WO2018179213A1

WO2018179213A1 - 表示装置およびその製造方法

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Publication number: WO2018179213A1
Application number: PCT/JP2017/013236
Authority: WO
Inventors: 渡辺　典子
Original assignee: シャープ株式会社
Priority date: 2017-03-30
Filing date: 2017-03-30
Publication date: 2018-10-04
Also published as: CN110463347A; US20190363290A1

Abstract

フレキシブルディスプレイ（１）は、第１無機層（３１）、有機層（３２）、および第２無機層（３３）を含む封止膜（３０）上に設けられた接着剤層（４０）と、接着剤層（４０）上に設けられたカバー層（５０）と、を備え、接着剤層（４０ａ・４０ｂ）およびカバー層（５０ａ・５０ｂ）は、平面視で、折り曲げ部における、少なくとも、有機ＥＬ素子（２４）に隣接する領域を避けて設けられている。

Description

表示装置およびその製造方法

　本発明は、表示装置およびその製造方法に関する。

　フレキシブルディスプレイは、電気光学素子を、該電気光学素子を駆動する、その他の回路等と一緒に、これら回路を支持する支持体と、各種機能層とで挟んだ構成を有している。

　フレキシブルディスプレイは、表示部分が柔軟に変形可能であり、薄くて軽く、折り曲げが可能な折り畳み式の表示装置として用いられる。

　上記電気光学素子としては、例えば、発光材料の電界発光（Electro luminescence；以下、「ＥＬ」と記す）を利用した光学素子であるＥＬ素子等が挙げられる。ＥＬ素子を用いたＥＬ表示装置は、液晶表示装置に比べて応答速度が速く、視野角も広い表示装置として注目されている。

　このような表示装置は、表面にバリア層が形成された、ポリイミド等からなる樹脂層（樹脂フィルム基板）上に、ＴＦＴ、有機ＥＬ素子等の光学素子、および該光学素子を覆う封止層が設けられた表示パネルと、該表示パネルの表面に設けられた、偏光フィルムやカバーフィルム等の機能性フィルムと、を備えている（例えば、特許文献１参照）。

日本国公開特許公報「特開２０１３－１０９８６９号公報（２０１３年６月６日公開）」

　バリア層および封止層は、光学素子に水分や酸素が浸入するのを防止する。しかしながら、これらバリア層、封止層、および光学素子は、外力に対して脆弱な脆弱層であり、表示装置を折り曲げたときに、上記脆弱層に応力ができるだけ印加されないようにする必要がある。

　表示装置の厚みの中心付近には、表示装置を折り曲げたときに伸びも縮みもしない中立面がある。なお、中立面は、積層された層の順番、ヤング率、厚みで決定される。

　表示装置を折り曲げたとき、厚み方向において上記中立面よりも外側の層には引張応力が印加され、厚み方向において上記中立面よりも内側の層には圧縮応力が印加される。

　上記機能性フィルムは、支持体となる上記樹脂フィルム基板に対して厚みがかなり大きく、表示パネルの片面にのみ設けられている。上記機能性フィルムが上記樹脂フィルム基板の両面に設けられた表示装置は、折り曲げることができない。一方、上記機能性フィルムが上記樹脂フィルムの片面にのみ設けられている表示装置では、上述した、防湿層等の脆弱層に応力が印加され易くなる。例えば、上記機能性フィルムが上記樹脂フィルムの片面にのみ設けられている場合に、上記樹脂フィルムを内側にして表示装置を折り曲げる場合、上記バリア層は、厚み方向において中立層の外側に位置することから、引張応力が印加され易い。

　そして、上記バリア層が、例えば引張応力を受けて破断（膜破断）し、水分が透過すると、上記光学素子の点灯不良が生じる。

　本発明は、上記問題点に鑑みなされたものであり、その目的は、折り曲げ部にかかる応力を低減し、折り曲げによる、折り曲げ部での層の破断が生じず、点灯不良を防止することができる表示装置およびその製造方法を提供することにある。

　上記の課題を解決するために、本発明の一態様にかかる表示装置は、少なくとも１つの折り曲げ部を有する表示装置であって、バリア層を有する支持体と、上記支持体上に設けられた複数の光学素子と、互いに重畳配置された複数の無機層と上記複数の無機層の間に挟持された少なくとも１層の有機層とを含み、上記複数の光学素子を封止する封止膜と、上記封止膜上に設けられた接着剤層と、上記接着剤層上に設けられた、機能性フィルム層を含むカバー層と、を備え、上記接着剤層および上記カバー層は、平面視で、上記折り曲げ部における、少なくとも、上記光学素子に隣接する領域を避けて設けられている。

　上記の課題を解決するために、本発明の一態様にかかる表示装置の製造方法は、バリア層を有する支持体と、上記支持体上に設けられた複数の光学素子と、互いに重畳配置された複数の無機層と上記複数の無機層の間に挟持された少なくとも１層の有機層とを含み、上記複数の光学素子を封止する封止膜と、上記封止膜上に設けられた接着剤層と、上記接着剤層上に設けられた、機能性フィルム層を含むカバー層と、を備えるとともに、少なくとも１つの折り曲げ部を有する表示装置の製造方法であって、平面視で、上記折り曲げ部における、少なくとも、上記光学素子に隣接する領域を避けて、上記接着剤層および上記カバー層を形成する。

　本発明の一態様によれば、折り曲げ部にかかる応力を低減し、折り曲げによる、折り曲げ部での層の破断が生じず、点灯不良を防止することができる表示装置およびその製造方法を提供することができる。

本発明の実施形態１にかかるフレキシブルディスプレイの折り曲げ部の周囲の概略構成を示す断面図である。本発明の実施形態１にかかるフレキシブルディスプレイの概略構成を示す断面図である。本発明の実施形態１にかかるフレキシブルディスプレイの配線構造を示す平面図である。本発明の実施形態１にかかるフレキシブルディスプレイの概略構成を示す平面図である。本発明の実施形態１にかかるフレキシブルディスプレイの端子部の周囲の概略構成を示す断面図である。（ａ）～（ｃ）は、本発明の実施形態１にかかるフレキシブルディスプレイの要部の製造工程を工程順に示す断面図である。本発明の実施形態２にかかるフレキシブルディスプレイの折り曲げ部の周囲の概略構成を示す断面図である。本発明の実施形態２にかかるフレキシブルディスプレイの概略構成を示す断面図である。本発明の実施形態２にかかるフレキシブルディスプレイの配線構造を示す平面図である。本発明の実施形態２にかかるフレキシブルディスプレイの概略構成を示す平面図である。本発明の実施形態３にかかるフレキシブルディスプレイの折り曲げ部の周囲の概略構成を示す断面図である。本発明の実施形態３にかかるフレキシブルディスプレイの概略構成を示す断面図である。本発明の実施形態４にかかるフレキシブルディスプレイの概略構成を示す断面図である。本発明の実施形態４にかかるフレキシブルディスプレイの折り曲げ部の周囲の概略構成を示す端面図である。本発明の実施形態５にかかるフレキシブルディスプレイの折り畳み部の周囲の概略構成を示す断面図である。本発明の実施形態５にかかるフレキシブルディスプレイで用いられる導光体の一例を示す断面図である。本発明の実施形態５にかかるフレキシブルディスプレイで用いられる導光体の他の例を示す断面図である。本発明の実施形態５にかかるフレキシブルディスプレイで用いられる導光体のさらに他の例を示す断面図である。

　以下、本発明の実施の形態について、詳細に説明する。

　〔実施形態１〕
　本発明の実施の一形態について、図１～図６に基づいて説明すれば、以下の通りである。

　なお、以下では、本実施形態にかかるフレキシブルディスプレイ（表示装置）が、発光素子（光学素子）として、有機ＥＬ素子と称されるＯＬＥＤ（Organic Light Emitting Diode：有機発光ダイオード）素子を含むＯＬＥＤ層を備えた有機ＥＬ表示装置である場合を例に挙げて説明する。

　＜フレキシブルディスプレイの概略構成＞
　図１は、本実施形態にかかるフレキシブルディスプレイ１の折り曲げ部の周囲の概略構成を示す断面図である。図２は、本実施形態にかかるフレキシブルディスプレイ１の概略構成を示す断面図である。図３は、本実施形態にかかるフレキシブルディスプレイ１の配線構造を示す平面図である。図４は、本実施形態にかかるフレキシブルディスプレイ１の概略構成を示す平面図である。図５は、本実施形態にかかるフレキシブルディスプレイ１の端子部１２Ｔの周囲の概略構成を示す断面図である。

　なお、図１は、図４に示すフレキシブルディスプレイ１のＡ－Ａ線矢視断面図に相当する。図５は、図４に示すフレキシブルディスプレイ１のＢ－Ｂ線矢視断面図に相当する。

　本実施形態にかかるフレキシブルディスプレイ１は、折り畳み（屈曲）および展開（伸展）自在に設けられた、折り畳み式の可撓性画像表示装置（フォルダブルディスプレイ）である。

　なお、ここで、展開状態とは、フレキシブルディスプレイ１を、１８０°展開した状態、すなわち、フレキシブルディスプレイ１を開くことで平らにする、いわゆるフルフラットにした状態を示す。

　以下では、上記フレキシブルディスプレイ１が、二つ折りの矩形状のディスプレイである場合を例に挙げて説明する。

　上記フレキシブルディスプレイ１は、図１、図３～図５に示すように、平面視で、画像を表示する表示領域５と、表示領域５の周囲を囲む周辺領域である、枠状の額縁領域６と、を有している。図４では、図示の便宜上、表示領域５に対する額縁領域６の比率を、実際よりもかなり大きく記載している。

　本実施形態にかかるフレキシブルディスプレイ１は、図１、図２、図５に示すように、ＯＬＥＤパネル２上に、接着剤層４０ａ・４０ｂからなる接着剤層４０、および、カバー層５０ａ・５０ｂからなるカバー層５０が、ＯＬＥＤパネル２側からこの順に設けられた構成を有している。

