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WO2008120391A1 - Dispositif d'exposition à faiseau électronique à colonnes multiples et procédé d'exposition à faisceau électronique à colonnes multiples - Google Patents

Dispositif d'exposition à faiseau électronique à colonnes multiples et procédé d'exposition à faisceau électronique à colonnes multiples Download PDF

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WO2008120391A1
WO2008120391A1 PCT/JP2007/056974 JP2007056974W WO2008120391A1 WO 2008120391 A1 WO2008120391 A1 WO 2008120391A1 JP 2007056974 W JP2007056974 W JP 2007056974W WO 2008120391 A1 WO2008120391 A1 WO 2008120391A1
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beam exposure
column electron
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Japanese (ja)
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Hiroshi Yasuda
Akio Yamada
Mitsuhiro Nakano
Takashi Kiuchi
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Advantest Corporation
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    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/30Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
    • H01J37/317Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for changing properties of the objects or for applying thin layers thereon, e.g. for ion implantation
    • H01J37/3174Particle-beam lithography, e.g. electron beam lithography
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82NANOTECHNOLOGY
    • B82YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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Abstract

L'invention concerne un dispositif d'exposition à faisceau électronique à colonnes multiples et un procédé d'exposition à faisceau électronique à colonnes multiples qui peut améliorer la précision d'exposition et régler le temps d'étalonnage afin d'améliorer le rendement d'exposition. Un dispositif d'exposition à faisceau électronique à colonnes multiples comprend : une pluralité de cellules en colonnes, une unité de détection de caractéristiques de faisceau électronique, un déflecteur destiné à dévier le faisceau électronique en fonction de données d'exposition, et une unité de commande qui utilise l'unité de détection de caractéristiques de faisceau électronique pour calculer une valeur de prédiction de caractéristique de faisceau électronique par l'utilisation d'une fonction continue afin de lisser des valeurs de mesure de connexion obtenue à des moments d'étalonnage antérieurs, la fonction étant une fonction de prédiction qui modifie en continu la caractéristique du faisceau électronique jusqu'au prochain moment d'étalonnage avec le moment de pointage, calculant ainsi une valeur de correction pour les données d'exposition sur chaque cellule de colonne. L'unité de commande règle l'intervalle de durée d'étalonnage en fonction d'une différence entre la valeur de mesure et la valeur de prédiction de la caractéristique de faisceau électronique.
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