WO2018105716A1 - ポリマー、組成物及び成形品 - Google Patents
ポリマー、組成物及び成形品 Download PDFInfo
- Publication number
- WO2018105716A1 WO2018105716A1 PCT/JP2017/044118 JP2017044118W WO2018105716A1 WO 2018105716 A1 WO2018105716 A1 WO 2018105716A1 JP 2017044118 W JP2017044118 W JP 2017044118W WO 2018105716 A1 WO2018105716 A1 WO 2018105716A1
- Authority
- WO
- WIPO (PCT)
- Prior art keywords
- group
- fluorine
- polymer
- atom
- tfe
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/48—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule in which at least two but not all the silicon atoms are connected by linkages other than oxygen atoms
- C08G77/50—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule in which at least two but not all the silicon atoms are connected by linkages other than oxygen atoms by carbon linkages
- C08G77/52—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule in which at least two but not all the silicon atoms are connected by linkages other than oxygen atoms by carbon linkages containing aromatic rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L27/00—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L27/02—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Compositions of derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment
- C08L27/12—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Compositions of derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment containing fluorine atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L27/00—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L27/02—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Compositions of derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment
- C08L27/12—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Compositions of derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment containing fluorine atoms
- C08L27/18—Homopolymers or copolymers or tetrafluoroethene
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L83/00—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L83/14—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers in which at least two but not all the silicon atoms are connected by linkages other than oxygen atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K3/00—Materials not provided for elsewhere
- C09K3/10—Materials in mouldable or extrudable form for sealing or packing joints or covers
- C09K3/1006—Materials in mouldable or extrudable form for sealing or packing joints or covers characterised by the chemical nature of one of its constituents
- C09K3/1009—Fluorinated polymers, e.g. PTFE
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K3/00—Materials not provided for elsewhere
- C09K3/10—Materials in mouldable or extrudable form for sealing or packing joints or covers
- C09K3/1006—Materials in mouldable or extrudable form for sealing or packing joints or covers characterised by the chemical nature of one of its constituents
- C09K3/1018—Macromolecular compounds having one or more carbon-to-silicon linkages
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
- H01L21/302—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to change their surface-physical characteristics or shape, e.g. etching, polishing, cutting
- H01L21/306—Chemical or electrical treatment, e.g. electrolytic etching
- H01L21/3065—Plasma etching; Reactive-ion etching
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K2200/00—Chemical nature of materials in mouldable or extrudable form for sealing or packing joints or covers
- C09K2200/06—Macromolecular organic compounds, e.g. prepolymers
- C09K2200/0615—Macromolecular organic compounds, e.g. prepolymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
- C09K2200/0635—Halogen-containing polymers, e.g. PVC
- C09K2200/0637—Fluoro-containing polymers, e.g. PTFE
Definitions
- perfluoroelastomer examples include TFE / fluoromonomer represented by the general formula (11) / fluoromonomer copolymer that gives a crosslinking site, TFE / perfluorovinyl ether copolymer represented by the general formula (11), and TFE. / At least one selected from the group consisting of a fluoromonomer copolymer represented by the general formula (8) and a fluoromonomer represented by TFE / the general formula (8) / a monomer copolymer giving a crosslinking site It is preferable that
- the glass transition temperature is obtained by using a differential scanning calorimeter to obtain a DSC curve by raising the temperature of 10 mg of a sample at 10 ° C./min.
- the baseline extension line before and after the second order transition of the DSC curve and the DSC curve It can be determined as the temperature indicating the midpoint of the two intersections with the tangent at the inflection point.
- the said composition can be prepared by mixing said each component using a normal polymer processing machine, for example, an open roll, a Banbury mixer, a kneader, etc. In addition, it can be prepared by a method using a closed mixer.
- the composition can be suitably used as a molding material for obtaining a molded product by molding, and can also be suitably used as a molding material for obtaining a molded product by cross-linking molding.
- the product was isolated by various purification operations to obtain 3,5-dimethylsilyl-1-perfluorohexylsulfene benzene (3a) as a colorless transparent liquid.
- the yield was 0.779 g, and the yield was 45.8%.
- the reaction mixture was isolated by various purification operations to obtain 2,5-Dibromo-1,4-bis-perfluorobutylsulfenyl benzene (6b) as white crystals.
- the yield was 3.71 g, and the yield was 78.4%.
- Example 1 Poly [2,5- (perfluorohexylsulfanyl) tetramethyl-1,4-silphenylenesiloxane] (P2c) obtained in Synthesis Example 13 was pressed at 100 ° C. for 10 minutes to produce a sheet, and further using a cutter knife with a side of 5 mm After preparing a square sample and placing it at the center of the RF electrode, plasma irradiation treatment was performed under the following conditions, and the weight before and after irradiation was measured to examine the weight loss per unit area. The results are shown in Table 1.
