WO2018181719A1 - エポキシ樹脂、エポキシ樹脂組成物、並びに、その硬化物、用途及び製造方法 - Google Patents
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- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 title claims abstract description 212
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 title claims abstract description 212
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 74
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 29
- CREMABGTGYGIQB-UHFFFAOYSA-N carbon carbon Chemical compound C.C CREMABGTGYGIQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 68
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 claims abstract description 68
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 57
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims abstract description 49
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 31
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 claims abstract description 26
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 124
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 49
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 44
- 229930195735 unsaturated hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 44
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims description 41
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 39
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 38
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 34
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims description 29
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 28
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 claims description 27
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 26
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 claims description 23
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 21
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 19
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 14
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 claims description 13
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims description 13
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 13
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 claims description 10
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 10
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 claims description 9
- 239000000470 constituent Substances 0.000 claims description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 8
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 7
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 6
- 239000008393 encapsulating agent Substances 0.000 claims description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 5
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 4
- 238000004382 potting Methods 0.000 claims description 4
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims 9
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 abstract description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract description 8
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 abstract description 5
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 84
- -1 ester compound Chemical class 0.000 description 51
- 239000000047 product Substances 0.000 description 29
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 28
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 28
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 description 21
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 15
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 14
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 125000004450 alkenylene group Chemical group 0.000 description 11
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 11
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 9
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 9
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 9
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Substances [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 8
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 7
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 7
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 7
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical group 0.000 description 6
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 5
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 5
- XLJMAIOERFSOGZ-UHFFFAOYSA-M cyanate Chemical compound [O-]C#N XLJMAIOERFSOGZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 5
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 5
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 5
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical compound C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 1-Butene Chemical group CCC=C VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 4
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 4
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 4
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 4
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UHXCHUWSQRLZJS-UHFFFAOYSA-N (4-dimethylsilylidenecyclohexa-2,5-dien-1-ylidene)-dimethylsilane Chemical compound C[Si](C)C1=CC=C([Si](C)C)C=C1 UHXCHUWSQRLZJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- INYHZQLKOKTDAI-UHFFFAOYSA-N 5-ethenylbicyclo[2.2.1]hept-2-ene Chemical compound C1C2C(C=C)CC1C=C2 INYHZQLKOKTDAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004641 Diallyl-phthalate Substances 0.000 description 3
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 3
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 3
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 3
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 3
- QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC=C QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004369 butenyl group Chemical group C(=CCC)* 0.000 description 3
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 3
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 3
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 3
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 3
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000001965 increasing effect Effects 0.000 description 3
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 3
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003518 norbornenyl group Chemical group C12(C=CC(CC1)C2)* 0.000 description 3
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 3
- 229920001955 polyphenylene ether Polymers 0.000 description 3
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 3
- JIHQDMXYYFUGFV-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-triazine Chemical compound C1=NC=NC=N1 JIHQDMXYYFUGFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KOMNUTZXSVSERR-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-tris(prop-2-enyl)-1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical compound C=CCN1C(=O)N(CC=C)C(=O)N(CC=C)C1=O KOMNUTZXSVSERR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IGGDKDTUCAWDAN-UHFFFAOYSA-N 1-vinylnaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(C=C)=CC=CC2=C1 IGGDKDTUCAWDAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 1755-01-7 Chemical compound C1[C@H]2[C@@H]3CC=C[C@@H]3[C@@H]1C=C2 HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 0.000 description 2
- HNRMPXKDFBEGFZ-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethylbutane Chemical compound CCC(C)(C)C HNRMPXKDFBEGFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AHDSRXYHVZECER-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-tris[(dimethylamino)methyl]phenol Chemical compound CN(C)CC1=CC(CN(C)C)=C(O)C(CN(C)C)=C1 AHDSRXYHVZECER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-dinitroanilino)-4-methylpentanoic acid Chemical compound CC(C)CC(C(O)=O)NC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001494 2-propynyl group Chemical group [H]C#CC([H])([H])* 0.000 description 2
- SLJFKNONPLNAPF-UHFFFAOYSA-N 3-Vinyl-7-oxabicyclo[4.1.0]heptane Chemical compound C1C(C=C)CCC2OC21 SLJFKNONPLNAPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 5K8XI641G3 Chemical compound CCC1=NC=C(C)N1 ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LSDPWZHWYPCBBB-UHFFFAOYSA-N Methanethiol Chemical compound SC LSDPWZHWYPCBBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N Piperidine Chemical compound C1CCNCC1 NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ORILYTVJVMAKLC-UHFFFAOYSA-N adamantane Chemical group C1C(C2)CC3CC1CC2C3 ORILYTVJVMAKLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 2
- 125000005577 anthracene group Chemical group 0.000 description 2
- 230000003712 anti-aging effect Effects 0.000 description 2
- JZQAAQZDDMEFGZ-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl) hexanedioate Chemical compound C=COC(=O)CCCCC(=O)OC=C JZQAAQZDDMEFGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QHIWVLPBUQWDMQ-UHFFFAOYSA-N butyl prop-2-enoate;methyl 2-methylprop-2-enoate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.COC(=O)C(C)=C.CCCCOC(=O)C=C QHIWVLPBUQWDMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 2
- 239000004643 cyanate ester Substances 0.000 description 2
- 125000000596 cyclohexenyl group Chemical group C1(=CCCCC1)* 0.000 description 2
- 125000004855 decalinyl group Chemical group C1(CCCC2CCCCC12)* 0.000 description 2
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 2
- QGBSISYHAICWAH-UHFFFAOYSA-N dicyandiamide Chemical compound NC(N)=NC#N QGBSISYHAICWAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008034 disappearance Effects 0.000 description 2
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 2
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 2
- 239000005350 fused silica glass Substances 0.000 description 2
- 125000006038 hexenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 2
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 2
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 2
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 2
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 2
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 2
- CRSOQBOWXPBRES-UHFFFAOYSA-N neopentane Chemical compound CC(C)(C)C CRSOQBOWXPBRES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004365 octenyl group Chemical group C(=CCCCCCC)* 0.000 description 2
- 238000007719 peel strength test Methods 0.000 description 2
- 125000002255 pentenyl group Chemical group C(=CCCC)* 0.000 description 2
- YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N phenanthrene Chemical group C1=CC=C2C3=CC=CC=C3C=CC2=C1 YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000013034 phenoxy resin Substances 0.000 description 2
- 229920006287 phenoxy resin Polymers 0.000 description 2
- RMVRSNDYEFQCLF-UHFFFAOYSA-N phenyl mercaptan Natural products SC1=CC=CC=C1 RMVRSNDYEFQCLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 2
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 2
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 125000005581 pyrene group Chemical group 0.000 description 2
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 2
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 2
- 239000012453 solvate Substances 0.000 description 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005329 tetralinyl group Chemical group C1(CCCC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 2
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 2
- IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N triethylenediamine Chemical compound C1CN2CCN1CC2 IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005580 triphenylene group Chemical group 0.000 description 2
- NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N (2s)-2-[[4-[2-(2,4-diaminoquinazolin-6-yl)ethyl]benzoyl]amino]-4-methylidenepentanedioic acid Chemical compound C1=CC2=NC(N)=NC(N)=C2C=C1CCC1=CC=C(C(=O)N[C@@H](CC(=C)C(O)=O)C(O)=O)C=C1 NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N 0.000 description 1
- MUTGBJKUEZFXGO-OLQVQODUSA-N (3as,7ar)-3a,4,5,6,7,7a-hexahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1CCC[C@@H]2C(=O)OC(=O)[C@@H]21 MUTGBJKUEZFXGO-OLQVQODUSA-N 0.000 description 1
- KMOUUZVZFBCRAM-OLQVQODUSA-N (3as,7ar)-3a,4,7,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1C=CC[C@@H]2C(=O)OC(=O)[C@@H]21 KMOUUZVZFBCRAM-OLQVQODUSA-N 0.000 description 1
- CCEFMUBVSUDRLG-KXUCPTDWSA-N (4R)-limonene 1,2-epoxide Natural products C1[C@H](C(=C)C)CC[C@@]2(C)O[C@H]21 CCEFMUBVSUDRLG-KXUCPTDWSA-N 0.000 description 1
- OJOWICOBYCXEKR-KRXBUXKQSA-N (5e)-5-ethylidenebicyclo[2.2.1]hept-2-ene Chemical compound C1C2C(=C/C)/CC1C=C2 OJOWICOBYCXEKR-KRXBUXKQSA-N 0.000 description 1
- 125000006702 (C1-C18) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- HCNHNBLSNVSJTJ-UHFFFAOYSA-N 1,1-Bis(4-hydroxyphenyl)ethane Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)C1=CC=C(O)C=C1 HCNHNBLSNVSJTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POPHMOPNVVKGRW-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4,4a,5,6,7-octahydronaphthalene Chemical group C1CCC2CCCCC2=C1 POPHMOPNVVKGRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZKZCHOVDCNLSKG-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4,5,6,7,8-octahydronaphthalene Chemical group C1CCCC2=C1CCCC2 ZKZCHOVDCNLSKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYADHXFMURLYQI-UHFFFAOYSA-N 1,2,4-triazine Chemical compound C1=CN=NC=N1 FYADHXFMURLYQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-trimethylphenanthrene Chemical compound CC1=CC=C2C3=CC(C)=CC=C3C=CC2=C1C MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OUPZKGBUJRBPGC-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-tris(oxiran-2-ylmethyl)-1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical compound O=C1N(CC2OC2)C(=O)N(CC2OC2)C(=O)N1CC1CO1 OUPZKGBUJRBPGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PRJNEUBECVAVAG-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(ethenyl)benzene Chemical compound C=CC1=CC=CC(C=C)=C1 PRJNEUBECVAVAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 1,3-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=CC(N)=C1 WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WEERVPDNCOGWJF-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(ethenyl)benzene Chemical compound C=CC1=CC=C(C=C)C=C1 WEERVPDNCOGWJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AHBNSOZREBSAMG-UHFFFAOYSA-N 1,5-diisocyanato-2-methylpentane Chemical compound O=C=NCC(C)CCCN=C=O AHBNSOZREBSAMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WEEGYLXZBRQIMU-UHFFFAOYSA-N 1,8-cineole Natural products C1CC2CCC1(C)OC2(C)C WEEGYLXZBRQIMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SDRZFSPCVYEJTP-UHFFFAOYSA-N 1-ethenylcyclohexene Chemical compound C=CC1=CCCCC1 SDRZFSPCVYEJTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 1-naphthol Chemical compound C1=CC=C2C(O)=CC=CC2=C1 KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006411 1-propenylene group Chemical group [H]\C(*)=C(\[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- VILCJCGEZXAXTO-UHFFFAOYSA-N 2,2,2-tetramine Chemical compound NCCNCCNCCN VILCJCGEZXAXTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6-hexaphenoxy-1,3,5-triaza-2$l^{5},4$l^{5},6$l^{5}-triphosphacyclohexa-1,3,5-triene Chemical compound N=1P(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP=1(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMQFZQVZKBIPCQ-UHFFFAOYSA-N 2,2-bis(3-sulfanylpropanoyloxymethyl)butyl 3-sulfanylpropanoate Chemical compound SCCC(=O)OCC(CC)(COC(=O)CCS)COC(=O)CCS IMQFZQVZKBIPCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PUNGSQUVTIDKNU-UHFFFAOYSA-N 2,4,6,8,10-pentamethyl-1,3,5,7,9,2$l^{3},4$l^{3},6$l^{3},8$l^{3},10$l^{3}-pentaoxapentasilecane Chemical compound C[Si]1O[Si](C)O[Si](C)O[Si](C)O[Si](C)O1 PUNGSQUVTIDKNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OPSKRIKFYGJQGJ-UHFFFAOYSA-N 2,4,6,8-tetraethyl-1,3,5,7,2$l^{3},4$l^{3},6$l^{3},8$l^{3}-tetraoxatetrasilocane Chemical compound CC[Si]1O[Si](CC)O[Si](CC)O[Si](CC)O1 OPSKRIKFYGJQGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WZJUBBHODHNQPW-UHFFFAOYSA-N 2,4,6,8-tetramethyl-1,3,5,7,2$l^{3},4$l^{3},6$l^{3},8$l^{3}-tetraoxatetrasilocane Chemical compound C[Si]1O[Si](C)O[Si](C)O[Si](C)O1 WZJUBBHODHNQPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PISLZQACAJMAIO-UHFFFAOYSA-N 2,4-diethyl-6-methylbenzene-1,3-diamine Chemical compound CCC1=CC(C)=C(N)C(CC)=C1N PISLZQACAJMAIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSOFJLDXOMMNNK-UHFFFAOYSA-N 2-(hydroxymethyl)-2-methylpropane-1,3-diol 3-sulfanylbutanoic acid Chemical compound CC(S)CC(O)=O.CC(S)CC(O)=O.CC(S)CC(O)=O.OCC(C)(CO)CO QSOFJLDXOMMNNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SYFZCLMMUNCHNH-UHFFFAOYSA-N 2-(prop-2-ynoxymethyl)oxirane Chemical compound C#CCOCC1CO1 SYFZCLMMUNCHNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUIQBJHUESBZNU-UHFFFAOYSA-N 2-[(dimethylazaniumyl)methyl]phenolate Chemical compound CN(C)CC1=CC=CC=C1O FUIQBJHUESBZNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BXYWKXBAMJYTKP-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-[2-(3-sulfanylpropanoyloxy)ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethyl 3-sulfanylpropanoate Chemical compound SCCC(=O)OCCOCCOCCOCCOC(=O)CCS BXYWKXBAMJYTKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XFQDAAPROSJLSX-UHFFFAOYSA-N 2-[4-(9h-fluoren-1-yl)phenoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C1=CC(OCCOC(=O)C=C)=CC=C1C1=CC=CC2=C1CC1=CC=CC=C21 XFQDAAPROSJLSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MUUOUUYKIVSIAR-UHFFFAOYSA-N 2-but-3-enyloxirane Chemical compound C=CCCC1CO1 MUUOUUYKIVSIAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MAYUMUDTQDNZBD-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethylsilane Chemical compound [SiH3]CCCl MAYUMUDTQDNZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PQAMFDRRWURCFQ-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-1h-imidazole Chemical compound CCC1=NC=CN1 PQAMFDRRWURCFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBEKRAXYEBAHQF-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;3-sulfanylbutanoic acid Chemical compound CC(S)CC(O)=O.CC(S)CC(O)=O.CC(S)CC(O)=O.CCC(CO)(CO)CO WBEKRAXYEBAHQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1h-imidazole Chemical compound CC1=NC=CN1 LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FCZHJHKCOZGQJZ-UHFFFAOYSA-N 2-oct-7-enyloxirane Chemical compound C=CCCCCCCC1CO1 FCZHJHKCOZGQJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCUJYXPAKHMBAZ-UHFFFAOYSA-N 2-phenyl-1h-imidazole Chemical compound C1=CNC(C=2C=CC=CC=2)=N1 ZCUJYXPAKHMBAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXYAVSFOJVUIHT-UHFFFAOYSA-N 2-vinylnaphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC(C=C)=CC=C21 KXYAVSFOJVUIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CMLFRMDBDNHMRA-UHFFFAOYSA-N 2h-1,2-benzoxazine Chemical group C1=CC=C2C=CNOC2=C1 CMLFRMDBDNHMRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FBFIDNKZBQMMEQ-UHFFFAOYSA-N 3-(3-phenylpentan-3-yl)benzene-1,2-diamine Chemical compound C=1C=CC(N)=C(N)C=1C(CC)(CC)C1=CC=CC=C1 FBFIDNKZBQMMEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RNLHGQLZWXBQNY-UHFFFAOYSA-N 3-(aminomethyl)-3,5,5-trimethylcyclohexan-1-amine Chemical compound CC1(C)CC(N)CC(C)(CN)C1 RNLHGQLZWXBQNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVRNUXJQQFPNMN-VAWYXSNFSA-N 3-[(e)-dodec-1-enyl]oxolane-2,5-dione Chemical compound CCCCCCCCCC\C=C\C1CC(=O)OC1=O WVRNUXJQQFPNMN-VAWYXSNFSA-N 0.000 description 1
- LHTZCYHRTBUGOI-UHFFFAOYSA-N 3-n,4-n-dimethylpyridine-3,4-diamine Chemical compound CNC1=CC=NC=C1NC LHTZCYHRTBUGOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-sulfonyldiphenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C=C1 VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LABQKWYHWCYABU-UHFFFAOYSA-N 4-(3-sulfanylbutanoyloxy)butyl 3-sulfanylbutanoate Chemical compound CC(S)CC(=O)OCCCCOC(=O)CC(C)S LABQKWYHWCYABU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BBDKZWKEPDTENS-UHFFFAOYSA-N 4-Vinylcyclohexene Chemical compound C=CC1CCC=CC1 BBDKZWKEPDTENS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DZIHTWJGPDVSGE-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-aminocyclohexyl)methyl]cyclohexan-1-amine Chemical compound C1CC(N)CCC1CC1CCC(N)CC1 DZIHTWJGPDVSGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOCGGVRGNIEDSZ-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(4-hydroxy-3-prop-2-enylphenyl)propan-2-yl]-2-prop-2-enylphenol Chemical compound C=1C=C(O)C(CC=C)=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C(CC=C)=C1 WOCGGVRGNIEDSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NCAVPEPBIJTYSO-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybutyl prop-2-enoate;2-(oxiran-2-ylmethoxymethyl)oxirane Chemical compound C1OC1COCC1CO1.OCCCCOC(=O)C=C NCAVPEPBIJTYSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LYWVNPSVLAFTFX-UHFFFAOYSA-N 4-methylbenzenesulfonate;morpholin-4-ium Chemical compound C1COCCN1.CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 LYWVNPSVLAFTFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FVCSARBUZVPSQF-UHFFFAOYSA-N 5-(2,4-dioxooxolan-3-yl)-7-methyl-3a,4,5,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1C(C(OC2=O)=O)C2C(C)=CC1C1C(=O)COC1=O FVCSARBUZVPSQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FKBMTBAXDISZGN-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-3a,4,5,6,7,7a-hexahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1C(C)CCC2C(=O)OC(=O)C12 FKBMTBAXDISZGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MWSKJDNQKGCKPA-UHFFFAOYSA-N 6-methyl-3a,4,5,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1CC(C)=CC2C(=O)OC(=O)C12 MWSKJDNQKGCKPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005995 Aluminium silicate Substances 0.000 description 1
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 description 1
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 1
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAUWEBWGRMWJCT-UHFFFAOYSA-N C[SiH](O[SiH2][SiH3])C Chemical compound C[SiH](O[SiH2][SiH3])C DAUWEBWGRMWJCT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- BBVIQHLJRNEBBW-UHFFFAOYSA-L Cl[Ir]Cl Chemical compound Cl[Ir]Cl BBVIQHLJRNEBBW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N Diethylenetriamine Chemical compound NCCNCCN RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GXBYFVGCMPJVJX-UHFFFAOYSA-N Epoxybutene Chemical compound C=CC1CO1 GXBYFVGCMPJVJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005058 Isophorone diisocyanate Substances 0.000 description 1
- CCEFMUBVSUDRLG-XNWIYYODSA-N Limonene-1,2-epoxide Chemical compound C1[C@H](C(=C)C)CCC2(C)OC21 CCEFMUBVSUDRLG-XNWIYYODSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N Phthalic anhydride Natural products C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930182556 Polyacetal Natural products 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MUUXBTFQEXVEEI-UHFFFAOYSA-N [2-(dimethyl-$l^{3}-silanyl)phenyl]-dimethylsilicon Chemical compound C[Si](C)C1=CC=CC=C1[Si](C)C MUUXBTFQEXVEEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTLHIRNKQSFSJS-UHFFFAOYSA-N [3-(3-sulfanylbutanoyloxy)-2,2-bis(3-sulfanylbutanoyloxymethyl)propyl] 3-sulfanylbutanoate Chemical compound CC(S)CC(=O)OCC(COC(=O)CC(C)S)(COC(=O)CC(C)S)COC(=O)CC(C)S VTLHIRNKQSFSJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOBBTVPTPXRUBP-UHFFFAOYSA-N [3-(3-sulfanylpropanoyloxy)-2,2-bis(3-sulfanylpropanoyloxymethyl)propyl] 3-sulfanylpropanoate Chemical compound SCCC(=O)OCC(COC(=O)CCS)(COC(=O)CCS)COC(=O)CCS JOBBTVPTPXRUBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JVUBHRQWZCRMGA-UHFFFAOYSA-N [4-[dimethyl-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silyl]phenyl]-dimethyl-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1CC2OC2CC1CC[Si](C)(C)C(C=C1)=CC=C1[Si](C)(C)CCC1CC2OC2CC1 JVUBHRQWZCRMGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DSVGQVZAZSZEEX-UHFFFAOYSA-N [C].[Pt] Chemical compound [C].[Pt] DSVGQVZAZSZEEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FOLNDEOXOGUWTR-UHFFFAOYSA-N [ethyl(trimethylsilyloxy)silyl]oxy-trimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)O[SiH](CC)O[Si](C)(C)C FOLNDEOXOGUWTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- VEBCLRKUSAGCDF-UHFFFAOYSA-N ac1mi23b Chemical compound C1C2C3C(COC(=O)C=C)CCC3C1C(COC(=O)C=C)C2 VEBCLRKUSAGCDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006230 acetylene black Substances 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 239000005456 alcohol based solvent Substances 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000004844 aliphatic epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K aluminium hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Al+3] WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000012211 aluminium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 125000004202 aminomethyl group Chemical group [H]N([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 229910000410 antimony oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000002619 bicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- NIDNOXCRFUCAKQ-UHFFFAOYSA-N bicyclo[2.2.1]hept-5-ene-2,3-dicarboxylic acid Chemical compound C1C2C=CC1C(C(=O)O)C2C(O)=O NIDNOXCRFUCAKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JGCWKVKYRNXTMD-UHFFFAOYSA-N bicyclo[2.2.1]heptane;isocyanic acid Chemical compound N=C=O.N=C=O.C1CC2CCC1C2 JGCWKVKYRNXTMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- JQRRFDWXQOQICD-UHFFFAOYSA-N biphenylen-1-ylboronic acid Chemical compound C12=CC=CC=C2C2=C1C=CC=C2B(O)O JQRRFDWXQOQICD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IYJMFNNRVITCDG-UHFFFAOYSA-N biphenylene;phenol Chemical group OC1=CC=CC=C1.C1=CC=C2C3=CC=CC=C3C2=C1 IYJMFNNRVITCDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001593 boehmite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001273 butane Substances 0.000 description 1
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YXMVRBZGTJFMLH-UHFFFAOYSA-N butylsilane Chemical compound CCCC[SiH3] YXMVRBZGTJFMLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000378 calcium silicate Substances 0.000 description 1
- 229910052918 calcium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N calcium;dioxido(oxo)silane Chemical compound [Ca+2].[O-][Si]([O-])=O OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000609 carbazolyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3NC12)* 0.000 description 1
- 150000001722 carbon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000002041 carbon nanotube Substances 0.000 description 1
- 229910021393 carbon nanotube Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003763 carbonization Methods 0.000 description 1
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 1
- 229910002026 crystalline silica Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000582 cycloheptyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- IRRVTIDUSZWLNF-UHFFFAOYSA-N cyclopentylsilane Chemical compound [SiH3]C1CCCC1 IRRVTIDUSZWLNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- GUJOJGAPFQRJSV-UHFFFAOYSA-N dialuminum;dioxosilane;oxygen(2-);hydrate Chemical compound O.[O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3].O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O GUJOJGAPFQRJSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEIQPMUPONZJJH-UHFFFAOYSA-N dicyclohexylmethanediamine Chemical compound C1CCCCC1C(N)(N)C1CCCCC1 KEIQPMUPONZJJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 1
- LYMYULOYDUWMOP-UHFFFAOYSA-M diethoxy-sulfanylidene-sulfido-$l^{5}-phosphane;tetrabutylphosphanium Chemical compound CCOP([S-])(=S)OCC.CCCC[P+](CCCC)(CCCC)CCCC LYMYULOYDUWMOP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical compound C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OIKHZBFJHONJJB-UHFFFAOYSA-N dimethyl(phenyl)silicon Chemical compound C[Si](C)C1=CC=CC=C1 OIKHZBFJHONJJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N dimethylbenzylamine Chemical compound CN(C)CC1=CC=CC=C1 XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZODWTWYKYYGSFS-UHFFFAOYSA-N diphenyl-bis(prop-2-enyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](CC=C)(CC=C)C1=CC=CC=C1 ZODWTWYKYYGSFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZZTCPWRAHWXWCH-UHFFFAOYSA-N diphenylmethanediamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(N)(N)C1=CC=CC=C1 ZZTCPWRAHWXWCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VDCSGNNYCFPWFK-UHFFFAOYSA-N diphenylsilane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[SiH2]C1=CC=CC=C1 VDCSGNNYCFPWFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NJLLQSBAHIKGKF-UHFFFAOYSA-N dipotassium dioxido(oxo)titanium Chemical compound [K+].[K+].[O-][Ti]([O-])=O NJLLQSBAHIKGKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFOSIXZFDONLBT-UHFFFAOYSA-N divinyl sulfone Chemical compound C=CS(=O)(=O)C=C AFOSIXZFDONLBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 1
- AFSIMBWBBOJPJG-UHFFFAOYSA-N ethenyl octadecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OC=C AFSIMBWBBOJPJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VLNRSEGRGSDKLS-UHFFFAOYSA-N ethenyl-[4-[ethenyl(dimethyl)silyl]phenyl]-dimethylsilane Chemical compound C=C[Si](C)(C)C1=CC=C([Si](C)(C)C=C)C=C1 VLNRSEGRGSDKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDLDYFCCDKENPD-UHFFFAOYSA-N ethenylcyclohexane Chemical compound C=CC1CCCCC1 LDLDYFCCDKENPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005678 ethenylene group Chemical group [H]C([*:1])=C([H])[*:2] 0.000 description 1
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 1
- ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-f][2]benzofuran-1,3,5,7-tetrone Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC2=C1C(=O)OC2=O ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940083124 ganglion-blocking antiadrenergic secondary and tertiary amines Drugs 0.000 description 1
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004836 hexamethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- FAHBNUUHRFUEAI-UHFFFAOYSA-M hydroxidooxidoaluminium Chemical compound O[Al]=O FAHBNUUHRFUEAI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 description 1
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- NNIPDXPTJYIMKW-UHFFFAOYSA-N iron tin Chemical compound [Fe].[Sn] NNIPDXPTJYIMKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002510 isobutoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N isophorone diisocyanate Chemical compound CC1(C)CC(N=C=O)CC(C)(CN=C=O)C1 NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003253 isopropoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(O*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003273 ketjen black Substances 0.000 description 1
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L magnesium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Mg+2] VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000347 magnesium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 229910001862 magnesium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006078 metal deactivator Substances 0.000 description 1
- 229910000000 metal hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004692 metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- AYLRODJJLADBOB-QMMMGPOBSA-N methyl (2s)-2,6-diisocyanatohexanoate Chemical compound COC(=O)[C@@H](N=C=O)CCCCN=C=O AYLRODJJLADBOB-QMMMGPOBSA-N 0.000 description 1
- YHLVIDQQTOMBGN-UHFFFAOYSA-N methyl prop-2-enyl carbonate Chemical compound COC(=O)OCC=C YHLVIDQQTOMBGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LAQFLZHBVPULPL-UHFFFAOYSA-N methyl(phenyl)silicon Chemical compound C[Si]C1=CC=CC=C1 LAQFLZHBVPULPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHSYWAVRSCQMHG-UHFFFAOYSA-N methyl-[methyl(trimethylsilyloxy)-$l^{3}-silanyl]oxy-trimethylsilyloxysilicon Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)O[Si](C)O[Si](C)(C)C OHSYWAVRSCQMHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SWGZAKPJNWCPRY-UHFFFAOYSA-N methyl-bis(trimethylsilyloxy)silicon Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)O[Si](C)(C)C SWGZAKPJNWCPRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 1
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 1
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052901 montmorillonite Inorganic materials 0.000 description 1
- IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N n-butane Chemical compound CCCC IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003136 n-heptyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 1
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N n-pentane Natural products CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005187 nonenyl group Chemical group C(=CCCCCCCC)* 0.000 description 1
- 239000002667 nucleating agent Substances 0.000 description 1
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N oxoantimony Chemical compound [Sb]=O VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DSQPRECRRGZSCV-UHFFFAOYSA-N penta-1,4-dien-3-yl(phenyl)silane Chemical compound C=CC([SiH2]c1ccccc1)C=C DSQPRECRRGZSCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930015698 phenylpropene Natural products 0.000 description 1
- 150000003018 phosphorus compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000004980 phosphorus peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001021 polysulfide Polymers 0.000 description 1
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 1
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- POSICDHOUBKJKP-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoxybenzene Chemical compound C=CCOC1=CC=CC=C1 POSICDHOUBKJKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N prop-2-enylbenzene Chemical compound C=CCC1=CC=CC=C1 HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004368 propenyl group Chemical group C(=CC)* 0.000 description 1
- 125000002572 propoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQZMDXUEROTLLD-UHFFFAOYSA-N rhodium;triphenylphosphane Chemical compound [Rh].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 QQZMDXUEROTLLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 229910021647 smectite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001973 tert-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- FAGUFWYHJQFNRV-UHFFFAOYSA-N tetraethylenepentamine Chemical compound NCCNCCNCCNCCN FAGUFWYHJQFNRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- BRKFQVAOMSWFDU-UHFFFAOYSA-M tetraphenylphosphanium;bromide Chemical compound [Br-].C1=CC=CC=C1[P+](C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 BRKFQVAOMSWFDU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- SRPWOOOHEPICQU-UHFFFAOYSA-N trimellitic anhydride Chemical compound OC(=O)C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 SRPWOOOHEPICQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003258 trimethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 1
- AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N triphenylmethane Chemical compound C1=CC=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AKQNYQDSIDKVJZ-UHFFFAOYSA-N triphenylsilane Chemical compound C1=CC=CC=C1[SiH](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 AKQNYQDSIDKVJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VOSUIKFOFHZNED-UHFFFAOYSA-N tris(prop-2-enyl) benzene-1,3,5-tricarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC(C(=O)OCC=C)=CC(C(=O)OCC=C)=C1 VOSUIKFOFHZNED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010792 warming Methods 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 125000005023 xylyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G59/00—Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
- C08G59/18—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
- C08G59/20—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the epoxy compounds used
- C08G59/22—Di-epoxy compounds
- C08G59/30—Di-epoxy compounds containing atoms other than carbon, hydrogen, oxygen and nitrogen
Definitions
- the present invention relates to an epoxy resin, an epoxy resin composition, and a cured product, application, and manufacturing method thereof.
