表面は平坦であった。

　膜中の炭素の結合状態は、ｓｐ２結合炭素とｓｐ３結合炭素の混在を確認した。
　膜表面の動摩擦係数は、０．１０、水に対する接触角は８０°となった。なお、耐紫外線性試験後の膜の変色はなかった。
　このような膜色が黒色ではなく、平均正反射率が高く、撥水性が悪い比較例１２の膜は、低反射かつ黒色であることが望まれるシャッター羽根材の表面被覆膜として不適切である。

　基板の種類を、厚みが５０μｍで表面粗さ（算術平均高さＲａ）が０．２５μｍのＳＵＳ製基板に代え、その表面に、ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜として基板の両面に実施例１の膜を、厚み２０ｎｍ成膜した。その膜特性の測定結果を表３に示す。

　実施例１９に示す膜を形成したとき、その表面が黒色を呈して低反射特性を示した。また、水に対する接触角はともに高い撥水性を示し、動摩擦係数も０．１０以下であり、紫外線照射による変形や変色もなく、撥水性、動摩擦係数の優れた光学部材とすることができた。

　基板の種類を、厚みが５０μｍで表面粗さ（算術平均高さＲａ）が０．２５μｍのＳＵＳ製基板に代え、その表面にダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜として基板の両面に実施例５の膜を、厚み１００ｎｍ成膜した。その膜特性の測定結果を表３に示す。

　実施例２０に示す膜を形成したとき、その表面が黒色を呈して低反射特性を示した。また、水に対する接触角はともに高い撥水性を示し、動摩擦係数も０．１０以下であり、紫外線照射による変形や変色もなく、撥水性、動摩擦係数の優れた光学部材とすることができた。

　基板の種類を、厚み５０μｍ、表面粗さ（算術平均高さＲａ）０．２３μｍのＴｉ製基板に代えた以外は、実施例１９と同様に実施例１に係る膜を厚み２０ｎｍに成膜、作製した。その膜特性評価を表３に示す。

　実施例１９同様に、膜表面は黒色を呈して低反射特性を示した。また、水に対する接触角は、ともに高い撥水性を示し、動摩擦係数も０．１０以下であり、紫外線照射による変形や変色もなく、撥水性、動摩擦係数の優れた光学部材とすることができた。

　基板の種類を、厚み５０μｍ、表面粗さ（算術平均高さＲａ）０．２３μｍのＴｉ製基板に代えた以外は、実施例２０と同様に実施例５の膜を１００ｎｍの厚みで成膜、作製した。その膜特性評価を表３に示す。

　実施例２０と同様に、膜表面は黒色を呈して低反射特性を示した。また、水に対する接触角は、ともに高い撥水性を示し、動摩擦係数も０．１０以下であり、紫外線照射による変形や変色もなく、撥水性、動摩擦係数の優れた光学部材とすることができた。

　基板の種類を、厚み５０μｍ、表面粗さ（算術平均高さＲａ）０．２６μｍのＡｌ製基板に代えた以外は、実施例１９と同様に実施例１の膜を２０ｎｍの厚みで成膜、作製した。その膜特性の評価結果を表３に示す。

　実施例１９と同様に、表面が黒色を呈して低反射特性を示した。また、水に対する接触角はともに高い撥水性を示し、動摩擦係数も０．１０以下であり、紫外線照射による変形や変色もなく、撥水性、動摩擦係数の優れた光学部材とすることができた。

　基板の種類を、厚み５０μｍ、表面粗さ（算術平均高さＲａ）０．２６μｍのＡｌ製基板に代えた以外は、実施例２０と同様に実施例５の膜を１００ｎｍの厚みで成膜、作製した。その膜特性の評価結果を表３に示す。

　実施例２０と同様に、表面が黒色を呈して低反射特性を示した。また、水に対する接触角はともに高い撥水性を示し、動摩擦係数も０．１０以下であり、紫外線照射による変形や変色もなく、撥水性、動摩擦係数の優れた光学部材とすることができた。

　基板の種類を、厚み３８μｍ、表面粗さ（算術平均高さＲａ）０．５０μｍのポリイミドフィルムに変え、その表面に、実施例５の膜を厚み２０ｎｍ成膜した。その膜特性の測定結果を表３に示す。

　基板の種類を、厚み５０μｍ、表面粗さ（算術平均高さＲａ）０．５０μｍのポリイミドフィルムに変え、その表面に、実施例５の膜を厚み２０ｎｍ成膜した。その膜特性の評価結果を表３に示す。

　基板の種類を、厚み７５μｍ、表面粗さ（算術平均高さＲａ）０．５０μｍのポリイミドフィルムに変え、その表面に、実施例５の膜を厚み２００ｎｍ成膜した。その膜特性の測定結果を表３に示す。

　実施例２５～２７の膜は、共に表面が黒色を呈して低反射特性を示した。また、水に対する接触角はともに高い撥水性を示し、動摩擦係数も０．１０以下であり、紫外線照射による変形や変色もなく、撥水性、動摩擦係数の優れた光学部材とすることができた。

　基板の種類を、厚み３８μｍ、表面粗さ（算術平均高さＲａ）０．６０μｍのＰＥＴフィルムに代え、その表面に、実施例５の膜を厚み２０ｎｍ成膜した。その膜特性の測定結果を表３に示す。

　基板の種類を、厚み５０μｍ、表面粗さ（算術平均高さＲａ）０．６０μｍのＰＥＴフィルムに代え、その表面に、実施例５の膜を厚み２０ｎｍ成膜した。その膜特性の測定結果を表３に示す。

　基板の種類を、厚み７５μｍ、表面粗さ（算術平均高さＲａ）０．６０μｍのＰＥＴフィルムに代え、その表面に、実施例５の膜を厚み２００ｎｍ成膜した。その膜特性の測定結果を表３に示す。

　実施例２８～３０の膜は、共に表面が黒色を呈して低反射特性を示した。また、水に対する接触角はともに高い撥水性を示し、動摩擦係数も０．１０以下であり、紫外線照射による変形や変色もなく、撥水性、動摩擦係数の優れた光学部材とすることができた。

　算術平均高さ（Ｒａ）が０．２５μｍであり、厚みが３８μｍであるポリイミドフィルムの表面に、第１層目の金属遮光膜として炭化チタン膜（膜厚１００ｎｍ）を形成した。そして、その金属遮光膜の表面に２層目の膜として、実施例１の膜を１００ｎｍだけ形成して、黒色遮光板を作製した。
　いずれも、ポリイミドフィルムの両面に、同じ膜厚の第１層目の膜と、同じ種類で同じ膜厚の第２層の膜を対称に形成することで、反りのないフィルム状の黒色遮光板を作製した。その特性の測定結果を表４に示した。

　算術平均高さ（Ｒａ）が０．２５μｍであり、厚みが３８μｍであるポリイミドフィルムの表面に、第１層目の金属遮光膜として炭化チタン膜（膜厚１００ｎｍ）を形成した。そして、その金属遮光膜の表面に２層目の膜として、実施例２の膜を１０３ｎｍだけ形成して、黒色遮光板を作製した。いずれも、ポリイミドフィルムの両面に、同じ膜厚の第１層目の膜と、同じ種類で同じ膜厚の第２層の膜を対称に形成することで、反りのないフィルム状の黒色遮光板を作製した。その特性の測定結果を表４に示した。

　算術平均高さ（Ｒａ）０．２５μｍで、厚み３８μｍのポリイミドフィルムの表面に、第１層目の金属遮光膜として炭化チタン膜（膜厚１００ｎｍ）を形成した。そして、その金属遮光膜の表面に２層目の膜として、実施例３の膜を１０５ｎｍだけ形成して、黒色遮光板を作製した。いずれも、ポリイミドフィルムの両面に、同じ膜厚の第１層目の膜と、同じ種類で同じ膜厚の第２層の膜を対称に形成することで、反りのないフィルム状の黒色遮光板を作製した。その特性の測定結果を表４に示した。

