WO2008120391A1 - Dispositif d'exposition à faiseau électronique à colonnes multiples et procédé d'exposition à faisceau électronique à colonnes multiples - Google Patents
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Abstract
L'invention concerne un dispositif d'exposition à faisceau électronique à colonnes multiples et un procédé d'exposition à faisceau électronique à colonnes multiples qui peut améliorer la précision d'exposition et régler le temps d'étalonnage afin d'améliorer le rendement d'exposition. Un dispositif d'exposition à faisceau électronique à colonnes multiples comprend : une pluralité de cellules en colonnes, une unité de détection de caractéristiques de faisceau électronique, un déflecteur destiné à dévier le faisceau électronique en fonction de données d'exposition, et une unité de commande qui utilise l'unité de détection de caractéristiques de faisceau électronique pour calculer une valeur de prédiction de caractéristique de faisceau électronique par l'utilisation d'une fonction continue afin de lisser des valeurs de mesure de connexion obtenue à des moments d'étalonnage antérieurs, la fonction étant une fonction de prédiction qui modifie en continu la caractéristique du faisceau électronique jusqu'au prochain moment d'étalonnage avec le moment de pointage, calculant ainsi une valeur de correction pour les données d'exposition sur chaque cellule de colonne. L'unité de commande règle l'intervalle de durée d'étalonnage en fonction d'une différence entre la valeur de mesure et la valeur de prédiction de la caractéristique de faisceau électronique.
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Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2010106621A1 (fr) * | 2009-03-16 | 2010-09-23 | 株式会社アドバンテスト | Système multi-colonne de lithographie par faisceau d'électrons et son procédé de réglage d'orbite du faisceau d'électrons |
JP2013115148A (ja) * | 2011-11-25 | 2013-06-10 | Canon Inc | 走査装置、描画装置、及び物品の製造方法 |
JP2014016470A (ja) * | 2012-07-09 | 2014-01-30 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 位置予測装置、位置予測方法、および、基板処理装置 |
JP2015204404A (ja) * | 2014-04-15 | 2015-11-16 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | マルチビーム描画方法およびマルチビーム描画装置 |
CN111781508A (zh) * | 2020-06-17 | 2020-10-16 | 金龙联合汽车工业(苏州)有限公司 | 一种混合动力车载电池soc的估算方法及系统 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07142321A (ja) * | 1993-06-17 | 1995-06-02 | Fujitsu Ltd | 電子ビーム露光装置の偏向量補正方法 |
JP2000133567A (ja) * | 1998-10-23 | 2000-05-12 | Advantest Corp | 電子ビーム露光方法及び電子ビーム露光装置 |
JP2006278492A (ja) * | 2005-03-28 | 2006-10-12 | Advantest Corp | 電子ビーム露光装置及び電子ビーム露光方法 |
JP2007043083A (ja) * | 2005-07-04 | 2007-02-15 | Nuflare Technology Inc | 電子ビームのビームドリフト補正方法及び電子ビームの描画方法 |
-
2007
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Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07142321A (ja) * | 1993-06-17 | 1995-06-02 | Fujitsu Ltd | 電子ビーム露光装置の偏向量補正方法 |
JP2000133567A (ja) * | 1998-10-23 | 2000-05-12 | Advantest Corp | 電子ビーム露光方法及び電子ビーム露光装置 |
JP2006278492A (ja) * | 2005-03-28 | 2006-10-12 | Advantest Corp | 電子ビーム露光装置及び電子ビーム露光方法 |
JP2007043083A (ja) * | 2005-07-04 | 2007-02-15 | Nuflare Technology Inc | 電子ビームのビームドリフト補正方法及び電子ビームの描画方法 |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2010106621A1 (fr) * | 2009-03-16 | 2010-09-23 | 株式会社アドバンテスト | Système multi-colonne de lithographie par faisceau d'électrons et son procédé de réglage d'orbite du faisceau d'électrons |
JP5475634B2 (ja) * | 2009-03-16 | 2014-04-16 | 株式会社アドバンテスト | マルチコラム電子線描画装置及びその電子線軌道調整方法 |
JP2013115148A (ja) * | 2011-11-25 | 2013-06-10 | Canon Inc | 走査装置、描画装置、及び物品の製造方法 |
JP2014016470A (ja) * | 2012-07-09 | 2014-01-30 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 位置予測装置、位置予測方法、および、基板処理装置 |
JP2015204404A (ja) * | 2014-04-15 | 2015-11-16 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | マルチビーム描画方法およびマルチビーム描画装置 |
CN111781508A (zh) * | 2020-06-17 | 2020-10-16 | 金龙联合汽车工业(苏州)有限公司 | 一种混合动力车载电池soc的估算方法及系统 |
CN111781508B (zh) * | 2020-06-17 | 2022-10-11 | 金龙联合汽车工业(苏州)有限公司 | 一种混合动力车载电池soc的估算方法及系统 |
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