- thermosetting resins such as epoxy resins are widely used as substrate materials and sealing materials.
- Patent Documents 1 and 2 disclose a dicyclopentadiene type epoxy resin and a composition having the resin.
- Patent Document 3 discloses an epoxy resin composition comprising an epoxy resin, an active ester compound, and a triazine-containing cresol novolak resin.
- these low inductive properties are not sufficient.
- the present invention is excellent in low dielectric characteristics, and a cured product excellent in adhesion to metals, and to provide an epoxy resin composition capable of forming.
- the present inventor has found that the above object can be achieved by using a hydrosilylated epoxy resin having a specific structure. It came to be completed.
- the present invention includes, for example, the subject matters described in the following sections.
- Item 1 (A) a structural unit derived from an organic compound having a hydrosilyl group, formed by removing a hydrogen atom of the hydrosilyl group; (B) a structural unit formed by converting a carbon-carbon unsaturated bond into a C ⁇ C bond or a C—C bond derived from a compound having a carbon-carbon unsaturated bond and not having an epoxy group; , (C) An epoxy resin having a structural unit derived from a compound having a carbon-carbon unsaturated bond and an epoxy group and formed by converting the carbon-carbon unsaturated bond into a C ⁇ C bond or a C—C bond.
- the organic compound having a hydrosilyl group has the formula (0): (Wherein R 1 s are the same or different and each represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, a cycloalkyl group, an aryl group, or an aralkyl group.
- Ring X is a ring having a structure in which 2 to 6 saturated hydrocarbon rings, unsaturated hydrocarbon rings, saturated hydrocarbon rings and / or unsaturated hydrocarbon rings are condensed, or saturated hydrocarbon ring and / or unsaturated N represents a ring having a structure in which two hydrocarbon rings are linked, and n X represents 1, 2, 3, or 4.
- R 2 represents an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms, and this group may have a part of carbon atoms substituted with at least one atom selected from the group consisting of an oxygen atom and a nitrogen atom.
- R 3 represents * —COO— or * —OCO— (wherein “*” represents the side bonded to R 2 or L.)
- R 4 represents an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, In this group, a part of carbon atoms may be substituted with at least one atom selected from the group consisting of an oxygen atom and a nitrogen atom, R 5 represents a methyl group or a hydrogen atom, and L is a k valence. Each independently represents 0 or 1.
- m represents each independently 0 or 1.
- n represents each independently 0 or 1.
- k represents an integer of 1 to 6.
- R 2 when R 2 is the plurality of may be each the same group, Oh There are, .R 3 which may be a part or all different groups when there are a plurality, it is possible to make each the same group, or may be different based on part or all.
- R 4 When a plurality of R 4 are present, each may be the same group, or some or all may be different groups.
- R 6A represents an alkenyl group or alkynyl group having 2 to 18 carbon atoms, and this group is at least one atom selected from the group consisting of an oxygen atom and a nitrogen atom.
- R 7 represents an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 9 carbon atoms, a cycloalkyl group, an aryl group, or an aralkyl group, and these groups are a part of carbon atoms.
- R 6 represents an alkylene group having 2 to 18 carbon atoms, and this group is selected from the group consisting of an oxygen atom and a nitrogen atom, with some carbon atoms excluding the carbon atom directly bonded to the silicon atom.
- L 2 may be a linear or branched alkane, a saturated hydrocarbon ring or an unsaturated carbon, in which some of the carbon atoms may be substituted with oxygen atoms
- Two hydrogen atoms from a ring having a structure in which 2 to 6 condensed hydrogen rings, nitrogen-containing heterocycles, or saturated hydrocarbon rings and / or unsaturated hydrocarbon rings or a structure having two linked structures are connected.
- q represents a positive number greater than 0 and not greater than 20.
- X 2 represents a divalent group obtained by removing two hydrogen atoms from the X ring. shown .R 1, R 2, R 3 , R 4, R 5, R 7, l, m n, o, and p are as defined above.) Item 5.
- the epoxy resin according to item 4 which is subordinate to all of items 1, 2, and 3 represented by: Item 6.
- Item 6. An epoxy resin composition comprising the epoxy resin according to any one of Items 1 to 5, and a curing catalyst and / or a curing agent.
- Item 7. Item 7. A cured product of the epoxy resin composition according to item 6.
- Item 8. A semiconductor encapsulant, a liquid encapsulant, a potting material, a sealing material, a printed circuit board material, or a composite material comprising the epoxy resin composition according to item 6 or the cured product according to claim 7 as a constituent element.
- the epoxy resin composition according to the present invention can form a cured product having excellent low dielectric properties and excellent adhesion to metals.
- the epoxy resin of the present invention comprises (A) a structural unit derived from an organic compound having a hydrosilyl group, formed by removing a hydrogen atom of the hydrosilyl group, and (B) a carbon-carbon unsaturated bond not containing an epoxy group. Formed by converting a carbon-carbon unsaturated bond into a C ⁇ C bond or a C—C bond derived from a compound having a carbon atom (ie, a compound having a carbon-carbon unsaturated bond and no epoxy group) A structural unit and (C) a structural unit derived from a compound having a carbon-carbon unsaturated bond and an epoxy group and formed by converting the carbon-carbon unsaturated bond into a C ⁇ C bond or a C—C bond. .
- the epoxy resin is, for example, (A) an organic compound having a hydrosilyl group, (B) a compound having a carbon-carbon unsaturated bond not containing an epoxy group, and (C) It can be obtained by subjecting a compound having a carbon-carbon unsaturated bond and an epoxy group to a hydrosilylation reaction.
- (A) an organic compound having a hydrosilyl group, (B) a compound having a carbon-carbon unsaturated bond not containing an epoxy group, and (C) a compound having a carbon-carbon unsaturated bond and an epoxy group May be abbreviated as “A component”, “B component” and “C component”, respectively.
- a structural unit formed by converting a bond to a C ⁇ C bond or a C—C bond may be abbreviated as an A component structural unit, a B component structural unit, or a C component structural unit, respectively.
- the epoxy resin of the present invention is obtained by subjecting component A to a hydrosilylation reaction with component B and component C. Therefore, the epoxy resin of the present invention is an epoxy resin having a structure in which a carbon-carbon unsaturated bond site is hydrosilylated, and can be referred to as a hydrosilylated epoxy resin.
- the compound mentioned as A component, the compound mentioned as B component, and the compound mentioned as C component are various.
- the epoxy resin of this invention includes all the combinations of A component, B component, and C component described in this specification. That is, the epoxy resin of the present invention includes all the various epoxy resins obtained from any combination of compounds corresponding to the components A to C described in this specification.
- the component A is an organic compound having a hydrosilyl (Si—H) group and undergoing a hydrosilylation reaction with a carbon-carbon unsaturated bond.
- the number of hydrosilyl groups is 1 or more, for example, 1 to 12 (1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, or 12) is preferable, and 2, 3, or 4 is More preferred.
- the component A is hydrosilylated with the component B and the component C, and a hydrogen atom is removed by the reaction, thereby forming an A component constituent unit.
- a compound having a structure in which a hydrosilyl group is bonded to a ring is preferable.
- the compound shown by following formula (0) is mentioned. (Wherein R 1 s are the same or different and each represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, a cycloalkyl group, an aryl group, or an aralkyl group.
- Ring X is a ring having a structure in which 2 to 6 saturated hydrocarbon rings, unsaturated hydrocarbon rings, saturated hydrocarbon rings and / or unsaturated hydrocarbon rings are condensed, or saturated hydrocarbon ring and / or unsaturated N represents a ring having a structure in which two hydrocarbon rings are linked, and n X represents 1, 2, 3, or 4.
- examples of the component A include compounds having structures of formulas (1) to (4).
- R 1 and the X ring are the same as defined above. That is, R 1 is the same or different and represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, a cycloalkyl group, an aryl group or an aralkyl group.
- the carbon atoms may be substituted with at least one atom selected from the group consisting of an oxygen atom and a nitrogen atom
- the ring X is a saturated hydrocarbon ring, an unsaturated hydrocarbon ring, a saturated hydrocarbon ring and / or a ring having a structure in which 2 to 6 unsaturated hydrocarbon rings are condensed, or a saturated hydrocarbon ring and / or Alternatively, a ring having a structure in which two unsaturated hydrocarbon rings are connected is shown.
- R 1 may not represent a hydrogen atom (that is, R 1 may be the same or different and represents an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, a cycloalkyl group, an aryl group, or an aralkyl group).
- R 1 may be the same or different and represents an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, a cycloalkyl group, an aryl group, or an aralkyl group.
- one R 1 represents a hydrogen atom
- the other R 1 represents an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, a cycloalkyl group, an aryl group, or an aralkyl group. Is also preferable.
- equation (1) is in the (sometimes referred to as X 1) 1 monovalent group obtained by removed is one hydrogen atom from X ring, two hydrogen from X is X ring in formula (2) A divalent group obtained by removing an atom (sometimes referred to as X 2 ), X in the formula (3) is a trivalent group obtained by removing three hydrogen atoms from the X ring (X 3 and is called that it is), the equation (X in 4) may be referred to as tetravalent group (X 4 obtained by removed four hydrogen atoms from the X ring), respectively.
- a saturated hydrocarbon ring or an unsaturated hydrocarbon ring, or a ring having a structure in which 2 to 6 saturated hydrocarbon rings and / or unsaturated hydrocarbon rings are condensed is collectively referred to as a “hydrocarbon ring”. May be written.
- the saturated hydrocarbon ring is preferably a saturated hydrocarbon ring having 4 to 8 carbon atoms (4, 5, 6, 7, or 8), and more preferably exemplified by a cyclopentane ring and a cyclohexane ring.
- the unsaturated hydrocarbon ring is preferably an unsaturated hydrocarbon ring having 4 to 8 carbon atoms (4, 5, 6, 7, or 8), more preferably a benzene ring or the like.
- the saturated hydrocarbon ring and / or unsaturated hydrocarbon ring is 2, 3, Alternatively, a ring having 4 condensed rings is preferable, and a ring having 2 or 3 condensed rings is more preferable.
- decahydronaphthalene ring More specifically, for example, decahydronaphthalene ring, adamantane ring, naphthalene ring, phenanthrene ring, anthracene ring, pyrene ring, triphenylene ring, tetralin ring, 1,2,3,4,5,6,7,8- Examples include an octahydronaphthalene ring and a norbornene ring.
- the hydrogen atom bonded to the carbon atom constituting the hydrocarbon ring constituting the X ring and not bound to the silicon atom has 1 to 6 carbon atoms (1, 2, 3, 4, 5, or 6) an alkyl group, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms (1, 2, 3, 4, 5, or 6), or a halogen atom.
- alkyl group having 1 to 6 carbon atoms examples include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, and an isobutyl group.
- Preferred examples of the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms include methoxy group, ethoxy group, propoxy group, isopropoxy group, butoxy group and isobutoxy group.
- the halogen atom is a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, or an iodine atom, preferably a fluorine atom, a chlorine atom, or a bromine atom, and more preferably a fluorine atom or a bromine atom.
- the ring having a structure in which two saturated hydrocarbon rings and / or unsaturated hydrocarbon rings are linked may be represented by the following formula (5).
- the structure represented by these is preferable.
- the Xa ring and the Xb ring are the same or different and represent a saturated hydrocarbon ring or an unsaturated hydrocarbon ring. That is, both the Xa ring and the Xb ring are saturated hydrocarbon rings, or both are unsaturated hydrocarbon rings, or one is a saturated hydrocarbon ring and the other is an unsaturated hydrocarbon ring. Among these, it is preferable that both the Xa ring and the Xb ring are saturated hydrocarbon rings or both are unsaturated hydrocarbon rings.
- the Xa ring and the Xb ring are preferably both benzene rings, both cyclohexane rings, or one is a benzene ring and the other is a cyclohexane ring, and more preferably both are benzene rings.
- Y represents a bond, an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms which may be substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an oxygen atom (—O—), a sulfur atom (—S—). ), -SO-, or -SO 2- .
- alkylene group having 1 to 6 carbon atoms include a methylene group, an ethylene group, an n-propylene group, an n-butylene group, and an n-hexylene group.
- alkyl group having 1 to 4 carbon atoms as a substituent examples include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, and an isobutyl group.
- Preferred examples of the alkylene group having 1 to 6 carbon atoms substituted by an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms include —CH (CH 3 ) —, —C (CH 3 ) 2 —, —CH 2 CH (CH 3 ) CH. Examples thereof include 2- , -CH 2 C (CH 3 ) 2 CH 2- and the like.
- Y is preferably a bond, an oxygen atom, a methylene group, a dimethylmethylene group (—C (CH 3 ) 2 —), —S—, —SO 2 —, and more preferably a bond, a dimethylmethylene group, An oxygen atom, —SO 2 —.
- the divalent, trivalent, or tetravalent group that is, X 2 , X 3 , or X 4
- X 2 , X 3 , or X 4 is specifically represented by, for example, any one of the following formulae:
- Y is as defined above
- a group represented by any of the following formulas is more preferable.
- the alkyl group having 1 to 18 carbon atoms represented by R 1 is a linear or branched alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, Isobutyl, tert-butyl, n-pentyl, neopentyl, tert-pentyl, n-hexyl, n-heptyl, 2,2,4-trimethylpentyl, n-octyl, isooctyl, n -Nonyl group, n-decyl group, n-dodecyl group and the like.
- An alkyl group having 1 to 10 carbon atoms is preferable, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms is more preferable, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms is further preferable, and a methyl group is particularly preferable.
- Examples of the cycloalkyl group represented by R 1 include a 3- to 8-membered cycloalkyl group, and examples thereof include a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, and a methylcyclohexyl group.
- Examples of the aryl group represented by R 1 include a monocyclic or bicyclic aryl group, and examples thereof include a phenyl group, a tolyl group, a xylyl group, an ethylphenyl group, and a naphthyl group. Of these, a phenyl group is preferred.
- Examples of the aralkyl group represented by R 1 include an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms substituted with an aryl group (particularly a phenyl group).
- an aryl group particularly a phenyl group.
- a benzyl group, an ⁇ -phenethyl group, a ⁇ -phenethyl group, a ⁇ -Methylphenethyl group and the like can be mentioned.
- C 1-18 alkyl group, cycloalkyl group, aryl group or aralkyl group represented by R 1 are selected from the group consisting of oxygen atoms and nitrogen atoms, as described above. It may be substituted with at least one atom. When some carbon atoms are substituted, the number of carbon atoms to be substituted is, for example, 1 to 3, 1 or 2, or 1. The carbon atom may be substituted with an oxygen atom or a nitrogen atom, and is preferably substituted with an oxygen atom. When the number of carbon atoms to be substituted is 2 or more, all may be substituted with the same atom (oxygen atom or nitrogen atom), or a part may be substituted with a different atom.
- R 1 is preferably an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and more preferably a methyl group.
- an organic compound in which the total number of hydrogen atoms directly bonded to silicon atoms existing in the molecule such as dimethylphenylsilane and triphenylsilane is one; methylphenylsilane, diphenylsilane, Total number of hydrogen atoms directly bonded to silicon atoms present in the molecule such as 1,2-bis (dimethylsilyl) benzene, 1,4-bis (dimethylsilyl) benzene, bis [(p-dimethylsilyl) phenyl] ether
- An organic compound in which the total number of hydrogen atoms directly bonded to silicon atoms present in the molecule such as normal butyl silane and cyclopentyl silane is three.
- component A examples include bis (trimethylsiloxy) methylsilane, bis (trimethylsiloxy) ethylsilane, 3H, 5H-octamethyltetrasiloxane, 1H, 7H-octamethyltetrasiloxane, chloroethylsilane, 1, 3-diphenyltetrakis (dimethylsiloxy) disilane, 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane, 1,3,5,7-tetraethylcyclotetrasiloxane, pentamethylcyclopentasiloxane, organically modified silicone having hydrosilyl group Etc. are exemplified. Only 1 type may be sufficient as A component used for epoxy resin preparation, and 2 or more types may be sufficient as it. In other words, the A component structural unit contained in the epoxy resin may be only one type or two or more types.
- the component A has a total of two or more hydrogen atoms directly bonded to silicon atoms present in the molecule from the viewpoint that the cured product of the resulting epoxy resin composition tends to have excellent low dielectric properties.
- An organic compound is preferable, and an organic compound having two or more hydrosilyl groups in one molecule is particularly preferable.
- a compound represented by the above formula (2) and the total number of hydrogen atoms is 2, a compound represented by the above formula (3) and the total number of hydrogen atoms is 3, and the above formula (4)
- a compound in which the total number of hydrogen atoms is four, and a compound represented by the above formula (2) and having a total number of hydrogen atoms of two is preferable.
- the component A may be an organic compound in which the total number of hydrogen atoms directly bonded to silicon atoms present in the molecule is one. In this case, it is easy to adjust the viscosity of the epoxy resin composition.