（比較例１３）
　算術平均高さ（Ｒａ）０．２５μｍで、厚み３８μｍのポリイミドフィルムの表面に、第１層目の金属遮光膜として炭化チタン膜（膜厚１００ｎｍ）を形成し、その金属遮光膜の表面に第２層目の膜として、比較例１の膜を１１０ｎｍだけ形成した。その特性の測定結果を表４に示した。

　作製した実施例３１～３３の黒色遮光板は、いずれも波長３８０～７８０ｎｍにおける平均光学濃度は４．０より大きく、完全な遮光性を示した。
　平均正反射率は、０．４６～０．６５％であった。
　膜表面の算術平均高さ（Ｒａ）は０．２０μｍ、水に対する接触角は９６～１０５°と優れた撥水性を示した。
　動摩擦係数は０．１０以下で、耐紫外線性によるフィルムの変形、変色もなかった。黒色遮光板の明度（Ｌ^*値）は、３６～４０となり、黒色度が高いことがわかった。
　したがって、実施例３１～３３の黒色遮光板は遮光性、低反射性、撥水性、滑り性、耐紫外線に優れているため、シャッター羽根材として非常に有用である。

　一方、比較例１３の黒色遮光板は、実施例３１～３３同様に平均光学濃度が４．０より大きく完全遮光性を有し、膜表面の算術平均高さＲａは０．２０μｍであったが、平均正反射率は２．８０％と実施例３１～３３に比べ高くなった。黒色遮光板の明度（Ｌ^*値）も５６と高くなり、黒色度が低くなった。また、水に対する接触角は８８°と９０°未満、動摩擦係数は０．１９となった。
　したがって、比較例１３の黒色遮光板は、平均正反射率、明度（Ｌ^*値）、撥水性、滑り性が劣るためシャッター羽根材としては不適切である。
　なお、表４に基材の種類、膜構成、評価結果を示す。

　算術平均高さ（Ｒａ）が０．３２μｍ、厚み２５μｍのポリイミドフィルムの表面に、第１層目の金属遮光膜として炭化チタン膜を膜厚１００ｎｍ形成した。次に、その金属遮光膜の表面に２層目の膜として、実施例１の膜を１０５ｎｍの厚みだけ形成して、黒色遮光板を作製した。いずれも、ポリイミドフィルムの両面に、同じ膜厚の第１層目の膜と、同じ種類で同じ膜厚の第２層の膜を対称に形成することで、反りのないフィルム状の黒色遮光板を作製した。その特性の測定結果を表４に示した。

　算術平均高さ（Ｒａ）が０．３２μｍであり、厚みが２５μｍであるポリイミドフィルムの表面に、第１層目の金属遮光膜として炭化チタン膜を膜厚１００ｎｍ形成した。そして、その金属遮光膜の表面に２層目の膜として、実施例３の膜を１０５ｎｍだけ形成して、黒色遮光板を作製した。いずれも、ポリイミドフィルムの両面に、同じ膜厚の第１層目の膜と、同じ種類で同じ膜厚の第２層の膜を対称に形成することで、反りのないフィルム状の黒色遮光板を作製した。その特性の測定結果を表４に示した。

（比較例１４）
　比較例１４では算術平均高さ（Ｒａ）が０．３２μｍであり、厚みが２５μｍであるポリイミドフィルムの表面に、第１層目の金属遮光膜として炭化チタン膜（膜厚１００ｎｍ）を形成し、その金属遮光膜の表面に第２層目の膜として、比較例１の膜を１０５ｎｍの厚みだけ形成した。その特性の測定結果を表４に示した。

　作製した実施例３４、３５の黒色遮光板は、いずれも波長３８０～７８０ｎｍにおける平均光学濃度は４．０より大きく、完全な遮光性を示した。
　また、平均正反射率は、０．５２～０．７７％と０．８％以下であった。膜表面の算術平均高さ（Ｒａ）は０．２２μｍ、水に対する接触角は１０５～１１８°と優れた撥水性を示した。また、動摩擦係数は０．１０であった。
　耐紫外線性によるフィルムの変形、変色もなかった。黒色遮光板の明度（Ｌ^*値）は、３８～４０となり、黒色度が高いことがわかった。
　したがって、実施例３４、３５の黒色遮光板は遮光性、低反射性、撥水性、滑り性、耐紫外線に優れているため、シャッター羽根材として非常に有用である。

　一方、比較例１４の黒色遮光板は、実施例３４、３５同様に平均光学濃度が４．０より大きく、完全遮光性を有し、膜表面の算術平均高さＲａは０．２２μｍであったが、平均正反射率は２．０３％と実施例３４、３５に比べ高くなった。黒色遮光板の明度（Ｌ^*値）も４９と高くなり、黒色度が低かった。また、水に対する接触角は７６°と９０°未満、動摩擦係数は０．２０となった。
　したがって、比較例１４の黒色遮光板は、平均正反射率、明度（Ｌ^*値）、撥水性、滑り性が劣るためシャッター羽根材としては不適切である。なお、表４に基材の種類、膜構成、評価結果を示す。

　算術平均高さ（Ｒａ）が０．４３μｍであり、厚みが３８μｍであるポリイミドフィルムの表面に、第１層目の金属遮光膜として炭化チタン膜を膜厚１００ｎｍだけ形成した。次に、その金属遮光膜の表面に２層目の膜として、実施例１の膜を厚み１０５ｎｍだけ形成して、黒色遮光板を作製した。いずれも、ポリイミドフィルムの両面に、同じ膜厚の第１層目の膜と、同じ種類で同じ膜厚の第２層の膜を対称に形成することで、反りのないフィルム状の黒色遮光板を作製した。その特性の測定結果を表４に示した。

　算術平均高さ（Ｒａ）が０．４３μｍであり、厚みが３８μｍであるポリイミドフィルムの表面に、第１層目の金属遮光膜として炭化チタン膜を膜厚１００ｎｍだけ形成した。次に、その金属遮光膜の表面に２層目の膜として、実施例３の膜を厚み１０５ｎｍだけ形成して、黒色遮光板を作製した。いずれも、ポリイミドフィルムの両面に、同じ膜厚の第１層目の膜と、同じ種類で同じ膜厚の第２層の膜を対称に形成することで、反りのないフィルム状の黒色遮光板を作製した。その特性の測定結果を表４に示した。

（比較例１５）
　比較例１５では算術平均高さ（Ｒａ）が０．４３μｍであり、厚みが３８μｍであるポリイミドフィルムの表面に、第１層目の金属遮光膜として炭化チタン膜（膜厚１００ｎｍ）を形成し、その金属遮光膜の表面に第２層目の膜として、比較例１の膜を厚み１０５ｎｍだけ形成した。その特性の測定結果を表４に示した。

　作製した実施例３６、３７の黒色遮光板は、いずれも波長３８０～７８０ｎｍにおける平均光学濃度は４．０より大きく、完全な遮光性を示した。平均正反射率は、０．４７～０．７２％と０．８％以下であった。膜表面の算術平均高さ（Ｒａ）は０．３５μｍ、水に対する接触角は１０５～１２０°と優れた撥水性を示した。動摩擦係数は０．１０で、耐紫外線性によるフィルムの変形、変色もなかった。黒色遮光板の明度（Ｌ^*値）は、３３～３６となり、黒色度が高いことがわかった。
　したがって、実施例３６、３７の黒色遮光板は遮光性、低反射性、撥水性、滑り性、耐紫外線に優れているため、シャッター羽根材として非常に有用である。

　一方、比較例１５の黒色遮光板は、実施例３６、３７同様に平均光学濃度が４．０より大きく、完全遮光性を有し、膜表面の算術平均高さＲａは０．３５μｍであったが、平均正反射率は１．７２％と高くなった。黒色遮光板の明度（Ｌ^*値）も５０と高くなり、黒色度が低かった。また、水に対する接触角は８０°と９０°未満、動摩擦係数は０．２３となった。
　したがって、比較例１５の黒色遮光板は、平均正反射率、明度（Ｌ^*値）、撥水性、滑り性が劣るためシャッター羽根材としては不適切である。
　なお、表４に基材の種類、膜構成、評価結果を示す。