　上記フレキシブルディスプレイ１には、図１～図４に示すように、溝部７を有する折り曲げ部が設けられている。

　折り曲げ部（溝部７）は、図３および図４に示すように、フレキシブルディスプレイ１の長手方向に沿った各辺をそれぞれ各辺の中央部で二分割する（つまり、二等分する）ように、フレキシブルディスプレイ１の長手方向に沿った各辺の中央部を結んで、短手方向に沿って１つ設けられている。なお、図３および図４では、折り曲げ部の折り曲げ中心を、折り曲げ線ＦＬとして一点鎖線で示している。

　溝部７は、平面視で、接着剤層４０ａ・４０ｂ間およびカバー層５０ａ・５０ｂ間に隙間を設けることで形成されている。

　ＯＬＥＤパネル２は、ＴＦＴ（Thin Film Transistor）基板１０上に、有機ＥＬ素子２４（ＯＬＥＤ素子）を構成するＯＬＥＤ層２０、および封止膜３０が、ＴＦＴ基板１０側からこの順に設けられた構成を有している。以下に、より詳細に説明する。

　（ＴＦＴ基板１０）
　ＴＦＴ基板１０は、絶縁性の支持体１１と、支持体１１上に設けられたＴＦＴ層１２と、を備えている。

　（支持体１１）
　支持体１１は、図１および図２に示すように、樹脂層１１ｂと、樹脂層１１ｂ上に設けられたバリア層１１ｃ（防湿層）と、樹脂層１１ｂにおけるバリア層１１ｃとは反対面側に、図示しない接着層を介して設けられた下面フィルム１１ａと、を備えた、可撓性を有する積層フィルムである。

　上記樹脂層１１ｂに使用される樹脂としては、例えば、ポリイミド、ポリエチレン、ポリアミド等が挙げられる。

　バリア層１１ｃは、水分や不純物が、支持体１１上に形成されるＴＦＴ層１２およびＯＬＥＤ層２０に到達することを防ぐ層であり、例えば、酸化シリコン（ＳｉＯｘ）膜、窒化シリコン（ＳｉＮｘ）膜、またはこれらの積層膜等で形成することができる。

　バリア層１１ｃは、樹脂層１１ｂの表面が露出しないように、樹脂層１１ｂにおける一面全体に渡って設けられる。これにより、樹脂層１１ｂとして、例えばポリイミド等の薬液に弱い樹脂を用いた場合であっても、薬液による上記樹脂の溶出および工程汚染を防止することができる。

　下面フィルム１１ａは、ＯＬＥＤパネル２の製造に使用したガラス基板等のキャリア基板を剥離した樹脂層１１ｂの下面に貼り付けることで、樹脂層１１ｂが非常に薄い場合にも、十分な強度のあるフレキシブルディスプレイ１を製造するためのものである。下面フィルム１１ａには、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、シクロオレフィンポリマー、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリエチレン、アラミド、等の可撓性を有する樹脂からなるプラスチックフィルムが用いられる。

　（ＴＦＴ層１２）
　ＴＦＴ層１２は、図１および図２に示すように、複数の島状に形成された半導体層１３と、これら半導体層１３を覆うように支持体１１上に形成されたゲート絶縁膜１４と、ゲート絶縁膜１４上に形成された、ゲート電極Ｇを含む第１金属層と、第１金属層を覆う無機絶縁膜１５（第１パッシベーション膜）と、無機絶縁膜１５上に形成された、容量電極Ｃを含む第２金属層と、第２金属層を覆うように無機絶縁膜１５上に形成された無機絶縁膜１６（第２パッシベーション膜）と、無機絶縁膜１６上に形成された、ソース電極Ｓ、ドレイン電極Ｄ、配線Ｗを含む第３金属層と、平坦化膜を含む有機絶縁膜１７と、各配線の端子ＴＭ（端子電極）が設けられた端子部１２Ｔと、を含んでいる。なお、上記第３金属層上には、第３パッシベーション膜として、図示しない無機絶縁膜が設けられていてもよい。

　半導体層１３、ゲート電極Ｇ、無機絶縁膜１５・１６、ソース電極Ｓおよびドレイン電極Ｄは、ＴＦＴ１８を構成している。ＴＦＴの構成は公知であるため、詳細な説明は省略するが、各ＴＦＴ１８におけるゲート電極Ｇには、第１金属層からなるゲート配線ＧＬ１・ＧＬ２・…・ＧＬｎ－１・ＧＬｎ（ｎは任意の整数、以下、これらゲート配線を総称して「ゲート配線ＧＬ」と記す）の何れかが接続されている。各ＴＦＴ１８におけるソース電極Ｓには、ソース配線ＳＬ１・ＳＬ２・…・ＳＬｍ－１・ＳＬｍ（ｍは任意の整数、以下、これらソース配線を総称して「ソース配線ＳＬ」と記す）の何れかが接続されている。ドレイン電極Ｄは、有機絶縁膜１７を貫通するコンタクトホールを介して第１電極２１と接続されている。ゲート配線ＧＬとソース配線ＳＬとは、平面視で、互いに直交するように交差している。

　ゲート配線ＧＬとソース配線ＳＬとによって格子状に囲まれた領域が副画素３であり、各色の副画素３のセットで、一つの画素４が形成されている。図２および図４に示す例では、副画素３として、赤色副画素３Ｒ、緑色副画素３Ｇ、青色副画素３Ｂが設けられており、これら赤色副画素３Ｒ、緑色副画素３Ｇ、青色副画素３Ｂで、一つの画素４が形成されている。各副画素３には、それぞれＴＦＴ１８が設けられている。

　なお、図１では、ＴＦＴ１８が、半導体層１３をチャネルとするトップゲート構造を有している場合を例に挙げて図示しているが、ＴＦＴ１８は、ボトムゲート構造を有していてもよい。

　図３～図５に示すように、ＯＬＥＤパネル２のエッジ部に面する額縁領域６の一部には、上記ゲート配線ＧＬ、ソース配線ＳＬ、配線Ｗ等の各配線の端子ＴＭが設けられた端子部１２Ｔが設けられているとともに、図示しないＦＰＣ（フレキシブルプリント回路）基板の実装領域が設けられている。複数の端子ＴＭが設けられた端子部１２ＴとＦＰＣ基板とは、図示しないＡＣＦ（Anisotropic Conductive Film：異方性導電膜）で貼り合わせられている。

　端子部１２Ｔには、引き出し配線を介して、図示しない表示制御回路から供給された各信号または基準電位が入力されるようになっており、それにより、ＴＦＴ１８の駆動が制御される。なお、上記表示制御回路は、ＦＰＣ基板を介して接続されたコントロール基板に搭載されていてもよく、ＦＰＣ基板上に設けられていてもよい。なお、ゲートドライバおよびソースドライバは、上記ＦＰＣ基板に設けられていてもよく、ＯＬＥＤパネル２の額縁領域６に設けられていてもよい。

　図３に示すように、上記ゲート配線ＧＬは、折り曲げ部を跨いで形成されている。端子部１２Ｔは、図３に示すように、平面視で、上記表示領域５と、ＴＦＴ基板１０の縁部（言い換えれば、ＯＬＥＤパネル２の縁部）との間の額縁領域６に、折り曲げ部（溝部７）と重ならないように設けられている。

　上記ゲート配線ＧＬ、ソース配線ＳＬ、配線Ｗ等の配線、並びに、ＴＦＴ１８は、平坦化膜として機能する有機絶縁膜１７の一部で覆われている。

　有機絶縁膜１７は、図１、図４、図５に示すように、同一平面上に設けられた複数の有機絶縁膜パターン部で構成されている。有機絶縁膜１７は、表示領域５から額縁領域６にかけて形成された第１有機絶縁膜パターン部１７Ａと、額縁領域６に、第１有機絶縁膜パターン部１７Ａを取り囲むように第１有機絶縁膜パターン部１７Ａから離間して枠状に形成された第２有機絶縁膜パターン部１７Ｂと、第２有機絶縁膜パターン部１７Ｂを取り囲むように第２有機絶縁膜パターン部１７Ｂから離間して枠状に形成された第３有機絶縁膜パターン部１７Ｃと、端子ＴＭのエッジ部を覆う端子部有機絶縁膜パターン部１７Ｔと、を含んでいる。

　第１有機絶縁膜パターン部１７Ａは、無機絶縁膜１６および該無機絶縁膜１６上に形成された第３金属層を覆っている。これにより、第１有機絶縁膜パターン部１７Ａは、表示領域５内におけるＴＦＴ１８および第３金属層上の段差を平坦化する。

　なお、第１有機絶縁膜パターン部１７ＡにはＴＦＴ１８および有機ＥＬ素子２４が設けられているが、第２有機絶縁膜パターン部１７Ｂおよび第３有機絶縁膜パターン部１７Ｃには、ＴＦＴ１８および有機ＥＬ素子２４は設けられていない。

　また、端子ＴＭのエッジ部を覆う端子部有機絶縁膜パターン部１７Ｔには、端子ＴＭを露出させる開口部が設けられている。

　端子ＴＭにおける、端子部有機絶縁膜パターン部１７Ｔで覆われていない部分は、ＡＣＦ等を介して、例えばフレキシブルフィルムケーブルや、ＦＰＣ基板、ＩＣ等の外部回路と電気的に接続される。

　（ＯＬＥＤ層２０）
　図１、図４、図５に示すように、ＯＬＥＤ層２０は、第１電極２１（下部電極）と、第１電極２１上に形成された、少なくとも発光層を含む有機層からなる有機ＥＬ層２２と、有機ＥＬ層２２上に形成された第２電極２３（上部電極）と、バンクＢＫ（壁体、土手）と、を含んでいる。

　第１電極２１と、有機ＥＬ層２２と、第２電極２３とは、各副画素３を構成する有機ＥＬ素子２４（ＯＬＥＤ素子、発光素子）を構成している。なお、本実施形態では、第１電極２１と第２電極２３との間の層を総称して有機ＥＬ層２２と称する。