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Sealing Material Composition (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
Description
一般式(8):CF2=CF-ORf81
(式中、Rf81は、炭素数1~8のパーフルオロアルキル基を表す。)で表されるフルオロモノマー、
一般式(10):CF2=CFOCF2ORf101
(式中、Rf101は炭素数1~6の直鎖又は分岐状パーフルオロアルキル基、炭素数5~6の環式パーフルオロアルキル基、1~3個の酸素原子を含む炭素数2~6の直鎖又は分岐状パーフルオロオキシアルキル基である)で表されるフルオロモノマー、及び、
一般式(11):CF2=CFO(CF2CF(Y111)O)m(CF2)nF
(式中、Y111はフッ素原子又はトリフルオロメチル基を表す。mは1~4の整数である。nは1~4の整数である。)
上記数平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー分析により求めることができる。
下記一般式(A-1):
下記一般式(B-1):
上記含フッ素エラストマーとしては、部分フッ素化エラストマーであってもよいし、パーフルオロエラストマーであってもよいが、耐薬品性、耐熱性が更に優れている点よりパーフルオロエラストマーを用いることが好ましい。
フルオロアルキルビニルエーテルとしては、
一般式(8):CF2=CF-ORf81
(式中、Rf81は、炭素数1~8のパーフルオロアルキル基を表す。)で表されるフルオロモノマー、
一般式(10):CF2=CFOCF2ORf101
(式中、Rf101は炭素数1~6の直鎖又は分岐状パーフルオロアルキル基、炭素数5~6の環式パーフルオロアルキル基、1~3個の酸素原子を含む炭素数2~6の直鎖又は分岐状パーフルオロオキシアルキル基である)で表されるフルオロモノマー、及び、
一般式(11):CF2=CFO(CF2CF(Y111)O)m(CF2)nF
(式中、Y111はフッ素原子又はトリフルオロメチル基を表す。mは1~4の整数である。nは1~4の整数である。)で表されるフルオロモノマー
からなる群より選択される少なくとも1種であることが好ましく、
一般式(8)で表されるフルオロモノマーがより好ましい。
また、その組成は、TFE/PMVE共重合体の場合、好ましくは、45~90/10~55(モル%)であり、より好ましくは、55~80/20~45であり、更に好ましくは、55~70/30~45である。
TFE/PMVE/架橋部位を与えるモノマー共重合体の場合、好ましくは、45~89.9/10~54.9/0.01~4(モル%)であり、より好ましくは、55~77.9/20~49.9/0.1~3.5であり、更に好ましくは、55~69.8/30~44.8/0.2~3である。
TFE/炭素数が4~12の一般式(8)、(10)又は(11)で表されるフルオロモノマー共重合体の場合、好ましくは、50~90/10~50(モル%)であり、より好ましくは、60~88/12~40であり、更に好ましくは、65~85/15~35である。
TFE/炭素数が4~12の一般式(8)、(10)又は(11)で表されるフルオロモノマー/架橋部位を与えるモノマー共重合体の場合、好ましくは、50~89.9/10~49.9/0.01~4(モル%)であり、より好ましくは、60~87.9/12~39.9/0.1~3.5であり、更に好ましくは、65~84.8/15~34.8/0.2~3である。
これらの組成の範囲を外れると、ゴム弾性体としての性質が失われ、樹脂に近い性質となる傾向がある。
なお、上記TFEを含むパーフルオロエラストマーにおいて、架橋部位を与えるモノマーはパーフルオロモノマーでなくてもよい。
一般式(12):CX3 2=CX3-Rf 121CHR121X4
(式中、X3は、水素原子、フッ素原子又はCH3、Rf 121は、フルオロアルキレン基、パーフルオロアルキレン基、フルオロ(ポリ)オキシアルキレン基又はパーフルオロ(ポリ)オキシアルキレン基、R121は、水素原子又はCH3、X4は、ヨウ素原子又は臭素原子である)で表されるフルオロモノマー、
一般式(13):CX3 2=CX3-Rf 131X4
(式中、X3は、水素原子、フッ素原子又はCH3、Rf 131は、フルオロアルキレン基、パーフルオロアルキレン基、フルオロポリオキシアルキレン基又はパーフルオロポリオキシアルキレン基、X4は、ヨウ素原子又は臭素原子である)で表されるフルオロモノマー、
一般式(14):CF2=CFO(CF2CF(CF3)O)m(CF2)n-X5
(式中、mは0~5の整数、nは1~3の整数、X5は、シアノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、ヨウ素原子、臭素原子、又は、-CH2Iである)で表されるフルオロモノマー、及び、
一般式(15):CH2=CFCF2O(CF(CF3)CF2O)m(CF(CF3))n-X6
(式中、mは0~5の整数、nは1~3の整数、X6は、シアノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、ヨウ素原子、臭素原子、又は-CH2OHである)で表されるフルオロモノマー、及び、
一般式(16):CR162R163=CR164-Z-CR165=CR166R167
(式中、R162、R163、R164、R165、R166及びR167、は、同一又は異なって、水素原子又は炭素数1~5のアルキル基である。Zは、直鎖又は分岐状で酸素原子を有していてもよい、炭素数1~18のアルキレン基、炭素数3~18のシクロアルキレン基、少なくとも部分的にフッ素化している炭素数1~10のアルキレン基若しくはオキシアルキレン基、又は、
-(Q)p-CF2O-(CF2CF2O)m(CF2O)n-CF2-(Q)p-
(式中、Qはアルキレン基またはオキシアルキレン基である。pは0または1である。m/nが0.2~5である。)で表され、分子量が500~10000である(パー)フルオロポリオキシアルキレン基である。)で表されるモノマーからなる群より選択される少なくとも1種であることが好ましい。
上記シアノ基は、上述した架橋部位を与えるモノマーによって含フッ素ポリマーに導入することができる。また、他の方法としては、国際公開第00/05959号に記載の方法によって導入することもできる。
上記シアノ基を有する含フッ素ポリマーは、架橋部位を与えるモノマーを全単量体単位に対して0.1~5.0モル%含むことが好ましく、0.2~2.0モル%含むことがより好ましい。この場合、架橋部位を与えるモノマーはシアノ基を有する単量体であることが好ましい。
R13IxBry
(式中、x及びyはそれぞれ0~2の整数であり、かつ1≦x+y≦2を満たすものであり、R13は炭素数1~16の飽和若しくは不飽和のフルオロ炭化水素基又はクロロフルオロ炭化水素基、又は炭素数1~3の炭化水素基であり、酸素原子を含んでいてもよい)で表される化合物が挙げられる。ヨウ素化合物又は臭素化合物を使用することによって、ヨウ素原子又は臭素原子が重合体に導入され、架橋点としても機能する場合がある。
又は一般式(23):
混練方法 :ロール練り
プレス架橋 :180℃で30分間
オーブン架橋:290℃で18時間
であり、特に断らない限りは、この条件で架橋する。
本発明の成形品は、上述した本発明のポリマーを含むため、機械的特性に優れる。更に、耐酸素プラズマ性にも優れる。
そのため、本発明の成形品は、シール材として好適に使用できる。特に機械的特性・耐酸素プラズマ性が要求される半導体製造装置、特に半導体製造装置のシール材として好適に使用できる。上記シール材としては、O-リング、角-リング、ガスケット、パッキン、オイルシール、ベアリングシール、リップシール等が挙げられる。
そのほか、半導体製造装置に使用される各種のポリマー製品、例えばダイヤフラム、チューブ、ホース、各種ゴムロール、ベルト等としても使用できる。また、コーティング用材料、ライニング用材料としても使用できる。
ドライエッチング装置
プラズマエッチング装置
反応性イオンエッチング装置
反応性イオンビームエッチング装置