　算術平均高さ（Ｒａ）が０．９０μｍで、厚みが５０μｍのポリイミドフィルムの表面に、第１層目の金属遮光膜として炭化チタン膜を膜厚１００ｎｍだけ形成した。次に、その金属遮光膜の表面に２層目の膜として、実施例１の膜を厚み１０５ｎｍだけ形成して、黒色遮光板を作製した。いずれも、ポリイミドフィルムの両面に、同じ膜厚の第１層目の膜と、同じ種類で同じ膜厚の第２層の膜を対称に形成することで、反りのないフィルム状の黒色遮光板を作製した。その特性の測定結果を表４に示した。

　算術平均高さ（Ｒａ）が０．９０μｍで、厚みが５０μｍのポリイミドフィルムの表面に、第１層目の金属遮光膜として炭化チタン膜を膜厚１００ｎｍだけ形成した。次に、その金属遮光膜の表面に２層目の膜として、実施例３の膜を厚み１０５ｎｍだけ形成して、黒色遮光板を作製した。いずれも、ポリイミドフィルムの両面に、同じ膜厚の第１層目の膜と、同じ種類で同じ膜厚の第２層の膜を対称に形成することで、反りのないフィルム状の黒色遮光板を作製した。その特性の測定結果を表４に示した。

（比較例１６）
　比較例１６では算術平均高さ（Ｒａ）が０．９０μｍで、厚みが５０μｍのポリイミドフィルムの表面に、第１層目の金属遮光膜として炭化チタン膜（膜厚１００ｎｍ）を形成し、その金属遮光膜の表面に第２層目の膜として、比較例１の膜を厚み１０５ｎｍだけ形成した。その特性の測定結果を表４に示した。

　作製した実施例３８、３９の黒色遮光板は、いずれも波長３８０～７８０ｎｍにおける平均光学濃度は４．０より大きく、完全な遮光性を示した。その平均正反射率は、０．２１～０．３１％と０．８％以下であった。膜表面の算術平均高さ（Ｒａ）は０．７３μｍ、水に対する接触角は１１０～１２０°と優れた撥水性を示した。また、動摩擦係数は０．１０で、耐紫外線性によるフィルムの変形、変色もなかった。黒色遮光板の明度（Ｌ^*値）は、２８～３０となり、黒色度が高いことがわかった。
　したがって、実施例３８、３９の黒色遮光板は遮光性、低反射性、撥水性、滑り性、耐紫外線に優れているため、シャッター羽根材として非常に有用である。

　一方、比較例１６の黒色遮光板は、実施例３８、３９同様に平均光学濃度が４．０より大きく、完全遮光性を有し、膜表面の算術平均高さＲａは０．７３μｍであったが、平均正反射率は１．２５％と実施例３８、３９に比べ高くなった。黒色遮光板の明度（Ｌ^*値）も４７と高くなり、黒色度が低かった。また、水に対する接触角は８９°と９０°未満、動摩擦係数は０．２４となった。
　したがって、比較例１６の黒色遮光板は、平均正反射率、明度（Ｌ^*値）、撥水性、滑り性が劣るためシャッター羽根材としては不適切である。
　なお、表４に基材の種類、膜構成、評価結果を示す。

　算術平均高さ（Ｒａ）が０．９０μｍで、厚みが５０μｍのポリイミドフィルムの表面に、第１層目の金属遮光膜として炭化チタン膜を４０ｎｍ厚みで形成した。次に、その金属遮光膜の表面に２層目の膜として、実施例３の膜を厚み１０５ｎｍだけ形成して、黒色遮光板を作製した。いずれも、ポリイミドフィルムの両面に、同じ膜厚の第１層目の膜と、同じ種類で同じ膜厚の第２層の膜を対称に形成することで、反りのないフィルム状の黒色遮光板を作製した。その特性の測定結果を表４に示した。

　算術平均高さ（Ｒａ）が０．９０μｍで、厚みが５０μｍのポリイミドフィルムの表面に、第１層目の金属遮光膜として炭化チタン膜を２００ｎｍの厚みで形成した。次に、その金属遮光膜の表面に２層目の膜として、実施例３の膜を厚み１０５ｎｍだけ形成して、黒色遮光板を作製した。いずれも、ポリイミドフィルムの両面に、同じ膜厚の第１層目の膜と、同じ種類で同じ膜厚の第２層の膜を対称に形成することで、反りのないフィルム状の黒色遮光板を作製した。その特性の測定結果を表４に示した。

（比較例１７）
　算術平均高さ（Ｒａ）が０．９０μｍで、厚みが５０μｍのポリイミドフィルムの表面に、第１層目の金属遮光膜として炭化チタン膜を３８ｎｍ厚みで形成した。次に、その金属遮光膜の表面に２層目の膜として、実施例３の膜を厚み１０５ｎｍだけ形成して、黒色遮光板を作製した。いずれも、ポリイミドフィルムの両面に、同じ膜厚の第１層目の膜と、同じ種類で同じ膜厚の第２層の膜を対称に形成することで、反りのないフィルム状の黒色遮光板を作製した。その特性の測定結果を表４に示した。

　作製した実施例４０、４１の黒色遮光板は、いずれも波長３８０～７８０ｎｍにおける平均光学濃度は４．０より大きく、完全な遮光性を示した。その平均正反射率は、０．３１～０．３６％と０．８％以下であった。膜表面の算術平均高さ（Ｒａ）は０．３８～０．４０μｍ、水に対する接触角は９５～１０３°と優れた撥水性を示した。また、動摩擦係数は０．０９～０．１０で、耐紫外線性によるフィルムの変形、変色もなかった。黒色遮光板の明度（Ｌ^*値）は、３５～３８となり、黒色度が高いことがわかった。
　したがって、実施例４０、４１の黒色遮光板は遮光性、低反射性、撥水性、滑り性、耐紫外線に優れているため、シャッター羽根材として非常に有用である。

　一方、比較例１７の黒色遮光板は、平均正反射率、明度（Ｌ^*値）、膜の算術平均高さＲａ、水に対する接触角、耐紫外線性は実施例４０、４１と同等であったが、平均光学濃度が３．８９と完全遮光性を有しておらず、また動摩擦係数も０．２０と大きくなった。
　したがって、比較例１７の黒色遮光板は、遮光性や滑り性が不足しているためシャッター羽根材としては不適切である。
　なお、表４に基材の種類、膜構成、評価結果を示す。

　算術平均高さ（Ｒａ）が０．２５μｍで、厚み３８μｍのポリイミドフィルムの表面に、第１層目の金属遮光膜として炭化チタン膜を１００ｎｍの厚みで形成した。次に、その金属遮光膜の表面に２層目の膜として、実施例３の膜を２０ｎｍの厚みで（形成して、黒色遮光板を作製した。いずれも、ポリイミドフィルムの両面に、同じ膜厚の第１層目の膜と、同じ種類で同じ膜厚の第２層の膜を対称に形成することで、反りのないフィルム状の黒色遮光板を作製した。その特性の測定結果を表４に示した。

　算術平均高さ（Ｒａ）が０．２５μｍで、厚み３８μｍのポリイミドフィルムの表面に、第１層目の金属遮光膜として炭化チタン膜を１００ｎｍの厚みで形成した。次に、その金属遮光膜の表面に２層目の膜として、実施例３の膜を５３ｎｍの厚みで形成して、黒色遮光板を作製した。いずれも、ポリイミドフィルムの両面に、同じ膜厚の第１層目の膜と、同じ種類で同じ膜厚の第２層の膜を対称に形成することで、反りのないフィルム状の黒色遮光板を作製した。その特性の測定結果を表４に示した。