　上記第１電極２１、有機ＥＬ層２２、第２電極２３、バンクＢＫは、折り曲げ線ＦＬを挟んでそれぞれ同じ形状に設けられている。

　なお、第２電極２３上には、光学的な調整を行う図示しない光学調整層や、第２電極２３を保護し、酸素や水分が外部から有機ＥＬ素子２４内に浸入することを阻止する保護層が形成されていてもよい。本実施形態では、各副画素３に形成された有機ＥＬ層２２、有機ＥＬ層２２を挟持する一対の電極層（第１電極２１および第２電極２３）、並びに、必要に応じて形成される、図示しない光学調整層や保護層をまとめて、有機ＥＬ素子２４と称する。

　第１電極２１は、各表示領域５における各第１有機絶縁膜パターン部１７Ａ上に形成されている。第１電極２１は、有機ＥＬ層２２に正孔を注入（供給）し、第２電極２３は、有機ＥＬ層２２に電子を注入する。有機ＥＬ層２２に注入された正孔と電子とは、有機ＥＬ層２２において再結合されることによって励起子が形成される。形成された励起子は励起状態から基底状態へと失活する際に光を放出し、その放出された光が、有機ＥＬ素子２４から外部に出射される。

　第１電極２１は、有機絶縁膜１７に形成されたコンタクトホールを介して、ＴＦＴ１８に電気的に接続されている。

　第１電極２１は、副画素３毎に島状にパターン形成されたパターン電極であり、平坦化膜である第１有機絶縁膜パターン部１７Ａ上に、例えばマトリクス状に形成されている。一方、第２電極２３は、例えば、各副画素３に共通に設けられた、ベタ状の共通電極であり、上記折り曲げ部を跨いで形成されている。但し、本実施形態は、これに限定されるものではなく、第２電極２３は、副画素３毎に島状に形成されたパターン電極であり、島状にパターン化された各第２電極２３が、図示しない補助配線等によって互いに接続された構成を有していてもよい。

　なお、図示はしないが、表示領域５の外側、具体的には、表示領域５の２組の対となる辺のうち、一方の組の対となる辺の外側に、それぞれ対向する辺に沿って、第２電極２３に接続される図示しない第２電極接続電極が設けられた第２電極接続部が設けられている。

　バンクＢＫは、表示領域５内に配置されたバンクＢＫ１と、額縁領域６に配置されたバンクＢＫ２～ＢＫ５と、を備えている。

　バンクＢＫ１は、表示領域５における有機絶縁膜１７上（つまり、表示領域５内の第１有機絶縁膜パターン部１７Ａ上）に形成されている。

　バンクＢＫ１は、第１電極２１の周縁部（すなわち、各エッジ）を覆うように、平面視で例えば格子状に設けられている。バンクＢＫ１は、第１電極２１の周縁部で、電極集中や有機ＥＬ層２２が薄くなって第２電極２３と短絡することを防止するエッジカバーとして機能するとともに、隣接する副画素３に電流が漏れないように副画素３を分離する副画素分離層として機能する。

　バンクＢＫ１には、副画素３毎に開口部ＢＫ１Ａが設けられている。この開口部ＢＫ１Ａによる第１電極２１の露出部が各副画素３の発光領域となっている。

　有機ＥＬ素子２４の有機ＥＬ層２２が副画素３毎に異なる色の光を出射するように塗り分けを行う場合、有機ＥＬ層２２は、図１、図２および図４に示すように、バンクＢＫ１によって囲まれた領域（副画素３）毎に形成される。

　有機ＥＬ層２２は、例えば、第１電極２１側から順に、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層を積層することで構成される。なお、一つの層が複数の機能を有していてもよい。また、各層の間に、適宜、キャリアブロッキング層が設けられていてもよい。

　なお、上記積層順は、第１電極２１を陽極とし、第２電極２３を陰極とした場合の例であり、第１電極２１を陰極とし、第２電極２３を陽極とした場合、有機ＥＬ層２２を構成する各層の順序は反転する。

　フレキシブルディスプレイ１が支持体１１の裏面側から光を放出するボトムエミッション型である場合には、第２電極２３を反射電極で形成し、第１電極２１を、ＩＴＯ（インジウム錫酸化物）等の透明電極、または、Ａｕ（金）等の金属の薄膜からなる半透明の透光性電極で形成することが好ましい。

　一方、フレキシブルディスプレイ１が、封止膜３０側から光を放出するトップエミッション型である場合には、第１電極２１を反射性電極材料で形成し、第２電極２３を透明または半透明の透光性電極材料で形成することが好ましい。

　第１電極２１および第２電極２３は、それぞれ、単層であってもよいし、積層構造を有していてもよい。例えば、有機ＥＬ素子２４がトップエミッション型の有機ＥＬ素子である場合、第１電極２１を、反射電極と透明電極との積層構造としてもよい。

　バンクＢＫ２は、額縁領域６における第１有機絶縁膜パターン部１７Ａに、表示領域５を囲むように枠状に形成されている。つまり、第１有機絶縁膜パターン部１７Ａには、格子状のバンクＢＫ１と、格子状に形成されたバンクＢＫ１の外側に、格子状に形成されたバンクＢＫ１を囲むように枠状に形成されたバンクＢＫ２と、が設けられている。

　図４および図５に示すように、バンクＢＫ２は、互いに離間して設けられた複数のドット状バンクＢＫ２ａが、それぞれ断続的な枠状に複数列配置されるとともに、隣り合う列のドット状バンクＢＫ２ａ同士が互い違いになるように、千鳥状に規則的に配置された構成を有している。

　バンクＢＫ３は、第２有機絶縁膜パターン部１７Ｂに、バンクＢＫ２を囲むように枠状に形成されている。

　図４および図５に示すように、バンクＢＫ３は、互いに離間して設けられた複数のドット状バンクＢＫ３ａが、それぞれ断続的な枠状に複数列配置されるとともに、隣り合う列のドット状バンクＢＫ３ａ同士が、平面視で千鳥状に規則的に配置された構成を有している。

　バンクＢＫ２・ＢＫ３は、有機ＥＬ層２２等の成膜に使用されるマスクを、該マスクが、上記成膜を行う被成膜基板の表面に接触しないように、上記被成膜基板から離間した状態で支持するスペーサとして機能する。

　また、バンクＢＫ２・ＢＫ３は、封止膜３０における有機層３２の成膜時に、有機層３２の材料となる液状の有機絶縁材料（インク）の流動速度を段階的に低下させ、有機絶縁材料の濡れ広がりを規制する。

　特に、バンクＢＫ２・ＢＫ３としてドット状バンクＢＫ２ａ・ＢＫ３ａを使用することで、ドット状バンクＢＫ２ａ・ＢＫ３ａは、有機層３２に用いられる液状の有機材料が、インクジェット法等によって塗布された後、濡れ広がっていく上記液状の有機材料の縁を揃えると共に、濡れ広がっていく上記液状の有機材料の流れを抑え、上記液状の有機材料の縁部を、直線に近い形状に揃える。

　上記液状の有機材料がバンクＢＫ２・ＢＫ３を通過して濡れ広がることで、バンクＢＫ２・ＢＫ３は、抵抗として機能する。このため、上記液状の有機材料は、バンクＢＫ２・ＢＫ３を通過することで、濡れ広がる速度が低下する。本実施形態によれば、このように、バンクＢＫ４よりも表示領域５側にバンクＢＫ２・ＢＫ３を設けることで、液状の有機材料の流れを抑制することができる。

　また、バンクＢＫ３が設けられた第２有機絶縁膜パターン部１７Ｂは、該第２有機絶縁膜パターン部１７Ｂが第１有機絶縁膜パターン部１７Ａと分離されていることで、第１有機絶縁膜パターン部１７Ａ内のＴＦＴ１８および有機ＥＬ素子２４への水分の浸入を防ぐ第１ダム部ＤＭ１として用いられる。このように有機絶縁膜１７を分断して水分浸透の経路を断つことで、フレキシブルディスプレイ１の信頼性を向上させることができる。

　また、図示はしないが、本実施形態では、第２電極２３は、第１有機絶縁膜パターン部１７Ａにおける、第２電極接続部が設けられた辺に沿って形成されたバンクＢＫ２を覆うように形成されている。

　このため、バンクＢＫ２が複数のドット状バンクＢＫ２ａからなることで、第２電極２３は、ドット状バンクＢＫ２ａの段差を乗り越えて形成されているとともに、ドット状バンクＢＫ２ａ間の隙間の平坦部にも形成される。このようにバンクＢＫ２が複数のドット状バンクＢＫ２ａからなることで、第２電極２３と第２電極接続部とを、確実に導通させることができる。

　なお、図４および図５では、バンクＢＫ２が、断続的な枠状に配置された２列のドット状バンクＢＫ２ａからなる二重枠状のバンクであり、バンクＢＫ３が、断続的な枠状に配置された３列のドット状バンクＢＫ３ａからなる三重枠状のバンクである場合を例に挙げて図示している。しかしながら、ドット状バンクＢＫ２ａ・ＢＫ３ａは、それぞれ二重枠以上の多重枠状に形成されていればよい。

　また、図４では、ドット状バンクＢＫ２ａ・ＢＫ３ａが、平面視で三角形状を有している場合を例に挙げて図示している。しかしながら、本実施形態は、これに限定されるものではなく、ドット状バンクＢＫ２ａ・ＢＫ３ａは、平面形状が円形の半球形状または円柱状であってもよく、平面形状が楕円形の半楕円球形状または楕円柱状であってもよい。また、ドット状バンクＢＫ２ａ・ＢＫ３ａは、平面形状が長方形の四角柱状であってもよい。

　また、バンクＢＫ２・ＢＫ３は、それぞれ連続したライン状に形成されていてもよい。この場合、バンクＢＫ２・ＢＫ３は、ともに、多重枠状に形成されている必要は必ずしもない。

　バンクＢＫ４は、額縁領域６における無機絶縁膜１５上に形成されている。バンクＢＫ４は、有機層３２に使用される液状の有機材料を堰き止める（言い換えれば、有機層３２を堰き止める）ことで有機層３２のエッジを規定する有機層ストッパ（第１有機層ストッパ、メイン有機層ストッパ）である。バンクＢＫ４は、第２有機絶縁膜パターン部１７Ｂの外側に、表示領域５が設けられた第１有機絶縁膜パターン部１７Ａと、第２有機絶縁膜パターン部１７Ｂと、を囲むように、ドット状ではなく、連続したラインからなる枠状に形成されている。