スパッタエッチング装置
イオンビームエッチング装置
ウェットエッチング装置
アッシング装置
(2)洗浄装置
乾式エッチング洗浄装置
UV/O3洗浄装置
イオンビーム洗浄装置
レーザービーム洗浄装置
プラズマ洗浄装置
ガスエッチング洗浄装置
抽出洗浄装置
ソックスレー抽出洗浄装置
高温高圧抽出洗浄装置
マイクロウェーブ抽出洗浄装置
超臨界抽出洗浄装置
(3)露光装置
ステッパー
コータ・デベロッパー
(4)研磨装置
CMP装置
(5)成膜装置
CVD装置
スパッタリング装置
(6)拡散・イオン注入装置
酸化拡散装置
イオン注入装置
不活性ガス雰囲気下、反応容器に水酸化ナトリウム0.312g、純水1.00mL、DMF2.50mLを加え撹拌した。3,5-Dibromobenzenethiol(1)1.39gと蒸留DMF7.10mLの混合溶液をゆっくりと滴下した。滴下終了後、室温下で1時間撹拌した。パーフルオロヘキシルヨージド1.68mLと蒸留DMF2.20mLの混合溶液を滴下し、室温下で16時間撹拌した。
反応終了後、ジエチルエーテルで抽出し、純水で洗浄を行った。無水硫酸マグネシウムで脱水を行った後にろ過し、減圧下で溶媒を留去した。各種精製操作により単離し、無色透明液体の3,5-Dibromo-1-perfluorohexylsulfanyl benzene(2a)を得た。収量は2.45g、収率は80.5%であった。
1H-NMR(400MHz,TMS in CDCl3):δ7.76(s,2H,phenyl protons),7.82(s,1H,phenyl proton)
19F-NMR(400MHz,Benzotrifluoride in CDCl3):δ-81.7(t,J=2.50Hz,3F,-CF3),-87.0(m,2F,-S-CF2-),-120.0(m,2F,-CF2-),-122.3(m,2F,-CF2-),-123.7(m,2F,-CF2-),-127.0(m,2F,-CF2-)
FT-IR:2550cm-1の-SHによる吸収バンドが消失していることを確認した。
不活性ガス雰囲気下、反応容器にマグネシウム0.451g(18.8mmol)、クロロジメチルシラン1.81g、THF3.90mL、ヨウ素を1粒加え撹拌した。3,5-Dibromo-1-perfluorohexylsulfanyl benzene(2a)1.83gとTHF3.90mLの混合溶液を滴下し、80℃で12時間還流させた。
反応終了後、希塩酸水に注ぎ込み反応を停止させた。各種精製操作により単離し、無色透明液体の3,5-Dimethylsilyl-1-perfluorohexylsulfanyl benzene(3a)を得た。収量は0.779g、収率は45.8%であった。
1H-NMR(400MHz,TMS in CDCl3):δ0.38(m,12H,dimethyl silyl protons),4.45(m,2H,silyl protons),7.78(s,3H,phenyl protons)
19F-NMR(400MHz,Benzotrifluoride in CDCl3):δ-81.7(t,J=2.50Hz,3F,-CF3),-87.5(m,2F,-S-CF2-),-120.2(m,2F,-CF2-),-122.3(m,2F,-CF2-),-123.7(m,2F,-CF2-),-127.1(m,2F,-CF2-)
FT-IR:1250cm-1と2140cm-1にジメチルシリル基に起因する吸収バンドを確認した。
反応容器にTHF1.10mL、H2O0.0711mL、5%Pd/C0.0360gを加え撹拌した。3,5-Dimethylsilyl-1-perfluorohexylsulfanyl benzene(3a)0.359gとTHF1.10mLの混合溶液を滴下し、室温下で4時間撹拌した。
反応混合物に対して各種精製操作を行い、白色結晶の3,5-Dimethylhydroxysilyl-1-perfluorohexylsulfanyl benzene(M1a)を得た。収量は0.254g、収率は66.9%であった。
1H-NMR(400MHz,TMS in CDCl3):δ0.43(s,12H,dimethyl silyl protons),2.21(s,2H,hydroxyl protons),7.85(s,2H,phenyl protons),7.93(s,1H,phenyl proton)
19F-NMR(400MHz,Benzotrifluoride in CDCl3):δ-81.7(t,J=2.55Hz,3F,-CF3),-87.4(m,2F,-S-CF2-),-120.1(m,2F,-CF2-),-122.3(m,2F,-CF2-),-123.7(m,2F,-CF2-),-127.1(m,2F,-CF2-)
FT-IR:2140cm-1のジメチルシリル基に起因する吸収バンドの消失、及び、3300cm-1の水酸基の吸収バンドを確認した。
反応容器に3,5-Dimethylhydroxysilyl-1-perfluorohexylsulfanyl benzene(M1a)2.40g、ベンゼン8.30mLを加え撹拌した。1,1,3,3-テトラメチルグアニジニウム-2-エチルヘキサノエート(1,1,3,3-テトラメチルグアニジン:2-エチルヘキサン酸=1:1molでの混合物)をスパチュラ1杯加え100℃で24時間撹拌した。
反応溶液に対し各種精製操作を行い、淡黄色固体のPoly[5-(perfluorohexylsulfanyl)tetramethyl-1,3-silphenylenesiloxane](P1a)を得た。収量は1.34g、収率は55.8%であった。
1H-NMR(400MHz,TMS in CDCl3):δ0.29(s,12H,dimethyl silyl protons),7.75(s,3H,phenyl protons)
19F-NMR(400MHz,Benzotrifluoride in CDCl3):δ-82.1(t,J=2.55Hz,3F,-CF3),-87.7(m,2F,-S-CF2-),-120.4(m,2F,-CF2-),-122.6(m,2F,-CF2-),-124.0(m,2F,-CF2-),-127.4(m,2F,-CF2-)
FT-IR:3300cm-1の水酸基に起因する吸収バンドの消失、及び、1080cm-1のSi-O-Siの吸収バンドを確認した。
GPC:RI検出器ではポリマーが検出できなかったため、UV検出器を使用してGPCによる測定を行った。ポリマーの数平均分子量は、1.1×105であった。
反応容器に3,5-Dimethylhydroxysilyl-1-perfluorobutylethylsulfanyl benzene(M1b)2.36g、ベンゼン9.40mLを加え撹拌した。スパチュラ1杯の1,1,3,3-テトラメチルグアニジニウム-2-エチルヘキサノエート(1,1,3,3-テトラメチルグアニジン:2-エチルヘキサン酸=1:1molでの混合物)を加え、100℃で24時間撹拌した。
反応溶液に少量のクロロホルムを加え、メタノール中に注ぎ、再沈殿を3回行い、Poly(3,5-Dimethylhydroxysilyl-1-perfluorobutylethylsulfanyl benzene)(P1b)を赤褐色粘性液体として得た。収量は0.764g、収率は32.2%であった。
1H-NMR(400MHz,TMS in CDCl3):δ0.30(s,12H,dimethyl silyl protons),2.36(m,2H,ethyl protons),3.07(m,2H,ethyl protons),7.51(s,2H,phenyl protons),7.57(s,1H,phenyl proton)
19F-NMR(400MHz,Benzotrifluoride in CDCl3):δ-82.2(t,J=2.90Hz,3F,-CF3),-115.5(m,2F,-CF2-),-125.4(m,2F,-CF2-),-127.1(m,2F,-CH2-CF2-)
FT-IR:3300cm-1の水酸基に起因する吸収バンドの消失、及び、1080cm-1のSi-O-Siの吸収バンドを確認した。
GPC:ポリマーの数平均分子量は、8.9×105であった。