　算術平均高さ（Ｒａ）が０．２５μｍで、厚み３８μｍのポリイミドフィルムの表面に、第１層目の金属遮光膜として炭化チタン膜を１００ｎｍの厚みで形成した。次に、その金属遮光膜の表面に２層目の膜として、実施例３の膜を２００ｎｍの厚みで形成して、黒色遮光板を作製した。いずれも、ポリイミドフィルムの両面に、同じ膜厚の第１層目の膜と、同じ種類で同じ膜厚の第２層の膜を対称に形成することで、反りのないフィルム状の黒色遮光板を作製した。その特性の測定結果を表４に示した。

（比較例１８）
　算術平均高さ（Ｒａ）が０．２５μｍで、厚み３８μｍのポリイミドフィルムの表面に、第１層目の金属遮光膜として炭化チタン膜を１００ｎｍの厚みで形成した。次に、その金属遮光膜の表面に２層目の膜として、実施例３の膜を１７ｎｍの厚みで形成して、黒色遮光板を作製した。いずれも、ポリイミドフィルムの両面に、同じ膜厚の第１層目の膜と、同じ種類で同じ膜厚の第２層の膜を対称に形成することで、反りのないフィルム状の黒色遮光板を作製した。その特性の測定結果を表４に示した。

　作製した実施例４２～４４の黒色遮光板は、いずれも波長３８０～７８０ｎｍにおける平均光学濃度は４．０より大きく、完全な遮光性を示した。その平均正反射率は、０．４３～０．７３％と０．８％以下であった。膜表面の算術平均高さ（Ｒａ）は、いずれも０．２０μｍ、水に対する接触角は１０５～１０７°と優れた撥水性を示した。また、動摩擦係数は０．１０で、耐紫外線性によるフィルムの変形、変色もなかった。黒色遮光板の明度（Ｌ^*値）は、４３～４５となり、黒色度が高いことがわかった。
　したがって、実施例４２～４４の黒色遮光板は遮光性、低反射性、撥水性、滑り性、耐紫外線に優れているため、シャッター羽根材として非常に有用である。

　一方、比較例１８の黒色遮光板は、平均光学濃度、膜の算術平均高さＲａ、水に対する接触角、耐紫外線性は実施例４２～４４と同等であったが、平均正反射率が高く、明度（Ｌ^*値）も黒色度が不足した。
　したがって、比較例１８の黒色遮光板は、平均正反射率が悪く、黒色度が不足しているためシャッター羽根材としては不適切である。
　なお、表４に基材の種類、膜構成、評価結果を示す。

　算術平均高さ（Ｒａ）が０．９０μｍで、厚みが５０μｍのポリイミドフィルムの表面に、第１層目の金属遮光膜として炭化酸化チタン膜を１００ｎｍの厚みで形成した。次に、その金属遮光膜の表面に２層目の膜として、実施例１の膜を１０５ｎｍの厚みだけ形成して、黒色遮光板を作製した。いずれも、ポリイミドフィルムの両面に、同じ膜厚の第１層目の膜と、同じ種類で同じ膜厚の第２層の膜を対称に形成することで、反りのないフィルム状の黒色遮光板を作製した。その特性の測定結果を表４に示した。

　算術平均高さ（Ｒａ）が０．９０μｍで、厚みが５０μｍのポリイミドフィルムの表面に、第１層目の金属遮光膜として炭化酸化チタン膜を１００ｎｍの厚みで形成した。次に、その金属遮光膜の表面に２層目の膜として、実施例２の膜を１０５ｎｍの厚みだけ形成して、黒色遮光板を作製した。いずれも、ポリイミドフィルムの両面に、同じ膜厚の第１層目の膜と、同じ種類で同じ膜厚の第２層の膜を対称に形成することで、反りのないフィルム状の黒色遮光板を作製した。その特性の測定結果を表４に示した。

　算術平均高さ（Ｒａ）が０．９０μｍで、厚みが５０μｍのポリイミドフィルムの表面に、第１層目の金属遮光膜として炭化酸化チタン膜を１００ｎｍの厚みで形成した。次に、その金属遮光膜の表面に２層目の膜として、実施例３の膜を１０５ｎｍの厚みだけ形成して、黒色遮光板を作製した。いずれも、ポリイミドフィルムの両面に、同じ膜厚の第１層目の膜と、同じ種類で同じ膜厚の第２層の膜を対称に形成することで、反りのないフィルム状の黒色遮光板を作製した。その特性の測定結果を表４に示した。

　作製した実施例４５～４７の黒色遮光板は、いずれも波長３８０～７８０ｎｍにおける平均光学濃度は４．０より大きく、完全な遮光性を示した。その平均正反射率は、０．２０～０．５０％と０．８％以下であった。膜表面の算術平均高さ（Ｒａ）は、いずれも０．７５μｍ、水に対する接触角は９６～１１３°と優れた撥水性を示した。また、動摩擦係数は０．１０以下で、耐紫外線性によるフィルムの変形、変色もなかった。黒色遮光板の明度（Ｌ^*値）は、３４～４２となり、黒色度が高いことがわかった。
　したがって、実施例４５～４７の黒色遮光板は遮光性、低反射性、撥水性、滑り性、耐紫外線に優れているため、シャッター羽根材として非常に有用である。
　なお、表４に基材の種類、膜構成、評価結果を示す。

（比較例１９）
　第２層目の膜を成膜する時に、フィルムを静止した状態で成膜した以外は、フィルムの種類、厚みと表面粗さ、第１および第２層目の膜の種類と膜厚は実施例４３と同様のポリイミドフィルムの両面に、同じ膜厚の第１層目の膜と、同じ種類で同じ膜厚の第２層の膜を対称に形成することで、反りのないフィルム状の黒色遮光板を作製した。その特性の測定結果を表４に示した。

　作製した比較例１９の黒色遮光板は、いずれも波長３８０～７８０ｎｍにおける平均光学濃度は４．０より大きく、完全な遮光性を示し、耐紫外線性も良好であった。しかし、その平均正反射率は０．９％、明度Ｌ^*は４９、膜表面の算術平均高さ（Ｒａ）は０．１３μｍ、動摩擦係数は０．１８、水に対する接触角は７０°となり、第２層の成膜時の条件が異なる以外は同じ構成の実施例４３より、特性は悪くなった。また、膜の密着性をＪＩＳ　Ｃ００２１に基づき評価したが、下地のＴｉＣ膜との界面で一部膜が剥れ、密着性が悪かった。走査型Ｘ線光電子分光装置で評価した結果、第２層目の膜厚方向のＣ／Ｔｉ原子数比が３１．００、Ｏ／Ｔｉ原子数比は０．５４といずれも膜厚方向で均一であった。
　したがって、比較例１９の黒色遮光板は遮光性、耐紫外線に優れているが、反射率、明度、撥水性、滑り性、膜密着性が悪いため高温高湿下で使用されるシャッター羽根材として使用することができない。

　表面の算術平均高さ（Ｒａ）が０．２５μｍであり、厚みが２５μｍのポリイミドフィルムの表面に、ＮｉＴｉターゲット（３ｗｔ％Ｔｉ含有）を用いて、ＮｉＴｉ膜（Ｔｉ含有量２．９８ｗｔ％）の金属遮光膜を１１０ｎｍだけ形成し、実施例３と同様にして、黒色遮光板を作製した。
　なお金属遮光膜の成膜は、成膜ガス圧を０．３Ｐａとし、直流スパッタリング法で形成した。
　次に、第２層目の膜として、実施例３の膜を厚み１０５ｎｍほど形成した。
　いずれも、フィルムの両面に、同じ膜厚の第１層の膜と、同じ種類で同じ膜厚の第２層の膜を対称に形成することで、反りのないフィルム状の黒色遮光板を作製した。
　その特性の測定結果を表５に示した。

　表面の算術平均高さ（Ｒａ）が０．２５μｍであり、厚みが２５μｍのポリイミドフィルムの表面に、Ｃｕターゲットを用いてＣｕ膜の金属遮光膜を１１０ｎｍの厚みだけ形成し、実施例３と同様にして、黒色遮光板を作製した。
　なお金属遮光膜の成膜は、成膜ガス圧を０．３Ｐａとし、直流スパッタリング法で形成した。
　次に、第２層目の膜として、実施例３の膜を厚み１０５ｎｍほど形成した。
　いずれも、フィルムの両面に、同じ膜厚の第１層の膜と、同じ種類で同じ膜厚の第２層の膜を対称に形成することで、反りのないフィルム状の黒色遮光板を作製した。
　表５に、その特性を示す。