　バンクＢＫ４は、第１有機絶縁膜パターン部１７Ａおよび第２有機絶縁膜パターン部１７Ｂと分離されていることで、第１有機絶縁膜パターン部１７Ａ内のＴＦＴ１８および有機ＥＬ素子２４への水分の浸入を防ぐ第２ダム部ＤＭ２として用いられる。

　バンクＢＫ５は、有機層３２を堰き止める予備的な有機層ストッパ（第２の有機層ストッパ、予備的有機層ストッパ）である。バンクＢＫ５は、バンクＢＫ５の上面（天面）の高さがバンクＢＫ４の上面（天面）の高さよりも高くなるように、額縁領域６に設けられた枠状の第３有機絶縁膜パターン部１７Ｃ上に設けられている。

　バンクＢＫ５が設けられた第３有機絶縁膜パターン部１７Ｃは、バンクＢＫ４によって有機層３２を堰き止めることができなかった場合に有機層３２を構成する有機絶縁材料を堰き止めるとともに、第３有機絶縁膜パターン部１７Ｃが第１有機絶縁膜パターン部１７Ａ、バンクＢＫ４、および第２有機絶縁膜パターン部１７Ｂと分離されていることで、第１有機絶縁膜パターン部１７Ａ内のＴＦＴ１８および有機ＥＬ素子２４への水分の浸入を防ぐ第３ダム部ＤＭ３として用いられる。

　バンクＢＫ５は、第３有機絶縁膜パターン部１７Ｃ上に、該第３有機絶縁膜パターン部１７Ｃに沿って設けられている。これにより、バンクＢＫ５は、枠状に形成されたバンクＢＫ４の外側に、該バンクＢＫ４を囲むように、一定の幅を有する連続したラインからなる枠状に形成されている。

　このように、バンクＢＫ４・ＢＫ５は、有機層３２を堰き止める有機層ストッパであり、有機層３２のエッジは、バンクＢＫ４・ＢＫ５のうち何れか一方（好適にはバンクＢＫ４）と重なっている。図４および図５に示す例では、バンクＢＫ４の上面（天面）に、有機層３２のエッジが重なっている。このため、枠状のバンクＢＫ４の外側には、有機層３２が存在しない。

　上述したように、本実施形態では、平面視で、折り曲げ部（折り曲げ線ＦＬ）を跨いで設けられた格子状のバンクＢＫ１の外側に、該格子状のバンクＢＫ１を囲むように、枠状のバンクＢＫ２、枠状のバンクＢＫ３、枠状のバンクＢＫ４、枠状のバンクＢＫ５が、格子状のバンクＢＫ１を中心として内側から外側に向かって、この順に設けられている。なお、ここで、上記格子状のバンクＢＫ１は、表示領域５、あるいは、有機ＥＬ素子２４群と言い換えることができる。

　バンクＢＫ１～ＢＫ５は、有機絶縁材料からなる。バンクＢＫ１～ＢＫ５は、例えばアクリル樹脂やポリイミド樹脂等の感光性樹脂で形成される。バンクＢＫ１～ＢＫ５は、例えば同一工程で形成することができる。

　（封止膜３０）
　封止膜３０は、ＴＦＴ基板１０側からこの順に積層された、第１無機層３１（下層無機封止層、第１の無機封止層）と、有機層３２（有機封止層）と、第２無機層３３（上層無機封止層、第２の無機封止層）と、を含む。

　第１無機層３１および第２無機層３３は、水分の浸入を防ぐ防湿機能を有し、水分や酸素による有機ＥＬ素子２４の劣化を防止するバリア層として機能する。

　有機層３２は、バッファ層（応力緩和層）として使用され、膜応力が大きい第１無機層３１および第２無機層３３の応力緩和や、表示領域５におけるＯＬＥＤ層２０の表面の段差部や異物を埋めることによる平坦化やピンホールの穴埋め、さらには、第２無機層３３下地を平坦化させることで、第２無機層３３の積層時に第２無機層３３にクラックが発生することを抑制する。

　第１無機層３１および第２無機層３３は、それぞれ、例えば、ＣＶＤにより形成される、酸化シリコン膜、窒化シリコン膜、あるいは酸窒化シリコン膜、またはこれらの積層膜で構成することができる。

　有機層３２は、第１無機層３１および第２無機層３３よりも厚い、透光性の有機絶縁膜である。有機層３２は、例えばインクジェット法等により、液状の有機材料を、表示領域５における第１無機層３１上に塗布し、該液状の有機材料を硬化させることで形成される。上記有機材料としては、例えば、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂等の感光性樹脂が挙げられる。有機層３２は、液状の有機材料として、例えば、このような感光性樹脂を含むインクを、上記第１無機層３１上にインクジェット塗布した後、ＵＶ（紫外線）硬化させることにより形成することができる。

　第１無機層３１は、支持体１１上に、平面視で、第２電極２３、端子部１２Ｔの一部を除く有機絶縁膜１７（具体的には、第１有機絶縁膜パターン部１７Ａ、第２有機絶縁膜パターン部１７Ｂ、第３有機絶縁膜パターン部１７Ｃ、並びに、端子部有機絶縁膜パターン部１７Ｔにおける第３有機絶縁膜パターン部１７Ｃ側の縁部）、無機絶縁膜１５、第２電極２３で覆われていないバンクＢＫ（バンクＢＫ２の一部およびバンクＢＫ３～ＢＫ５）を覆うように、端子ＴＭ上を除く、表示領域５および額縁領域６の全面に渡って形成されている。

　有機層３２は、第１無機層３１を介して、第１有機絶縁膜パターン部１７Ａおよび第２有機絶縁膜パターン部１７Ｂ、有機ＥＬ素子２４、バンクＢＫ１～ＢＫ３上を覆うとともに、バンクＢＫ４における、バンクＢＫ３側の端面および上面の一部を覆っている。有機層３２はバンクＢＫ４で囲まれた領域に設けられている。

　第２無機層３３は、第１無機層３１と重畳するように形成されている。第１無機層３１および第２無機層３３は、有機層３２が外部に露出しないように、有機層３２を挟み込むように形成されている。

　第２無機層３３は、第１無機層３１および有機層３２のうち少なくとも第１無機層３１を介して、上述した端子部１２Ｔの一部を除く有機絶縁膜１７（具体的には、第１有機絶縁膜パターン部１７Ａ、第２有機絶縁膜パターン部１７Ｂ、第３有機絶縁膜パターン部１７Ｃ、並びに、端子部有機絶縁膜パターン部１７Ｔにおける第３有機絶縁膜パターン部１７Ｃ側の縁部）、有機ＥＬ素子２４、無機絶縁膜１５、バンクＢＫ１～ＢＫ５を覆っている。

　（接着剤層４０ａ・４０ｂ、およびカバー層５０ａ・５０ｂ）
　本実施形態では、図１、図２、図４に示すように、接着剤層４０が、接着剤層４０ａと接着剤層４０ｂとに分割されているとともに、カバー層５０が、カバー層５０ａとカバー層５０ｂとに分割されている。

　カバー層５０ａは、接着剤層４０ａを介して封止膜３０上に設けられている。カバー層５０ｂは、接着剤層４０ｂを介して封止膜３０上に設けられている。

　接着剤層４０ａと接着剤層４０ｂとは、フレキシブルディスプレイ１の長手方向に沿った各辺の中央部で、短手方向に沿って互いの端面が向き合うように、互いに離間して島状に設けられている。

　同様に、カバー層５０ａ・５０ｂは、フレキシブルディスプレイ１の長手方向に沿った各辺の中央部で、短手方向に沿って互いの端面が向き合うように、互いに離間して島状に設けられている。

　このため、上記フレキシブルディスプレイ１には、接着剤層４０ａおよびカバー層５０ａからなる積層体と、接着剤層４０ｂおよびカバー層５０ｂからなる積層体と、における互いの端面を内壁とし、これら積層体が積層された下地層である封止膜３０を底壁とする溝部７が形成されている。

　接着剤層４０ａ・４０ｂおよびカバー層５０ａ・５０ｂが形成されていない上記溝部７は、接着剤層４０ａ・４０ｂおよびカバー層５０ａ・５０ｂが積層された領域と比較して厚みが薄く、折り曲げ部として用いられる。

　ここで、折り曲げ部（折り曲げ線ＦＬ）を挟んで隣り合う接着剤層４０ａと接着剤層４０ｂとの間の平面視での隙間をｇ１とし、折り曲げ部（折り曲げ線ＦＬ）を挟んで隣り合うカバー層５０ａとカバー層５０ｂとの間の平面視での隙間をｇ２とすると、ｇ１とｇ２とは、図１および図２に示すように同じであってもよく、異なっていてもよい。

　なお、ｇ１・ｇ２は、フレキシブルディスプレイ１の曲率によって適宜設定すればよく、特に限定されない。一例として、接着剤層４０ａ・４０ｂの厚みが２０μｍであり、カバー層５０ａ・５０ｂの厚みが５０μｍである場合、ｇ１・ｇ２は、それそれ、２００μｍ以上に設定されていることが望ましい。

　接着剤層４０ａ・４０ｂおよびカバー層５０ａ・５０ｂは、図２および図４に示すように、ＯＬＥＤパネル２における、少なくとも、折り曲げ部を除く表示領域５を覆うとともに、端子ＴＭが露出するように、封止膜３０上に積層される。言い換えれば、接着剤層４０ａ・４０ｂおよびカバー層５０ａ・５０ｂは、折り曲げ部および端子ＴＭ上を避けて設けられている。

　接着剤層４０ａ・４０ｂに用いられる接着剤としては、例えば、アクリル系、シリコーン系、ウレタン系の接着剤が挙げられる。なお、上記接着剤層４０ａ・４０ｂは、剥離可能な接着剤（粘着剤とも言う）からなる接着剤層（粘着剤層）であってもよく、硬化固定型の接着剤であってもよい。