不活性ガス雰囲気下、反応容器にジメチルアセトアミド60.0mLと2-プロパンチオール10.2mLとナトリウム2.53gを入れ撹拌した。1,4-ブロモベンゼン4.80gを加え、100℃で16時間撹拌した。その後、ナトリウム4.37gを加え、100℃で20時間撹拌した。
反応終了後、純水250mLと塩酸25mLを加え反応停止を行った。反応混合物に対して各種精製操作を行い、淡黄色固体の1,4-Benzenedithiol(4)を得た。収量は1.58g、収率は55.5%であった。
1H-NMR(400MHz,TMS in CDCl3):δ3.41(s,2H,thiol protons),7.16(s,4H,phenyl protons)
13C-NMR(100MHz,TMS in CDCl3):δ128.1(phenyl carbon),130.5(phenyl carbon)
FT-IR:2550cm-1に-SHによる吸収バンドを確認した。
不活性ガス雰囲気下、反応容器に水酸化ナトリウム1.10g、純水2.00mL、DMF5.20mLを加え撹拌した。1,4-Benzenedithiol(4)1.57gとDMF16.0mLの混合溶液をゆっくりと滴下した。滴下終了後、室温下で1時間撹拌した。パーフルオロブチルエチルヨージド5.30mLとDMF4.30mLの混合溶液を滴下し、16時間撹拌した。
反応終了後、各種精製操作を行って目的物を単離し、1,4-Diperfluorobutylethylsulfanyl benzene(5b)を白色結晶として得た。収量は5.38g、収率は77.1%であった。
1H-NMR(400MHz,TMS in CDCl3):δ2.38(m,4H,ethyl protons),3.11(m,4H,ethyl protons),7.32(s,4H,phenyl protons)
19F-NMR(400MHz,Benzotrifluoride in CDCl3):δ-82.0(t,J=6.15Hz,6F,-CF3),-115.4(m,4F,-CH2-CF2-),-125.3(m,4F,-CF2-),-127.0(m,4F,-CF2-)
FT-IR:2550cm-1の-SHによる吸収バンドが消失していることを確認した。
不活性ガス雰囲気下、反応容器に1,4-Diperfluorobutylethylsulfanyl benzene(5b)3.79g、ジクロロメタン22.1mL、ヨウ素1粒を加え撹拌した。反応容器を遮光し、氷冷下で臭素6.49mLを滴下した。滴下終了後、室温で72時間撹拌した。
反応終了後、チオ硫酸ナトリウム水溶液に注ぎ込み反応を停止させた。反応混合物に対して各種精製操作を行って単離し、白色結晶の2,5-Dibromo-1,4-bis-perfluorobutylethylsulfanyl benzene(6b)を得た。収量は3.71g、収率は78.4%であった。
1H-NMR(400MHz,TMS in CDCl3):δ2.45(m,4H,ethyl protons),3.15(m,4H,ethyl protons),7.46(s,2H,phenyl protons)
19F-NMR(400MHz,Benzotrifluoride in CDCl3):δ-82.0(t,J=3.05Hz,6F,-CF3),-115.2(m,4F,-CH2-CF2-),-125.2(m,4F,-CF2-),-127.0(m,4F,-CF2-)
不活性ガス雰囲気下、反応容器にマグネシウム0.355g、クロロジメチルシラン1.41g、THF3.30mL、ヨウ素1粒を加え撹拌した。2,5-Dibromo-1,4-bis-perfluorobutylethylsulfanyl benzene(6b)1.93gとTHF3.10mLの混合溶液を滴下し12時間還流させた。
反応終了後、希塩酸水に注ぎ込んだ。反応混合物に対して各種精製操作を行って単離し、白色固体の2,5-Dimethylsilyl-1,4-bis-perfluorobutylethylsulfanyl benzene(7b)を得た。収量は0.938g、収率は51.2%であった。
1H-NMR(400MHz,CDCl3):δ0.41(s,12H,dimethyl silyl protons),2.39(m,4H,ethyl protons),3.12(m,4H,ethyl protons),4.54(m,2H,silyl protons),7.50(s,2H,phenyl protons)
19F-NMR(400MHz,Benzotrifluoride in CDCl3):δ-82.0(t,J=3.10Hz,6F,-CF3),-115.4(m,4F,-CH2-CF2-),-125.4(m,4F,-CF2-),-127.1(m,4F,-CF2-)
FT-IR:1250cm-1と2140cm-1にジメチルシリル基に起因する吸収バンドを確認した。
反応容器にTHF1.70mL、H2O0.110mL、5%Pd/C0.100gを加え撹拌した。2,5-Dimethylsilyl-1,4-bis-perfluorobutylethylsulfanyl benzene(7b)0.767gとTHF1.70mLの混合溶液を滴下し、室温下で4時間撹拌した。
反応混合物に対して各種精製操作を行い、白色固体の2,5-Dimethylhydroxysilyl-1,4-bis-perfluorobutylethylsulfanyl benzene(M2b)を得た。収量は0.684g、収率は85.7%であった。
1H-NMR(400MHz,CDCl3):δ0.48(s,12H,dimethyl silyl protons),1.80(s,2H,hydroxyl protons),2.41(m,4H,ethyl protons),3.16(m,4H,ethyl protons),7.59(s,2H,phenyl protons)
19F-NMR(400MHz,Benzotrifluoride in CDCl3):δ-82.0(t,J=3.10Hz,6F,-CF3),-115.4(m,4F,-CH2-CF2-),-125.3(m,4F,-CF2-),-127.0(m,4F,-CF2-)
FT-IR:2140cm-1のジメチルシリル基(Si-(CH3)2H)に起因する吸収バンドの消失、及び、3300cm-1の水酸基の吸収バンドを確認した。
反応容器に2,5-Dimethylhydroxysilyl-1,4-bis-perfluorobutylethylsulfanyl benzene(M2b)0.589g、ベンゼン2.50mLを加え撹拌した。1,1,3,3-テトラメチルグアニジニウム-2-エチルヘキサノエート(1,1,3,3-テトラメチルグアニジン:2-エチルヘキサン酸=1:1molでの混合物)をスパチュラ1杯加え24時間還流撹拌した。
反応溶液に対し各種精製操作を行い、白色固体のPoly[2,5-(perfluorobutylethylsulfanyl)tetramethyl-1,4-silphenylenesiloxane](P2b)を得た。収量は0.510g、収率は86.6%であった。
1H-NMR(400MHz,CDCl3):δ0.46(s,12H,dimethyl silyl protons),2.28(m,4H,ethyl protons),3.02(m,4H,ethyl protons),7.66(s,2H,phenyl protons)
19F-NMR(400MHz,Benzotrifluoride in CDCl3):δ-82.8(m,6F,-CF3),-116.0(m,4F,-CF2-),-125.9(m,4F,-CF2-),-127.7(m,4F,-CH2-CF2-)
FT-IR:3300cm-1の水酸基に起因する吸収バンドの消失、及び、1080cm-1のSi-O-Siの吸収バンドを確認した。
GPC:ポリマーの数平均分子量は、2.1×105であった。
二口フラスコに蒸留THF 0.44mL、H2O 0.284mL(1.580mmol)、5%Pd/C 0.0200gを加え撹拌した。2,5-Dimethlysilyl-1,4-bis-perfluorohexylethylsulfanyl benzene (7c)0.250g(0.263mmol)と蒸留THF 0.44mLの混合溶液を滴下し、室温下で4時間撹拌した。