- the component A contains an organic compound in which the total number of hydrogen atoms directly bonded to silicon atoms present in the molecule is 1, the content is low dielectric properties with a cured product of the resulting epoxy resin composition being excellent From the viewpoint of easily having the content, it is preferably 30% by mass or less based on the total mass of the component A. That is, when an organic compound in which the total number of hydrogen atoms directly bonded to silicon atoms present in the molecule is 1 as the component A, the total number of hydrogen atoms directly bonded to silicon atoms present in the molecule is one.
- the total number of hydrogen atoms directly bonded to silicon atoms present in the molecule is 1 in the total amount of component A
- the amount is preferably 20 mol% or less.
- the component B is a compound having a carbon-carbon unsaturated bond and having no epoxy group.
- the carbon-carbon unsaturated bond can react with the hydrosilyl group of the component A (hydrosilylation reaction).
- the B component undergoes a hydrosilylation reaction with the A component, and the carbon-carbon unsaturated bond is converted into a C—C bond or a C ⁇ C bond to become a B component constituent unit.
- the carbon-carbon unsaturated bond is a C ⁇ C bond, it can be converted to a C—C bond or a C ⁇ C bond.
- the carbon-carbon unsaturated bond is a C ⁇ C bond, a C—C bond is obtained.
- the carbon-carbon unsaturated bond examples include a carbon-carbon unsaturated double bond (C ⁇ C bond) and a carbon-carbon unsaturated triple bond (C ⁇ C bond).
- the carbon-carbon unsaturated bond is a carbon-carbon unsaturated double bond from the viewpoint that the cured product of the resulting epoxy resin composition has excellent low dielectric properties and is easily available.
- the component B preferably has a group: —CH ⁇ CH 2 , —CH ⁇ CH (CH 3 ), —C ⁇ CH, or —C ⁇ C—CH 3 .
- R 2 represents an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms, and this group may have a part of carbon atoms substituted with at least one atom selected from the group consisting of an oxygen atom and a nitrogen atom.
- R 3 represents * —COO— or * —OCO— (wherein “*” represents the side bonded to R 2 or L.)
- R 4 represents an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, In this group, a part of carbon atoms may be substituted with at least one atom selected from the group consisting of an oxygen atom and a nitrogen atom
- R 5 represents a methyl group or a hydrogen atom
- L represents a k valence. Each independently represents 0 or 1.
- n represents each independently 0 or 1.
- k represents an integer of 1 to 6.
- R 2 is the plurality of may be each the same group, Oh There are, .R 3 which may be a part or all different groups when there are a plurality, it is possible to make each the same group, or may be different based on part or all.
- R 4 when a plurality of R 4 are present, each may be the same group, or some or all may be different groups.
- Examples of the alkylene group having 1 to 8 carbon atoms (1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, or 8) represented by R 2 include a methylene group, an ethylene group, an n-propylene group, and n-butylene. Groups and the like.
- Examples of the alkylene group having 1 to 4 (1, 2, 3, or 4) carbon atoms represented by R 4 include a methylene group, an ethylene group, an n-propylene group, and an n-butylene group.
- Examples of the k-valent organic group represented by L include linear or branched alkanes, saturated hydrocarbon rings, unsaturated hydrocarbon rings, nitrogen-containing groups in which some carbon atoms may be substituted with oxygen atoms. Heterocycle, ring having a structure in which 2 to 6 saturated hydrocarbon rings and / or unsaturated hydrocarbon rings are condensed, or ring having a structure in which two saturated hydrocarbon rings and / or unsaturated hydrocarbon rings are connected And groups obtained by removing k hydrogen atoms from each.
- the valence k of the organic group L is preferably 2 to 6 (2, 3, 4, 5, or 6), more preferably 2 to 3.
- L represents 0 or 1 independently. When k is 2 or more, l is also 2 or more, but all l can have the same value or different values. Preferably all l take the same value.
- Each m independently represents 0 or 1. When k is 2 or more, m is also 2 or more, but all m can take the same value or different values. Preferably, all m have the same value.
- n independently represents 0 or 1. When k is 2 or more, n is also 2 or more, but all n can take the same value or different values. Preferably all l take the same value.
- the hydrogen atom bonded to the alkane constituting the organic group L or the carbon atom constituting the ring is a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (1, 2, 3, 4, 5, or 6). May be substituted with a linear or branched alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms (1, 2, 3, 4, 5, or 6), a hydroxyl group, or a halogen atom.
- the number of hydrogen atoms that may be substituted may be, for example, 1 to 3, 1 or 2, or 1. In the case where the number of hydrogen atoms to be substituted is 2 or more, two hydrogen atoms bonded to the same carbon atom may be substituted, but one hydrogen atom to be substituted is one per carbon atom. It is preferable that
- the linear or branched alkane constituting the organic group L is preferably a linear or branched alkane having 1 to 30 carbon atoms.
- the carbon number is more preferably 2 to 20, and further preferably 3 to 10.
- alkane butane, 2,2-dimethylpropane, 2,2-dimethylbutane and the like are particularly preferable.
- saturated hydrocarbon ring constituting the organic group L for example, a saturated hydrocarbon ring having 4 to 8 carbon atoms (4, 5, 6, 7, or 8) is preferable, and more specifically, a cyclopentane ring or cyclohexane. Rings and the like are particularly preferred.
- unsaturated hydrocarbon ring which comprises the said organic group L an aromatic hydrocarbon ring and a non-aromatic unsaturated hydrocarbon ring are mentioned.
- aromatic hydrocarbon ring for example, a benzene ring is preferable.
- non-aromatic unsaturated hydrocarbon ring for example, an unsaturated hydrocarbon ring having 4 to 8 carbon atoms (4, 5, 6, 7, or 8) is preferable, and more specifically, a cyclohexene ring or the like is particularly preferable. preferable.
- Preferred examples of the nitrogen-containing heterocycle constituting the organic group L include a triazine ring and a carbazole ring.
- Preferred examples of the triazine ring include 1,2,3-triazine, 1,2,4-triazine, and 1,3,5-triazine, and among these, 1,3,5-triazine is more preferable.
- the ring having a structure in which 2 to 6 saturated hydrocarbon rings and / or unsaturated hydrocarbon rings constituting the organic group L are condensed includes 2 saturated hydrocarbon rings and / or unsaturated hydrocarbon rings, Three or four condensed rings are preferred, and two or three condensed rings are more preferred.
- decahydronaphthalene ring More specifically, for example, decahydronaphthalene ring, adamantane ring, naphthalene ring, phenanthrene ring, anthracene ring, pyrene ring, triphenylene ring, tricyclodecane ring, tetralin ring, 1,2,3,4,5,6 , 7,8-octahydronaphthalene ring, norbornene ring and the like.
- the ring having a structure in which two saturated hydrocarbon rings and / or unsaturated hydrocarbon rings constituting the organic group L are connected is preferably a ring represented by the following formula (9).
- L a ring and L b rings are the same or different and are each a saturated hydrocarbon ring or an unsaturated hydrocarbon ring. That is, the L a ring and the L b ring are both saturated hydrocarbon rings, or both are unsaturated hydrocarbon rings, or one is a saturated hydrocarbon ring and the other is an unsaturated hydrocarbon ring. Among these, it is preferable that both the La ring and the L b ring are saturated hydrocarbon rings, or both are unsaturated hydrocarbon rings.
- L a ring and L b rings are both benzene rings, it is preferred that both cyclohexane rings, or one of which is the other is a cyclohexane ring, benzene ring, and more preferably both are a benzene ring.
- Q is a bond, an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms that may be substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an oxygen atom (—O—), a sulfur atom (— S—), —SO—, or —SO 2 —.
- alkylene group having 1 to 6 carbon atoms include a methylene group, an ethylene group, an n-propylene group, an n-butylene group, and an n-hexylene group.
- alkyl group having 1 to 4 carbon atoms as a substituent examples include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, and an isobutyl group.
- Preferred examples of the alkylene group having 1 to 6 carbon atoms substituted by an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms include —CH (CH 3 ) —, —C (CH 3 ) 2 —, —CH 2 CH (CH 3 ) CH. Examples thereof include 2- , -CH 2 C (CH 3 ) 2 CH 2- and the like.
- Q is preferably a bond, an oxygen atom, a methylene group, a dimethylmethylene group (—C (CH 3 ) 2 —), —S—, —SO 2 —, more preferably a bond, a dimethylmethylene group, An oxygen atom, —SO 2 —.
- B component for example, one carbon in one molecule such as vinylbenzene, vinylnaphthalene (1-vinylnaphthalene, 2-vinylnaphthalene), vinylcyclohexane, vinyl stearate, allylbenzene, allylmethyl carbonate, allylphenyl ether, etc.
- An organic compound having a carbon unsaturated double bond divinylbenzene (o-, m-, or p-divinylbenzene), divinyl adipate, diallyl phthalate, 5-vinyl-2-norbornene, vinylcyclohexene (preferably 4 -Vinyl-1-cyclohexene), polyethylene glycol diacrylate, tricyclodecane dimethanol diacrylate, organic compounds having two carbon-carbon unsaturated double bonds in one molecule, such as 2,2'-diallylbisphenol A; Isocyanuric acid tri Organic compounds having three or more carbon-carbon unsaturated double bonds in one molecule, such as ril, triallyl 1,3,5-benzenetricarboxylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, etc.
- component B examples include allylmethoxymethylsilane, 1,4-bis (dimethylvinylsilyl) benzene, divinylmethylphenylsilane, diallyldiphenylsilane, dicyclopentadiene, ethylidene norbornene, and 9,9-bis.
- examples include [4- (2-acryloyloxyethoxy) phenyl] fluorene, trimethylolpropane diallyl ether, divinyl sulfone, organically modified silicone having a carbon-carbon unsaturated double bond, polyethylene glycol diacrylate, and the like. Only 1 type may be sufficient as B component used for epoxy resin preparation, and 2 or more types may be sufficient as it. In other words, the B component structural unit contained in the epoxy resin may be only one type or two or more types.
- the component B is an organic compound having two or more carbon-carbon unsaturated double bonds in the molecule from the viewpoint that the cured product of the resulting epoxy resin composition tends to have excellent low dielectric properties.
- An organic compound having 2 or 3 carbon-carbon unsaturated double bonds in the molecule is more preferable.
- a compound in which k is 2 or 3 in the above formula (8) is preferable.
- the component B includes divinylbenzene represented by the following formula (10), divinyl adipate represented by the following formula (11), diallyl phthalate represented by the following formula (12), and represented by the following formula (13).
- divinyl-2-norbornene and triallyl isocyanurate represented by the following formula (14) are preferred.
- the component B is also preferably an organic compound having one carbon-carbon unsaturated double bond in the molecule. In this case, it is easy to adjust the viscosity of the epoxy resin composition.
- the B component may contain an organic compound having one carbon-carbon unsaturated double bond in the molecule.
- content of the said organic compound shall be 30 mass% or less with respect to the total mass of B component from a viewpoint that a hardened
- the component B includes an organic compound having one carbon-carbon unsaturated double bond in the molecule, the organic compound having two or more carbon-carbon unsaturated double bonds in the molecule (for example, the above formula (8 ) And a compound in which k represents an integer of 2 to 6).
- the amount of the organic compound having one carbon-carbon unsaturated double bond in the molecule is preferably 20 mol% or less.
- the compound having a carbon-carbon unsaturated bond and an epoxy group as the component C may be any organic compound having a carbon-carbon unsaturated bond and an epoxy group and hydrosilylating with a hydrosilyl (Si—H) group.
- the C component becomes a structural unit formed by a hydrosilylation reaction with the hydrosilyl (Si—H) group of the A component, and the carbon-carbon unsaturated bond is converted into a C ⁇ C bond or a C—C bond.
- the carbon-carbon saturated bond is a C ⁇ C bond
- it is a structural unit formed by conversion to a C—C bond or C ⁇ C bond.
- the carbon-carbon unsaturated bond is a C ⁇ C bond
- the carbon-carbon unsaturated bond examples include a carbon-carbon unsaturated double bond and a carbon-carbon unsaturated triple bond.
- the carbon-carbon unsaturated bond is preferably a carbon-carbon unsaturated double bond from the viewpoint that the cured product easily has excellent low dielectric properties and the raw material is easily available.
- Examples of the compound having a carbon-carbon unsaturated bond (double bond) and an epoxy group, which are component C, include compounds represented by the following formula (15).
- R 6A is an alkenyl group or alkynyl group having 2 to 18 carbon atoms, and this group is at least one selected from the group consisting of an oxygen atom and a nitrogen atom.
- R 7 represents an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 9 carbon atoms, a cycloalkyl group, an aryl group or an aralkyl group, and these groups are partially
- the carbon atom may be substituted with at least one atom selected from the group consisting of an oxygen atom and a nitrogen atom, o represents an integer of 0 to 6, and p represents an integer of 0 to 3.
- 2 to 18 carbon atoms represented by R 6A 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, or
- the alkenyl group of 18 is a linear or branched alkenyl group, and is preferably linear. Specific examples include a vinyl group, an allyl group, a propenyl group, a butenyl group, a pentenyl group, a hexenyl group, a heptenyl group, an octenyl group, a norbornenyl group, and a cyclohexenyl group.
- alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms is preferred, an alkenyl group having 2 to 8 carbon atoms is more preferred, an alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms is more preferred, and a vinyl group, allyl group or It is a butenyl group.
- the alkenyl group is preferably an ⁇ -alkenyl group (that is, an alkenyl group in which the terminal carbon atom and the adjacent carbon atom form a double bond).
- 2 to 18 carbon atoms represented by R 6A (2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, or
- the alkynyl group of 18 is a linear or branched alkynyl group, and is preferably linear.
- an ethynyl group, a propargyl group, etc. are mentioned, for example.
- An alkynyl group having 2 to 10 carbon atoms is preferable, an alkynyl group having 2 to 8 carbon atoms is more preferable, an alkynyl group having 2 to 6 carbon atoms is more preferable, and an ethynyl group, a propargyl group, and the like are particularly preferable.
- the alkynyl group is preferably an ⁇ -alkynyl group (that is, an alkynyl group in which the terminal carbon atom and the adjacent carbon atom form a triple bond).
- some carbon atoms may be substituted with at least one atom (preferably an oxygen atom) selected from the group consisting of an oxygen atom and a nitrogen atom.
- the some carbon atoms are preferably carbon atoms not directly bonded to the epoxy ring.
- the part of carbon atoms that may be substituted may be 1 or a plurality of (for example, 2, 3, 4, 5, or 6) carbon atoms, and preferably one carbon atom.
- an alkenyl group having 2 to 18 carbon atoms in which some carbon atoms are substituted with at least one atom (preferably an oxygen atom) selected from the group consisting of an oxygen atom and a nitrogen atom.
- the group may include, for example, 2 to 9 alkenyl-O-carbon having 1 to 8 alkylene, preferably 2 to 4 alkenyl-O, 1 to 3 alkylene, more preferably carbon.
- Examples thereof include 2 to 4 alkenyl-O-alkylene having 1 to 2 carbon atoms, particularly preferably 3 alkenyl-O—CH 2 —.
- it is an alkynyl group having 2 to 18 carbon atoms, and some of the carbon atoms may be substituted with at least one atom (preferably an oxygen atom) selected from the group consisting of an oxygen atom and a nitrogen atom.
- Examples of the group include, for example, 2 to 9 alkynyl-O-carbon having 1 to 8 alkylene, preferably 2 to 4 alkynyl-O, 1 to 3 alkylene, more preferably 2 to 4 carbon.
- Alkynyl-O—C 1-2 alkylene, particularly preferably alkynyl O—CH 2 — is used. More specifically, for example, CH ⁇ C—O—CH 2 —, CH ⁇ C—CH 2 —O—CH 2 —, CH ⁇ C—CH 2 —O— (CH 2 ) 2 —, CH ⁇ C — (CH 2 ) 3 —O— (CH 2 ) 4 — and the like can be mentioned, and among these, CH ⁇ C—CH 2 —O—CH 2 — is preferable.
- R 7 is the same or different and represents an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 9 carbon atoms, a cycloalkyl group, an aryl group, or an aralkyl group.
- Part of the carbon atoms may be substituted with at least one atom selected from the group consisting of an oxygen atom and a nitrogen atom.
- the partial carbon atom is preferably a carbon atom that is not directly bonded to a 3- to 8-membered ring or an epoxy ring.
- the part of carbon atoms which may be substituted may be 1 or a plurality of (for example, 2, 3, 4, 5, or 6) carbon atoms, and preferably one carbon atom.
- Alkyl group R 7 having 1 to 18 carbon atoms represented by, a cycloalkyl group, each aryl group and aralkyl group, the same as the corresponding groups represented by R 1 can be mentioned.
- the alkenyl group having 2 to 9 carbon atoms represented by R 7 is a linear or branched alkenyl group such as a vinyl group, an allyl group, a 2-propenyl group, a butenyl group, a pentenyl group, a hexenyl group, A heptenyl group, an octenyl group, a nonenyl group, etc. are mentioned.
- An alkenyl group having 2 to 4 carbon atoms is preferred.
- R 7 is preferably an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and more preferably a methyl group or an ethyl group.
- Preferred o is 0 to 4 (0, 1, 2, 3, or 4), more preferably 0 or 4.
- Preferred p is 0 or 1, more preferably 0.
- the compound represented by the formula (15) is a compound represented by the following formula (15 ′).
- the component C includes a compound in which o is 0 (that is, a compound represented by the formula (15 ′))
- the component B is an organic group according to the formula (8) from the viewpoint that the reaction proceeds easily.
- L is a linear or branched alkane, aromatic hydrocarbon ring, non-aromatic unsaturated hydrocarbon ring, nitrogen-containing heterocycle, saturated carbonization, in which some carbon atoms may be substituted with oxygen atoms
- It is preferably composed of a ring in which 2 to 6 hydrogen rings and / or unsaturated hydrocarbon rings are condensed, or a ring in which two saturated hydrocarbon rings and / or unsaturated hydrocarbon rings are connected. More preferably, it is composed of a hydrogen ring, a non-aromatic unsaturated hydrocarbon ring, a nitrogen-containing heterocycle, or a ring in which 2 to 6 saturated hydrocarbon rings and / or unsaturated hydrocarbon rings are condensed.
- the component B is an organic group L according to the formula (8) in which some carbon atoms are oxygen atoms. It is composed of a linear or branched alkane, an aromatic hydrocarbon ring, a nitrogen-containing heterocycle, or a ring in which two saturated hydrocarbon rings and / or unsaturated hydrocarbon rings are connected. It is preferable that it is composed of an aromatic hydrocarbon ring or a nitrogen-containing heterocyclic ring.
- component C examples include, for example, 1,3-butadiene monoepoxide represented by the following formula (16), 1,2-epoxy-5-hexene represented by the following formula (17), and represented by the following formula (18).
- component C examples include glycidyl methacrylate, 1-allyl-3,5-diglycidyl isocyanurate, 4-hydroxybutyl acrylate glycidyl ether, and the like.
- C component may be only 1 type and may contain 2 or more types.
- the epoxy resin (hydrosilylated epoxy resin) of the present invention can be obtained, for example, by subjecting the A component, the B component and the C component to a hydrosilylation reaction. More precisely, the hydrosilylated epoxy resin has a structure derived from each of the A component, the B component, and the C component as a skeleton (that is, has an A component constitutional unit, a B component constitutional unit, and a C component constitutional unit). It is an epoxy resin.
- the component A constituent unit and the component B constituent unit are alternately bonded one or more times (for example, 1 to 20 times on average), and each terminal portion of the alternate bond has a component C constituent unit.
- Is an epoxy resin having a structure in which More specifically, for example, the component A is a divalent compound (for example, a compound represented by the formula (2)), and the component B is a divalent compound (for example, a compound in which k 2 in the formula (8)).
- the component C is a compound represented by the formula (15)
- the epoxy resin represented by the formula (23) can be produced by the following reaction formula.
- R 6 represents an alkylene group having 2 to 18 carbon atoms or an alkenylene group having 2 to 18 carbon atoms, in which some carbon atoms except for a carbon atom directly bonded to a silicon atom are oxygen atoms
- L 2 may be substituted with at least one atom selected from the group consisting of an atom and a nitrogen atom, L 2 is a linear or branched alkane in which some carbon atoms may be substituted with oxygen atoms
- a divalent group obtained by removing two hydrogen atoms from a ring, q is an average value and represents a positive number greater than 0 and not greater than 20.
- R 6 represents an alkylene group having 2 to 18 carbon atoms or an alkenylene group having 2 to 18 carbon atoms.
- the alkylene group is a linear or branched alkylene group, preferably a linear alkylene group.
- dimethylene —CH 2 CH 2 —
- trimethylene —CH 2 CH 2 CH 2 —
- tetramethylene penta
- Examples include a methylene group, a hexamethylene group, a heptamethylene group, an octamethylene group, a nonamethylene group, a decamethylene group, an undecamethylene group, a dodecamethylene group, and a tridecamethylene group.
- An alkylene group having 2 to 10 carbon atoms is preferable, an alkylene group having 2 to 8 carbon atoms is more preferable, an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms is further preferable, and an alkylene group having 2 to 5 carbon atoms is particularly preferable.
- the alkenylene group is a linear or branched alkenylene group, preferably a linear alkenylene group.
- alkenylene group having 2 to 10 carbon atoms is preferred, more preferred is an alkenylene group having 2 to 8 carbon atoms, still more preferred is an alkenylene group having 2 to 6 carbon atoms, and particularly preferred is an alkenylene group having 2 to 5 carbon atoms. Alkenylene group.
- the alkylene group having 2 to 18 carbon atoms or the alkenylene group having 2 to 18 carbon atoms as R 6 has at least one atom selected from the group consisting of an oxygen atom and a nitrogen atom. It may be preferably substituted with an oxygen atom).
- the partial carbon atom is preferably a carbon atom that is not directly bonded to any of a silicon atom and a 3- to 8-membered ring or an epoxy ring.
- the part of carbon atoms which may be substituted may be 1 or a plurality of (for example, 2, 3, 4, 5, or 6) carbon atoms, and preferably one carbon atom.
- the group includes, for example, (*)-alkylene having 2 to 9 carbon atoms-O-carbon having 1 to 8 carbon atoms when (*) is the side bonded to the silicon atom of R 6 .
- Alkylene- preferably (*)-alkylene having 2 to 4 carbon atoms-O-alkylene having 1 to 3 carbon atoms, more preferably (*)-alkylene having 2 to 4 carbon atoms-O-1-2 carbon atoms.
- (*)-alkenylene having 2 to 9 carbon atoms-O-alkylene having 1 to 8 carbon atoms preferably (*)-alkenylene having 2 to 4 carbon atoms-O-alkylene having 1 to 3 carbon atoms- More preferable is (*)-alkenylene having 2 to 4 carbon atoms-O-alkylene having 1 to 2 carbon atoms, and particularly preferably (*)-alkenylene having 3 carbon atoms-O-methylene-.
- the amount of component A, component B and component C used is, for example, a carbon-carbon unsaturated bond (however, an aromatic ring per component B) per mole of hydrosilyl (Si—H) group in component A. (Excluding the carbon-carbon unsaturated bond) can be 0.05 to 0.95 mol, preferably 0.1 to 0.9 mol, more preferably 0.2 to 0.8 mol.
- the component C contains 0.05 to 0.001 carbon-carbon unsaturated bond (excluding carbon-carbon unsaturated bonds in the aromatic ring) per mole of hydrosilyl (Si—H) group in the component A.
- the amount can be 95 mol, preferably 0.1 to 0.9 mol, more preferably 0.2 to 0.8 mol.
- the number of hydrogen atoms bonded to a silicon atom is counted as the number of hydrosilyl (Si—H) groups.
- the number of hydrosilyl (Si—H) groups is counted as two.