　カバー層５０ａ・５０ｂは、保護機能、光学補償機能、タッチセンサ機能の少なくとも１つを有する機能層である。

　カバー層５０ａ・５０ｂは、例えば、機能性フィルムからなる機能性フィルム層であり、例えば、ガラス基板等のキャリア基板を剥離したときの支持体として機能する保護フィルム等のカバーフィルムであってもよく、ハードコートフィルム等のハードコート層であってもよく、偏光フィルム、タッチセンサフィルム等であってもよい。

　＜フレキシブルディスプレイ１の製造方法＞
　次に、上記フレキシブルディスプレイ１の製造方法について、主に、図１、図４、図５、図６の（ａ）～（ｃ）を参照して以下に説明する。

　図６の（ａ）～（ｃ）は、本実施形態にかかるフレキシブルディスプレイ１の要部の製造工程を工程順に示す断面図である。

　まず、図１、図４、図５、図６の（ａ）に示すように、ガラス基板等のキャリア基板１００上に、樹脂層１１ｂを形成し、その上に、バリア層１１ｃを成膜する。

　樹脂層１１ｂは、例えば、前述した樹脂またはその前駆体を、溶剤に溶解させて液体状とし、スリットコートまたはスピンコート等によりキャリア基板１００上に塗布して硬化させることで形成することができる。樹脂層１１ｂの厚さは、例えば、２～２０μｍである。

　バリア層１１ｃは、例えば、前述した無機絶縁膜からなり、ＣＶＤにより形成することができる。バリア層１１ｃの厚さは、例えば、５０～１５００ｎｍである。

　次いで、上記バリア層１１ｃ上に、公知の方法（公知のＴＦＴ工程）で、半導体層１３と、これら半導体層１３を覆うように支持体１１上に形成されたゲート絶縁膜１４と、ゲート絶縁膜１４上に形成された、ゲート電極Ｇを含む第１金属層と、第１金属層を覆う無機絶縁膜１５と、無機絶縁膜１５上に形成された、容量電極Ｃを含む第２金属層と、第２金属層を覆うように無機絶縁膜１５上に形成された無機絶縁膜１６と、無機絶縁膜１６上に形成された、ソース電極Ｓ、ドレイン電極Ｄ、配線Ｗを含む第３金属層と、端子ＴＭを有する端子部１２Ｔと、を形成する。

　半導体層１３には、例えば、アモルファスシリコン、低温ポリシリコン（ＬＰＴＳ）、あるいは、酸化物半導体が使用される。ゲート絶縁膜１４には、例えば酸化シリコン（ＳｉＯｘ）あるいは窒化シリコン（ＳｉＮｘ）、または、これらの積層膜が使用される。ゲート絶縁膜１４は、例えば、４００ｎｍの厚さで形成される。

　ゲート電極Ｇを含む第１金属層、容量電極Ｃを含む第２金属層、ソース電極Ｓ、ドレイン電極Ｄ、配線Ｗを含む第３金属層、端子ＴＭには、例えば、アルミニウム（Ａｌ）、タングステン（Ｗ）、モリブデン（Ｍｏ）、タンタル（Ｔａ）、クロム（Ｃｒ）、チタン（Ｔｉ）、銅（Ｃｕ）、等の金属の単層膜あるいは積層膜が使用される。これら金属層は、例えば、１μｍ～３０μｍの厚さで形成される。

　無機絶縁膜１５・１６には、例えば、酸化シリコン（ＳｉＯｘ）あるいは窒化シリコン（ＳｉＮｘ）が使用される。無機絶縁膜１５・１６は、例えば、３００ｎｍの厚さで形成される。

　次に、上記第３金属層を覆うように、アクリル樹脂やポリイミド樹脂等の感光性樹脂を塗布し、フォトリソグラフィ等によってパターニングを行うことで、公知の方法（公知のＴＦＴ工程）で、有機絶縁膜１７を形成する。このとき、本実施形態では、有機絶縁膜１７として、第１有機絶縁膜パターン部１７Ａ、第２有機絶縁膜パターン部１７Ｂ、第３有機絶縁膜パターン部１７Ｃ、端子部有機絶縁膜パターン部１７Ｔを有する有機絶縁膜１７を形成する。有機絶縁膜１７は、ＴＦＴ１８による段差を補償することができればよく、その厚さは特に限定されるものではないが、例えば、１～３μｍである。これら第１有機絶縁膜パターン部１７Ａ、第２有機絶縁膜パターン部１７Ｂ、第３有機絶縁膜パターン部１７Ｃ、端子部有機絶縁膜パターン部１７Ｔは、折り曲げ部を挟んで、折り曲げ部から離間して設けられる。また、第１有機絶縁膜パターン部１７Ａ、第２有機絶縁膜パターン部１７Ｂ、および第３有機絶縁膜パターン部１７Ｃは、第２有機絶縁膜パターン部１７Ｂおよび第３有機絶縁膜パターン部１７Ｃが第１有機絶縁膜パターン部１７Ａを枠状に囲むように、第１有機絶縁膜パターン部１７Ａを中心として内側から外側に向かって設けられる。これにより、ＴＦＴ基板１０が形成される。

　次いで、スパッタ法等、公知の方法（公知のＴＦＴ工程）で、第１電極２１をマトリクス状にパターン形成する。このとき、有機絶縁膜１７に形成されたコンタクトホールを介して、第１電極２１は、ドレイン電極Ｄと接続される。第１電極２１は、例えば１００ｎｍの厚さで成膜される。

　次いで、上記第１電極２１、有機絶縁膜１７および無機絶縁膜１５・１６を覆うように、アクリル樹脂やポリイミド樹脂等の例えばポジ型の感光性樹脂等からなる図示しない有機膜を成膜する。

　次に、フォトリソグラフィ等によって、上記有機膜からなるバンクＢＫ１～ＢＫ５をパターン形成する。バンクＢＫ１～ＢＫ５は、マスクを用いて、同一の材料により、同一の工程にてパターン形成することができる。但し、バンクＢＫ１～ＢＫ５を、互いに異なるマスクや材料を用いて別工程によって形成してもよい。バンクＢＫ１～ＢＫ５は、例えば、２μｍ～５μｍの高さに形成される。

　その後、有機ＥＬ層２２を、各色の発光層が、バンクＢＫ１で囲まれた領域（つまり、開口部ＢＫ１Ａ）を覆うように、それぞれ、副画素３Ｒ・３Ｇ・３Ｂに対応して塗り分け蒸着する。なお、有機ＥＬ層２２の成膜には、塗布法、インクジェット法、印刷法等、蒸着法以外の方法を用いてもよい。

　フルカラー表示を行うためには、一例として、発光層は、上述したように、発光色毎に塗り分け蒸着によりパターン形成することができる。但し、本実施形態は、これに限定されるものではなく、フルカラー表示を行うために、発光色が白（Ｗ）色の発光層を使用した白色発光の有機ＥＬ素子２４と、図示しないカラーフィルタ（ＣＦ）層とを組み合せて各副画素３における発光色を選択する方式を用いても構わない。また、発光色がＷ色の発光層を使用し、各副画素３にマイクロキャビティ構造を導入することでフルカラーの画像表示を実現する方式を採用してもよい。なお、ＣＦ層あるいはマイクロキャビティ構造等の方法で各副画素３の発光色を変更する場合には、発光層を副画素３毎に塗り分ける必要はない。有機ＥＬ層２２は、例えば、２５０ｎｍ以下の厚さで成膜される。

　次に、第２電極２３を、有機ＥＬ層２２およびバンクＢＫ１・ＢＫ２を覆うように上記ＴＦＴ基板１０における表示領域５全面に形成するとともに、第２電極接続部の第２電極接続電極と電気的に接続し、それら以外の領域を露出するように、例えば蒸着マスクを用いた蒸着法によりパターン形成する。第２電極２３は、例えば２５ｎｍの厚みに形成される。

　これにより、ＴＦＴ基板１０上に、第１電極２１、有機ＥＬ層２２、および第２電極２３からなる有機ＥＬ素子２４を形成することができる。

　次いで、有機ＥＬ素子２４が形成されたＴＦＴ基板１０上に封止膜３０を成膜する。具体的には、まず、有機ＥＬ素子２４が形成されたＴＦＴ基板１０上に、平面視で、第２電極２３、端子部１２Ｔの一部を除く有機絶縁膜１７、無機絶縁膜１５、第２電極２３で覆われていないバンクＢＫ（バンクＢＫ２の一部、バンクＢＫ３～ＢＫ５）を覆うように、窒化シリコンまたは酸化シリコン等からなる第１無機層３１を、端子ＴＭ上を除く、表示領域５および額縁領域６の全面に渡ってＣＶＤ等によって成膜する。第１無機層３１の厚みは、例えば５００～１５００ｎｍである。

　次に、表示領域５の全面に、感光性樹脂を含む、液状の有機材料（例えばインク）を、例えばインクジェット法等により塗布する。上記液状の有機材料は、有機層ストッパである例えばバンクＢＫ４によって堰き止められる。

　次いで、バンクＢＫ４で囲まれた領域内に濡れ広がった上記液状の有機絶縁材料を硬化させる。これにより、バンクＢＫ４に沿った縁部の膜厚が均一な有機層３２が成膜される。有機層３２の厚みは、例えば４～１２μｍである。

　その後、有機層３２および第１無機層３１上に、窒化シリコンまたは酸化シリコン等からなる無機絶縁膜をＣＶＤ等によって成膜することで、端子ＴＭ上を除く、表示領域５および額縁領域６の全面に第２無機層３３を成膜する。第２無機層３３の厚みは、例えば５００～１５００ｎｍである。これにより、第１無機層３１、有機層３２、第２無機層３３からなる封止膜３０を形成する。

　その後、上記封止膜３０上に、図示しない粘着剤が設けられた、粘着力の弱い仮貼りフィルム１０１を貼り付ける。仮貼りフィルム１０１は、バリア層１１ｃ、ＴＦＴ層１２、ＯＬＥＤ層２０、封止膜３０が積層された樹脂層１１ｂをキャリア基板１００から剥離するときの支持体として機能する。