セライトろ過で5%Pd/Cを取り除き、ろ液を減圧下で溶媒を留去した。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:酢酸エチル:ヘキサン=1:5、Rf値=0.38)で単離した。へキサンで再結晶を行い、白色結晶(M2c)を得た。収量0.207g、収率は80%であった。
1H-NMR(400MHz,CDCl3):δ0.48 (s,12H,dimethyl silyl protons),2.41 (tt,J=8.45 Hz,26.1Hz,4H,ethyl protons),3.16 (m, 4H, ethyl protons),7.59(s,2H,phenyl protons)
13C-NMR(100MHz,CDCl3):δ1.11 (dimethyl silyl carbons), 26.4 (ethyl carbons), 31.5 (ethyl carbons), 136.9 (phenyl carbons), 138.3 (phenyl carbons), 144.8 (phenyl carbons)
19F-NMR(376MHz,CDCl3):δ-81.8 (tt, J= 1.1 Hz,10.1 Hz 6F,-CF3),-115.2 (m, 4F, -CH2-CF2- ),-122.9 (s, 4F, -CF2- ),-123.9 (s,4F,-CF2-),-124.4 (d, J= 12.7 Hz, 4F, -CF2-),-127.2 (m,4F,-CF2-)
FT-IR:2140cm-1のジメチルシリル基(Si-(CH3)2H)に起因する吸収バンドが消失し,3300cm-1に水酸基の吸収バンドを確認した。
ナス型フラスコに合成例12で得られた(M2c)を0.740g(0.753mmol)、ベンゼン2.5mLを加え撹拌した。1,1,3,3-テトラメチルグアニジニウム-2-エチルヘキサノエート(1,1,3,3-テトラメチルグアニジン:2-エチルヘキサン酸=1:1molでの混合物)をスパチュラ1杯加え24時間還流撹拌した。
反応終了後、メタノールによる洗浄を3回行い、Poly[2,5-(perfluorohexylethylsulfanyl)tetramethyl-1,4-silphenylenesiloxane](P2c)を回収した。
合成例13で得られたPoly[2,5-(perfluorohexylethylsulfanyl)tetramethyl-1,4-silphenylenesiloxane](P2c)を100℃、10分間プレスしてシートを作製し、さらにカッターナイフを用いて一辺5mmの角形サンプルを作製し、RF電極の中心部に配置した後、以下の条件下でプラズマ照射処理を行い、照射前後の重量を測定して単位面積あたりの重量減少を調べた。結果を表1に示す。
サムコ株式会社製高密度プラズマICPエッチング装置MODEL RIE-101iPH
ガス:酸素
ガス流量:16sccm
RF出力:400W
圧力:2.66Pa
エッチング時間:60分間
ザルトリウス(Sartorius)・GMBH(株)製の電子分析天秤BP211Dを使用し、0.01mgまで重量を測定し0.01mgの桁を四捨五入する。
Cancarb社製カーボンブラックThermax N990を錠剤成型器により7mmφの錠剤を作製して被験サンプルとして用いたほかは実施例1と同様にしてプラズマ照射し、照射前後の重量を測定して単位面積あたりの重量減少を調べた。結果を表1に示す。
実施例1と同様にしてPoly[2,5-(perfluorohexylethylsulfanyl)tetramethyl-1,4-silphenylenesiloxane](P2c)の一辺5mmの角形サンプルを作製し、RF電極の中心部に配置した後、以下の条件下でプラズマ照射処理を行い、照射前後の重量を測定して単位面積あたりの重量減少を調べた。結果を表2に示す。
ガス:CF4
ガス流量:16sccm
RF出力:400W
圧力:2.66Pa
エッチング時間:60分間
日本アエロジル社製シリカAerosil 50を錠剤成型器により7mmφの錠剤を作製して被験サンプルとして用いたほかは実施例2と同様にしてプラズマ照射し、照射前後の重量を測定して単位面積あたりの重量減少を調べた。結果を表2に示す。
含フッ素エラストマー(TFE/PMVE/シアノ基含有単量体=59.4/40.1/0.5(モル比))100質量部に対して、合成例13で得られたPoly[2,5-(perfluorohexylethylsulfanyl)tetramethyl-1,4-silphenylenesiloxane](P2c)10質量部、架橋剤2,2-ビス[3-アミノ-4-(N-フェニルアミノ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン0.8質量部を1500質量部の含フッ素溶剤中で予備混合してから、60℃で含フッ素溶剤を揮発させ、オープンロールにて混練して含フッ素エラストマー組成物を得た。なお、含フッ素溶剤は、R-318(ダイキン工業(株)製、主成分:C4F8Cl2)を用いた。
得られた成形品について、後述の耐プラズマ性評価を行った。耐プラズマ性評価の結果を表3に示す。
実施例1のPoly[2,5-(perfluorohexylethylsulfanyl)tetramethyl-1,4-silphenylenesiloxane](P2c)を配合しなかった以外は、実施例3と同様にして、含フッ素エラストマー組成物を得た。得られた含フッ素エラストマー組成物から、実施例3と同様にして、成形品を得た。得られた成形品について、後述の耐プラズマ性評価を行った。耐プラズマ性評価の結果を表3に示す。
実施例3、比較例3で得られた成形品について、一部をカプトン電気絶縁用テープにて被覆し、以下の条件下でプラズマ照射処理を行い、被覆面と暴露面との段差を測定してエッチング量を調べた。結果を表3に示す。
ガス:酸素、CF4
ガス流量:16sccm
RF出力:400W
圧力:2.66Pa
エッチング時間:30分間
株式会社キーエンス製 レーザマイクロスコープVK-9700を使用し、被覆面と暴露面との段差を測定してエッチング量を調べた。
含フッ素エラストマー(TFE/PMVE=60/40/(モル比))100質量部に対して、合成例13で得られたPoly[2,5-(perfluorohexylethylsulfanyl)tetramethyl-1,4-silphenylenesiloxane](P2c) 10質量部を1500質量部の含フッ素溶剤中で予備混合してから、60℃で含フッ素溶剤を揮発させ、オープンロールにて混練して含フッ素エラストマー組成物を得た。また、含フッ素溶剤は、R-318(ダイキン工業(株)製、主成分:C4F8Cl2)を用いた。
合成例13で得られたPoly[2,5-(perfluorohexylethylsulfanyl)tetramethyl-1,4-silphenylenesiloxane](P2c)を配合しなかった以外は、実施例4と同様にして、含フッ素エラストマー組成物を得た。得られた含フッ素エラストマー組成物から、実施例4と同様にして、成形品を得た。得られた成形品について、50%質量減少温度の測定を行った。測定結果を表4に示す。
示差熱熱重量同時測定装置(セイコーインスツルメンツ社製 TG-DTA6200)を用い、空気200ml/min、昇温速度10℃/min、温度範囲20~600℃の条件で質量変化を測定し、50%質量減少時の温度を測定した。結果を表4に示す。
Claims (14)
- 一般式(1)において、ベンゼン環に結合する一方のSiに対し、他方のSiがパラ位に位置している請求項1記載のポリマー。
- 数平均分子量が0.5×103~1.0×107である請求項1又は2記載のポリマー。
- 含フッ素ポリマー、及び、請求項1、2又は3記載のポリマーを含むことを特徴とする組成物。
- 含フッ素ポリマーは、含フッ素エラストマーである請求項4記載の組成物。
- 含フッ素エラストマーは、TFEを含むパーフルオロエラストマーである請求項5に記載の組成物。
- TFEを含むパーフルオロエラストマーは、TFE/一般式(8)、(10)又は(11)で表されるフルオロモノマー共重合体及びTFE/一般式(8)、(10)又は(11)で表されるフルオロモノマー/架橋部位を与えるモノマー共重合体からなる群より選択される少なくとも1種である請求項6の組成物。