- q represents a positive number greater than 0 and 20 or less as an average value, as described above, preferably a positive number of 0.1 to 15 as an average value, and more preferably a positive number as an average value of 0.2 to 10. Show.
- the hydrosilylation reaction can be carried out by a known method.
- the hydrosilylation reaction can be carried out in the presence of a catalyst, in the presence or absence of a solvent.
- the A component, the B component, and the C component may be reacted simultaneously. Further, after reacting the A component and the B component, the reactant and the C component may be reacted. After reacting the A component and the C component, the reactant and the B component are reacted. May be. From the viewpoint of easy manufacturing and easy reaction control, it is preferable to react the A component and the B component and then react the reaction product with the C component.
- Catalysts include platinum carbon, chloroplatinic acid, platinum olefin complexes, platinum alkenylsiloxane complexes, platinum carbonyl complexes and other platinum catalysts; tris (triphenylphosphine) rhodium and other rhodium catalysts; bis (cycloocta Examples thereof include iridium catalysts such as (dienyl) dichloroiridium.
- the catalyst may be in the form of a solvate (eg, hydrate, alcohol solvate, etc.), or in the form of a solution dissolved in an alcohol such as ethanol.
- the amount of catalyst used may be an effective amount as a catalyst, that is, an amount capable of exhibiting the function of the catalyst.
- the catalyst is used in an amount of 0.00001 to 20 parts by weight, preferably 0.0005 to 5 parts by weight, per 100 parts by weight of component A.
- the hydrosilylation reaction does not need to use a solvent, but by using a solvent, the hydrosilylation reaction can be performed under milder conditions.
- the solvent include aromatic hydrocarbon solvents such as toluene and xylene; aliphatic hydrocarbon solvents such as hexane and octane; ether solvents such as tetrahydrofuran and dioxane; alcohol solvents such as ethanol and isopropanol. . These solvents may be used alone or in combination of two or more.
- the temperature of the hydrosilylation reaction is, for example, 0 ° C. to 150 ° C., preferably 10 ° C. to 120 ° C.
- the reaction time of the hydrosilylation reaction is, for example, 5 minutes to 24 hours.
- the A component reacts with the B component and the C component to produce a hydrosilylated epoxy resin.
- the weight average molecular weight of the hydrosilylated epoxy resin is preferably from 500 to 100,000, more preferably from 1,000 to 50,000, and even more preferably from 1,000 to 30,000.
- the weight average molecular weight of the hydrosilylated epoxy resin is 500 or more, a low dielectric property more excellent when it is made into a cured product is easily exhibited.
- the weight average molecular weight of the hydrosilylated epoxy resin is 500 or more, it is possible to suppress deterioration of solder heat resistance (heat resistant blistering property) due to the low molecular weight epoxy resin.
- a weight average molecular weight of the hydrosilylated epoxy resin is 100,000 or less, the solubility of the hydrosilylated epoxy resin in a solvent and the low dielectric properties when cured are hardly impaired.
- a weight average molecular weight here says the weight average molecular weight measured in polystyrene conversion by GPC measurement.
- Epoxy resin composition An epoxy resin composition containing these can be prepared in combination with the hydrosilylated epoxy resin of the present invention and other components.
- examples of other components include epoxy resins other than hydrosilylated epoxy resins, curing catalysts, curing agents, additives, and the like.
- the present invention also includes the epoxy resin composition.
- the epoxy resin composition may include the hydrosilylated epoxy resin of the present invention and an epoxy resin other than the hydrosilylated epoxy resin.
- the hydrosilylated epoxy resin may be referred to as “first epoxy resin”
- the epoxy resin other than the hydrosilylated epoxy resin may be referred to as “second epoxy resin”.
- Examples of the second epoxy resin include bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, alicyclic epoxy resin, brominated epoxy resin, triglycidyl isocyanurate, Examples thereof include hydrogenated bisphenol A type epoxy resins, aliphatic epoxy resins, glycidyl ether type epoxy resins, bisphenol S type epoxy resins, biphenyl type epoxy resins, dicyclo type epoxy resins, and naphthalene type epoxy resins.
- the second epoxy resin may be only one type, or two or more types may be combined.
- the blending ratio of both is, for example, the first epoxy resin and the second epoxy as long as the effects of the present invention are not impaired.
- the content ratio of the second epoxy resin can be 99% by mass or less with respect to the total mass of the resin.
- the content ratio of the second epoxy resin is preferably 80 to 1% by mass, more preferably 50 to 1% by mass, and further preferably 30 to 1% by mass.
- the epoxy resin composition may contain the epoxy resin of the present invention and a curing catalyst and / or a curing agent as other components.
- the curing reaction rate for obtaining a cured product of the epoxy resin composition can be increased, and the strength of the resulting cured product can be increased.
- the curing catalyst examples include imidazole compounds, phosphorus compounds, and cationic curing catalysts from the viewpoint of improving the electrical characteristics of the cured product of the epoxy resin composition.
- Specific examples of the curing catalyst include imidazole compounds such as imidazole, 2-methylimidazole, 2-ethylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole; dicyandiamide and derivatives thereof; 1,8-diazabicyclo (5 , 4,0) -undecene-7,1,5-diazabicyclo (4,3,0) -nonene-5, 2,4,6-tris (dimethylaminomethyl) phenol, tertiary amines such as dimethylaminopyridine
- Phosphorus compounds such as triphenylphosphine, tetraphenylphosphonium bromide, tetraphenylphosphonium tetra-p-tolylborate, t
- the amount of the curing catalyst is, for example, 0.01 to 10 parts by weight, more preferably 0.1 to 5 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total epoxy resin. More preferably, it is 5 to 3 parts by mass.
- the total epoxy resin refers to the first epoxy resin and the second epoxy resin, and the same applies to the following.
- the curing agent is preferably one that can react with an epoxy resin to obtain a cured product of the epoxy resin composition.
- an amine curing agent an amide curing agent, an acid anhydride curing agent, a phenol curing agent, an active ester curing agent, a cyanate ester curing agent, a mercaptan curing agent, an isocyanate curing agent, etc.
- a curing agent an amine curing agent, an amide curing agent, an acid anhydride curing agent, a phenol curing agent, an active ester curing agent, a cyanate ester curing agent, a mercaptan curing agent, an isocyanate curing agent, etc. Can be mentioned.
- amine curing agents include chain aliphatic amines such as ethylenediamine, diethylenetriamine, triethylenetetramine, and tetraethylenepentamine; isophoronediamine, mensendiamine, bis (4-aminocyclohexyl) methane, and bis (aminomethyl).
- Alicyclic amines such as cyclohexane and diaminodicyclohexylmethane; aromatic amines such as metaphenylenediamine, diaminodiphenylmethane, diethyltoluenediamine and diaminodiethyldiphenylmethane; benzyldimethylamine, triethylenediamine, piperidine, 2- (dimethylaminomethyl) phenol Secondary and tertiary amines such as 2,4,6-tris (dimethylaminomethyl) phenol, 1,8-diazabicyclo (5,4,0) -undecene-7, etc. It is below.
- amide-based curing agent examples include dicyandiamide and derivatives thereof, polyamide resin (polyaminoamide and the like), and the like.
- the acid anhydride-based curing agent examples include aliphatic acid anhydrides such as maleic anhydride and dodecenyl succinic anhydride; aromatic acid anhydrides such as phthalic anhydride, trimellitic anhydride and pyromellitic anhydride; methyl anhydride Examples thereof include alicyclic acid anhydrides such as nadic acid, tetrahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, and 4-methylhexahydrophthalic anhydride.
- phenolic curing agent examples include phenol novolak resin, cresol novolak resin, biphenyl type novolak resin, triphenylmethane type phenol resin, naphthol novolak resin, phenol biphenylene resin, phenol aralkyl resin, biphenyl aralkyl type phenol resin, modified polyphenylene ether.
- phenol novolak resin cresol novolak resin
- biphenyl type novolak resin triphenylmethane type phenol resin
- naphthol novolak resin phenol biphenylene resin
- phenol aralkyl resin phenol aralkyl resin
- biphenyl aralkyl type phenol resin modified polyphenylene ether.
- modified polyphenylene ether examples include resins and compounds having a benzoxazine ring.
- the active ester curing agent is, for example, a compound having at least one ester group that reacts with an epoxy resin in one molecule, and specifically includes phenol ester, thiophenol ester, N-hydroxyamine ester, and heterocyclic ring. Examples include hydroxy compound esters.
- cyanate ester-based curing agent examples include novolak type cyanate resin, bisphenol A type cyanate resin, bisphenol E type cyanate resin, and bisphenol type cyanate resin such as tetramethylbisphenol F type cyanate resin.
- Examples of mercaptan curing agents include trimethylolpropane tris (3-mercaptopropionate), tris-[(3-mercaptopropionyloxy) -ethyl] -isocyanurate, pentaerythritol tetrakis (3-mercaptopropionate). , Tetraethylene glycol bis (3-mercaptopropionate), pentaerythritol tetrakis (3-mercaptobutyrate), 1,4-bis (3-mercaptobutyryloxy) butane, trimethylolpropane tris (3-mercaptobutyrate) ), Trimethylolethane tris (3-mercaptobutyrate), polysulfide polymer and the like.
- isocyanate curing agent examples include hexamethylene diisocyanate, 1,4-tetramethylene diisocyanate, 2-methylpentane-1,5-diisocyanate, lysine diisocyanate, isophorone diisocyanate, and norbornane diisocyanate.
- the curing agent may be used alone or in combination of two or more.
- the curing agent it is preferable to include any one or more of an acid anhydride curing agent, a phenol curing agent, an active ester curing agent and an amine curing agent. Is easy to improve.
- the amount of the curing agent contained in the epoxy resin composition of the present invention is, for example, from 0.1 to 5 reactive functional groups in the curing agent with respect to 1 equivalent of epoxy group in the epoxy resin composition of the present invention. Equivalent to 0.3 to 3 equivalents, more preferably 0.5 to 2 equivalents.
- the epoxy resin composition of the present invention may contain other additives.
- the additive include a thermoplastic resin and a filler.
- thermoplastic resin examples include polyolefin resins, acrylic resins, phenoxy resins, polyamide resins, polyester resins, polycarbonate resins, polyurethane resins, polyarylate resins, polyphenylene ether resins, polyacetal resins, and resins in which these are acid-modified. It is done. From the viewpoint of compatibility with the epoxy resin composition according to the present invention and heat resistance, polyolefin resins, acrylic resins, phenoxy resins, polyarylate resins, polyphenylene ether resins, and resins in which these are acid-modified are preferred.
- Examples of the filler include silica (more specifically, crystalline silica, fused silica, spherical fused silica, etc.), titanium oxide, zirconium oxide, zinc oxide, tin oxide, silicon nitride, silicon carbide, boron nitride, calcium carbonate, Examples include inorganic compounds such as calcium silicate, potassium titanate, aluminum nitride, indium oxide, alumina, antimony oxide, cerium oxide, magnesium oxide, iron oxide, and tin-doped indium oxide (ITO). Moreover, metals, such as gold
- filler examples include minerals such as montmorillonite, talc, mica, boehmite, kaolin, smectite, zonolite, verculite, and sericite.
- Other fillers include carbon compounds such as carbon black, acetylene black, ketjen black and carbon nanotubes; metal hydroxides such as aluminum hydroxide and magnesium hydroxide; various glasses such as glass beads, glass flakes and glass balloons Can be mentioned.
- the filler may be a powder or may be dispersed in a resin.
- the filler is singly or plural in consideration of the properties such as fluidity, heat resistance, low thermal expansion, mechanical properties, hardness, scratch resistance and adhesion required for the epoxy resin composition or its cured product.
- a combination of species can be used.
- additives include, for example, antioxidants, inorganic phosphors, lubricants, ultraviolet absorbers, heat-light stabilizers, antistatic agents, polymerization inhibitors, antifoaming agents, solvents, anti-aging agents, radical inhibitors, adhesives Property improver, flame retardant, surfactant, storage stability improver, ozone anti-aging agent, thickener, plasticizer, radiation blocker, nucleating agent, coupling agent, conductivity imparting agent, phosphorus peroxide Decomposition agents, pigments, metal deactivators, physical property modifiers, and the like may be included in the epoxy resin composition.
- the epoxy resin composition of the present invention can be produced, for example, by a method including a step of mixing a hydrosilylated epoxy resin (first epoxy resin) with a curing catalyst and / or a curing agent.
- a hydrosilylated epoxy resin first epoxy resin
- other additives such as a second epoxy resin and a filler can be blended as necessary.
- the hydrosilylated epoxy resin and the curing catalyst and / or curing agent can be mixed while warming.
- the method of mixing the hydrosilylated epoxy resin with the curing catalyst and / or the curing agent can be performed using, for example, a commercially available mixer.
- a cured product can be obtained by curing the epoxy resin composition of the present invention.
- a cured product of the epoxy resin composition can be obtained by heating the epoxy resin composition.
- the curing temperature is, for example, room temperature (for example, 20 ° C.) to 250 ° C.
- the curing time can be appropriately adjusted according to the components, concentration and blending ratio of the epoxy resin composition, and can be set, for example, from 10 minutes to 1 week.
- the cured product may be obtained by dividing the heating into several stages, such as heating at a predetermined temperature and then further increasing the temperature and heating for a predetermined time.
- the cured product thus obtained has excellent electrical characteristics, for example, excellent low dielectric constant and low dielectric loss tangent. Furthermore, the said hardened
- the cured product of the epoxy resin composition of the present invention includes only an epoxy resin and a curing catalyst and / or a curing agent (that is, epoxy resin + curing catalyst, epoxy resin + curing agent, or epoxy resin + curing catalyst + curing agent).
- the relative dielectric constant (1 GHz) of the cured product is preferably about 2.5 to 3.0, more preferably about 2.5 to 2.8.
- the cured product of the epoxy resin composition of the present invention preferably has a dielectric loss tangent (1 GHz) of about 0.001 to 0.009, about 0.002 to 0.008, or 0.002 to 0.007. More preferably, it is about. Those satisfying both of these conditions are more preferable.
- the epoxy resin of the present invention preferably has a cured product satisfying the above-mentioned relative dielectric constant (1 GHz) and / or dielectric loss tangent (1 GHz).
- the relative dielectric constant (1 GHz) and the dielectric loss tangent (1 GHz) are measured by a parallel plate capacitor method. The measurement by the parallel plate capacitor method can be performed using, for example, a known dielectric constant measuring apparatus.
- the epoxy resin composition of the present invention can be suitably used for a wide range of applications such as semiconductor sealing materials, liquid sealing materials, potting materials, sealing materials, printed circuit board materials, and composite materials.
- the epoxy resin composition of the present invention can be suitably used in order to enhance electrical properties and metal adhesion.
- the cured product of the epoxy resin composition of the present invention can be applied as a component (constituent member) such as a semiconductor sealing material, a liquid sealing material, a potting material, a sealing material, a printed board material, and a composite material.
- a component such as a semiconductor sealing material, a liquid sealing material, a potting material, a sealing material, a printed board material, and a composite material.
- a component is the following A-1 or A-2
- the B component is the following B-1, B-2, B-3 or B-4
- the C component is the following C- 1 or C-2 was prepared.
- A-1 1,4-bis (dimethylsilyl) benzene (manufactured by Gelest)
- A-2 Bis [(p-dimethylsilyl) phenyl] ether (Gelest)
- B-1 Divinylbenzene (manufactured by Nippon Steel & Sumikin Chemical Co., Ltd.)
- B-2 Diallyl phthalate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
- B-3 Triallyl isocyanurate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
- B-4 5-vinyl-2-norbornene (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
- C-1 4-Vinyl-1,2-epoxycyclohexane (manufactured by Tokyo Chemical
- An epoxy resin was prepared as follows. As shown in Table 1, A-1 was used as the A component, B-2 was used as the B component, and C-1 was used as the C component. The components A and B were dissolved in 20 mL of toluene in the amounts shown in Table 1, and a 100 mL four-necked flask equipped with a stirrer, a condenser, a thermometer and a dropping funnel was added. Next, 20 mg of platinum catalyst (manufactured by N.E. Chemcat, Pt-VTS-IPA solution) was added at 25 ° C., and the mixture was stirred at 40 ° C. for 2 hours.
- platinum catalyst manufactured by N.E. Chemcat, Pt-VTS-IPA solution
- the thus obtained epoxy resin 1 was dissolved in tetrahydrofuran, and the weight average molecular weight in terms of polystyrene was measured by GPC.
- the results are shown in Table 1.
- the A component, B component, and C component of the types and amounts shown in Table 1 were reacted in the same manner as in Production Example 1.
- the components of the reaction solution were analyzed by high performance liquid chromatography (HPLC), and the completion of the reaction was confirmed by confirming the disappearance of the component A. Thereafter, toluene was removed by distillation, and the reaction solution was concentrated to obtain epoxy resins 2 to 10 (Table 1).
- the obtained epoxy resins 2 to 10 were all slightly yellow transparent liquids. Moreover, it carried out similarly to manufacture example 1, and measured the weight average molecular weight of each epoxy resin. The results are shown in Table 1.
- Example 1 The ratio (mass ratio) of the epoxy resin 1 obtained in Production Example 1 and the cationic curing catalyst (manufactured by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd., Sun-Aid SI-100L; sometimes referred to as curing catalyst A) are shown in Table 2. The mixture was weighed into a cup and stirred uniformly while heating to 30 ° C. to prepare an epoxy resin composition.
- the cationic curing catalyst manufactured by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd., Sun-Aid SI-100L; sometimes referred to as curing catalyst A
- Example 2 An epoxy resin composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the epoxy resin 1 was changed to the epoxy resin 3 obtained in Production Example 3 and the ratio (mass ratio) shown in Table 2 was changed.
- Example 3 An epoxy resin composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the epoxy resin 1 was changed to the epoxy resin 5 obtained in Production Example 5 and the ratio (mass ratio) shown in Table 2 was changed.
- Example 4 Epoxy resin 1 obtained in Production Example 1, curing catalyst 2-ethyl-4-methylimidazole (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, EMI24; sometimes referred to as curing catalyst B), and acid anhydride curing agent (New Nippon Rika) MH-700; sometimes referred to as curing agent A) was weighed into a cup at the ratio (mass ratio) shown in Table 2 and stirred uniformly while heating to 30 ° C. A resin composition was prepared.
- Example 5 An epoxy resin composition was prepared in the same manner as in Example 4 except that the epoxy resin 1 was changed to the epoxy resin 2 obtained in Production Example 2 and the ratio (mass ratio) shown in Table 2 was changed.
- Example 6 An epoxy resin composition was prepared in the same manner as in Example 4 except that the epoxy resin 1 was changed to the epoxy resin 3 obtained in Production Example 3 and the ratio (mass ratio) shown in Table 2 was changed.
- Example 7 An epoxy resin composition was prepared in the same manner as in Example 4 except that the epoxy resin 1 was changed to the epoxy resin 4 obtained in Production Example 4 and the ratio (mass ratio) shown in Table 2 was changed.
- Example 8 An epoxy resin composition was prepared in the same manner as in Example 4 except that the epoxy resin 1 was changed to the epoxy resin 5 obtained in Production Example 5 and the ratio (mass ratio) shown in Table 2 was changed.
- Example 9 An epoxy resin composition was prepared in the same manner as in Example 4 except that the epoxy resin 1 was changed to the epoxy resin 6 obtained in Production Example 6 and the ratio (mass ratio) shown in Table 2 was changed.
- Example 10 An epoxy resin composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the epoxy resin 1 was changed to the epoxy resin 7 obtained in Production Example 7 and the ratio (mass ratio) shown in Table 2 was changed.
- Example 11 An epoxy resin composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the epoxy resin 1 was changed to the epoxy resin 8 obtained in Production Example 8 and the ratio (mass ratio) shown in Table 2 was changed.
- Example 12 An epoxy resin composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the epoxy resin 1 was changed to the epoxy resin 9 obtained in Production Example 9 and the ratio (mass ratio) shown in Table 2 was changed.
- Example 13 An epoxy resin composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the epoxy resin 1 was changed to the epoxy resin 10 obtained in Production Example 10 and the ratio (mass ratio) shown in Table 2 was changed.
- Epoxy resin 5 obtained in Production Example 5 triphenylphosphine as a curing catalyst (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd .; sometimes referred to as curing catalyst C), and phenol resin-based curing agent ([phenol novolak resin (DIC) TD-2131)]; sometimes referred to as curing agent B) at a ratio (mass ratio) shown in Table 2 and weighed into a cup, and stirred uniformly while heating to 30 ° C.
- An epoxy resin composition was prepared.
- Epoxy resin 5 obtained in Production Example 5 4-dimethylaminopyridine (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd .: sometimes referred to as curing catalyst D) and an active ester curing agent (active ester resin, DIC) EPICLON HPC-8000-65T (sometimes referred to as “Curing agent C”) was weighed into a cup at the ratio (mass ratio) shown in Table 2 and stirred while heating to 30 ° C. to uniformly mix.
- An epoxy resin composition was prepared.
- Example 1 (Comparative Example 1) In Example 1, the epoxy resin 1 was changed to a Bis-A type epoxy resin (JER828 manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd .; sometimes expressed as an epoxy resin 11) and changed to the ratio (mass ratio) shown in Table 3. Except for the above, an epoxy resin composition was prepared in the same manner as in Example 1.
- a Bis-A type epoxy resin JER828 manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd .; sometimes expressed as an epoxy resin 11
- Example 2 In Example 4, the epoxy resin composition was prepared in the same manner as in Example 4 except that the epoxy resin 1 was changed to the epoxy resin 11 and the ratio (mass ratio) shown in Table 3 was changed.
- Example 3 (Comparative Example 3)
- the epoxy resin 1 was changed to 1,4-bis ⁇ [2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyl] dimethylsilyl ⁇ benzene (may be referred to as the epoxy resin 12).
- An epoxy resin composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the ratio (mass ratio) was changed.
- the epoxy resin composition prepared in each Example and Comparative Example was applied to an aluminum plate, and a 35 ⁇ m thick electrolytic copper foil (Furukawa Electric Co., Ltd.) was laminated thereon to form a laminate.
- the laminated body was heated at 100 ° C. for 1 hour, then at 120 ° C. for 2 hours, and then at 150 ° C. for 2 hours to form a cured product of the epoxy resin composition. After curing, a cut was made with a cutter so that the width was 1 cm, and this was used as a 90-degree peel strength test piece.
- the obtained test piece was subjected to a 90 degree peel strength test using AGS-X (manufactured by Shimadzu Corporation) at a test speed of 50 mm / min.
- the epoxy resin composition prepared in each example and comparative example was poured into a resin mold (thickness 1 mm) and heated at 100 ° C. for 1 hour, then at 120 ° C. for 2 hours, and then at 150 ° C. for 2 hours. A cured product of the resin composition was formed. Then, it cut out into the size of width 20mm * length 30mm * thickness 1mm, and this was made into the test piece for dielectric constant measurement.
- the epoxy resin composition prepared in each Example and Comparative Example was applied to an electrolytic copper foil (made by Furukawa Electric Co., Ltd.) having a thickness of 35 ⁇ m, and the electrolytic copper foil was stacked thereon to form a laminate.
- the laminated body was heated at 100 ° C. for 1 hour, then at 120 ° C. for 2 hours, and then at 150 ° C. for 2 hours to form a cured product of the epoxy resin composition. After curing, it was cut with a cutter so as to have a width of 1 cm, and this was used as a heat-resistant blister test piece.
- FIG. 1 shows an example of a test piece with blisters.
- Table 1 shows the blending amounts of the components used in each production example and the weight average molecular weight of the obtained epoxy resin.
- “Mol” in parentheses in Table 1 represents the number of moles of the hydrosilyl group of the A component, the carbon-carbon unsaturated bond group of the B component, or the functional group of the unsaturated bond group of the C component.