　次いで、キャリア基板１００の裏面側（すなわち、ＴＦＴ層１２の形成面とは反対面側）からキャリア基板１００と樹脂層１１ｂとの界面にレーザ光を照射してアブレーションを起こすことで、図６の（ｂ）に示すように、上記界面でキャリア基板１００を剥離する。その後、図１、図４、図５、図６の（ａ）に示すように、上記樹脂層１１ｂにおけるキャリア基板１００の剥離面に、下面フィルム１１ａとして、例えば透明なプラスチックフィルムを貼り付ける。

　なお、前記ＴＦＴ工程において、キャリア基板１００として、大型のガラス基板等からなるマザー基板を用いた場合、上記工程後に、得られた積層体を切断することで、ＯＬＥＤパネル２の個片化が行われる。なお、上記切断には、レーザや金属刃等を使用することができる。

　その後、仮貼りフィルム１０１を剥離して、上記封止膜３０上に、図６の（ｃ）に示すように、例えば、接着剤層４０ａが設けられた保護フィルム５１ａおよび接着剤層４０ｂが設けられた保護フィルム５１ｂを上記封止膜３０上に貼り付ける。これにより、上記接着剤層４０ａ・４０ｂを介して、カバー層５０ａ・５０ｂとして、例えば保護フィルム５１ａ・５１ｂを、上記封止膜３０上に貼り付ける。このとき、上記カバー層５０ａ・５０ｂは、偏光フィルムおよびタッチセンサフィルム等の機能性フィルム等であってもよい。これにより本実施形態にかかるフレキシブルディスプレイ１が製造される。

　なお、接着剤層４０ａ・４０ｂの厚みは例えば１５～１００μｍであり、カバー層５０ａ・５０ｂの厚みは、カバー層５０ａ・５０ｂの種類によって異なるが、カバー層５０ａ・５０ｂが例えば偏光フィルムおよびタッチセンサフィルムからなる場合、例えば５０～１５０μｍであり、カバー層５０ａ・５０ｂが例えば保護フィルム５１ａ・５１ｂである場合、その厚みは、それよりも薄くてもよい。

　＜効果＞
　以上のように、上記フレキシブルディスプレイ１には、折り曲げ部として、接着剤層４０ａ・４０ｂおよびカバー層５０ａ・５０ｂが設けられておらず、折り曲げ部の厚みが非常に薄い溝部７が形成されている。このため、上記フレキシブルディスプレイ１は、上記溝部７で、容易に折り曲げることができる。

　また、上記接着剤層４０ａ・４０ｂおよびカバー層５０ａ・５０ｂが、折り曲げ部を避けて設けられていることで、折り曲げ部に上記接着剤層４０ａ・４０ｂおよびカバー層５０ａ・５０ｂが設けられている場合と比較して、バリア層１１ｃおよび有機ＥＬ素子２４が、厚み方向において、より中立面近くに位置することになるとともに、折り曲げ部の厚みが薄いことで、上記バリア層１１ｃおよび有機ＥＬ素子２４だけでなく、上記封止膜３０にかかる応力も低減することができる。

　このため、本実施形態にかかるフレキシブルディスプレイ１によれば、上記バリア層１１ｃと封止膜３０との積層により防湿性能が保たれ、かつ、上記フレキシブルディスプレイを折り曲げても上記バリア層１１ｃに引張応力が殆どかからない。このため、上記フレキシブルディスプレイ１は、該フレキシブルディスプレイ１を折り曲げたときに、折り曲げ部で、上記バリア層１１ｃ等の膜破断が生じず、上記有機ＥＬ素子２４の点灯不良が発生することを防止することができる。

　したがって、本実施形態によれば、曲げ易さと、信頼性とを両立することができるフレキシブルディスプレイ１およびその製造方法を提供することができる。

　＜変形例１＞
　本実施形態では、上記フレキシブルディスプレイ１が、図３および図４に示すように、二つ折りの矩形状のディスプレイであり、折り曲げ部となる溝部７で接着剤層４０ａ・４０ｂおよびカバー層５０ａ・５０ｂが二分割されている場合を例に挙げて説明した。しかしながら、本実施形態は、これに限定されるものではない。

　上記フレキシブルディスプレイ１は、溝部７からなる折り曲げ部が、フレキシブルディスプレイ１の長手方向に沿った各辺を三等分するように短手方向に沿って２つ設けられ、上記溝部７で表示領域５が三分割された三つ折りディスプレイであってもよい。また、上記フレキシブルディスプレイ１は、四つ折り以上の多重折りディスプレイであってもよい。

　＜変形例２＞
　また、本実施形態では、上述したように、本実施形態にかかる表示装置の一例として、発光素子として有機ＥＬ素子２４（ＯＬＥＤ素子）を含むフレキシブルディスプレイ１を例に挙げて説明した。しかしながら、本実施形態にかかるフレキシブルディスプレイ１は、柔軟性を有し、屈曲可能な光学素子を備えた表示パネル（表示装置）であれば、特に限定されるものではない。上記光学素子としては、例えば、電流によって輝度や透過率が制御される電気光学素子や、電圧によって輝度や透過率が制御される電気光学素子等が挙げられる。

　電流制御の電気光学素子を備えた表示パネル（表示装置）としては、例えば、ＯＬＥＤ（Organic Light Emitting Diode：有機発光ダイオード）素子を備えた有機ＥＬ（Electro Luminescence：エレクトロルミネッセンス）ディスプレイ、無機発光ダイオード素子（無機ＥＬ素子）を備えた無機ＥＬディスプレイ等のＥＬディスプレイ、ＱＬＥＤ（Quantum-dot Light Emitting Diode：量子ドット発光ダイオード）素子を備えたＱＬＥＤディスプレイ等が挙げられる。また、電圧制御の電気光学素子としては、例えば、液晶表示素子等が挙げられる。

　＜変形例３＞
　また、本実施形態では、封止膜３０が、第１無機層３１（無機封止層）と、第２無機層３３（無機封止層）と、上記第１無機層３１と第２無機層３３との間に設けられた有機層３２（有機封止層）とで構成されている場合を例に挙げて説明した。

　しかしながら、本実施形態は、これに限定されるものではない。封止膜３０は、互いに重畳配置された、３層以上の複数の無機層（無機封止層）と、これら無機層（無機封止層）間にそれぞれ挟持された複数の有機層（有機封止層）とを含んでいてもよい。

　したがって、本実施形態並びに後述する各実施形態において、第１無機層３１および第２無機層３３は、互いに重畳配置された複数の無機層（無機封止層）と読み替えることができる。また、有機層３２は、複数の無機封止層の間に挟持された少なくとも１層の有機層（有機封止層）と読み替えることができる。

　〔実施形態２〕
　本発明の実施の他の形態について、主に図７～図１０に基づいて説明すれば、以下の通りである。なお、本実施形態では、実施形態１との相違点について説明するものとし、実施形態１で説明した部材と同じ機能を有する部材については、同じ符号を付記し、その説明を省略する。また、本実施形態でも、実施形態１と同様の変形を行うことが可能である。

　図７は、本実施形態にかかるフレキシブルディスプレイ１の折り曲げ部の周囲の概略構成を示す断面図である。図８は、本実施形態にかかるフレキシブルディスプレイ１の概略構成を示す断面図である。図９は、本実施形態にかかるフレキシブルディスプレイ１の配線構造を示す平面図である。図１０は、本実施形態にかかるフレキシブルディスプレイ１の概略構成を示す平面図である。

　なお、図７は、図１０に示すフレキシブルディスプレイ１のＣ－Ｃ線矢視断面図に相当する。図１０では、図示の便宜上、表示領域５に対する額縁領域６の比率を、実際よりもかなり大きく記載している。

　また、本実施形態にかかるフレキシブルディスプレイ１の端子部１２Ｔの周囲の概略構成を示す断面図は、図５と同じである。このため、本実施形態では、本実施形態にかかるフレキシブルディスプレイ１の端子部１２Ｔの周囲の概略構成を示す断面図を省略する。

　本実施形態にかかるフレキシブルディスプレイ１は、以下の点を除けば、実施形態１にかかるフレキシブルディスプレイ１と同じである。

　本実施形態にかかるフレキシブルディスプレイ１は、図７～図１０に示すように、ＴＦＴ１８および有機ＥＬ素子２４が、折り曲げ部となる、平面視で溝部７が形成されている領域を避けて設けられている。

　また、折り曲げ部の無機層は、封止膜３０における無機層（第１無機層３１および第２無機層３３）並びにバリア層１１ｃで構成されており、折り曲げ部には、それ以外の無機層は設けられていない。つまり、第１金属層、第２金属層、第３金属層、および、これら金属層（言い換えれば、これら金属層からなる配線）を覆う、無機絶縁膜１５・１６を含むパッシベーション膜は、折り曲げ部を避けて設けられている。

　このため、上記フレキシブルディスプレイ１は、図９および図１０に示すように、平面視で、折り曲げ部（溝部７）を挟んで、表示領域５が２つ設けられているとともに、各表示領域５に、接着剤層４０ａ・４０ｂおよびカバー層５０ａ・５０が設けられている。上記２つの表示領域５は、見開きの２画面を構成している。上記２つの表示領域５の間には、非表示領域となる額縁領域６が設けられている。

　なお、折り曲げ部における、これらＴＦＴ１８、有機ＥＬ素子２４、各種配線、およびパッシベーション膜は、フォトリソグラフィ、エッチング等により容易に除去することができる。言い換えれば、本実施形態では、ＴＦＴ層１２の形成工程およびＯＬＥＤ層２０の形成工程、より具体的には、ＴＦＴ１８の形成工程、有機ＥＬ素子２４の形成工程、配線形成工程、パッシベーション膜形成工程において、折り曲げ部に、これらＴＦＴ１８、有機ＥＬ素子２４、各種配線、およびパッシベーション膜が形成されないようにこれら各層が形成される。

　また、上記フレキシブルディスプレイ１は、配線が折り曲げ部で分離されており、上記折り曲げ部には配線が設けられていない。言い換えれば、上記フレキシブルディスプレイ１の配線は、上記折り曲げ部を避けて設けられている。各配線の端子部１２Ｔは、図９および図１０に示すように、各表示領域５と、ＴＦＴ基板１０の縁部（言い換えれば、ＯＬＥＤパネル２の縁部）と、の間に、上記折り曲げ部と重ならないように、折り曲げ部を挟んで２つに分けて設けられている。