一般式(8):CF2=CF-ORf81
(式中、Rf81は、炭素数1~8のパーフルオロアルキル基を表す。)で表されるフルオロモノマー、
一般式(10):CF2=CFOCF2ORf101
(式中、Rf101は炭素数1~6の直鎖又は分岐状パーフルオロアルキル基、炭素数5~6の環式パーフルオロアルキル基、1~3個の酸素原子を含む炭素数2~6の直鎖又は分岐状パーフルオロオキシアルキル基である)で表されるフルオロモノマー、及び、
一般式(11):CF2=CFO(CF2CF(Y111)O)m(CF2)nF
(式中、Y111はフッ素原子又はトリフルオロメチル基を表す。mは1~4の整数である。nは1~4の整数である。) - TFEを含むパーフルオロエラストマーにおけるTFEが全モノマーの45モル%以上である、請求項6又は7記載の組成物。
- 含フッ素ポリマーは、シアノ基を有する請求項4、5、6、7又は8記載の組成物。
- 含フッ素ポリマー100質量部に対して0.5~100質量部の前記ポリマーを含む請求項4、5、6、7、8又は9記載の組成物。
- 成形材料である請求項4、5、6、7、8、9又は10記載の組成物。
- 請求項4、5、6、7、8、9、10又は11記載の組成物から得られる成形品。
- シール材である請求項12記載の成形品。
- 半導体製造装置のシール材である請求項12又は13記載の成形品。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018555072A JP6895146B2 (ja) | 2016-12-09 | 2017-12-08 | ポリマー、組成物及び成形品 |
CN201780073776.8A CN109996832B (zh) | 2016-12-09 | 2017-12-08 | 聚合物、组合物和成型品 |
US16/461,090 US10961353B2 (en) | 2016-12-09 | 2017-12-08 | Polymer, composition, and molded article |
KR1020197015139A KR102207516B1 (ko) | 2016-12-09 | 2017-12-08 | 폴리머, 조성물 및 성형품 |
EP17878565.5A EP3521339B1 (en) | 2016-12-09 | 2017-12-08 | Polymer, composition, and molded article |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016-239356 | 2016-12-09 | ||
JP2016239356 | 2016-12-09 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
WO2018105716A1 true WO2018105716A1 (ja) | 2018-06-14 |
Family
ID=62491651
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
PCT/JP2017/044118 WO2018105716A1 (ja) | 2016-12-09 | 2017-12-08 | ポリマー、組成物及び成形品 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10961353B2 (ja) |
EP (1) | EP3521339B1 (ja) |
JP (1) | JP6895146B2 (ja) |
KR (1) | KR102207516B1 (ja) |
CN (1) | CN109996832B (ja) |
WO (1) | WO2018105716A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109232864B (zh) * | 2018-09-17 | 2021-01-22 | 京东方科技集团股份有限公司 | 聚合物、电子注入层、oled器件及显示装置 |
Citations (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6157324B2 (ja) | 1981-10-22 | 1986-12-06 | Daikin Kogyo Co Ltd | |
JPH0259177B2 (ja) | 1982-12-02 | 1990-12-11 | Ii Ai Deyuhon De Nimoasu Ando Co | |
JPH0481608B2 (ja) | 1983-06-23 | 1992-12-24 | Ii Ai Deyuhon De Nimoasu Ando Co | |
JPH0513961B2 (ja) | 1985-03-28 | 1993-02-23 | Daikin Ind Ltd | |
JPH07505665A (ja) * | 1992-04-14 | 1995-06-22 | ミネソタ マイニング アンド マニュファクチャリング カンパニー | 架橋性シラリーレン−シロキサンコポリマー |
JPH08120146A (ja) | 1994-10-21 | 1996-05-14 | Nippon Mektron Ltd | 含フッ素エラストマー組成物 |
JPH08227157A (ja) * | 1995-02-22 | 1996-09-03 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 平版印刷原版 |
WO1997024381A1 (fr) | 1995-12-28 | 1997-07-10 | Daikin Industries, Ltd. | Copolymeres elastiques contenant du fluor, composition durcissable les contenant et materiau d'etancheite prepare a l'aide de ces copolymeres |
JPH11130866A (ja) * | 1997-08-28 | 1999-05-18 | Toppan Printing Co Ltd | 電子機器部品およびそれに用いる耐熱性低誘電率化合物 |
JP2000007649A (ja) | 1998-06-24 | 2000-01-11 | Nippon Fine Chemical Kk | 芳香族硫黄化合物の製造方法 |
WO2000005959A1 (en) | 1998-07-30 | 2000-02-10 | Syngenta Participations Ag | Pesticidal compositions comprising 1,2,3-benzothiadiazole derivatives |
JP2004505146A (ja) * | 2000-07-27 | 2004-02-19 | ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ | コポリマーシーラント組成物及び製造方法 |
WO2004050758A1 (ja) * | 2002-12-05 | 2004-06-17 | Daikin Industries, Ltd. | 含フッ素ポリマー組成物及び硬化体 |
JP2006206874A (ja) * | 2004-12-28 | 2006-08-10 | Nichias Corp | エラストマー組成物及び成形体 |
JP2008280402A (ja) * | 2007-05-09 | 2008-11-20 | Univ Nihon | ポリ(シルアリーレンシロキサン)誘導体及びその共重合体並びにシリコーンゴム |
WO2014050833A1 (ja) * | 2012-09-27 | 2014-04-03 | 旭硝子株式会社 | ガラス積層体およびその製造方法、並びに、シリコーン樹脂層付き支持基材およびその製造方法 |