- Tables 2 and 3 show the results of 90 degree peel strength and electrical characteristics (relative dielectric constant and dielectric loss tangent) and solder heat resistance against copper foil. From these results, a hydrosilylated epoxy resin obtained by a hydrosilylation reaction of the A component, the B component and the C component (that is, a hydrosilylated epoxy resin having the A component, the B component and the C component as structural units), and a curing catalyst It can be seen that the epoxy resin composition containing the above can form a cured product having excellent low dielectric properties and excellent adhesion to metals.
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Abstract
低誘電特性に優れ、かつ、金属に対する接着性にも優れる硬化物を形成することができるエポキシ樹脂、エポキシ樹脂組成物、並びに、その硬化物、用途及び製造方法が提供される。当該エポキシ樹脂は、(A)ヒドロシリル基を有する有機化合物由来の、ヒドロシリル基の水素原子が除されて形成される構成単位と、(B)エポキシ基を含有しない炭素-炭素不飽和結合を有する化合物由来の、炭素-炭素不飽和結合がC=C結合又はC-C結合に変換されて形成される構成単位と、(C)炭素-炭素不飽和結合及びエポキシ基を有する化合物由来の、炭素-炭素不飽和結合がC=C結合又はC-C結合に変換されて形成される構成単位とを有する。
Description
本発明は、エポキシ樹脂、エポキシ樹脂組成物、並びに、その硬化物、用途及び製造方法に関する。
近年、電子デバイスの高性能化及び軽薄短小化に伴い、伝送信号の高周波化が進んでいる。高周波化に伴い、プリント配線板及び半導体封止材に使用する材料に対して、高周波領域での低誘電化が強く求められている。当該分野においては、エポキシ樹脂などの熱硬化性樹脂が基板材料や封止材として広く用いられている。
このため、低誘電特性を有するエポキシ樹脂及び当該樹脂を含む組成物を得ることを目的として、開発が行われてきている。例えば、特許文献1及び2にはジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂及び当該樹脂を有する組成物が開示されている。また、特許文献3にはエポキシ樹脂、活性エステル化合物、及びトリアジン含有クレゾールノボラック樹脂を含有することを特徴とするエポキシ樹脂組成物が開示されている。しかし、これらの低誘導特性は十分とはいえない。
本発明は、低誘電特性に優れ、かつ、金属に対する接着性にも優れる硬化物を、形成することができるエポキシ樹脂組成物を提供することを課題とする。
本発明者は、上記目的を達成すべく鋭意研究を重ねた結果、特定の構造を有するヒドロシリル化エポキシ樹脂を用いることで、上記目的を達成できる可能性を見出し、さらに検討を重ねて本発明を完成するに至った。
本発明は、例えば、以下の項に記載の主題を包含する。
項1.
(A)ヒドロシリル基を有する有機化合物由来の、ヒドロシリル基の水素原子が除されて形成される構成単位と、
(B)炭素-炭素不飽和結合を有し、且つエポキシ基を有さない化合物由来の、炭素-炭素不飽和結合がC=C結合又はC-C結合に変換されて形成される構成単位と、
(C)炭素-炭素不飽和結合及びエポキシ基を有する化合物由来の、炭素-炭素不飽和結合がC=C結合又はC-C結合に変換されて形成される構成単位と
を有するエポキシ樹脂。
項2.
(A)ヒドロシリル基を有する有機化合物が、式(0):
(式中、R1は、同一又は異なって、水素原子、炭素数1~18のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基を示し、これらの基は、一部の炭素原子が、酸素原子及び窒素原子からなる群より選ばれる少なくとも1種の原子で置換されていてもよく、
X環は、飽和炭化水素環、不飽和炭化水素環、飽和炭化水素環及び/又は不飽和炭化水素環が2~6個縮合した構造を有する環、あるいは、飽和炭化水素環及び/又は不飽和炭化水素環が2個連結した構造を有する環を示し、nXは1、2、3、又は4を示す。)
で表される化合物である、
項1に記載のエポキシ樹脂。
項3.
(B)炭素-炭素不飽和結合を有し、且つエポキシ基を有さない化合物が、式(8):
(式中、R2は炭素数1~8のアルキレン基を示し、この基は、一部の炭素原子が酸素原子及び窒素原子からなる群より選ばれる少なくとも1種の原子で置換されていてもよい。R3は、*-COO-又は*-OCO-を示し(前記「*」はR2又はLと結合する側を示す)。R4は、炭素数1~4のアルキレン基を示し、この基は、一部の炭素原子が酸素原子及び窒素原子からなる群より選ばれる少なくとも1種の原子で置換されていてもよい。R5は、メチル基又は水素原子を示す。Lはk価の有機基を示す。lはそれぞれ独立に0または1を示す。mはそれぞれ独立に0または1を示す。nはそれぞれ独立に0または1を示す。kは1~6の整数を示す。なお、R2は複数存在するとき、それぞれを同一の基とすることができ、あるいは、一部又は全部を異なる基とすることもできる。R3は複数存在するとき、それぞれを同一の基とすることができ、あるいは、一部又は全部を異なる基とすることもできる。R4は複数存在するとき、それぞれを同一の基とすることができ、あるいは、一部又は全部を異なる基とすることもできる。)
で表される化合物である、
項1又は2に記載のエポキシ樹脂。
項4.
(C)炭素-炭素不飽和結合及びエポキシ基を有する化合物が、式(15):
(式中、R6Aは、炭素数2~18のアルケニル基もしくはアルキニル基を示し、この基は、一部の炭素原子が、酸素原子及び窒素原子からなる群より選ばれる少なくとも1種の原子で置換されていてもよい。R7は炭素数1~18のアルキル基、炭素数2~9のアルケニル基、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基を示し、これらの基は、一部の炭素原子が、酸素原子及び窒素原子からなる群より選ばれる少なくとも1種の原子で置換されていてもよい。oは0~6の整数を示す。pは0~3の整数を示す。)
で表される化合物であり、
項1~3のいずれかに記載のエポキシ樹脂。
項5.
式(23):
(式中、R6は、炭素数2~18のアルキレン基を示し、この基は、ケイ素原子に直接結合した炭素原子を除く一部の炭素原子が、酸素原子及び窒素原子からなる群より選ばれる少なくとも1種の原子で置換されていてもよい。L2は、一部の炭素原子が酸素原子で置換されていてもよい直鎖又は分岐鎖状のアルカン、飽和炭化水素環、不飽和炭化水素環、含窒素複素環、あるいは、飽和炭化水素環及び/又は不飽和炭化水素環が2~6個縮合した構造を有する環もしくは2個連結した構造を有する環から、2個の水素原子を除いて得られる2価の基を示す。qは平均値で0より大きく20以下の正数を示す。X2は、前記X環から2個水素原子が除かれて得られる2価の基を示す。R1、R2、R3、R4、R5、R7、l、m、n、o、及びpは前記と同義である。)
で表される、項1、2、及び3全てに従属する、項4に記載のエポキシ樹脂。
項6.
項1~5のいずれかに記載のエポキシ樹脂と、硬化触媒及び/又は硬化剤とを含む、エポキシ樹脂組成物。
項7.
項6に記載のエポキシ樹脂組成物の硬化物。
項8.
項6に記載のエポキシ樹脂組成物、又は、請求項7に記載の硬化物を構成要素として含む、半導体封止体、液状封止材、ポッティング材、シール材、プリント基板材料又は複合材料。
項9.
項6に記載のエポキシ樹脂組成物の製造方法であって、
前記エポキシ樹脂と、硬化触媒及び/又は硬化剤とを混合する工程を含む、製造方法。
項1.
(A)ヒドロシリル基を有する有機化合物由来の、ヒドロシリル基の水素原子が除されて形成される構成単位と、
(B)炭素-炭素不飽和結合を有し、且つエポキシ基を有さない化合物由来の、炭素-炭素不飽和結合がC=C結合又はC-C結合に変換されて形成される構成単位と、
(C)炭素-炭素不飽和結合及びエポキシ基を有する化合物由来の、炭素-炭素不飽和結合がC=C結合又はC-C結合に変換されて形成される構成単位と
を有するエポキシ樹脂。
項2.
(A)ヒドロシリル基を有する有機化合物が、式(0):
X環は、飽和炭化水素環、不飽和炭化水素環、飽和炭化水素環及び/又は不飽和炭化水素環が2~6個縮合した構造を有する環、あるいは、飽和炭化水素環及び/又は不飽和炭化水素環が2個連結した構造を有する環を示し、nXは1、2、3、又は4を示す。)
で表される化合物である、
項1に記載のエポキシ樹脂。
項3.
(B)炭素-炭素不飽和結合を有し、且つエポキシ基を有さない化合物が、式(8):
で表される化合物である、
項1又は2に記載のエポキシ樹脂。
項4.
(C)炭素-炭素不飽和結合及びエポキシ基を有する化合物が、式(15):
で表される化合物であり、
項1~3のいずれかに記載のエポキシ樹脂。
項5.
式(23):
で表される、項1、2、及び3全てに従属する、項4に記載のエポキシ樹脂。
項6.
項1~5のいずれかに記載のエポキシ樹脂と、硬化触媒及び/又は硬化剤とを含む、エポキシ樹脂組成物。
項7.
項6に記載のエポキシ樹脂組成物の硬化物。
項8.
項6に記載のエポキシ樹脂組成物、又は、請求項7に記載の硬化物を構成要素として含む、半導体封止体、液状封止材、ポッティング材、シール材、プリント基板材料又は複合材料。
項9.
項6に記載のエポキシ樹脂組成物の製造方法であって、
前記エポキシ樹脂と、硬化触媒及び/又は硬化剤とを混合する工程を含む、製造方法。
本発明に係るエポキシ樹脂組成物は、低誘電特性に優れ、金属に対する接着性にも優れる硬化物を、形成することができる。
以下、本発明の各実施形態について詳細に説明する。なお、本明細書において、「含む」とは、「本質的にからなる」と、「からなる」をも包含する(The term "comprising" includes "consisting essentially of” and "consisting of.")。
本発明のエポキシ樹脂は、(A)ヒドロシリル基を有する有機化合物由来の、ヒドロシリル基の水素原子が除されて形成される構成単位と、(B)エポキシ基を含有しない炭素-炭素不飽和結合を有する化合物(すなわち、炭素-炭素不飽和結合を有し、且つエポキシ基を有さない化合物)由来の、炭素-炭素不飽和結合がC=C結合又はC-C結合に変換されて形成される構成単位と、(C)炭素-炭素不飽和結合及びエポキシ基を有する化合物由来の、炭素-炭素不飽和結合がC=C結合又はC-C結合に変換されて形成される構成単位とを含む。
前記エポキシ樹脂は、例えば、(A)ヒドロシリル基を有する有機化合物、
(B)エポキシ基を含有しない炭素-炭素不飽和結合を有する化合物、並びに、
(C)炭素-炭素不飽和結合及びエポキシ基を有する化合物
をヒドロシリル化反応させて得ることができる。
(B)エポキシ基を含有しない炭素-炭素不飽和結合を有する化合物、並びに、
(C)炭素-炭素不飽和結合及びエポキシ基を有する化合物
をヒドロシリル化反応させて得ることができる。
なお、以下では、(A)ヒドロシリル基を有する有機化合物、(B)エポキシ基を含有しない炭素-炭素不飽和結合を有する化合物、及び、(C)炭素-炭素不飽和結合及びエポキシ基を有する化合物をそれぞれ「A成分」、「B成分」及び「C成分」と略記することがある。また、(A)ヒドロシリル基を有する有機化合物由来の、ヒドロシリル基の水素原子が除されて形成される構成単位、(B)エポキシ基を含有しない炭素-炭素不飽和結合を有する化合物由来の、炭素-炭素不飽和結合がC=C結合又はC-C結合に変換されて形成される構成単位、並びに、(C)炭素-炭素不飽和結合及びエポキシ基を有する化合物由来の、炭素-炭素不飽和結合がC=C結合又はC-C結合に変換されて形成される構成単位を、それぞれ、A成分構成単位、B成分構成単位、C成分構成単位、と略記することがある。
本発明のエポキシ樹脂は、A成分が、B成分及びC成分とヒドロシリル化反応して得られる。このため、本発明のエポキシ樹脂は、炭素-炭素不飽和結合部位がヒドロシリル化された構造を有するエポキシ樹脂であり、ヒドロシリル化エポキシ樹脂ということができる。なお、本明細書に詳述するように、A成分として挙げられる化合物、B成分として挙げられる化合物、及びC成分として挙げられる化合物は多種にわたる。本発明のエポキシ樹脂は、本明細書に記載されるA成分、B成分、及びC成分の組み合わせを全て包含する。すなわち、本発明のエポキシ樹脂は、本明細書に記載されるA~C成分に相当する化合物のあらゆる組み合わせから得られる多種の各エポキシ樹脂を全て包含する。
[(A)ヒドロシリル基を有する有機化合物]
A成分は、ヒドロシリル(Si-H)基を有し、炭素-炭素不飽和結合とヒドロシリル化反応する有機化合物である。ヒドロシリル基の数は1以上であり、例えば1~12(1、2、3、4、5、6、7、8,9、10、11、又は12)が好ましく、2、3、又は4がより好ましい。
A成分は、ヒドロシリル(Si-H)基を有し、炭素-炭素不飽和結合とヒドロシリル化反応する有機化合物である。ヒドロシリル基の数は1以上であり、例えば1~12(1、2、3、4、5、6、7、8,9、10、11、又は12)が好ましく、2、3、又は4がより好ましい。
前記A成分は、例えば、B成分及びC成分とヒドロシリル化反応し、当該反応により水素原子が除されることによって、A成分構成単位となる。
A成分としては、環にヒドロシリル基が結合した構造を有する化合物が好ましい。例えば、次式(0)で示される化合物が挙げられる。
(式中、R1は、同一又は異なって、水素原子、炭素数1~18のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基を示し、これらの基は、一部の炭素原子が、酸素原子及び窒素原子からなる群より選ばれる少なくとも1種の原子で置換されていてもよく、
X環は、飽和炭化水素環、不飽和炭化水素環、飽和炭化水素環及び/又は不飽和炭化水素環が2~6個縮合した構造を有する環、あるいは、飽和炭化水素環及び/又は不飽和炭化水素環が2個連結した構造を有する環を示し、nXは1、2、3、又は4を示す。)
A成分としては、環にヒドロシリル基が結合した構造を有する化合物が好ましい。例えば、次式(0)で示される化合物が挙げられる。
X環は、飽和炭化水素環、不飽和炭化水素環、飽和炭化水素環及び/又は不飽和炭化水素環が2~6個縮合した構造を有する環、あるいは、飽和炭化水素環及び/又は不飽和炭化水素環が2個連結した構造を有する環を示し、nXは1、2、3、又は4を示す。)
より具体的には、A成分としては、例えば、式(1)~(4)の構造を有する化合物が挙げられる。
(各式中、R1及びX環は前記に同じである。すなわち、R1は、同一又は異なって、水素原子、炭素数1~18のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基を示し、これらの基は、一部の炭素原子が、酸素原子及び窒素原子からなる群より選ばれる少なくとも1種の原子で置換されていてもよく、
式中、X環は、飽和炭化水素環、不飽和炭化水素環、飽和炭化水素環及び/又は不飽和炭化水素環が2~6個縮合した構造を有する環、あるいは、飽和炭化水素環及び/又は不飽和炭化水素環が2個連結した構造を有する環を示す。)
式中、X環は、飽和炭化水素環、不飽和炭化水素環、飽和炭化水素環及び/又は不飽和炭化水素環が2~6個縮合した構造を有する環、あるいは、飽和炭化水素環及び/又は不飽和炭化水素環が2個連結した構造を有する環を示す。)
特に制限はされないが、R1は、水素原子を示さない(すなわち、R1は、同一又は異なって、炭素数1~18のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基を示す)場合も好ましい。また、特に式(1)においては、1個のR1は水素原子を示し、もう1個のR1は、炭素数1~18のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基を示す場合も好ましい。
また、式(1)におけるXはX環から1個水素原子が除かれて得られる1価の基(X1と呼ぶことがある)を、式(2)におけるXはX環から2個水素原子が除かれて得られる2価の基(X2と呼ぶことがある)を、式(3)におけるXはX環から3個水素原子が除かれて得られる3価の基(X3と呼ぶことがある)を、式(4)におけるXはX環から4個水素原子が除かれて得られる4価の基(X4と呼ぶことがある)を、それぞれ示す。
なお、本明細書では、飽和炭化水素環又は不飽和炭化水素環、もしくは飽和炭化水素環及び/又は不飽和炭化水素環が2~6個縮合した構造を有する環を、まとめて「炭化水素環」と表記することがある。
本明細書において、飽和炭化水素環としては、例えば炭素数4~8(4、5、6、7、又は8)の飽和炭化水素環が好ましく、シクロペンタン環、シクロヘキサン環等がより好ましく例示される。
また、本明細書において、不飽和炭化水素環としては、例えば炭素数4~8(4、5、6、7、又は8)の不飽和炭化水素環が好ましく、ベンゼン環等がより好ましく例示される。
また、本明細書において、飽和炭化水素環及び/又は不飽和炭化水素環が2~6個縮合した構造を有する環としては、飽和炭化水素環及び/又は不飽和炭化水素環が2、3、又は4個縮合した環が好ましく、2又は3個縮合した環がより好ましい。より具体的には、例えば、デカヒドロナフタレン環、アダマンタン環、ナフタレン環、フェナントレン環、アントラセン環、ピレン環、トリフェニレン環、テトラリン環、1,2,3,4,5,6,7,8-オクタヒドロナフタレン環、ノルボルネン環等が挙げられる。
X環を構成する炭化水素環を構成する炭素原子であって且つケイ素原子が結合していない炭素原子に結合した水素原子は、炭素数1~6(1、2、3、4、5、又は6)のアルキル基、炭素数1~6(1、2、3、4、5、又は6)のアルコキシ基、又はハロゲン原子で置換されていてもよい。
本明細書において、炭素数1~6のアルキル基としては、具体的にはメチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基等が好ましく例示できる。また、炭素数1~6のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基等が好ましく例示できる。
また、前記ハロゲン原子はフッ素原子、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子であり、好ましくはフッ素原子、塩素原子、又は臭素原子であり、より好ましくはフッ素原子又は臭素原子である。
式(5)において、Xa環及びXb環は、同一又は異なって、飽和炭化水素環又は不飽和炭化水素環を示す。すなわち、Xa環及びXb環は、両方とも飽和炭化水素環であるか、両方とも不飽和炭化水素環であるか、一方が飽和炭化水素環でもう一方が不飽和炭化水素環である。これらの中でもXa環及びXb環が、両方とも飽和炭化水素環であるか、両方とも不飽和炭化水素環であることが好ましい。例えば、Xa環及びXb環は、両方がベンゼン環、両方がシクロヘキサン環、又は一方がベンゼン環でもう一方がシクロヘキサン環、であることが好ましく、両方がベンゼン環であることがより好ましい。
式(5)において、Yは、結合手、炭素数1~4のアルキル基で置換されていてもよい炭素数1~6のアルキレン基、酸素原子(-O-)、硫黄原子(-S-)、-SO-、又は-SO2-を示す。前記炭素数1~6のアルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、n-プロピレン基、n-ブチレン基、n-ヘキシレン基等が例示できる。また、置換基である炭素数1~4のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基等が例示できる。好ましい炭素数1~4のアルキル基で置換された炭素数1~6のアルキレン基としては、-CH(CH3)-、-C(CH3)2-、-CH2CH(CH3)CH2-、-CH2C(CH3)2CH2-等が例示できる。Yは好ましくは、結合手、酸素原子、メチレン基、ジメチルメチレン基(-C(CH3)2-)、-S-、-SO2-であり、より好ましくは、結合手、ジメチルメチレン基、酸素原子、-SO2-である。
Xで示される基のうち、2価、3価、又は4価の基(すなわち、X2、X3、又はX4)としては、具体的には、例えば、以下のいずれかの式で表される基(式中、Yは前記に同じ)が好ましく、
中でも、以下のいずれかの式で表される基(式中、Yは前記に同じ)がより好ましい。
前記R1で示される炭素数1~18のアルキル基としては、直鎖又は分岐鎖状のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基、ネオペンチル基、tert-ペンチル基、n-ヘキシル基、n-ヘプチル基、2,2,4-トリメチルペンチル基、n-オクチル基、イソオクチル基、n-ノニル基、n-デシル基、n-ドデシル基等が挙げられる。好ましくは炭素数1~10のアルキル基であり、より好ましくは炭素数1~6のアルキル基であり、さらに好ましくは炭素数1~3のアルキル基であり、特に好ましくはメチル基である。
前記R1で示されるシクロアルキル基としては、3~8員環のシクロアルキル基が挙げられ、例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、メチルシクロヘキシル基等が挙げられる。
前記R1で示されるアリール基としては、単環又は二環のアリール基が挙げられ、例えば、フェニル基、トリル基、キシリル基、エチルフェニル基、ナフチル基等が挙げられる。中でも、フェニル基が好ましい。
前記R1で示されるアラルキル基としては、アリール基(特にフェニル基)で置換された炭素数1~4のアルキル基が挙げられ、例えば、ベンジル基、α-フェネチル基、β-フェネチル基、β-メチルフェネチル基等が挙げられる。
これら、R1で示される、炭素数1~18のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基は、上述の通り、一部の炭素原子が、酸素原子及び窒素原子からなる群より選ばれる少なくとも1種の原子で置換されていてもよい。一部の炭素原子が置換される場合、置換される炭素原子数は例えば、1~3個、1又は2個、あるいは1個である。炭素原子は酸素原子又は窒素原子で置換されてよく、酸素原子で置換されることが好ましい。また、置換される炭素原子数が2以上の場合、全て同一の原子(酸素原子又は窒素原子)に置換しても良く、あるいは、一部を異なる原子に置換してもよい。
前記R1は、好ましくは炭素数1~3のアルキル基であり、より好ましくはメチル基である。
前記R1は、好ましくは炭素数1~3のアルキル基であり、より好ましくはメチル基である。