　表面の算術平均高さ（Ｒａ）が０．２５μｍであり、厚みが２５μｍのポリイミドフィルムの表面に、Ａｌターゲットを用いてＡｌ膜の金属遮光膜を１１０ｎｍ厚みだけ形成し、実施例３と同様にして、黒色遮光板を作製した。
　なお金属遮光膜の成膜は、成膜ガス圧を０．３Ｐａとし、直流スパッタリング法で形成した。
　次に、第２層目の膜として、実施例３の膜を厚み１０５ｎｍほど形成した。
　いずれも、フィルムの両面に、同じ膜厚の第１層の膜と、同じ種類で同じ膜厚の第２層の膜を対称に形成することで、反りのないフィルム状の黒色遮光板を作製した。
　表５に、その特性を示す。

　表面の算術平均高さ（Ｒａ）が０．２５μｍで、厚みが２５μｍのポリイミドフィルムの表面に、Ｔｉターゲットを用いて、Ｔｉ膜の金属遮光膜を１１０ｎｍだけ形成し、実施例３と同様にして、黒色遮光板を作製した。
　なお金属遮光膜の成膜は、成膜ガス圧を０．３Ｐａとし、直流スパッタリング法で形成した。
　次に、第２層目の膜として、実施例３の膜を厚み１０５ｎｍほど形成した。
　いずれも、フィルムの両面に、同じ膜厚の第１層の膜と、同じ種類で同じ膜厚の第２層の膜を対称に形成することで、反りのないフィルム状の黒色遮光板を作製した。
　表５に、その特性を示す。

　表面の算術平均高さ（Ｒａ）が０．２５μｍで、厚みが２５μｍのポリイミドフィルムの表面に、Ｔｉターゲットを用いて、Ｔｉ膜の金属遮光膜を１１０ｎｍだけ形成し、実施例３と同様にして、黒色遮光板を作製した。
　なお金属遮光膜の成膜は、成膜ガス圧を０．３Ｐａとし、直流スパッタリング法で形成した。
　次に、第２層目の膜として、実施例８の膜を厚み１０５ｎｍほど形成した。
　いずれも、フィルムの両面に、同じ膜厚の第１層の膜と、同じ種類で同じ膜厚の第２層の膜を対称に形成することで、反りのないフィルム状の黒色遮光板を作製した。
　表５に、その特性を示す。

　得られた黒色遮光板の平均正反射率は、実施例４８～５２で０．２９～０．４８％で低反射であった。その平均光学濃度は、いずれも４．０より大きくなり、完全遮光性を有した。膜表面の算術平均高さＲａは、０．２０μｍ、水に対する接触角は１００～１２４°、明度（Ｌ^*値）は３０～３７、動摩擦係数は０．１で、耐紫外線性ではフィルムの変形や変色は見られなかった。
　したがって、実施例４８～５２の黒色遮光板は遮光性、低反射性、撥水性、滑り性、耐紫外線に優れているため、シャッター羽根材として非常に有用である。

（比較例２０）
　表面の算術平均高さ（Ｒａ）が０．２５μｍで、厚みが２５μｍのポリイミドフィルムの表面に、ＮｉＴｉターゲット（３ｗｔ％Ｔｉ含有）を用いて、ＮｉＴｉ膜（Ｔｉ含有量２．９８ｗｔ％）の金属遮光膜を１１０ｎｍの厚みだけ形成し、実施例４８と同様にして、黒色遮光板を作製した。
　なお金属遮光膜の成膜は、実施例４８で示したスパッタリング成膜条件（成膜ガス圧）とし、直流スパッタリング法で形成した。
　次に、第２層目の膜として、比較例１の膜を厚み１０５ｎｍほど形成した。その特性の測定結果を表５に示した。

（比較例２１）
　表面の算術平均高さ（Ｒａ）が０．２５μｍで、厚みが２５μｍのポリイミドフィルムの表面に、Ｃｕターゲットを用いて、Ｃｕ膜の金属遮光膜を厚み１１０ｎｍだけ形成し、実施例４９と同様にして、黒色遮光板を作製した。
　なお金属遮光膜の成膜は、実施例４９で示したスパッタリング成膜条件（成膜ガス圧）とし、直流スパッタリング法で形成した。
　次に、第２層目の膜として、比較例１の膜を１０５ｎｍほど形成した。その特性の測定結果を表５に示した。

（比較例２２）
　表面の算術平均高さ（Ｒａ）が０．２５μｍで、厚みが２５μｍのポリイミドフィルムの表面に、Ａｌターゲットを用いてＡｌ膜の金属遮光膜を厚み１１０ｎｍだけ形成し、実施例５０と同様にして、黒色遮光板を作製した。
　なお金属遮光膜の成膜は、実施例５０で示したスパッタリング成膜条件（成膜ガス圧）とし、直流スパッタリング法で形成した。
　次に、第２層目の膜として、比較例１の膜を１０５ｎｍほど形成した。その特性の測定結果を表５に示した。

（比較例２３）
　表面の算術平均高さ（Ｒａ）が０．２５μで、厚みが２５μｍのポリイミドフィルムの表面に、Ｔｉターゲットを用いて、Ｔｉ膜の金属遮光膜を厚み１１０ｎｍだけ形成し、実施例５１と同様にして、黒色遮光板を作製した。
　なお金属遮光膜の成膜は、実施例５１で示したスパッタリング成膜条件（成膜ガス圧）とし、直流スパッタリング法で形成した。
　次に、第２層目の膜として、比較例１の膜を１０５ｎｍほど形成した。その特性の測定結果を表５に示した。

　いずれも、フィルムの両面に、同じ膜厚の第１層の膜と、同じ種類で同じ膜厚の第２層の膜を対称に形成することで、反りのないフィルム状の黒色遮光板を作製した。
　得られた黒色遮光板は、いずれも、波長３８０～７８０ｎｍにおける平均光学濃度は４．０より大きく、完全な遮光性を示した。また、波長３８０～７８０ｎｍにおける平均正反射率は比較例２０～２３で１．１７～１．５７％、Ｌ^*値も４８～５２と高く、黒色度の低い黒色遮光板であった。

　また、膜表面の算術平均高さＲａはいずれも０．２０μｍで、その耐紫外線性は変色や変形はなく、良好であったが水に対する接触角は７６～８６°と撥水性は小さかった。動摩擦係数は０．２１～０．３１と大きく、滑り性に劣ることがわかった。
　したがって、比較例２０～２３の黒色遮光板は、完全遮光性、耐紫外線性を有しているものの、反射性、撥水性、滑り性に劣るため、シャッター羽根材として不適である。

　表面の算術平均高さ（Ｒａ）が０．４２μｍで、厚みが７５μｍのＰＥＴフィルムの表面に、第１層目と第２層目の膜の種類、膜厚、成膜条件を実施例４８と同様にして、黒色遮光板を作製した。その特性の測定結果を表５に示した。

　表面の算術平均高さ（Ｒａ）が０．４２μｍで、厚みが７５μｍのＰＥＴフィルムの表面に、第１層目と第２層目の膜の種類、膜厚、成膜条件を実施例４９と同様にして、黒色遮光板を作製した。その特性の測定結果を表５に示した。

　表面の算術平均高さ（Ｒａ）が０．４２μｍで、厚みが７５μｍのＰＥＴフィルムの表面に、第１層目と第２層目の膜の種類、膜厚、成膜条件を実施例５０と同様にして、黒色遮光板を作製した。その特性の測定結果を表５に示した。

　表面の算術平均高さ（Ｒａ）が０．４２μｍで、厚みが７５μｍのＰＥＴフィルムの表面に、第１層目と第２層目の膜の種類、膜厚、成膜条件を実施例５１と同様にして、黒色遮光板を作製した。その特性の測定結果を表５に示した。