WO2014050834A1 (ja) * | 2012-09-27 | 2014-04-03 | 旭硝子株式会社 | オルガノポリシロキサン、オルガノポリシロキサンの製造方法、架橋オルガノポリシロキサン、およびコーティング用組成物 |
WO2016133108A1 (ja) * | 2015-02-20 | 2016-08-25 | 国立大学法人秋田大学 | 組成物および成形品 |
Family Cites Families (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3209018A (en) * | 1960-07-22 | 1965-09-28 | Dow Corning | Silarylenesilanes, cyclotrisiloxanes, and the preparation of silanols |
US3105085A (en) * | 1961-07-21 | 1963-09-24 | Dow Corning | Bissil ylcyclohexandienes, their preparation and use |
US3117149A (en) * | 1961-12-14 | 1964-01-07 | Gen Electric | Unsymmetrical poly (arylenesiloxane) fluids |
US3274153A (en) * | 1962-05-02 | 1966-09-20 | Dow Corning | Method of polymerizing hydroxylated organosilicon compounds |
US3280073A (en) * | 1964-12-10 | 1966-10-18 | Dow Corning | Polysilylbenzene compounds |
DE1229530B (de) * | 1965-03-08 | 1966-12-01 | Wacker Chemie Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Silarylensilanolen und Polysilarylensiloxanolen |
US3576021A (en) * | 1969-02-20 | 1971-04-20 | Dow Corning | Bis-silylfluoroalkylaromatic compounds |
US4470831A (en) * | 1981-01-22 | 1984-09-11 | Toray Industries, Inc. | Permselective membrane |
US4990546A (en) * | 1990-03-23 | 1991-02-05 | General Electric Company | UV-curable silphenylene-containing epoxy functional silicones |
JPH0940680A (ja) * | 1995-07-26 | 1997-02-10 | Pola Chem Ind Inc | 脱離基を有する新規なシリコーン |
US7678858B2 (en) | 2003-04-22 | 2010-03-16 | Daikin Industries, Ltd. | Fluorine-containing elastomer composition excellent in plasma-aging prevention effect and shaped article made thereof |
CN100352856C (zh) * | 2003-04-22 | 2007-12-05 | 大金工业株式会社 | 具有优异的防止等离子体老化效果的含氟弹性体组合物及其成型品 |
JP2005272697A (ja) * | 2004-03-25 | 2005-10-06 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 硬化性シリコーン樹脂組成物、光半導体用封止材および光半導体装置 |
CN101484476A (zh) * | 2006-06-30 | 2009-07-15 | 大金工业株式会社 | 含氟弹性体的制造方法 |
TWI361205B (en) * | 2006-10-16 | 2012-04-01 | Rohm & Haas | Heat stable aryl polysiloxane compositions |
CN101679756A (zh) * | 2007-05-16 | 2010-03-24 | 大金工业株式会社 | 交联的含氟弹性体微粒及其制造法以及组合物 |
US8017697B2 (en) * | 2008-06-24 | 2011-09-13 | Sabic Innovative Plastics Ip B.V. | Poly(arylene ether)-polysiloxane composition and method |
US9074074B2 (en) * | 2011-12-15 | 2015-07-07 | The Chemours Company Fc, Llc | Polyhydroxy curable fluoroelastomer compositions |
US10227430B2 (en) | 2014-02-18 | 2019-03-12 | Daikin Industries, Ltd. | Method for producing aqueous perfluoroelastomer dispersion, and method for producing perfluoroelastomer |
JP6380122B2 (ja) * | 2015-01-22 | 2018-08-29 | 株式会社デンソー | エジェクタ |
-
2017
- 2017-12-08 CN CN201780073776.8A patent/CN109996832B/zh active Active
- 2017-12-08 US US16/461,090 patent/US10961353B2/en active Active
- 2017-12-08 WO PCT/JP2017/044118 patent/WO2018105716A1/ja unknown
- 2017-12-08 JP JP2018555072A patent/JP6895146B2/ja active Active
- 2017-12-08 EP EP17878565.5A patent/EP3521339B1/en active Active
- 2017-12-08 KR KR1020197015139A patent/KR102207516B1/ko active Active
Patent Citations (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6157324B2 (ja) | 1981-10-22 | 1986-12-06 | Daikin Kogyo Co Ltd | |
JPH0259177B2 (ja) | 1982-12-02 | 1990-12-11 | Ii Ai Deyuhon De Nimoasu Ando Co | |
JPH0481608B2 (ja) | 1983-06-23 | 1992-12-24 | Ii Ai Deyuhon De Nimoasu Ando Co | |
JPH0513961B2 (ja) | 1985-03-28 | 1993-02-23 | Daikin Ind Ltd | |
JPH07505665A (ja) * | 1992-04-14 | 1995-06-22 | ミネソタ マイニング アンド マニュファクチャリング カンパニー | 架橋性シラリーレン−シロキサンコポリマー |
JPH08120146A (ja) | 1994-10-21 | 1996-05-14 | Nippon Mektron Ltd | 含フッ素エラストマー組成物 |
JPH08227157A (ja) * | 1995-02-22 | 1996-09-03 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 平版印刷原版 |