　また、本実施形態では、平面視で、各副画素３を分離する２つの格子状のバンクＢＫ１が、折り曲げ部（折り曲げ線ＦＬ）を挟んで互いに離間して設けられ、これら２つの格子状のバンクＢＫ１の外側に、これら２つの格子状のバンクＢＫ１を囲むように、枠状のバンクＢＫ２、枠状のバンクＢＫ３、枠状のバンクＢＫ４、枠状のバンクＢＫ５が、それぞれ折り曲げ部を跨ぐように、上記２つの格子状のバンクＢＫ１を中心として内側から外側に向かって、この順に設けられている。なお、本実施形態でも、上記格子状のバンクＢＫ１は、表示領域５、あるいは、有機ＥＬ素子２４群と言い換えることができる。

　つまり、本実施形態では、２つの第１有機絶縁膜パターン部１７Ａが、折り曲げ部（折り曲げ線ＦＬ）を挟んで互いに離間して設けられ、これら２つの第１有機絶縁膜パターン部１７Ａを囲むように、枠状のバンクＢＫ３が設けられた第２有機絶縁膜パターン部１７Ｂ、枠状のバンクＢＫ４、枠状のバンクＢＫ５が設けられた第３有機絶縁膜パターン部１７Ｃが、内側から外側に向かって、この順に設けられている。

　このため、上記フレキシブルディスプレイ１は、図７、図８、および図１０に示すように、折り曲げ部は、下面フィルム１１ａ、樹脂層１１ｂ、およびバリア層１１ｃからなる支持体１１と、該支持体１１の表示領域５の外側に設けられた、枠状のバンクＢＫ３が設けられた第２有機絶縁膜パターン部１７Ｂ、枠状のバンクＢＫ４、および枠状のバンクＢＫ５が設けられた第３有機絶縁膜パターン部１７Ｃと、第１無機層３１、有機層３２、および第２無機層からなる封止膜３０と、で構成されており、それ以外の層は折り曲げ部には設けられていない。

　したがって、本実施形態では、接着剤層４０およびカバー層５０に加え、ＴＦＴ層１２も、折り曲げ部を挟んで、ＴＦＴ層１２ａ・１２ｂの２つに分割されており、各ＴＦＴ層１２ａ・１２ｂは、平面視で互いに分離されている。

　＜効果＞
　このため、本実施形態にかかるフレキシブルディスプレイ１は、折り曲げ部で折り曲げ易く、しかも、上記バリア層１１ｃと封止膜３０との積層により防湿性能が保たれている。また、上記フレキシブルディスプレイ１は、上記フレキシブルディスプレイ１を折り曲げても上記バリア層１１ｃに引張応力が殆どかからない。このため、本実施形態によれば、実施形態１と同様の効果を得ることができる。

　また、本実施形態によれば、上記折り曲げの無機層は、封止膜３０を構成する第１無機層３１および第２無機層３３、並びに、バリア層１１ｃであり、上記折り曲げ部には、それ以外の無機層が設けられておらず、また、有機ＥＬ素子２４も設けられていない。

　このため、本実施形態によれば、防湿性能を維持したまま、折り曲げ部の厚みをさらに薄くすることができ、フレキシブルディスプレイ１を折り曲げたときの折り曲げ部にかかる応力をさらに低減することができる。また、本実施形態によれば、上記フレキシブルディスプレイ１の折り曲げによる、折り曲げ部の有機ＥＬ素子２４、配線、パッシベーション膜の破断を防止することができる。

　また、本実施形態によれば、枠状のバンクＢＫ２～ＢＫ５、特に、有機層ストッパである枠状のバンクＢＫ４・ＢＫ５が、２つの表示領域５間には設けられておらず、２つの表示領域５を囲むように、それぞれ折り曲げ部を跨いで設けられていることで、２つの表示領域５間の非表示領域（額縁領域６）の幅を小さくする（狭額縁化する）ことができる。

　〔実施形態３〕
　本発明の実施のさらに他の形態について、主に図１１および図１２に基づいて説明すれば、以下の通りである。なお、本実施形態では、実施形態１、２との相違点について説明するものとし、実施形態１、２で説明した部材と同じ機能を有する部材については、同じ符号を付記し、その説明を省略する。また、本実施形態でも、実施形態１、２と同様の変形を行うことが可能である。

　図１１は、本実施形態にかかるフレキシブルディスプレイ１の折り曲げ部の周囲の概略構成を示す断面図である。図１２は、本実施形態にかかるフレキシブルディスプレイ１の概略構成を示す断面図である。

　なお、本実施形態にかかるフレキシブルディスプレイ１の配線構造を示す平面図は、図９と同じである。また、本実施形態にかかるフレキシブルディスプレイ１の概略構成を示す平面図は、図１０と同じであり、本実施形態にかかるフレキシブルディスプレイ１の端子部１２Ｔの周囲の概略構成を示す断面図は、図５と同じである。図１１は、図１０に示すフレキシブルディスプレイ１のＣ－Ｃ線矢視断面図に相当する。

　本実施形態にかかるフレキシブルディスプレイ１は、図１１および図１２に示すように、折り曲げ部となる、平面視で溝部７が形成されている領域に、バリア層１１ｃが設けられていないことを除けば、実施形態２にかかるフレキシブルディスプレイ１と同じである。

　本実施形態にかかるフレキシブルディスプレイ１は、折り曲げ部の無機層が、封止膜３０における無機層（第１無機層３１および第２無機層３３）で構成されており、折り曲げ部には、それ以外の無機層は設けられていない。

　なお、折り曲げ部におけるバリア層１１ｃは、折り曲げ部におけるＴＦＴ１８、有機ＥＬ素子２４、各種配線、およびパッシベーション膜同様、フォトリソグラフィ、エッチング等により容易に除去することができる。言い換えれば、本実施形態では、支持体１１の形成工程、ＴＦＴ層１２の形成工程、およびＯＬＥＤ層２０の形成工程、より具体的には、バリア層１１ｃの形成工程、ＴＦＴ１８の形成工程、有機ＥＬ素子２４の形成工程、配線形成工程、パッシベーション膜形成工程において、折り曲げ部に、これらバリア層１１ｃ、ＴＦＴ１８、有機ＥＬ素子２４、各種配線、およびパッシベーション膜が形成されないようにこれら各層が形成される。

　したがって、本実施形態では、接着剤層４０、カバー層５０、ＴＦＴ層１２に加え、バリア層１１ｃも、折り曲げ部を挟んで、バリア層１１ｃ１・１１ｃ２の２つに分割されており、各バリア層１１ｃ１・１１ｃ２は、平面視で互いに分離されている。このため、バリア層１１ｃ１とバリア層１１ｃ２とは、フレキシブルディスプレイ１の長手方向に沿った各辺の中央部で、短手方向に沿って互いの端面が向き合うように、互いに離間して島状に設けられている。

　＜効果＞
　本実施形態によれば、上記折り曲げ部に封止膜３０が設けられているとともに、上記折り曲げ部以外の領域に上記バリア層１１ｃ１・１１ｃ２が設けられていることで、防湿性能を確保したまま、折り曲げ部の厚みをさらに薄くすることができ、フレキシブルディスプレイ１を折り曲げたときの折り曲げ部にかかる応力をさらに低減することができる。このため、本実施形態によれば、実施形態１、２と同様の効果を得ることができる。

　また、本実施形形態によれば、上述したように折り曲げ部にバリア層１１ｃ１・１１ｃ２が設けられていない（言い換えれば、バリア層１１ｃ１・１１ｃ２が、折り曲げ部を避けて設けられている）ことで、上記フレキシブルディスプレイ１の折り曲げによってバリア層１１が破断されることかがなく、信頼性をさらに向上させることができる。

　〔実施形態４〕
　本発明の実施のさらに他の形態について、主に図１３および図１４に基づいて説明すれば、以下の通りである。なお、本実施形態では、実施形態１～３との相違点について説明するものとし、実施形態１～３で説明した部材と同じ機能を有する部材については、同じ符号を付記し、その説明を省略する。また、本実施形態でも、実施形態１～３と同様の変形を行うことが可能である。

　図１３は、本実施形態にかかるフレキシブルディスプレイ１の概略構成を示す平面図である。また、図１４は、本実施形態にかかるフレキシブルディスプレイ１の折り曲げ部の周囲の概略構成を示す端面図である。

　なお、図１４は、図１３に示すフレキシブルディスプレイ１のＤ－Ｄ線矢視断面図に相当する。図１３では、図示の便宜上、表示領域５に対する額縁領域６の比率を、実際よりもかなり大きく記載している。

　本実施形態にかかるフレキシブルディスプレイ１は、図１３および図１４に示すように、カバー層５０が、平面視で、折り曲げ部における、有機ＥＬ素子２４に隣接する領域に開口部５０Ａを有するとともに、接着剤層４０が、平面視で、上記開口部５０Ａが設けられている領域（すなわち、平面視で、折り曲げ部における、有機ＥＬ素子２４に隣接する領域）に開口部４０Ａを有している点で、実施形態１～３にかかるフレキシブルディスプレイ１と異なっている。

　なお、図１３および図１４では、実施形態１において、接着剤層４０ａ・４０ｂおよびカバー層５０ａ・５０ｂに代えて、上記開口部４０Ａを有する接着剤層４０および上記開口部５０Ａを有するカバー層５０が設けられている場合を例に挙げて図示している。

　しかしながら、本実施形態は、これに限定されるものではなく、実施形態２または実施形態３において、接着剤層４０ａ・４０ｂおよびカバー層５０ａ・５０ｂに代えて、上記開口部４０Ａを有する接着剤層４０および上記開口部５０Ａを有するカバー層５０が設けられていてもよいことは、言うまでもない。

　なお、図１３および図１４に示す例（つまり、実施形態１にかかるフレキシブルディスプレイ１）において、平面視で、折り曲げ部における、有機ＥＬ素子２４に隣接する領域とは、平面視で、折り曲げ部における、表示領域５に対応する領域を示す。また、実施形態２・３にかかるフレキシブルディスプレイ１において、平面視で、折り曲げ部における、有機ＥＬ素子２４に隣接する領域とは、平面視で、折り曲げ部における、表示領域５に隣接する領域（つまり、隣り合う表示領域５の間の額縁領域６）を示す。