　いずれもフィルムの両面に、同じ膜厚の第１層の膜と、同じ種類で同じ膜厚の第２層の膜を対称に形成することで、反りのないフィルム状の黒色遮光板を作製した。
　得られた黒色遮光板は、いずれも、波長３８０～７８０ｎｍにおける平均光学濃度は４．０より大きく、完全な遮光性を示した。また、波長３８０～７８０ｎｍにおける平均正反射率は実施例５３～５６で０．２３～０．３０％と非常に低反射であり、Ｌ^*値も３２～３５と低くなり、黒色を呈していた。
　また、膜表面の算術平均高さＲａは、０．３８μｍ、水に対する接触角は９９～１１０°、動摩擦係数は０．１以下、耐紫外線性ではフィルムの変形や変色は見られなかった。
　したがって、実施例５３～５６の黒色遮光板は遮光性、低反射性、撥水性、滑り性、耐紫外線に優れているため、シャッター羽根材として非常に有用である。

（比較例２４）
　第２層目の膜を比較例１の膜に変えた以外は、実施例５３と同様にして、黒色遮光板を作製した。その特性の測定結果を表５に示した。

（比較例２５）
　第２層目の膜を比較例１の膜に変えた以外は、実施例５４と同様にして、黒色遮光板を作製した。その特性の測定結果を表５に示した。

（比較例２６）
　第２層目の膜を比較例１の膜に変えた以外は、実施例５５と同様にして、黒色遮光板を作製した。その特性の測定結果を表５に示した。

（比較例２７）
　第２層目の膜を比較例１の膜に変えた以外は、実施例５６と同様にして、黒色遮光板を作製した。その特性の測定結果を表５に示した。

　得られた黒色遮光板は、いずれも、波長３８０～７８０ｎｍにおける平均光学濃度は４．０より大きく、完全な遮光性を示した。また、波長３８０～７８０ｎｍにおける平均正反射率は比較例２４～２７で１．５６～１．９５％、Ｌ^*値も５０～５２と高く、黒色度の低い黒色遮光板であった。
　また、膜表面の算術平均高さＲａはいずれも０．３８μｍで、その耐紫外線性は変色や変形はなく、良好であったが、水に対する接触角は７４～８６°と撥水性は小さかった。動摩擦係数は０．２１～０．２８と大きく、滑り性に劣ることがわかった。
　したがって、比較例２４～２７の黒色遮光板は完全遮光性、耐紫外線性を有するものの、反射性、撥水性、滑り性に劣るため、シャッター羽根材として不適である。

　表面の算術平均高さ（Ｒａ）が０．９０μｍで、厚みが１００μｍのＰＥＮフィルムの表面に、第１層目と第２層目の膜の種類、膜厚、成膜条件を実施例４８と同様にして、黒色遮光板を作製した。その特性の測定結果を表５に示した。

　表面の算術平均高さ（Ｒａ）が０．９０μｍで、厚みが１００μｍのＰＥＮフィルムの表面に、第１層目と第２層目の膜の種類、膜厚、成膜条件を実施例４９と同様にして、黒色遮光板を作製した。その特性の測定結果を表５に示した。

　表面の算術平均高さ（Ｒａ）が０．９０μｍで、厚みが１００μｍのＰＥＮフィルムの表面に、第１層目と第２層目の膜の種類、膜厚、成膜条件を実施例５０と同様にして、黒色遮光板を作製した。その特性の測定結果を表５に示した。

　表面の算術平均高さ（Ｒａ）が０．９０μｍで、厚みが１００μｍのＰＥＮフィルムの表面に、第１層目と第２層目の膜の種類、膜厚、成膜条件を実施例５１と同様にして、黒色遮光板を作製した。その特性の測定結果を表５に示した。

　いずれもフィルムの両面に、同じ膜厚の第１層の膜と、同じ種類で同じ膜厚の第２層の膜を対称に形成することで、反りのないフィルム状の黒色遮光板を作製した。
　得られた黒色遮光板は、いずれも、波長３８０～７８０ｎｍにおける平均光学濃度は４．０より大きく、完全な遮光性を示した。また、波長３８０～７８０ｎｍにおける平均正反射率は、実施例５７～６０で０．２１～０．３２％と非常に低反射であり、Ｌ^*値も３２～３４と低くなり、黒色を呈していた。
　また、膜表面の算術平均高さＲａは、０．６８μｍ、水に対する接触角は１０３～１１０°、動摩擦係数は０．１、耐紫外線性ではフィルムの変形や変色は見られなかった。
　したがって、実施例５７～６０の黒色遮光板は黒色度が高く、遮光性、低反射性、撥水性、滑り性、耐紫外線に優れているため、シャッター羽根材として非常に有用である。

（比較例２８）
　第２層目の膜を比較例１の膜に変えた以外は、実施例５７と同様にして、黒色遮光板を作製した。その特性の測定結果を表５に示した。

（比較例２９）
　第２層目の膜を比較例１の膜に変えた以外は、実施例５８と同様にして、黒色遮光板を作製した。その特性の測定結果を表５に示した。

（比較例３０）
　第２層目の膜を比較例１の膜に変えた以外は、実施例５９と同様にして、黒色遮光板を作製した。その特性の測定結果を表５に示した。

（比較例３１）
　第２層目の膜を比較例１の膜に変えた以外は、実施例６０と同様にして、黒色遮光板を作製した。その特性の測定結果を表５に示した。

　得られた黒色遮光板は、いずれも、波長３８０～７８０ｎｍにおける平均光学濃度は４．０より大きく、完全な遮光性を示した。また、波長３８０～７８０ｎｍにおける平均正反射率は、比較例２８～３１で１．０６～１．３７％、Ｌ^*値も４６～４７と高く、黒色度の低い黒色遮光板であった。
　また、膜表面の算術平均高さＲａは、いずれも０．６８μｍであった。その耐紫外線性は変色や変形はなく、良好であったが、水に対する接触角は７５～８６°と撥水性は小さく、動摩擦係数は０．２５～０．２８と大きく、滑り性に劣ることがわかった。
　したがって、比較例２８～３１の黒色遮光板は完全遮光性、耐紫外線性を有しているものの、黒色度が低く、反射性、撥水性、滑り性に劣るため、シャッター羽根材として不適である。

　表面の算術平均高さ（Ｒａ）が０．２４μｍであり、厚みが５０μｍのＳＵＳ薄板の表面に、第１層目の膜として、成膜ガス圧を０．３Ｐａとし、ＴｉＣ膜を１１０ｎｍ形成した。次に、第２層目の膜として、実施例３の膜を１０５ｎｍ厚みで形成した黒色遮光板を作製した。その特性の測定結果を表５に示した。

（比較例３２）
　表面の算術平均高さ（Ｒａ）が０．２４μｍであり、厚みが５０μｍのＳＵＳ薄板の表面に、第１層目の膜として、成膜ガス圧を０．３Ｐａとし、ＴｉＣ膜を１１０ｎｍ形成した。次に、第２層目の膜として、比較例１の膜を１０５ｎｍの厚みで形成した黒色遮光板を作製した。その特性の測定結果を表５に示した。

　いずれもフィルムの両面に、同じ膜厚の第１層の膜と、同じ種類で同じ膜厚の第２層の膜を対称に形成することで、反りのないフィルム状の黒色遮光板を作製した。
　得られた黒色遮光板は、いずれの場合も波長３８０～７８０ｎｍにおける平均光学濃度は４．０より大きく、完全な遮光性を示した。また、波長３８０～７８０ｎｍにおける平均正反射率は、実施例６１で０．５８％と低反射であり、Ｌ^*値も４３と低くなり、黒色を呈していた。また、膜表面の算術平均高さＲａは０．２０μｍ、水に対する接触角は９３°、動摩擦係数は０．１、耐紫外線性ではフィルムの変形や変色は見られなかった。
　したがって、実施例６１の黒色遮光板は黒色度が高く、遮光性、低反射性、撥水性、滑り性、耐紫外線に優れているため、シャッター羽根材として非常に有用である。