A成分としては、より具体的には、ジメチルフェニルシラン、トリフェニルシラン等の分子中に存在するケイ素原子に直接結合した水素原子の総数が1個である有機化合物;メチルフェニルシラン、ジフェニルシラン、1,2-ビス(ジメチルシリル)ベンゼン、1,4-ビス(ジメチルシリル)ベンゼン、ビス[(p-ジメチルシリル)フェニル]エーテル等の分子中に存在するケイ素原子に直接結合した水素原子の総数が2個である有機化合物;ノルマルブチルシラン、シクロペンチルシラン等の分子中に存在するケイ素原子に直接結合した水素原子の総数が3個である有機化合物等が例示される。その他、A成分としては、具体的には、ビス(トリメチルシロキシ)メチルシラン、ビス(トリメチルシロキシ)エチルシラン、3H,5H-オクタメチルテトラシロキサン、1H,7H-オクタメチルテトラシロキサン、クロロエチルシラン、1,3-ジフェニルテトラキス(ジメチルシロキシ)ジシラン、1,3,5,7-テトラメチルシクロテトラシロキサン、1,3,5,7-テトラエチルシクロテトラシロキサン、ペンタメチルシクロペンタシロキサン、ヒドロシリル基を有する有機変性シリコーン等が例示される。エポキシ樹脂調製に用いられるA成分は、1種のみであってもよいし、2種以上でもよい。換言すれば、エポキシ樹脂に含まれるA成分構成単位は、1種のみであってもよいし2種以上であってもよい。
これらの中でもA成分は、得られるエポキシ樹脂組成物の硬化物が優れた低誘電特性を有しやすい観点から、分子中に存在するケイ素原子に直接結合した水素原子の総数が2個以上である有機化合物が好ましく、特に、1分子中に2つ又はそれ以上のヒドロシリル基を有する有機化合物であることが好ましい。特に、上記式(2)で示され且つ水素原子の総数が2個である化合物、上記式(3)で示され且つ水素原子の総数が3個である化合物、及び上記式(4)で示され且つ水素原子の総数が4個である化合物、が好ましく、中でも上記式(2)で示され且つ水素原子の総数が2個である化合物が好ましい。
より具体的には、A成分としては、下記式(6)に示す構造を有する1,4-ビス(ジメチルシリル)ベンゼン、下記式(7)に示す構造を有するビス[(p-ジメチルシリル)フェニル]エーテルが好適である。
別の観点から、A成分としては、分子中に存在するケイ素原子に直接結合した水素原子の総数が1個である有機化合物であってもよい。この場合、エポキシ樹脂組成物の粘度の調整を行いやすい。
A成分が、分子中に存在するケイ素原子に直接結合した水素原子の総数が1個である有機化合物を含む場合、その含有量は、得られるエポキシ樹脂組成物の硬化物が優れた低誘電特性を有しやすい観点から、A成分の全質量に対して30質量%以下とすることが好ましい。すなわち、A成分として、分子中に存在するケイ素原子に直接結合した水素原子の総数が1個である有機化合物を用いる場合、分子中に存在するケイ素原子に直接結合した水素原子の総数が1個ではない(例えば2個、3個、又は4個)有機化合物と併用することが好ましく、A成分全量中、分子中に存在するケイ素原子に直接結合した水素原子の総数が1個である有機化合物量は20モル%以下であることが好ましい。
[(B)エポキシ基を含有しない炭素-炭素不飽和結合を有する化合物]
B成分は、炭素-炭素不飽和結合を有し、且つエポキシ基を有さない化合物である。当該炭素-炭素不飽和結合がA成分のヒドロシリル基と反応(ヒドロシリル化反応)し得る。
B成分は、炭素-炭素不飽和結合を有し、且つエポキシ基を有さない化合物である。当該炭素-炭素不飽和結合がA成分のヒドロシリル基と反応(ヒドロシリル化反応)し得る。
B成分は、A成分とヒドロシリル化反応して、炭素-炭素不飽和結合がC-C結合又はC=C結合に変換されてB成分構成単位となる。なお、炭素-炭素不飽和結合がC≡C結合の場合は、C-C結合又はC=C結合に変換され得、炭素-炭素不飽和結合がC=C結合の場合は、C-C結合に変換され得る。
炭素-炭素不飽和結合としては、炭素-炭素不飽和二重結合(C=C結合)、炭素-炭素不飽和三重結合(C≡C結合)が挙げられる。これらの中でも、得られるエポキシ樹脂組成物の硬化物が優れた低誘電特性を有しやすく、また原料が入手しやすいという観点から、炭素-炭素不飽和結合は炭素-炭素不飽和二重結合であることが好ましい。また、特にB成分は基:-CH=CH2、-CH=CH(CH3)、-C≡CH、又は-C≡C-CH3を有することが好ましい。
(式中、R2は炭素数1~8のアルキレン基を示し、この基は、一部の炭素原子が酸素原子及び窒素原子からなる群より選ばれる少なくとも1種の原子で置換されていてもよい。R3は、*-COO-又は*-OCO-を示し(前記「*」はR2又はLと結合する側を示す)。R4は、炭素数1~4のアルキレン基を示し、この基は、一部の炭素原子が酸素原子及び窒素原子からなる群より選ばれる少なくとも1種の原子で置換されていてもよい。R5は、メチル基又は水素原子を示し、Lはk価の有機基を示す。lはそれぞれ独立に0または1を示す。mはそれぞれ独立に0または1を示す。nはそれぞれ独立に0または1を示す。kは1~6の整数を示す。なお、R2は複数存在するとき、それぞれを同一の基とすることができ、あるいは、一部又は全部を異なる基とすることもできる。R3は複数存在するとき、それぞれを同一の基とすることができ、あるいは、一部又は全部を異なる基とすることもできる。R4は複数存在するとき、それぞれを同一の基とすることができ、あるいは、一部又は全部を異なる基とすることもできる。)
前記R2で示される炭素数1~8(1、2、3、4、5、6、7、又は8)のアルキレン基としては、例えばメチレン基、エチレン基、n-プロピレン基、n-ブチレン基等が挙げられる。
前記R4で示される炭素数1~4(1、2、3、又は4)のアルキレン基としては、例えばメチレン基、エチレン基、n-プロピレン基、n-ブチレン基等が挙げられる。
前記Lで示されるk価の有機基としては、一部の炭素原子が酸素原子で置換されていてもよい直鎖又は分岐鎖状のアルカン、飽和炭化水素環、不飽和炭化水素環、含窒素複素環、並びに、飽和炭化水素環及び/又は不飽和炭化水素環が2~6個縮合した構造を有する環又は飽和炭化水素環及び/又は不飽和炭化水素環が2個連結した構造を有する環からそれぞれk個の水素原子除いて得られる基が挙げられる。
前記有機基Lの価数kとしては、2~6(2、3、4、5、又は6)価が好ましく、2~3価がより好ましい。
前記有機基Lの価数kとしては、2~6(2、3、4、5、又は6)価が好ましく、2~3価がより好ましい。
lはそれぞれ独立に0または1を示す。kが2以上の場合、lも2以上存在するが、すべてのlが同一の値をとることもでき、あるいは、異なる値とすることもできる。好ましくは全てのlが同一の値をとる。mはそれぞれ独立に0または1を示す。kが2以上の場合、mも2以上存在するが、すべてのmが同一の値をとることもでき、あるいは、異なる値とすることもできる。好ましくは全てのmが同一の値をとる。nはそれぞれ独立に0または1を示す。kが2以上の場合、nも2以上存在するが、すべてのnが同一の値をとることもでき、あるいは、異なる値とすることもできる。好ましくは全てのlが同一の値をとる。
前記有機基Lを構成するアルカン又は環を構成する炭素原子に結合した水素原子は、炭素数1~6(1、2、3、4、5、又は6)の直鎖又は分岐鎖状アルキル基、炭素数1~6(1、2、3、4、5、又は6)の直鎖又は分岐鎖状アルコキシ基、水酸基、又はハロゲン原子で置換されていてもよい。
前記置換されてもよい水素原子数は、例えば1~3個、1又は2個、あるいは1個であってよい。また、置換される水素原子数が2個以上の場合において、同じ炭素原子に結合した2個の水素原子が置換されていてもよいが、置換される水素原子は、一つの炭素原子につき1個であることが好ましい。
前記置換されてもよい水素原子数は、例えば1~3個、1又は2個、あるいは1個であってよい。また、置換される水素原子数が2個以上の場合において、同じ炭素原子に結合した2個の水素原子が置換されていてもよいが、置換される水素原子は、一つの炭素原子につき1個であることが好ましい。
前記有機基Lを構成する直鎖又は分岐鎖状のアルカンとしては、炭素数1~30の直鎖又は分岐鎖状のアルカンが好ましい。炭素数は、より好ましくは、2~20、さらに好ましくは3~10である。当該アルカンとしては、ブタン、2,2-ジメチルプロパン、2,2-ジメチルブタン等が特に好ましい。
前記有機基Lを構成する飽和炭化水素環としては、例えば炭素数4~8(4、5、6、7、又は8)の飽和炭化水素環が好ましく、より具体的にはシクロペンタン環、シクロヘキサン環等が特に好ましく例示される。
また、前記有機基Lを構成する不飽和炭化水素環としては、芳香族炭化水素環及び非芳香族の不飽和炭化水素環が挙げられる。前記芳香族炭化水素環としては、例えばベンゼン環が好ましい。前記非芳香族の不飽和炭化水素環としては、例えば炭素数4~8(4、5、6、7、又は8)の不飽和炭化水素環が好ましく、より具体的にはシクロヘキセン環等が特に好ましい。
また、前記有機基Lを構成する不飽和炭化水素環としては、芳香族炭化水素環及び非芳香族の不飽和炭化水素環が挙げられる。前記芳香族炭化水素環としては、例えばベンゼン環が好ましい。前記非芳香族の不飽和炭化水素環としては、例えば炭素数4~8(4、5、6、7、又は8)の不飽和炭化水素環が好ましく、より具体的にはシクロヘキセン環等が特に好ましい。
前記有機基Lを構成する含窒素複素環としては、例えば、トリアジン環、カルバゾール環等が好ましく例示される。トリアジン環としては、1,2,3-トリアジン、1,2,4-トリアジン、及び1,3,5-トリアジンが好ましく挙げられ、中でも1,3,5-トリアジンがより好ましい。
また、前記有機基Lを構成する飽和炭化水素環及び/又は不飽和炭化水素環が2~6個縮合した構造を有する環としては、飽和炭化水素環及び/又は不飽和炭化水素環が2、3、又は4個縮合した環が好ましく、2又は3個縮合した環がより好ましい。より具体的には、例えば、デカヒドロナフタレン環、アダマンタン環、ナフタレン環、フェナントレン環、アントラセン環、ピレン環、トリフェニレン環、トリシクロデカン環、テトラリン環、1,2,3,4,5,6,7,8-オクタヒドロナフタレン環、ノルボルネン環等が挙げられる。
また、前記有機基Lを構成する飽和炭化水素環及び/又は不飽和炭化水素環が2~6個縮合した構造を有する環としては、飽和炭化水素環及び/又は不飽和炭化水素環が2、3、又は4個縮合した環が好ましく、2又は3個縮合した環がより好ましい。より具体的には、例えば、デカヒドロナフタレン環、アダマンタン環、ナフタレン環、フェナントレン環、アントラセン環、ピレン環、トリフェニレン環、トリシクロデカン環、テトラリン環、1,2,3,4,5,6,7,8-オクタヒドロナフタレン環、ノルボルネン環等が挙げられる。
式(9)において、La環及びLb環は、同一又は異なって、飽和炭化水素環又は不飽和炭化水素環を示す。すなわち、La環及びLb環は、両方とも飽和炭化水素環であるか、両方とも不飽和炭化水素環であるか、一方が飽和炭化水素環でもう一方が不飽和炭化水素環である。これらの中でもLa環及びLb環が、両方とも飽和炭化水素環であるか、両方とも不飽和炭化水素環であることが好ましい。例えば、La環及びLb環は、両方がベンゼン環、両方がシクロヘキサン環、又は一方がベンゼン環でもう一方がシクロヘキサン環、であることが好ましく、両方がベンゼン環であることがより好ましい。
また、式(9)において、Qは、結合手、炭素数1~4のアルキル基で置換されていてもよい炭素数1~6のアルキレン基、酸素原子(-O-)、硫黄原子(-S-)、-SO-、又は-SO2-を示す。前記炭素数1~6のアルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、n-プロピレン基、n-ブチレン基、n-ヘキシレン基等が例示できる。また、置換基である炭素数1~4のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基等が例示できる。好ましい炭素数1~4のアルキル基で置換された炭素数1~6のアルキレン基としては、-CH(CH3)-、-C(CH3)2-、-CH2CH(CH3)CH2-、-CH2C(CH3)2CH2-等が例示できる。Qは好ましくは、結合手、酸素原子、メチレン基、ジメチルメチレン基(-C(CH3)2-)、-S-、-SO2-であり、より好ましくは、結合手、ジメチルメチレン基、酸素原子、-SO2-である。
B成分としては、例えば、ビニルベンゼン、ビニルナフタレン(1-ビニルナフタレン、2-ビニルナフタレン)、ビニルシクロヘキサン、ステアリン酸ビニル、アリルベンゼン、アリルメチルカーボネート、アリルフェニルエーテル等の1分子中に1つの炭素-炭素不飽和二重結合を有する有機化合物;ジビニルベンゼン(o-、m-、又はp-ジビニルベンゼン)、アジピン酸ジビニル、フタル酸ジアリル、5-ビニル-2-ノルボルネン、ビニルシクロヘキセン(好ましくは4-ビニル-1-シクロヘキセン)、ポリエチレングリコールジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、2,2’-ジアリルビスフェノールA等の1分子中に2つの炭素-炭素不飽和二重結合を有する有機化合物;イソシアヌル酸トリアリル、1,3,5-ベンゼントリカルボキシ酸トリアリル、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートなどの1分子中に3つ又はそれ以上の炭素-炭素不飽和二重結合を有する有機化合物;等が挙げられる。その他、B成分としては、具体的には、アリルメトキシメチルシラン、1,4-ビス(ジメチルビニルシリル)ベンゼン、ジビニルメチルフェニルシラン、ジアリルジフェニルシラン、ジシクロペンタジエン、エチリデンノルボルネン、9,9-ビス[4-(2-アクリロイルオキシエトキシ)フェニル]フルオレン、トリメチロールプロパンジアリルエーテル、ジビニルスルホン、炭素-炭素不飽和二重結合を有する有機変性シリコーン、ポリエチレングリコールジアクリレート等が例示される。エポキシ樹脂調製に用いられるB成分は、1種のみであってもよいし、2種以上でもよい。換言すれば、エポキシ樹脂に含まれるB成分構成単位は、1種のみであってもよいし2種以上であってもよい。
これらの中でもB成分は、得られるエポキシ樹脂組成物の硬化物が優れた低誘電特性を有しやすい観点から、分子中に2つ以上の炭素-炭素不飽和二重結合を有する有機化合物であることが好ましく、分子中に2又は3つの炭素-炭素不飽和二重結合を有する有機化合物であることがより好ましい。特に、上記式(8)においてkが2又は3を示す化合物が好ましい。
より具体的には、B成分としては、下記式(10)に示すジビニルベンゼン、下記式(11)に示すアジピン酸ジビニル、下記式(12)に示すフタル酸ジアリル、下記式(13)に示す5-ビニル-2-ノルボルネン、下記式(14)に示すイソシアヌル酸トリアリルが好適である。
別の観点から、B成分としては、分子中に1つの炭素-炭素不飽和二重結合を有する有機化合物であることも好適である。この場合、エポキシ樹脂組成物の粘度の調整を行いやすい。
B成分が分子中に1つの炭素-炭素不飽和二重結合を有する有機化合物を含む場合がある。その場合、当該有機化合物の含有量は、硬化物が優れた低誘電特性を有しやすい観点から、B成分の全質量に対して30質量%以下とすることが好ましい。B成分として、分子中に1つの炭素-炭素不飽和二重結合を有する有機化合物を含む場合、分子中の炭素-炭素不飽和二重結合が2以上である有機化合物(例えば、上記式(8)においてkが2~6の整数を示す化合物)と併用することが好ましい。また、B成分全量中、分子中に1つの炭素-炭素不飽和二重結合を有する有機化合物の量は20モル%以下であることが好ましい。
[(C)炭素-炭素不飽和結合及びエポキシ基を有する化合物]
C成分である炭素-炭素不飽和結合及びエポキシ基を有する化合物は、炭素-炭素不飽和結合とエポキシ基を有し、ヒドロシリル(Si-H)基とヒドロシリル化反応する有機化合物であればよい。
C成分は、A成分のヒドロシリル(Si-H)基とヒドロシリル化反応し、炭素-炭素不飽和結合がC=C結合又はC-C結合に変換されて形成される構成単位となる。なお、炭素-炭素飽和結合がC≡C結合の場合は、C-C結合又はC=C結合に変換されて形成される構成単位となり、炭素-炭素不飽和結合がC=C結合の場合は、C-C結合に変換されて形成される構成単位となる。
C成分である炭素-炭素不飽和結合及びエポキシ基を有する化合物は、炭素-炭素不飽和結合とエポキシ基を有し、ヒドロシリル(Si-H)基とヒドロシリル化反応する有機化合物であればよい。
C成分は、A成分のヒドロシリル(Si-H)基とヒドロシリル化反応し、炭素-炭素不飽和結合がC=C結合又はC-C結合に変換されて形成される構成単位となる。なお、炭素-炭素飽和結合がC≡C結合の場合は、C-C結合又はC=C結合に変換されて形成される構成単位となり、炭素-炭素不飽和結合がC=C結合の場合は、C-C結合に変換されて形成される構成単位となる。
炭素-炭素不飽和結合は、炭素-炭素不飽和二重結合、炭素-炭素不飽和三重結合を挙げられる。これらの中でも、硬化物が優れた低誘電特性を有しやすく、原料が入手しやすいという観点から、炭素-炭素不飽和結合は炭素-炭素不飽和二重結合であることが好ましい。
C成分である炭素-炭素不飽和結合(二重結合)及びエポキシ基を有する化合物としては、例えば、下記式(15)で表される化合物を挙げることができる。
式(15)において、R6Aで示される炭素数2~18(2、3、4、5、6、7、8、9、10、11、12、13、14、15、16、17、又は18)のアルケニル基としては、直鎖又は分岐鎖状のアルケニル基であり、直鎖状が好ましい。具体的には、例えば、ビニル基、アリル基、プロペニル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オクテニル基、ノルボルネニル基、シクロヘキセニル基等が挙げられる。好ましくは炭素数2~10のアルケニル基であり、より好ましくは炭素数2~8のアルケニル基であり、さらに好ましくは炭素数2~6のアルケニル基であり、特に好ましくはビニル基、アリル基又はブテニル基である。なお、当該アルケニル基は、α-アルケニル基(すなわち、末端炭素原子とその隣の炭素原子とが二重結合を形成しているアルケニル基)であることが好ましい。
式(15)において、R6Aで示される炭素数2~18(2、3、4、5、6、7、8、9、10、11、12、13、14、15、16、17、又は18)のアルキニル基としては、直鎖又は分岐鎖状のアルキニル基であり、直鎖状が好ましい。具体的には、例えば、エチニル基、プロパルギル基等が挙げられる。好ましくは炭素数2~10のアルキニル基であり、より好ましくは炭素数2~8のアルキニル基であり、さらに好ましくは炭素数2~6のアルキニル基であり、特に好ましくはエチニル基、プロパルギル基等が挙げられる。なお、当該アルキニル基は、α-アルキニル基(すなわち、末端炭素原子とその隣の炭素原子とが三重結合を形成しているアルキニル基)であることが好ましい。
式(15)において、R6Aで示される炭素数2~18(2、3、4、5、6、7、8、9、10、11、12、13、14、15、16、17、又は18)のアルキニル基としては、直鎖又は分岐鎖状のアルキニル基であり、直鎖状が好ましい。具体的には、例えば、エチニル基、プロパルギル基等が挙げられる。好ましくは炭素数2~10のアルキニル基であり、より好ましくは炭素数2~8のアルキニル基であり、さらに好ましくは炭素数2~6のアルキニル基であり、特に好ましくはエチニル基、プロパルギル基等が挙げられる。なお、当該アルキニル基は、α-アルキニル基(すなわち、末端炭素原子とその隣の炭素原子とが三重結合を形成しているアルキニル基)であることが好ましい。
前記炭素数2~18のアルケニル基もしくはアルキニル基は、一部の炭素原子が、酸素原子及び窒素原子からなる群より選ばれる少なくとも1種の原子(好ましくは酸素原子)で置換されていてもよい。当該一部の炭素原子は、エポキシ環に直接結合していない炭素原子であることが好ましい。また、当該置換されてもよい一部の炭素原子は、1又は複数(例えば2、3、4、5、又は6)個の炭素原子であり得、好ましくは1個の炭素原子である。当該基のうち、炭素数2~18のアルケニル基であって、一部の炭素原子が、酸素原子及び窒素原子からなる群より選ばれる少なくとも1種の原子(好ましくは酸素原子)で置換されていてもよい基としては、例えば、炭素数2~9アルケニル-O-炭素数1~8アルキレン-、好ましくは炭素数2~4アルケニル-O-炭素数1~3アルキレン-、より好ましくは炭素数2~4アルケニル-O-炭素数1~2アルキレン-、特に好ましくは炭素数3アルケニル-O-CH2-が挙げられる。より具体的には、例えば、CH2=CH-O-CH2-、CH2=CH-CH2-O-CH2-、CH2=CH-CH2-O-(CH2)2-、CH2=CH-(CH2)3-O-(CH2)4-などが挙げられ、これらの中でもCH2=CH-CH2-O-CH2-(アリルオキシメチル基)が好ましい。また、炭素数2~18のアルキニル基であって、一部の炭素原子が、酸素原子及び窒素原子からなる群より選ばれる少なくとも1種の原子(好ましくは酸素原子)で置換されていてもよい基としては、例えば、炭素数2~9アルキニル-O-炭素数1~8アルキレン-、好ましくは炭素数2~4アルキニル-O-炭素数1~3アルキレン-、より好ましくは炭素数2~4アルキニル-O-炭素数1~2アルキレン-、特に好ましくは炭素数3アルキニル-O-CH2-が挙げられる。より具体的には、例えば、CH≡C-O-CH2-、CH≡C-CH2-O-CH2-、CH≡C-CH2-O-(CH2)2-、CH≡C-(CH2)3-O-(CH2)4-などが挙げられ、これらの中でもCH≡C-CH2-O-CH2-が好ましい。
式(15)において、R7は同一又は異なって、炭素数1~18のアルキル基、炭素数2~9のアルケニル基、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基を示し、これらの基は、一部の炭素原子が、酸素原子及び窒素原子からなる群より選ばれる少なくとも1種の原子で置換されていてもよい。当該一部の炭素原子は、3~8員環又はエポキシ環に直接結合していない炭素原子であることが好ましい。また、当該置換されていてもよい一部の炭素原子は、1又は複数(例えば2、3、4、5、又は6)個の炭素原子であり得、好ましくは1個の炭素原子である。
R7で示される炭素数1~18のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基及びアラルキル基はそれぞれ、上記R1で示される対応する基と同様のものが挙げられる。
R7で示される炭素数2~9のアルケニル基としては、直鎖又は分岐鎖状のアルケニル基であり、例えば、ビニル基、アリル基、2-プロペニル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オクテニル基、ノネニル基等が挙げられる。好ましくは炭素数2~4のアルケニル基である。
R7として、好ましくは炭素数1~3のアルキル基であり、より好ましくはメチル基又はエチル基である。
R7で示される炭素数1~18のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基及びアラルキル基はそれぞれ、上記R1で示される対応する基と同様のものが挙げられる。
R7で示される炭素数2~9のアルケニル基としては、直鎖又は分岐鎖状のアルケニル基であり、例えば、ビニル基、アリル基、2-プロペニル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オクテニル基、ノネニル基等が挙げられる。好ましくは炭素数2~4のアルケニル基である。
R7として、好ましくは炭素数1~3のアルキル基であり、より好ましくはメチル基又はエチル基である。
好ましいoは0~4(0、1、2、3、又は4)であり、より好ましくは0または4である。好ましいpは0又は1であり、より好ましくは0である。
なお、oが0である場合には、式(15)で表される化合物は、次の式(15’)で表される化合物である。
(式中、R6A及びR7並びにpは前記に同じ。)
C成分が、oが0である化合物(すなわち、式(15’)で表される化合物)を含む場合、反応が容易に進行する観点からは、B成分は、式(8)にかかる有機基Lが、一部の炭素原子が酸素原子で置換されていてもよい直鎖又は分岐鎖状のアルカン、芳香族炭化水素環、非芳香族の不飽和炭化水素環、含窒素複素環、飽和炭化水素環及び/又は不飽和炭化水素環が2~6個縮合した環、あるいは、飽和炭化水素環及び/又は不飽和炭化水素環が2個連結した環から構成されることが好ましく、芳香族炭化水素環、非芳香族の不飽和炭化水素環、含窒素複素環、あるいは、飽和炭化水素環及び/又は不飽和炭化水素環が2~6個縮合した環から構成されることがより好ましい。