WO1997024381A1 (fr) | 1995-12-28 | 1997-07-10 | Daikin Industries, Ltd. | Copolymeres elastiques contenant du fluor, composition durcissable les contenant et materiau d'etancheite prepare a l'aide de ces copolymeres |
JPH11130866A (ja) * | 1997-08-28 | 1999-05-18 | Toppan Printing Co Ltd | 電子機器部品およびそれに用いる耐熱性低誘電率化合物 |
JP2000007649A (ja) | 1998-06-24 | 2000-01-11 | Nippon Fine Chemical Kk | 芳香族硫黄化合物の製造方法 |
WO2000005959A1 (en) | 1998-07-30 | 2000-02-10 | Syngenta Participations Ag | Pesticidal compositions comprising 1,2,3-benzothiadiazole derivatives |
JP2004505146A (ja) * | 2000-07-27 | 2004-02-19 | ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ | コポリマーシーラント組成物及び製造方法 |
WO2004050758A1 (ja) * | 2002-12-05 | 2004-06-17 | Daikin Industries, Ltd. | 含フッ素ポリマー組成物及び硬化体 |
JP2006206874A (ja) * | 2004-12-28 | 2006-08-10 | Nichias Corp | エラストマー組成物及び成形体 |
JP2008280402A (ja) * | 2007-05-09 | 2008-11-20 | Univ Nihon | ポリ(シルアリーレンシロキサン)誘導体及びその共重合体並びにシリコーンゴム |
WO2014050833A1 (ja) * | 2012-09-27 | 2014-04-03 | 旭硝子株式会社 | ガラス積層体およびその製造方法、並びに、シリコーン樹脂層付き支持基材およびその製造方法 |
WO2014050834A1 (ja) * | 2012-09-27 | 2014-04-03 | 旭硝子株式会社 | オルガノポリシロキサン、オルガノポリシロキサンの製造方法、架橋オルガノポリシロキサン、およびコーティング用組成物 |
WO2016133108A1 (ja) * | 2015-02-20 | 2016-08-25 | 国立大学法人秋田大学 | 組成物および成形品 |
Non-Patent Citations (5)
Title |
---|
EUR. J. INORG. CHEM., vol. 35, 2009, pages 5328 - 5334 |
J. MATER. CHEM., vol. 6, 1996, pages 711 - 717 |
J. PHYS. CHEM., vol. 117, 2013, pages 4442 - 4448 |
NIWA, YOSHINORI ET AL.: "Synthesis and thermal characterization of novel poly (tetramethyl-1,3-silphenylenesiloxane) derivative with phenol moiety in the main chain", JOURNAL OF POLYMER SCIENCE , PART A: POLYMER CHEMISTRY, vol. 46, no. 2, 2008, pages 692 - 701, XP055490955, ISSN: 0887-624X * |
See also references of EP3521339A4 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR102207516B1 (ko) | 2021-01-26 |
EP3521339B1 (en) | 2024-02-07 |
JPWO2018105716A1 (ja) | 2019-08-08 |
JP6895146B2 (ja) | 2021-06-30 |
CN109996832B (zh) | 2022-07-01 |
EP3521339A4 (en) | 2020-05-27 |
EP3521339A1 (en) | 2019-08-07 |
CN109996832A (zh) | 2019-07-09 |
US10961353B2 (en) | 2021-03-30 |
KR20190077454A (ko) | 2019-07-03 |
US20200055993A1 (en) | 2020-02-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR102168898B1 (ko) | 조성물 및 성형품 | |
TWI601777B (zh) | Fluoroelastomer composition and molded product | |
WO2008130872A2 (en) | Perfluoroelastomer composition and sealing material | |
JP6547233B2 (ja) | 組成物および成形品 | |
JP6895146B2 (ja) | ポリマー、組成物及び成形品 | |
TW200535189A (en) | Perfluoroelastomer composition for use in vulcanization and method for making a molded perfluoroelastomer product | |
EP4043522A1 (en) | Composition containing fluorine-containing polymer and crosslinked article | |
JPWO2017126688A1 (ja) | 含フッ素含ケイ素化合物 | |
JP6789521B2 (ja) | デンドリマー、組成物及び成型品 | |
US12304984B2 (en) | Composition containing fluorine-containing polymer and crosslinked article |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
121 | Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application |
Ref document number: 17878565 Country of ref document: EP Kind code of ref document: A1 |
|
ENP | Entry into the national phase |
Ref document number: 2018555072 Country of ref document: JP Kind code of ref document: A |
|
ENP | Entry into the national phase |
Ref document number: 2017878565 Country of ref document: EP Effective date: 20190502 |
|
ENP | Entry into the national phase |
Ref document number: 20197015139 Country of ref document: KR Kind code of ref document: A |
|
NENP | Non-entry into the national phase |
Ref country code: DE |