　一方、比較例３２では、平均光学濃度は４．０より大きくなったが、平均正反射率は１．４２％と高く、明度（Ｌ^*値）も４８と黒色度は低かった。
　また、膜表面の算術平均高さＲａは、０．２０μｍ、水に対する接触角は８５°、動摩擦係数は０．２６、耐紫外線性ではフィルムの変形や変色は見られなかった。
　したがって、比較例３２の黒色遮光板は遮光性、耐紫外線性は良好であったが、黒色度が低く、低反射性、撥水性、滑り性に劣るため、シャッター羽根材として不適切である。

　基材の種類として表面の算術平均高さＲａが０．４０μｍ、厚み３８μｍの黒色ポリイミドフィルムを用い、第１層目のＴｉＣ膜の膜厚を５０ｎｍ、第２層目の膜として実施例３の膜を２００ｎｍの厚みに成膜した黒色遮光板を作製した。その特性の測定結果を表５に示した。

　基材の種類として表面の算術平均高さＲａが０．４０μｍ、厚み３８μｍの黒色ポリイミドフィルムを用い、第１層目のＴｉＣ膜の膜厚を５０ｎｍ、第２層目の膜として実施例３の膜を２０ｎｍの厚みに成膜した黒色遮光板を作製した。その特性の測定結果を表５に示した。

（比較例３３）
　基材の種類として表面の算術平均高さＲａが０．４０μｍ、厚み３８μｍの黒色ポリイミドフィルムを用い、第１層目のＴｉＣ膜の膜厚を５０ｎｍ、第２層目の膜として実施例３の膜を１８ｎｍの厚みで成膜した黒色遮光板を作製した。その特性の測定結果を表５に示した。

（比較例３４）
　基材の種類として表面の算術平均高さＲａが０．４０μｍ、厚み３８μｍの黒色ポリイミドフィルムを用い、第１層目のＴｉＣ膜の膜厚を５０ｎｍ、第２層目の膜として実施例３の膜を２１３ｎｍの厚みで成膜した黒色遮光板を作製した。その特性の測定結果を表５に示した。

　実施例６２の黒色遮光板は、波長３８０～７８０ｎｍにおける平均光学濃度が４．０より大きく、完全な遮光性を示した。また、平均正反射率は０．３４％と低反射で、明度（Ｌ^*値）は３１と黒色度が高くなった。
　膜表面の算術平均高さＲａは、０．３０μｍ、水に対する接触角は９４°、動摩擦係数は０．０７、耐紫外線性ではフィルムの変形や変色は見られなかった。

　実施例６３についても表５に示すように平均正反射率が０．３７％と低反射で、明度（Ｌ^*値）が４０と実施例６１より低く、黒色度が高くなった以外は、その他の特性は実施例６１と同様であった。
　したがって、実施例６２～６３の黒色遮光板は黒色度が高く、遮光性、低反射性、撥水性、滑り性、耐紫外線に優れているため、シャッター羽根材として非常に有用である。

　一方、比較例３３の黒色遮光板は平均光学濃度は３．５と完全遮光性は得られなかった。また、動摩擦係数は０．２５と大きく、滑り性に劣ることがわかった。

　比較例３４では、各特性は実施例６２と同等であったが、２層目の膜厚が厚くなり、ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜の成膜速度が小さいので２００ｎｍより厚くなるとスパッタリング時間が非常に長くなり、製造コスト面での問題と、バッチによるスパッタリング開始時間にずれが生じてしまい、ルーチン化ができなくなってしまう。シャッター羽根材として不適切である。
　したがって、比較例３３の黒色遮光板は耐紫外線性を有しているものの、遮光性に劣るため、シャッター羽根材として不適切で、比較例３４の黒色遮光板は、特性は良好であったが、第２層目の膜厚が厚いため製造コスト面で問題を生じている。

　基材の種類を表面の算術平均高さＲａが０．４０μｍで、厚みが３８μｍの黒色ＰＥＴフィルムに変えた以外は実施例６２と同様にして、黒色遮光板を作製した。その特性の測定結果を表５に示した。

　基材の種類を表面の算術平均高さＲａが０．４０μｍで、厚みが３８μｍの黒色ＰＥＴフィルムに変え、さらに第２層目の膜の膜厚を２０ｎｍに変えた以外は、第１層目の膜の種類や膜厚は、実施例６３と同様にして、黒色遮光板を作製した。その特性の測定結果を表５に示した。

（比較例３５）
　基材の種類を表面の算術平均高さＲａが０．４０μｍで、厚みが３８μｍの黒色ＰＥＴフィルムに変えた以外は比較例３３と同様にして、黒色遮光板を作製した。その特性の測定結果を表５に示した。

（比較例３６）
　基材の種類を表面の算術平均高さＲａが０．４０μｍで、厚みが３８μｍの黒色ＰＥＴフィルムに変えた以外は比較例３４と同様にして、黒色遮光板を作製した。その特性の測定結果を表５に示した。

　実施例６４の黒色遮光板は、波長３８０～７８０ｎｍにおける平均光学濃度が４．０より大きく、完全な遮光性を示した。また、平均正反射率は０．３５％と低反射で、明度（Ｌ^*値）は３２と黒色度が高くなった。
　膜表面の算術平均高さＲａは、０．３０μｍ、水に対する接触角は９３°、動摩擦係数は０．０９、耐紫外線性ではフィルムの変形や変色は見られなかった。

　実施例６５についても表に示すように明度（Ｌ^*値）が４０と高くなった以外は、その他の特性は実施例６４とほぼ同様であった。
　したがって、実施例６４～６５の黒色遮光板は黒色度が高く、遮光性、低反射性、撥水性、滑り性、耐紫外線に優れているため、シャッター羽根材として非常に有用である。

　一方、比較例３５の黒色遮光板は平均光学濃度は３．４と完全遮光性は得られなかった。また、動摩擦係数が０．２４と大きく、滑り性に劣ることがわかった。
　したがって、比較例３５の黒色遮光板は耐紫外線性を有しているものの、遮光性に劣るため、シャッター羽根材として不適切である。

　比較例３６では、各特性は実施例６４と同等であったが、２層目のダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜の成膜速度が小さいので２００ｎｍより厚くなるとスパッタリング時間が非常に長くなってしまうため製造コスト面の問題と、バッチ間でスパッタリング開始時間にずれが生じてしまい、ルーチン化ができなくなってしまうため、シャッター羽根材として不適切である。

１　　基材
１ａ　着色性の基材
２　　ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）傾斜構造黒色被覆膜
３　　金属遮光膜
１１　樹脂フィルム基材
１２　巻き出しロール
１３　真空ポンプ
１４　真空槽
１５　冷却キャンロール
１６　巻き取りロール
１７　マグネトロンカソード
１８　ターゲット
１９　隔壁