また、C成分が、oが4である化合物を含む場合、反応が容易に進行する観点からは、B成分は、式(8)にかかる有機基Lが、一部の炭素原子が酸素原子で置換されていてもよい直鎖又は分岐鎖状のアルカン、芳香族炭化水素環、含窒素複素環、あるいは、飽和炭化水素環及び/又は不飽和炭化水素環が2個連結した環から構成されることが好ましく、芳香族炭化水素環、又は含窒素複素環から構成されることがより好ましい。
なお、oが0である場合には、式(15)で表される化合物は、次の式(15’)で表される化合物である。
C成分が、oが0である化合物(すなわち、式(15’)で表される化合物)を含む場合、反応が容易に進行する観点からは、B成分は、式(8)にかかる有機基Lが、一部の炭素原子が酸素原子で置換されていてもよい直鎖又は分岐鎖状のアルカン、芳香族炭化水素環、非芳香族の不飽和炭化水素環、含窒素複素環、飽和炭化水素環及び/又は不飽和炭化水素環が2~6個縮合した環、あるいは、飽和炭化水素環及び/又は不飽和炭化水素環が2個連結した環から構成されることが好ましく、芳香族炭化水素環、非芳香族の不飽和炭化水素環、含窒素複素環、あるいは、飽和炭化水素環及び/又は不飽和炭化水素環が2~6個縮合した環から構成されることがより好ましい。
また、C成分が、oが4である化合物を含む場合、反応が容易に進行する観点からは、B成分は、式(8)にかかる有機基Lが、一部の炭素原子が酸素原子で置換されていてもよい直鎖又は分岐鎖状のアルカン、芳香族炭化水素環、含窒素複素環、あるいは、飽和炭化水素環及び/又は不飽和炭化水素環が2個連結した環から構成されることが好ましく、芳香族炭化水素環、又は含窒素複素環から構成されることがより好ましい。
C成分としては、具体的には例えば、下記式(16)に示す1,3-ブタジエンモノエポキシド、下記式(17)に示す1,2-エポキシ-5-ヘキセン、下記式(18)に示すグリシジルプロパギルエーテル、下記式(19)に示す1,2-エポキシ-9-デセン、下記式(20)に示すアリルグリシジルエーテル、下記式(21)に示す4-ビニル-1,2-エポキシシクロヘキサン、下記式(22)に示すリモネンオキシド等が挙げられる。
その他、C成分としては、具体的には、グリシジルメタクリレート、1-アリル-3,5-ジグリシジルイソシアヌレート、4-ヒドロキシブチルアクリレートグリシジルエーテル等が例示される。
C成分は、1種のみであってもよいし、2種以上を含んでもよい。
C成分は、1種のみであってもよいし、2種以上を含んでもよい。
[ヒドロシリル化エポキシ樹脂]
本発明のエポキシ樹脂(ヒドロシリル化エポキシ樹脂)は、例えば、A成分、B成分及びC成分をヒドロシリル化反応することによって得ることができる。より正確には、ヒドロシリル化エポキシ樹脂は、A成分、B成分及びC成分のそれぞれに由来する構造を骨格として有する(すなわち、A成分構成単位、B成分構成単位、及びC成分構成単位を有する)エポキシ樹脂である。
本発明のエポキシ樹脂(ヒドロシリル化エポキシ樹脂)は、例えば、A成分、B成分及びC成分をヒドロシリル化反応することによって得ることができる。より正確には、ヒドロシリル化エポキシ樹脂は、A成分、B成分及びC成分のそれぞれに由来する構造を骨格として有する(すなわち、A成分構成単位、B成分構成単位、及びC成分構成単位を有する)エポキシ樹脂である。
好ましくは、本発明のエポキシ樹脂は、A成分構成単位とB成分構成単位とが交互に1又は複数回(例えば平均1~20回)結合され、その交互結合の各末端部分にC成分構成単位が結合された構造を有するエポキシ樹脂である。
より具体的には、例えば、A成分が2価の化合物(例えば、式(2)で表される化合物)、B成分が2価の化合物(例えば式(8)においてk=2である化合物)、C成分が式(15)で表される化合物である場合、次の反応式により式(23)で示されるエポキシ樹脂を製造することができる。
より具体的には、例えば、A成分が2価の化合物(例えば、式(2)で表される化合物)、B成分が2価の化合物(例えば式(8)においてk=2である化合物)、C成分が式(15)で表される化合物である場合、次の反応式により式(23)で示されるエポキシ樹脂を製造することができる。
式(23)において、R6は、炭素数2~18のアルキレン基又は炭素数2~18のアルケニレン基を示す。当該アルキレン基は、直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基であり、好ましくは直鎖状のアルキレン基である。例えば、メチレン基、メチルメチレン基、エチルメチレン基、ジメチルメチレン基、ジエチルメチレン基、ジメチレン基(-CH2CH2-)、トリメチレン基(-CH2CH2CH2-)、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、ヘプタメチレン基、オクタメチレン基、ノナメチレン基、デカメチレン基、ウンデカメチレン基、ドデカメチレン基、トリデカメチレン基等が挙げられる。好ましくは炭素数2~10のアルキレン基であり、より好ましくは炭素数2~8のアルキレン基であり、さらに好ましくは炭素数2~6のアルキレン基であり、特に好ましくは炭素数2~5のアルキレン基である。また、当該アルケニレン基は、直鎖又は分岐鎖状のアルケニレン基であり、好ましくは直鎖状のアルケニレン基である。例えば、ビニレン基、1-プロペニレン基、2-プロペニレン基、1-ブテニレン基、2-ブテニレン基、1-ペンテニレン基、2-ペンテニレン基、1-ヘキセニレン基、2-ヘキセニレン基、1-オクテニレン基等が挙げられる。好ましくは炭素数2~10のアルケニレン基であり、より好ましくは炭素数2~8のアルケニレン基であり、さらに好ましくは炭素数2~6のアルケニレン基であり、特に好ましくは炭素数2~5のアルケニレン基である。
なお、R6としての前記炭素数2~18のアルキレン基又は炭素数2~18のアルケニレン基は、一部の炭素原子が、酸素原子及び窒素原子からなる群より選ばれる少なくとも1種の原子(好ましくは酸素原子)で置換されていてもよい。当該一部の炭素原子は、ケイ素原子及び3~8員環又はエポキシ環のいずれにも直接結合していない炭素原子であることが好ましい。また、当該置換されていてもよい一部の炭素原子は、1又は複数(例えば2、3、4、5、又は6)個の炭素原子であり得、好ましくは1個の炭素原子である。
当該基としては、具体的には、R6のケイ素原子に結合する側を(*)とした場合に、例えば、(*)-炭素数2~9のアルキレン-O-炭素数1~8のアルキレン-、好ましくは(*)-炭素数2~4のアルキレン-O-炭素数1~3のアルキレン-、より好ましくは(*)-炭素数2~4のアルキレン-O-炭素数1~2のアルキレン-、特に好ましくは(*)-炭素数3のアルキレン-O-メチレン-が挙げられる。また例えば、(*)-炭素数2~9のアルケニレン-O-炭素数1~8のアルキレン-、好ましくは(*)-炭素数2~4のアルケニレン-O-炭素数1~3のアルキレン-、より好ましくは(*)-炭素数2~4のアルケニレン-O-炭素数1~2のアルキレン-、特に好ましくは(*)-炭素数3のアルケニレン-O-メチレン-が挙げられる。
より具体的には、例えば、(*)-(CH2)2-O-CH2-、(*)-(CH2)3-O-CH2-、(*)-(CH2)3-O-(CH2)2-、(*)-(CH2)5-O-(CH2)4-などが挙げられ、これらの中でも(*)-(CH2)3-O-CH2-が好ましい。また例えば、(*)-CH=CH-O-CH2-、(*)-CH=CH-CH2-O-CH2-、(*)-CH=CH-CH2-O-(CH2)2-、(*)-CH=CH-(CH2)3-O-(CH2)4-などが挙げられ、これらの中でも(*)-CH=CH-CH2-O-CH2-が好ましい。
ヒドロシリル化反応において、A成分、B成分及びC成分の使用量は、例えば、A成分中のヒドロシリル(Si-H)基1モルあたり、B成分中の炭素-炭素不飽和結合(ただし、芳香環内の炭素-炭素不飽和結合を除く)を0.05~0.95モル、好ましくは0.1~0.9モル、より好ましくは0.2~0.8モルとすることができる。また、C成分は、A成分中のヒドロシリル(Si-H)基1モルあたり、炭素-炭素不飽和結合(ただし、芳香環内の炭素-炭素不飽和結合を除く)を0.05~0.95モル、好ましくは0.1~0.9モル、より好ましくは0.2~0.8モルとすることができる。なお、本明細書においては、ケイ素原子に結合した水素原子の数をヒドロシリル(Si-H)基の個数として数える。例えば、ケイ素原子に水素が2個結合している場合、ヒドロシリル(Si-H)基の個数は2個として数える。
qは前述の通り平均値で0より大きく20以下の正数を示し、好ましくは平均値で0.1~15の正数を示し、より好ましくは平均値0.2~10での正数を示す。
qは前述の通り平均値で0より大きく20以下の正数を示し、好ましくは平均値で0.1~15の正数を示し、より好ましくは平均値0.2~10での正数を示す。
ヒドロシリル化反応は公知の方法で行うことができる、例えば、触媒の存在下、溶媒の存在下又は非存在下でヒドロシリル化反応を実施することができる。
ヒドロシリル化反応はA成分、B成分、C成分を同時に反応させてもよい。また、A成分とB成分とを反応させた後、その反応物とC成分とを反応させてもよく、A成分とC成分とを反応させた後、その反応物とB成分とを反応させてもよい。製法の簡便さおよび反応制御をしやすいとの観点から、A成分とB成分とを反応させた後、その反応物とC成分とを反応させることが好ましい。
ヒドロシリル化反応はA成分、B成分、C成分を同時に反応させてもよい。また、A成分とB成分とを反応させた後、その反応物とC成分とを反応させてもよく、A成分とC成分とを反応させた後、その反応物とB成分とを反応させてもよい。製法の簡便さおよび反応制御をしやすいとの観点から、A成分とB成分とを反応させた後、その反応物とC成分とを反応させることが好ましい。
ヒドロシリル化反応では、ヒドロシリル化反応用の公知の触媒を使用することができる。触媒としては、白金カーボン、塩化白金酸、白金のオレフィン錯体、白金のアルケニルシロキサン錯体、白金のカルボニル錯体等の白金系触媒;トリス(トリフェニルフォスフィン)ロジウム等のロジウム系触媒;ビス(シクロオクタジエニル)ジクロロイリジウム等のイリジウム系触媒を例示することができる。触媒は溶媒和物(例えば、水和物、アルコール和物等)の形態であってもよく、また、エタノール等のアルコールに溶解した溶液の形態であってもよい。
ヒドロシリル化反応において、触媒の使用量は、触媒としての有効量、すなわち、触媒の機能が発揮される量であればよい。例えば、触媒の使用量は、A成分100質量部に対して0.00001~20質量部であり、好ましくは0.0005~5質量部である。
ヒドロシリル化反応は溶媒を用いなくてもよいが、溶媒を用いることにより、より穏和な条件でヒドロシリル化反応を行うことができる。前記溶媒としては、例えば、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒;ヘキサン、オクタン等の脂肪族炭化水素溶媒;テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒;エタノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は単独で又は2種以上組み合わせてもよい。
ヒドロシリル化反応の温度は、例えば、0℃~150℃であり、好ましくは10℃~120℃である。また、ヒドロシリル化反応の反応時間は、例えば、5分~24時間である。
ヒドロシリル化反応によって、例えばA成分がB成分及びC成分に反応し、ヒドロシリル化エポキシ樹脂が生成する。
ヒドロシリル化エポキシ樹脂の重量平均分子量は、500~100000であることが好ましく、1000~50000であることがより好ましく、1000~30000であることがさらに好ましい。ヒドロシリル化エポキシ樹脂の重量平均分子量が500以上であることで、硬化物にしたときにより優れた低誘電特性が発現されやすくなる。さらに、ヒドロシリル化エポキシ樹脂の重量平均分子量が500以上であることで、低分子量のエポキシ樹脂に起因するはんだ耐熱性(耐熱フクレ性)の悪化を抑制することができる。また、ヒドロシリル化エポキシ樹脂の重量平均分子量が100000以下であることで、ヒドロシリル化エポキシ樹脂の溶媒への溶解性及び硬化物にしたときの低誘電特性が損なわれにくい。なお、ここでいう重量平均分子量は、GPC測定にてポリスチレン換算で測定した重量平均分子量をいう。
[エポキシ樹脂組成物]
本発明のヒドロシリル化エポキシ樹脂と、その他の成分と組み合わせて、これらを含むエポキシ樹脂組成物を調製することができる。その他の成分としては、ヒドロシリル化エポキシ樹脂以外のエポキシ樹脂、硬化触媒、硬化剤、添加剤等が挙げられる。本発明は、当該エポキシ樹脂組成物も包含する。
本発明のヒドロシリル化エポキシ樹脂と、その他の成分と組み合わせて、これらを含むエポキシ樹脂組成物を調製することができる。その他の成分としては、ヒドロシリル化エポキシ樹脂以外のエポキシ樹脂、硬化触媒、硬化剤、添加剤等が挙げられる。本発明は、当該エポキシ樹脂組成物も包含する。
当該エポキシ樹脂組成物は、本発明のヒドロシリル化エポキシ樹脂と、ヒドロシリル化エポキシ樹脂以外のエポキシ樹脂とを含んでもよい。以下、ヒドロシリル化エポキシ樹脂を「第1エポキシ樹脂」、ヒドロシリル化エポキシ樹脂以外のエポキシ樹脂を「第2エポキシ樹脂」と表記することがある。
前記第2エポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、臭素化エポキシ樹脂、トリグリシジルイソシアヌレート、水添ビスフェノールA型エポキシ樹脂、脂肪族系エポキシ樹脂、グリシジルエーテル型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ジシクロ型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂等が挙げられる。第2エポキシ樹脂は1種のみであってもよいし、2種以上が組み合わせられていてもよい。
本発明のエポキシ樹脂組成物が第1エポキシ樹脂及び第2エポキシ樹脂を含有する場合、本発明の効果が阻害されない範囲であれば、両者の配合割合は、例えば、第1エポキシ樹脂及び第2エポキシ樹脂の全質量に対して、第2エポキシ樹脂の含有割合を99質量%以下とすることができる。第2エポキシ樹脂の含有割合は、好ましくは80~1質量%であり、より好ましくは50~1質量%であり、さらに好ましくは30~1質量%である。
エポキシ樹脂組成物は、本発明のエポキシ樹脂と、その他の成分として硬化触媒及び/又は硬化剤とを含むものであってもよい。
エポキシ樹脂組成物に硬化触媒及び/又は硬化剤が含まれる場合、エポキシ樹脂組成物の硬化物を得るための硬化反応速度を高めることができ、また、得られる硬化物の強度を高めることもできる。
前記硬化触媒としては、エポキシ樹脂組成物の硬化物の電気特性を向上させる観点から、イミダゾール化合物、リン系化合物、カチオン硬化触媒等を例示することができる。硬化触媒の具体例としては、イミダゾール、2-メチルイミダゾール、2-エチルイミダゾール、2-エチル-4-メチルイミダゾール、2-フェニルイミダゾール等のイミダゾール化合物;ジシアンジアミド及びその誘導体;1,8-ジアザビシクロ(5,4,0)-ウンデセン-7、1,5-ジアザビシクロ(4,3,0)-ノネン-5、2,4,6-トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール、ジメチルアミノピリジン等の第三級アミン;トリフェニルホスフィン、テトラフェニルホスホニウムブロマイド、テトラフェニルホスホニウムテトラ-p-トリルボレート、テトラブチルホスホニウムo,o-ジエチルホスホロジチオエート等のリン系化合物、芳香族スルホニウム塩等のカチオン硬化触媒等が挙げられる。
前記硬化触媒の量は、例えば、全エポキシ樹脂100質量部に対して、硬化触媒の量が0.01~10質量部であり、0.1~5質量部であることがより好ましく、0.5~3質量部であることがさらに好ましい。なお、全エポキシ樹脂とは第1エポキシ樹脂及び第2エポキシ樹脂を示し、以下も同様である。
前記硬化剤としては、エポキシ樹脂と反応してエポキシ樹脂組成物の硬化物を得ることができるものが好ましい。例えば、硬化剤として、アミン系硬化剤、アミド系硬化剤、酸無水物系硬化剤、フェノール系硬化剤、活性エステル系硬化剤、シアネートエステル系硬化剤、メルカプタン系硬化剤、イソシアネート系硬化剤等を挙げることができる。
アミン系硬化剤としては、例えば、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン等の鎖状脂肪族アミン;イソフォロンジアミン、メンセンジアミン、ビス(4-アミノシクロヘキシル)メタン、ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、ジアミノジシクロヘキシルメタン等の脂環式アミン;メタフェニレンジアミン、ジアミノジフェニルメタン、ジエチルトルエンジアミン、ジアミノジエチルジフェニルメタン等の芳香族アミン;ベンジルジメチルアミン、トリエチレンジアミン、ピペリジン、2-(ジメチルアミノメチル)フェノール、2,4,6-トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール、1,8-ジアザビシクロ(5,4,0)-ウンデセン-7等の第二級及び三級アミン等が挙げられる。
アミド系硬化剤としては、例えば、ジシアンジアミド及びその誘導体、ポリアミド樹脂(ポリアミノアミド等)等が挙げられる。
酸無水物系硬化剤としては、例えば、無水マレイン酸、ドデセニル無水コハク酸等の脂肪族酸無水物;無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸等の芳香族酸無水物;無水メチルナジック酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、4-メチルヘキサヒドロ無水フタル酸等の脂環式酸無水物等が挙げられる。
フェノール系硬化剤としては、例えば、フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、ビフェニル型ノボラック樹脂、トリフェニルメタン型フェノール樹脂、ナフトールノボラック樹脂、フェノールビフェニレン樹脂、フェノールアラルキル樹脂、ビフェニルアラルキル型フェノール樹脂、変性ポリフェニレンエーテル樹脂、ベンゾオキサジン環を有する化合物等が挙げられる。
活性エステル系硬化剤としては、例えば、1分子中にエポキシ樹脂と反応するエステル基を1個以上有する化合物であり、具体的には、フェノールエステル、チオフェノールエステル、N-ヒドロキシアミンエステル及び複素環ヒドロキシ化合物エステル等が挙げられる。
シアネートエステル系硬化剤としては、例えば、ノボラック型シアネート樹脂、ビスフェノールA型シアネート樹脂、ビスフェノールE型シアネート樹脂、テトラメチルビスフェノールF型シアネート樹脂等のビスフェノール型シアネート樹脂等が挙げられる。
メルカプタン系硬化剤としては、例えば、トリメチロールプロパントリス(3-メルカプトプロピオネート)、トリス-[(3-メルカプトプロピオニルオキシ)-エチル]-イソシアヌレート、ペンタエリスリトールテトラキス(3-メルカプトプロピオネート)、テトラエチレングリコールビス(3-メルカプトプロピオネート)、ペンタエリスリトールテトラキス(3-メルカプトブチレート)、1,4-ビス(3-メルカプトブチリルオキシ)ブタン、トリメチロールプロパントリス(3-メルカプトブチレート)、トリメチロールエタントリス(3-メルカプトブチレート)、ポリサルファイドポリマー等が挙げられる。
イソシアネート系硬化剤としては、例えば、ヘキサメチレンジイソシアネート、1,4-テトラメチレンジイソシアネート、2-メチルペンタン-1,5-ジイソシアネート、リジンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ノルボルナンジイソシアネート等が挙げられる。
硬化剤は、要求される特性を考慮して、1種のみで用いてもよく、あるいは2種以上を併用してもよい。硬化剤としては、酸無水物系硬化剤、フェノール系硬化剤、活性エステル系硬化剤及びアミン系硬化剤のいずれか1種以上を含むことが好ましく、前記硬化剤を選択することにより、電気特性が向上しやすい。
本発明のエポキシ樹脂組成物に含まれる硬化剤の量は、例えば、本発明のエポキシ樹脂組成物中のエポキシ基1当量に対して、硬化剤中の反応性官能基量を0.1~5当量とすることができ、0.3~3当量とすることがより好ましく、0.5~2当量とすることがさらに好ましい。
本発明のエポキシ樹脂組成物は、その他の添加剤等を含んでいてもよい。添加剤としては、熱可塑性樹脂、フィラーを例示することができる。
熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリオレフィン樹脂、アクリル樹脂、フェノキシ樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリアセタール樹脂、これらが酸変性された樹脂等が挙げられる。本発明にかかるエポキシ樹脂組成物との相溶性及び耐熱性の観点から、ポリオレフィン樹脂、アクリル樹脂、フェノキシ樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、これらが酸変性された樹脂が好ましい。
フィラーとしては、例えば、シリカ(より具体的には結晶性シリカ、溶融シリカ、球状溶融シリカ等)、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化スズ、窒化珪素、炭化珪素、窒化ホウ素、炭酸カルシウム、珪酸カルシウム、チタン酸カリウム、窒化アルミニウム、酸化インジウム、アルミナ、酸化アンチモン、酸化セリウム、酸化マグネシウム、酸化鉄、スズドープ酸化インジウム(ITO)等の無機化合物が挙げられる。また、金、銀、銅、アルミニウム、ニッケル、鉄、亜鉛、ステンレス等の金属が挙げられる。また、フィラーとしては、モンモリロナイト、タルク、マイカ、ベーマイト、カオリン、スメクタイト、ゾノライト、バーキュライト、セリサイト等の鉱物が挙げられる。その他のフィラーとしては、カーボンブラック、アセチレンブラック、ケッチェンブラック、カーボンナノチューブ等の炭素化合物;水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム等の金属水酸化物;ガラスビーズ、ガラスフレーク、ガラスバルーン等の各種ガラスなどを挙げることができる。
前記フィラーは粉体であってもよく、樹脂中に分散された形態であってもよい。
前記フィラーは、エポキシ樹脂組成物又はその硬化物に要求される流動性、耐熱性、低熱膨張性、機械特性、硬度、耐擦傷性及び接着性等の性能を考慮して、単独で、又は複数種を組み合わせて用いることができる。
その他の添加剤として、例えば、酸化防止剤、無機蛍光体、滑剤、紫外線吸収剤、熱光安定剤、帯電防止剤、重合禁止剤、消泡剤、溶剤、老化防止剤、ラジカル禁止剤、接着性改良剤、難燃剤、界面活性剤、保存安定性改良剤、オゾン老化防止剤、増粘剤、可塑剤、放射線遮断剤、核剤、カップリング剤、導電性付与剤、リン系過酸化物分解剤、顔料、金属不活性化剤、物性調整剤等がエポキシ樹脂組成物に含まれていてもよい。
本発明のエポキシ樹脂組成物は、例えば、ヒドロシリル化エポキシ樹脂(第1エポキシ樹脂)と硬化触媒及び/又は硬化剤とを混合する工程を含む方法によって、製造することができる。ヒドロシリル化エポキシ樹脂と硬化触媒及び/又は硬化剤とを混合する際には、必要に応じて、第2エポキシ樹脂、フィラー等のその他添加剤を配合することができる。ヒドロシリル化エポキシ樹脂と硬化触媒及び/又は硬化剤とは、加温しながら混合することもできる。