Claims

　スパッタリング法で形成された、チタン、炭素、酸素を含有したダイヤモンドライクカーボン傾斜構造黒色被覆膜（Ａ）であって、
　　前記ダイヤモンドライクカーボン傾斜構造黒色被覆膜（Ａ）の炭素含有量が、Ｃ／Ｔｉ原子数比として２．０～３０．０、
　　酸素含有量が、Ｏ／Ｔｉ原子数比として０．８～２．２、
　　かつＣ／Ｔｉ原子数比およびＯ／Ｔｉ原子数比が、膜厚方向で連続的に変化した構造を有し、
　　前記ダイヤモンドライクカーボン傾斜構造黒色被覆膜（Ａ）の膜厚が、２０ｎｍ以上
であることを特徴とするダイヤモンドライクカーボン傾斜構造黒色被覆膜。
　前記ダイヤモンドライクカーボン傾斜構造黒色被覆膜（Ａ）のスパッタリング側の膜表面から膜厚方向に、酸素およびチタン含有量が増加し、炭素含有量が減少していることを特徴とする請求項１に記載のダイヤモンドライクカーボン傾斜構造黒色被覆膜。
　ダイヤモンドライクカーボン傾斜構造黒色被覆膜（Ａ）の膜厚が、２０～２００ｎｍであることを特徴とする請求項１または２のいずれかに記載のダイヤモンドライクカーボン傾斜構造黒色被覆膜。
　ダイヤモンドライクカーボン傾斜構造黒色被覆膜（Ａ）中の炭素の組成が、ｓｐ２結合炭素とｓｐ３結合炭素が混在するものであることを特徴とする請求項１～３のいずれかに記載のダイヤモンドライクカーボン傾斜構造黒色被覆膜。
　９０°以上の水に対する静的接触角を有することを特徴とする請求項１～４のいずれかに記載のダイヤモンドライクカーボン傾斜構造黒色被覆膜。
　動摩擦係数が、０．１以下であることを特徴とする請求項１～５のいずれかに記載のダイヤモンドライクカーボン傾斜構造黒色被覆膜。
　原子間力顕微鏡で測定した、１μｍ×１μｍの領域における算術平均高さＲａが、０．８ｎｍ以上であることを特徴とする請求項１～６のいずれかに記載のダイヤモンドライクカーボン傾斜構造黒色被覆膜。
　ガラス基板にスパッタリング法により形成したダイヤモンドライクカーボン傾斜構造黒色被覆膜の波長３８０～７８０ｎｍにおける平行光線透過率が、平均値で２０～５０％であることを特徴とする請求項１～７のいずれかに記載のダイヤモンドライクカーボン傾斜構造黒色被覆膜。
　チタン焼結体とカーボン焼結体の組合せ、または炭化チタン焼結体とカーボン焼結体の組合せから選ばれるスパッタリングターゲットを用いて、１．５Ｐａ以上の成膜ガス圧にてスパッタリングして、基板上にダイヤモンドライクカーボン傾斜構造黒色被覆膜を形成することを特徴とするダイヤモンドライクカーボン傾斜構造黒色被覆膜の製造方法。
　チタン焼結体とカーボン焼結体の組合せ、または炭化チタン焼結体とカーボン焼結体の組合せから選ばれるターゲットを用いて、デュアルマグネトロンカソードまたはダブルマグネトロンカソードでスパッタリングして、基板上にダイヤモンドライクカーボン傾斜構造黒色被覆膜を形成することを特徴とする請求項９に記載のダイヤモンドライクカーボン傾斜構造黒色被覆膜の製造方法。
　チタン焼結体とカーボン焼結体の組合せ、または炭化チタン焼結体とカーボン焼結体の組合せから選ばれるターゲットを用いて、成膜中に成膜ガスとして酸素ガスを導入せず、アルゴン、またはヘリウムを主とする不活性ガスを導入してスパッタリング成膜し、焼結体に含有する酸素または成膜室内の残留ガス中の酸素、或いはその両者のいずれかを膜中に取り込むことを特徴とする請求項９または１０のいずれかに記載のダイヤモンドライクカーボン傾斜構造黒色被覆膜の製造方法。
　基材（Ｂ）、金属遮光膜（Ｃ）、黒色被覆膜により構成される黒色遮光板であって、
　　前記基材（Ｂ）が、表面に微細な凹凸を有した樹脂フィルム、樹脂板、金属薄板、セラミックス薄板のいずれかで、
　　前記基材（Ｂ）の少なくとも一方の面に設けられる膜厚４０ｎｍ以上の金属遮光膜（Ｃ）で、
　　前記金属遮光膜（Ｃ）の表面上に設けられる黒色被覆膜が、請求項１～８のいずれかに記載のダイヤモンドライクカーボン傾斜構造黒色被覆膜（Ａ）であることを特徴とする黒色遮光板。
　前記基材（Ｂ）が、ステンレス、ＳＫ（炭素鋼）、Ａｌ、Ｔｉの金属薄板、アルミナ、マグネシア、シリカ、ジルコニアのセラミックス薄板、ガラス板、樹脂板、樹脂フィルムから選ばれるいずれかであることを特徴とする請求項１２に記載の黒色遮光板。
　前記樹脂フィルムが、５～２００μｍの厚みを有するポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエチレンテレフタレート、ポリフェニレンサルファイド、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルサルフォン、ポリカーボネートから選ばれるいずれかであることを特徴とする請求項１３に記載の黒色遮光板。
　前記金属遮光膜（Ｃ）が、チタン、タンタル、タングステン、コバルト、ニッケル、ニオブ、鉄、亜鉛、銅、アルミニウム、又は珪素より選ばれた１種類以上の元素を主成分とする金属材料であることを特徴とする請求項１２から１４のいずれかに記載の黒色遮光板。
　前記金属遮光膜（Ｃ）が、チタン膜、炭化チタン膜、炭化酸化チタン膜のいずれかであることを特徴とする請求項１２から１５のいずれかに記載の黒色遮光板。
　樹脂フィルム、樹脂板、金属薄板、セラミックス薄板のいずれかの基材両面に、同じ膜厚、かつ同じ組成の金属遮光膜（Ｃ）を備え、前記金属遮光膜（Ｃ）の表面上に、同じ膜厚かつ同じ組成のダイヤモンドライクカーボン傾斜構造黒色被覆膜（Ａ）を積層して備え、前記基材を中心とした対称構造であることを特徴とする請求項１２から１６のいずれかに記載の黒色遮光板。
　前記金属遮光膜（Ｃ）の表面上に形成されたダイヤモンドライクカーボン傾斜構造黒色被覆膜（Ａ）の算術平均高さＲａが、０．２～０．７μｍ、
　　かつ波長３８０～７８０ｎｍにおけるダイヤモンドライクカーボン傾斜構造黒色被覆膜（Ａ）表面の平均正反射率が、０．８％以下で
あることを特徴とする請求項１２から１７のいずれかに記載の黒色遮光板。
　前記金属遮光膜（Ｃ）の表面上にダイヤモンドライクカーボン傾斜構造黒色被覆膜（Ａ）を設けた黒色遮光板の明度（Ｌ^*）が、２５～４５であることを特徴とする請求項１２から１８のいずれかに記載の黒色遮光板。
　着色樹脂フィルムを前記基材（Ｂ）として用い、その少なくとも一方の面に、前記金属遮光膜（Ｃ）を設け、前記金属遮光膜（Ｃ）の表面上に請求項１～１０のいずれかに記載のダイヤモンドライクカーボン傾斜構造黒色被覆膜（Ａ）が備わる黒色遮光板であって、
　　前記ダイヤモンドライクカーボン傾斜構造黒色被覆膜（Ａ）の膜厚が、２０ｎｍ以上であり、
　　かつ波長３８０～７８０ｎｍにおける黒色遮光板表面の平均正光反射率が、１％以下であることを特徴とする黒色遮光板。
　前記着色樹脂フィルムが、表面凹凸性を有していることを特徴とする請求項２０に記載の黒色遮光板。
　ダイヤモンドライクカーボン傾斜構造黒色被覆膜（Ａ）の膜厚が、２０～２００ｎｍであることを特徴とする請求項２０または２１に記載の黒色遮光板。
　前記金属遮光膜（Ｃ）の膜厚が、２０～２００ｎｍであることを特徴とする請求項２０～２２のいずれかに記載の黒色遮光板。
　前記着色樹脂フィルム上に金属遮光膜（Ｃ）を設け、前記金属遮光膜（Ｃ）の表面上にダイヤモンドライクカーボン傾斜構造黒色被覆膜（Ａ）を備えた黒色遮光板の明度（Ｌ^*）が、２５～４５であることを特徴とする請求項２０～２３のいずれかに記載の黒色遮光板。
　前記着色樹脂フィルムの厚みが、２０～２００μｍであることを特徴とする請求項２０～２４のいずれかに記載の黒色遮光板。
　請求項１２～２５のいずれかに記載の黒色遮光板を打ち抜き加工して得られるシャッター羽根。