ヒドロシリル化エポキシ樹脂と硬化触媒及び/又は硬化剤とを混合する方法は、例えば、市販の混合機を使用して混合することができる。
本発明のエポキシ樹脂組成物を硬化することにより硬化物を得ることができる。
例えば、エポキシ樹脂組成物を加熱することにより、エポキシ樹脂組成物の硬化物を得ることができる。硬化温度は、例えば、室温(例えば、20℃)~250℃である。硬化時間は、エポキシ樹脂組成物の成分、濃度及び配合比によって適宜調整でき、例えば、10分~1週間まで設定できる。また、硬化のための加熱は、数段階に分けてもよい。例えば、所定温度で加熱し、その後、さらに温度を上昇させて所定時間加熱するなど、加熱を数段階に分けて硬化物を得てもよい。
このように得られる硬化物は、優れた電気特性を有し、例えば、低誘電率及び低誘電正接に優れる。さらに、当該硬化物は、金属に対する接着強度も高い。
本発明のエポキシ樹脂組成物の硬化物は、エポキシ樹脂並びに硬化触媒及び/又は硬化剤(すなわち、エポキシ樹脂+硬化触媒、エポキシ樹脂+硬化剤、もしくは、エポキシ樹脂+硬化触媒+硬化剤)のみの硬化物の比誘電率(1GHz)が2.5~3.0程度であることが好ましく、2.5~2.8程度であることがより好ましい。また、本発明のエポキシ樹脂組成物の硬化物は、誘電正接(1GHz)が0.001~0.009程度であることが好ましく、0.002~0.008程度又は0.002~0.007程度であることがより好ましい。これらの条件を両方満たすものがより好ましい。
また、同様に、本発明のエポキシ樹脂は、その硬化物が、上記の比誘電率(1GHz)及び/又は誘電正接(1GHz)を満たすものが好ましい。
なお、ここでの比誘電率(1GHz)及び誘電正接(1GHz)は平行板コンデンサ法により測定される。平行板コンデンサ法による測定は、例えば公知の誘電率測定装置を用いて行うことができる。
本発明のエポキシ樹脂組成物の硬化物は、エポキシ樹脂並びに硬化触媒及び/又は硬化剤(すなわち、エポキシ樹脂+硬化触媒、エポキシ樹脂+硬化剤、もしくは、エポキシ樹脂+硬化触媒+硬化剤)のみの硬化物の比誘電率(1GHz)が2.5~3.0程度であることが好ましく、2.5~2.8程度であることがより好ましい。また、本発明のエポキシ樹脂組成物の硬化物は、誘電正接(1GHz)が0.001~0.009程度であることが好ましく、0.002~0.008程度又は0.002~0.007程度であることがより好ましい。これらの条件を両方満たすものがより好ましい。
また、同様に、本発明のエポキシ樹脂は、その硬化物が、上記の比誘電率(1GHz)及び/又は誘電正接(1GHz)を満たすものが好ましい。
なお、ここでの比誘電率(1GHz)及び誘電正接(1GHz)は平行板コンデンサ法により測定される。平行板コンデンサ法による測定は、例えば公知の誘電率測定装置を用いて行うことができる。
本発明のエポキシ樹脂組成物は、例えば、半導体封止材、液状封止材、ポッティング材、シール材、プリント基板材料、複合材料等の広範な用途に好適に用いることができる。例えば、これらの各種用途において、電気特性及び金属の接着性を高めるために本発明のエポキシ樹脂組成物を好適に使用することができる。
また、本発明のエポキシ樹脂組成物の硬化物は、半導体封止材、液状封止材、ポッティング材、シール材、プリント基板材料、複合材料等の構成要素(構成部材)として適用することができる。
以下、実施例により本発明をより具体的に説明する。
(製造例1~10)
以下に記載する、A成分、B成分及びC成分を使用して、ヒドロシリル化エポキシ樹脂を製造した。
以下に記載する、A成分、B成分及びC成分を使用して、ヒドロシリル化エポキシ樹脂を製造した。
より具体的には、A成分としては下記A-1、又はA-2を、B成分としては下記B-1、B-2、B-3又はB-4を、C成分としては下記C-1又はC-2を準備した。
A-1:1、4-ビス(ジメチルシリル)ベンゼン(Gelest社製)
A-2:ビス[(p-ジメチルシリル)フェニル]エーテル(Gelest社製)
B-1:ジビニルベンゼン(新日鉄住金化学社製)
B-2:フタル酸ジアリル(東京化成社製)
B-3:イソシアヌル酸トリアリル(東京化成社製)
B-4:5-ビニル-2-ノルボルネン(東京化成社製)
C-1:4-ビニル-1,2-エポキシシクロヘキサン(東京化成社製)
C-2:アリルグリシジルエーテル(大阪ソーダ社製)
A-1:1、4-ビス(ジメチルシリル)ベンゼン(Gelest社製)
A-2:ビス[(p-ジメチルシリル)フェニル]エーテル(Gelest社製)
B-1:ジビニルベンゼン(新日鉄住金化学社製)
B-2:フタル酸ジアリル(東京化成社製)
B-3:イソシアヌル酸トリアリル(東京化成社製)
B-4:5-ビニル-2-ノルボルネン(東京化成社製)
C-1:4-ビニル-1,2-エポキシシクロヘキサン(東京化成社製)
C-2:アリルグリシジルエーテル(大阪ソーダ社製)
(製造例1)
次のようにして、エポキシ樹脂を調製した。なお、表1に示すように、A成分としてA-1を、B成分としてB-2を、C成分としてC-1を、それぞれ用いた。
A成分及びB成分を、表1に示す量でトルエン20mLに溶解させ、撹拌機、冷却管、温度計及び滴下ロートを備え付けた100mL容の4つ口フラスコを入れた。次いで、白金触媒(エヌ・イーケムキャット社製、Pt-VTS-IPA溶液)20mgを25℃で添加し、40℃で2時間攪拌させた。その後、トルエン20mLに溶解させたC成分を40℃で滴下し、反応液を90℃に維持しながら、4時間攪拌した。反応液の成分を高速液体クロマトグラフィー(HPLC)によって分析し、A成分の消失を確認することにより反応の完了を確認した。その後、トルエンを留去により除去して反応液を濃縮することでエポキシ樹脂1を得た。
得られたエポキシ樹脂1は、微黄色透明液体であった。
次のようにして、エポキシ樹脂を調製した。なお、表1に示すように、A成分としてA-1を、B成分としてB-2を、C成分としてC-1を、それぞれ用いた。
A成分及びB成分を、表1に示す量でトルエン20mLに溶解させ、撹拌機、冷却管、温度計及び滴下ロートを備え付けた100mL容の4つ口フラスコを入れた。次いで、白金触媒(エヌ・イーケムキャット社製、Pt-VTS-IPA溶液)20mgを25℃で添加し、40℃で2時間攪拌させた。その後、トルエン20mLに溶解させたC成分を40℃で滴下し、反応液を90℃に維持しながら、4時間攪拌した。反応液の成分を高速液体クロマトグラフィー(HPLC)によって分析し、A成分の消失を確認することにより反応の完了を確認した。その後、トルエンを留去により除去して反応液を濃縮することでエポキシ樹脂1を得た。
得られたエポキシ樹脂1は、微黄色透明液体であった。
このように取得したエポキシ樹脂1をテトラヒドロフランに溶解させ、GPCにてポリスチレン換算重量平均分子量を測定した。結果を表1に示す。
(製造例2~10)
表1に示す種類及び量のA成分、B成分及びC成分を、製造例1と同様にして反応させた。
反応液の成分を高速液体クロマトグラフィー(HPLC)によって分析し、A成分の消失を確認することにより反応の完了を確認した。その後、トルエンを留去により除去して反応液を濃縮することでエポキシ樹脂2~10を得た(表1)。
得られたエポキシ樹脂2~10は、いずれも微黄色透明液体であった。また、製造例1と同様にして、各エポキシ樹脂の重量平均分子量を測定した。結果を表1に示す。
(製造例2~10)
表1に示す種類及び量のA成分、B成分及びC成分を、製造例1と同様にして反応させた。
反応液の成分を高速液体クロマトグラフィー(HPLC)によって分析し、A成分の消失を確認することにより反応の完了を確認した。その後、トルエンを留去により除去して反応液を濃縮することでエポキシ樹脂2~10を得た(表1)。
得られたエポキシ樹脂2~10は、いずれも微黄色透明液体であった。また、製造例1と同様にして、各エポキシ樹脂の重量平均分子量を測定した。結果を表1に示す。
(実施例1)
製造例1で得られたエポキシ樹脂1、及び、カチオン硬化触媒(三新化学工業社製、サンエイドSI-100L;硬化触媒Aと表記することがある)を、表2に示す割合(質量比)でカップに秤量し、30℃に加温しながら攪拌することで均一混合し、エポキシ樹脂組成物を調製した。
製造例1で得られたエポキシ樹脂1、及び、カチオン硬化触媒(三新化学工業社製、サンエイドSI-100L;硬化触媒Aと表記することがある)を、表2に示す割合(質量比)でカップに秤量し、30℃に加温しながら攪拌することで均一混合し、エポキシ樹脂組成物を調製した。
(実施例2)
エポキシ樹脂1を製造例3で得られたエポキシ樹脂3に変更し、表2に示す割合(質量比)に変更したこと以外は実施例1と同様の方法でエポキシ樹脂組成物を調製した。
エポキシ樹脂1を製造例3で得られたエポキシ樹脂3に変更し、表2に示す割合(質量比)に変更したこと以外は実施例1と同様の方法でエポキシ樹脂組成物を調製した。
(実施例3)
エポキシ樹脂1を製造例5で得られたエポキシ樹脂5に変更し、表2に示す割合(質量比)に変更したこと以外は実施例1と同様の方法でエポキシ樹脂組成物を調製した。
エポキシ樹脂1を製造例5で得られたエポキシ樹脂5に変更し、表2に示す割合(質量比)に変更したこと以外は実施例1と同様の方法でエポキシ樹脂組成物を調製した。
(実施例4)
製造例1で得られたエポキシ樹脂1、硬化触媒2-エチル-4-メチルイミダゾール(三菱化学社製、EMI24;硬化触媒Bと表記することがある)及び酸無水物系硬化剤(新日本理化社製、MH-700;硬化剤Aと表記することがある)を、表2に示す割合(質量比)でカップに秤量し、30℃に加温しながら攪拌することで均一混合し、エポキシ樹脂組成物を調製した。
製造例1で得られたエポキシ樹脂1、硬化触媒2-エチル-4-メチルイミダゾール(三菱化学社製、EMI24;硬化触媒Bと表記することがある)及び酸無水物系硬化剤(新日本理化社製、MH-700;硬化剤Aと表記することがある)を、表2に示す割合(質量比)でカップに秤量し、30℃に加温しながら攪拌することで均一混合し、エポキシ樹脂組成物を調製した。
(実施例5)
エポキシ樹脂1を製造例2で得られたエポキシ樹脂2に変更し、表2に示す割合(質量比)に変更したこと以外は実施例4と同様の方法でエポキシ樹脂組成物を調製した。
エポキシ樹脂1を製造例2で得られたエポキシ樹脂2に変更し、表2に示す割合(質量比)に変更したこと以外は実施例4と同様の方法でエポキシ樹脂組成物を調製した。
(実施例6)
エポキシ樹脂1を製造例3で得られたエポキシ樹脂3に変更し、表2に示す割合(質量比)に変更したこと以外は実施例4と同様の方法でエポキシ樹脂組成物を調製した。
エポキシ樹脂1を製造例3で得られたエポキシ樹脂3に変更し、表2に示す割合(質量比)に変更したこと以外は実施例4と同様の方法でエポキシ樹脂組成物を調製した。
(実施例7)
エポキシ樹脂1を製造例4で得られたエポキシ樹脂4に変更し、表2に示す割合(質量比)に変更したこと以外は実施例4と同様の方法でエポキシ樹脂組成物を調製した。
エポキシ樹脂1を製造例4で得られたエポキシ樹脂4に変更し、表2に示す割合(質量比)に変更したこと以外は実施例4と同様の方法でエポキシ樹脂組成物を調製した。
(実施例8)
エポキシ樹脂1を製造例5で得られたエポキシ樹脂5に変更し、表2に示す割合(質量比)に変更したこと以外は実施例4と同様の方法でエポキシ樹脂組成物を調製した。
エポキシ樹脂1を製造例5で得られたエポキシ樹脂5に変更し、表2に示す割合(質量比)に変更したこと以外は実施例4と同様の方法でエポキシ樹脂組成物を調製した。
(実施例9)
エポキシ樹脂1を製造例6で得られたエポキシ樹脂6に変更し、表2に示す割合(質量比)に変更したこと以外は実施例4と同様の方法でエポキシ樹脂組成物を調製した。
エポキシ樹脂1を製造例6で得られたエポキシ樹脂6に変更し、表2に示す割合(質量比)に変更したこと以外は実施例4と同様の方法でエポキシ樹脂組成物を調製した。
(実施例10)
エポキシ樹脂1を製造例7で得られたエポキシ樹脂7に変更し、表2に示す割合(質量比)に変更したこと以外は実施例1と同様の方法でエポキシ樹脂組成物を調製した。
エポキシ樹脂1を製造例7で得られたエポキシ樹脂7に変更し、表2に示す割合(質量比)に変更したこと以外は実施例1と同様の方法でエポキシ樹脂組成物を調製した。
(実施例11)
エポキシ樹脂1を製造例8で得られたエポキシ樹脂8に変更し、表2に示す割合(質量比)に変更したこと以外は実施例1と同様の方法でエポキシ樹脂組成物を調製した。
エポキシ樹脂1を製造例8で得られたエポキシ樹脂8に変更し、表2に示す割合(質量比)に変更したこと以外は実施例1と同様の方法でエポキシ樹脂組成物を調製した。
(実施例12)
エポキシ樹脂1を製造例9で得られたエポキシ樹脂9に変更し、表2に示す割合(質量比)に変更したこと以外は実施例1と同様の方法でエポキシ樹脂組成物を調製した。
エポキシ樹脂1を製造例9で得られたエポキシ樹脂9に変更し、表2に示す割合(質量比)に変更したこと以外は実施例1と同様の方法でエポキシ樹脂組成物を調製した。
(実施例13)
エポキシ樹脂1を製造例10で得られたエポキシ樹脂10に変更し、表2に示す割合(質量比)に変更したこと以外は実施例1と同様の方法でエポキシ樹脂組成物を調製した。
エポキシ樹脂1を製造例10で得られたエポキシ樹脂10に変更し、表2に示す割合(質量比)に変更したこと以外は実施例1と同様の方法でエポキシ樹脂組成物を調製した。
(実施例14)
製造例5で得られたエポキシ樹脂5、硬化触媒であるトリフェニルホスフィン(東京化成工業社製;硬化触媒Cと表記することがある)及びフェノール樹脂系硬化剤([フェノールノボラック型樹脂(DIC社製、TD-2131)];硬化剤Bと表記することがある)を、表2に示す割合(質量比)でカップに秤量し、30℃に加温しながら攪拌することで均一混合し、エポキシ樹脂組成物を調製した。
製造例5で得られたエポキシ樹脂5、硬化触媒であるトリフェニルホスフィン(東京化成工業社製;硬化触媒Cと表記することがある)及びフェノール樹脂系硬化剤([フェノールノボラック型樹脂(DIC社製、TD-2131)];硬化剤Bと表記することがある)を、表2に示す割合(質量比)でカップに秤量し、30℃に加温しながら攪拌することで均一混合し、エポキシ樹脂組成物を調製した。
(実施例15)
製造例5で得られたエポキシ樹脂5、硬化触媒である4-ジメチルアミノピリジン(東京化成工業社製:硬化触媒Dと表記することがある)及び活性エステル系硬化剤(活性エステル樹脂、DIC社製、EPICLON HPC-8000-65T;硬化剤Cと表記することがある)を、表2に示す割合(質量比)でカップに秤量し、30℃に加温しながら攪拌することで均一混合し、エポキシ樹脂組成物を調製した。
製造例5で得られたエポキシ樹脂5、硬化触媒である4-ジメチルアミノピリジン(東京化成工業社製:硬化触媒Dと表記することがある)及び活性エステル系硬化剤(活性エステル樹脂、DIC社製、EPICLON HPC-8000-65T;硬化剤Cと表記することがある)を、表2に示す割合(質量比)でカップに秤量し、30℃に加温しながら攪拌することで均一混合し、エポキシ樹脂組成物を調製した。
(比較例1)
実施例1において、エポキシ樹脂1を、Bis-A型エポキシ樹脂(三菱化学社製JER828;エポキシ樹脂11と表記することがある)に変更し、表3に示す割合(質量比)に変更したこと以外は実施例1と同様の方法でエポキシ樹脂組成物を調製した。
実施例1において、エポキシ樹脂1を、Bis-A型エポキシ樹脂(三菱化学社製JER828;エポキシ樹脂11と表記することがある)に変更し、表3に示す割合(質量比)に変更したこと以外は実施例1と同様の方法でエポキシ樹脂組成物を調製した。
(比較例2)
実施例4において、エポキシ樹脂1を、エポキシ樹脂11に変更し、表3に示す割合(質量比)に変更したこと以外は実施例4と同様の方法でエポキシ樹脂組成物を調製した。
実施例4において、エポキシ樹脂1を、エポキシ樹脂11に変更し、表3に示す割合(質量比)に変更したこと以外は実施例4と同様の方法でエポキシ樹脂組成物を調製した。
(比較例3)
実施例1において、エポキシ樹脂1を1,4-ビス{[2-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチル]ジメチルシリル}ベンゼン(エポキシ樹脂12と表記することがある)に変更し、表3に示す割合(質量比)に変更したこと以外は実施例1と同様の方法でエポキシ樹脂組成物を調製した。
実施例1において、エポキシ樹脂1を1,4-ビス{[2-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチル]ジメチルシリル}ベンゼン(エポキシ樹脂12と表記することがある)に変更し、表3に示す割合(質量比)に変更したこと以外は実施例1と同様の方法でエポキシ樹脂組成物を調製した。
(銅箔に対する90度ピール強度)
各実施例及び比較例で調製したエポキシ樹脂組成物をアルミニウム板に塗布し、その上から厚さ35μmの電解銅箔(古河電工社製)を重ね合わせて積層体を形成した。この積層体を100℃で1時間、次いで120℃で2時間、次いで150℃で2時間加熱することで、エポキシ樹脂組成物の硬化物を形成させた。硬化後、幅が1cmとなるようにカッターで切れ目を入れ、これを90度ピール強度試験片とした。得られた試験片について、AGS-X(島津製作所社製)を用いて、試験速度50mm/minの条件で90度ピール強度試験を実施した。
各実施例及び比較例で調製したエポキシ樹脂組成物をアルミニウム板に塗布し、その上から厚さ35μmの電解銅箔(古河電工社製)を重ね合わせて積層体を形成した。この積層体を100℃で1時間、次いで120℃で2時間、次いで150℃で2時間加熱することで、エポキシ樹脂組成物の硬化物を形成させた。硬化後、幅が1cmとなるようにカッターで切れ目を入れ、これを90度ピール強度試験片とした。得られた試験片について、AGS-X(島津製作所社製)を用いて、試験速度50mm/minの条件で90度ピール強度試験を実施した。
(電気特性:比誘電率及び誘電正接)
各実施例及び比較例で調製したエポキシ樹脂組成物を樹脂製モールド(厚さ1mm)に流し込み、100℃で1時間、次いで120℃で2時間、次いで150℃で2時間加熱することで、エポキシ樹脂組成物の硬化物を形成させた。その後、幅20mm×長さ30mm×厚さ1mmのサイズに切り出し、これを誘電率測定用試験片とした。得られた試験片について、誘電率測定装置(E4991ARFインピーダンス/マテリアル・アナライザー、アジレント社製)を用いて、PTFEで校正した後、平行板コンデンサ法によって比誘電率(1GHz)及び誘電正接(1GHz)を測定した。
各実施例及び比較例で調製したエポキシ樹脂組成物を樹脂製モールド(厚さ1mm)に流し込み、100℃で1時間、次いで120℃で2時間、次いで150℃で2時間加熱することで、エポキシ樹脂組成物の硬化物を形成させた。その後、幅20mm×長さ30mm×厚さ1mmのサイズに切り出し、これを誘電率測定用試験片とした。得られた試験片について、誘電率測定装置(E4991ARFインピーダンス/マテリアル・アナライザー、アジレント社製)を用いて、PTFEで校正した後、平行板コンデンサ法によって比誘電率(1GHz)及び誘電正接(1GHz)を測定した。
(耐はんだ耐熱性(耐熱フクレ性))
各実施例及び比較例で調製したエポキシ樹脂組成物を厚さ35μmの電解銅箔(古河電工社製)に塗布し、その上から電解銅箔を重ねて積層体を形成した。この積層体を100℃で1時間、次いで120℃で2時間、次いで150℃で2時間加熱することで、エポキシ樹脂組成物の硬化物を形成させた。硬化後、幅が1cmとなるようにカッターで切断し、これ耐熱フクレ性試験片とした。得られた試験片について、280℃はんだ槽に3分間浸漬させ、浸漬後の外観変化を、目視で観察した。フクレが見られたものを「×」(不良)、見られなかったものを「○」(良)と評価した。
なお、図1にフクレが生じた試験片の一例を示す。
各実施例及び比較例で調製したエポキシ樹脂組成物を厚さ35μmの電解銅箔(古河電工社製)に塗布し、その上から電解銅箔を重ねて積層体を形成した。この積層体を100℃で1時間、次いで120℃で2時間、次いで150℃で2時間加熱することで、エポキシ樹脂組成物の硬化物を形成させた。硬化後、幅が1cmとなるようにカッターで切断し、これ耐熱フクレ性試験片とした。得られた試験片について、280℃はんだ槽に3分間浸漬させ、浸漬後の外観変化を、目視で観察した。フクレが見られたものを「×」(不良)、見られなかったものを「○」(良)と評価した。
なお、図1にフクレが生じた試験片の一例を示す。
表1には、各製造例で使用した成分の配合量及び得られたエポキシ樹脂の重量平均分子量を示す。表1中の括弧内のmolは、A成分のヒドロシリル基、B成分の炭素-炭素不飽和結合基、又はC成分の不飽和結合基の官能基、のモル数を表す。
Claims (9)
- (A)ヒドロシリル基を有する有機化合物由来の、ヒドロシリル基の水素原子が除されて形成される構成単位と、
(B)炭素-炭素不飽和結合を有し、且つエポキシ基を有さない化合物由来の、炭素-炭素不飽和結合がC=C結合又はC-C結合に変換されて形成される構成単位と、
(C)炭素-炭素不飽和結合及びエポキシ基を有する化合物由来の、炭素-炭素不飽和結合がC=C結合又はC-C結合に変換されて形成される構成単位と
を有するエポキシ樹脂。 - (B)炭素-炭素不飽和結合を有し、且つエポキシ基を有さない化合物が、式(8):
で表される化合物である、
請求項2に記載のエポキシ樹脂。 - (C)炭素-炭素不飽和結合及びエポキシ基を有する化合物が、式(15):
で表される化合物であり、
請求項3に記載のエポキシ樹脂。 - 式(23):
で表される、請求項4に記載のエポキシ樹脂。 - 請求項1~5のいずれかに記載のエポキシ樹脂と、硬化触媒及び/又は硬化剤とを含む、エポキシ樹脂組成物。
- 請求項6に記載のエポキシ樹脂組成物の硬化物。
- 請求項6に記載のエポキシ樹脂組成物、又は、請求項7に記載の硬化物を構成要素として含む、半導体封止体、液状封止材、ポッティング材、シール材、プリント基板材料又は複合材料。
- 請求項6に記載のエポキシ樹脂組成物の製造方法であって、
前記エポキシ樹脂と、硬化触媒及び/又は硬化剤とを混合する工程を含む、製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017072878 | 2017-03-31 | ||
JP2017-072878 | 2017-03-31 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
WO2018181719A1 true WO2018181719A1 (ja) | 2018-10-04 |
Family
ID=63678231
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
PCT/JP2018/013257 WO2018181719A1 (ja) | 2017-03-31 | 2018-03-29 | エポキシ樹脂、エポキシ樹脂組成物、並びに、その硬化物、用途及び製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
TW (1) | TW201841968A (ja) |
WO (1) | WO2018181719A1 (ja) |
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- 2018-03-29 WO PCT/JP2018/013257 patent/WO2018181719A1/ja active Application Filing
- 2018-03-29 TW TW107110946A patent/TW201841968A/zh unknown
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