　また、図１３および図１４では、平面視で、折り曲げ部における、有機ＥＬ素子２４に隣接する領域にのみ開口部４０Ａ・５０Ａが設けられている場合を例に挙げて図示したが、本実施形態は、これに限定されるものではない。

　開口部４０Ａ・５０Ａは、平面視で、折り曲げ部における、少なくとも、有機ＥＬ素子２４に隣接する領域に設けられていればよい。

　このように、本実施形態では、接着剤層４０およびカバー層５０が、平面視で、折り曲げ部における、有機ＥＬ素子２４に隣接する領域を避けて設けられており、接着剤層４０およびカバー層５０は、折り曲げ部の両端部で繋がっている。

　本実施形態にかかるフレキシブルディスプレイ１は、実施形態１～３において、接着剤層４０およびカバー層５０の形成工程で、カバー層５０として、開口部５０Ａを有するとともに、その一面に、接着剤層４０が設けられた機能性フィルムを準備し、該カバー層５０を、封止膜３０上に貼り合わせることで、容易に製造することができる。

　＜効果＞
　本実施形態によれば、折り曲げ部に、上記開口部４０Ａ・５０Ａによる溝部７が設けられていることで、上記溝部７でフレキシブルディスプレイ１を容易に折り曲げることができる。また、上記開口部４０Ａ・５０Ａの形成領域における、上記折り曲げ部を構成する各層にかかる応力を低減することができるので、本実施形態でも、上記フレキシブルディスプレイ１を折り曲げたときに、上記折り曲げ部、特に、上記開口部４０Ａ・５０Ａの形成領域で、上記バリア層１１ｃ等の膜破断が生じず、上記有機ＥＬ素子２４の点灯不良が発生することを防止することができる。

　〔実施形態５〕
　本発明の実施のさらに他の形態について、主に図１５～図１８に基づいて説明すれば、以下の通りである。なお、本実施形態では、実施形態１～４との相違点について説明するものとし、実施形態１～４で説明した部材と同じ機能を有する部材については、同じ符号を付記し、その説明を省略する。また、本実施形態でも、実施形態１～４と同様の変形を行うことが可能である。

　図１５は、本実施形態にかかるフレキシブルディスプレイ１の折り曲げ部の周囲の概略構成を示す断面図である。

　なお、本実施形態では、実施形態２にかかるフレキシブルディスプレイ１に対する変形例を例に挙げて説明するが、実施形態１、３、４に対し、以下の変形を行ってもよいことは、言うまでもない。

　本実施形態にかかるフレキシブルディスプレイ１は、溝部７、つまり、隣り合う表示領域５間における非表示領域（額縁領域６）の幅をできるだけ小さくするために、図１５に示すように、ＯＬＥＤパネル２の表示面に、表示領域５から出射された光の一部を、隣り合う表示領域５間の、有機ＥＬ素子２４（言い換えれば、副画素３）が形成されていない領域（発光素子非形成領域、額縁領域６）に導くことで、上記発光素子非形成領域に上記表示領域５の画像の一部を表示させる導光体５３ａ・５３ｂを備えている。

　本実施形態にかかるフレキシブルディスプレイ１は、図１５に示すように、カバー層５０ａとして、偏光フィルム５２ａと、該偏光フィルム５２ａ上に設けられた導光体５３ａとを備えるとともに、カバー層５０ｂとして、偏光フィルム５２ｂと、該偏光フィルム５２ｂ上に設けられた導光体５３ｂとを備えている点を除けば、例えば、実施形態２にかかるフレキシブルディスプレイ１と同じである。なお、偏光フィルム５２ａ・５２ｂと導光体５３ａ・５３ｂとは、図示しない接着剤層で貼り合わせられている。

　図１６は、本実施形態にかかるフレキシブルディスプレイ１で用いられる導光体５３ａ・５３ｂの一例を示す断面図である。

　図１６に示すフレキシブルディスプレイ１は、導光体５３ａ・５３ｂとして、導光層５４と反射層５５とが、その厚み方向（すなわち、光の伝播方向に直交する方向）に互いに平行に繰り返し積層された、シート状の積層体からなる機能性フィルム層を備えている。上記導光層５４と反射層５５とは、例えば、図示しない接着層で貼り合わされている。

　上記導光層５４には、ポリエチレンテレフタレート、アクリル樹脂、シクロオレフィン樹脂等の透明な樹脂からなる透光層を使用することができる。また、上記反射層５５には、例えば、銀、アルミニウム等の金属層を使用することができる。

　この場合、上記導光体５３ａ・５３ｂの導光部は、上記導光層５４と、反射層５５と、上記導光層５４と反射層５５とを貼り合わせる、図示しない接着層と、で構成される。これら各層（言い換えれば、導光部）は、上記フレキシブルディスプレイ１の表示面に対し、法線方向ではなく、法線方向から斜めに伸びるように形成されている。

　このため、上記導光体５３ａ・５３ｂの導光部を構成する各層の境界面は、各表示領域５における有機ＥＬ素子２４から出射された光を入射する、上記導光体５３ａ・５３ｂの入射面および該光を出射する出射面に対し傾斜して設けられている。

　この場合、上記導光層５４の一方の端面から上記導光体５３ａ・５３ｂに入射した光は、上記反射層５５で反射されて上記導光層５４内を伝播し、該導光層５４の他方の端面から出射される。

　上記導光体５３ａ・５３ｂは、上述したように上記フレキシブルディスプレイ１の表示面に対して傾斜して設けられた導光部によって、各表示領域５から出射された光の一部を、隣り合う表示領域５間の額縁領域６上に導くことで、上記フレキシブルディスプレイ１を上記導光体５３ａ・５３ｂの上方から見たときに、各表示領域５の画像の一部を、上記額縁領域６に表示（シフト）させる。

　なお、導光体５３ａ・５３ｂは、上記構成に限定されず、２種類以上の、屈折率の異なる透光層が互いに平行に積層された積層体であってもよい。

　すなわち、上記導光体５３ａ・５３ｂは、導光層５４として、透明な樹脂からなる透光層を有する一方、反射層５５として、導光層５４よりも屈折率が低い、透明な樹脂からなる透光層を有していてもよい。

　この場合、上記導光層５４と反射層５５とは、直接接触していてもよいし、間に接着層が設けられていてもよい。

　この場合、上記導光層５４である透光層の屈折率が、上記反射層５５である透光層の屈折率よりも高いので、有機ＥＬ素子２４から上記導光層５４に入射した光は、上記導光層５４と反射層５５との界面において全反射されて、上記導光層５４内を伝播する。

　このため、この場合にも、上記導光層５４の一方の端面から上記導光体５３ａ・５３ｂに入射した光は、上記反射層５５として機能する透光層との界面で反射されて上記導光層５４内を伝播し、該導光層５４の他方の端面から出射される。

　図１７は、本実施形態にかかるフレキシブルディスプレイ１で用いられる導光体５３ａ・５３ｂの他の例を示す断面図である。

　導光体５３ａ・５３ｂは、各表示領域５の全面に設けられていてもよく、図１０に示すように、上記額縁領域６と、該額縁領域６に隣り合う、表示領域５の一部の領域にのみ設けられていてもよい。

　図１７に示す導光体５３ａ・５３ｂは、有機ＥＬ素子２４から出射された光の入射面がフレキシブルディスプレイ１の表示面に平行であるが、導光体５３ａ・５３ｂから出射する光の出射面がフレキシブルディスプレイ１の表示面に対して傾斜している三角柱状に形成されていることを除けば、図１６に示す導光体５３ａ・５３ｂと同じである。

　図１７に示すフレキシブルディスプレイ１は、カバー層５０ａとして、偏光フィルム５２ａと、該偏光フィルム５２ａ上に設けられた導光体５３ａと、該導光体５３ａが積層された表示領域５と該導光体５３ａの出射面とを覆う透光性カバーシート５６ａとを備えている。また、図１７に示すフレキシブルディスプレイ１は、カバー層５０ｂとして、偏光フィルム５２ｂと、該偏光フィルム５２ｂ上に設けられた導光体５３ｂと、該導光体５３ｂが積層された表示領域５と該導光体５３ｂの出射面とを覆う透光性カバーシート５６ｂとを備えている。

　なお、導光体５３ａ・５３ｂと透光性カバーシート５６ａ・５６ｂとは、接着剤層で貼り合わされていてもよいし、空気層を介して固定されていてもよい。透光性カバーシート５６ａ・５６ｂは、フレキシブルディスプレイ１の表面の保護並びに平坦化のために使用される。このため、透光性カバーシート５６ａ・５６ｂは、必ずしも必要ではない。

　この場合にも、各表示領域５から出射された光の一部を、上記導光体５３ａ・５３ｂによって、隣り合う表示領域５間の額縁領域６上に導くことで、上記フレキシブルディスプレイ１を上記導光体５３ａ・５３ｂの上方から見たときに、各表示領域５の画像の一部を、上記額縁領域６に表示（シフト）させることができる。

　但し、図１７に示すように三角柱状の導光体５３ａ・５３ｂを用いる場合、副画素３の位置によって表示画像のシフト量が異なる。このため、各導光体５３ａ・５３ｂの入射面における、各表示領域５側の端部から該表示領域５とは反対側の端部までの間の距離に応じた表示画像のシフト量を変える必要がある。なお、シフト量は、上記表示領域５の画素位置に対応付けられたＬＵＴ（ルックアップテーブル）を用いて変更してもよく、副画素３の位置毎のシフト量をその都度算出してもよい。

　図１８は、本実施形態にかかるフレキシブルディスプレイ１で用いられる導光体５３ａ・５３ｂのさらに他の例を示す断面図である。

　図１８に示すフレキシブルディスプレイ１は、上記額縁領域６と、該額縁領域６に隣り合う、表示領域５の一部の領域に、導光体５３ａ・５３ｂとして、例えば、シリンドリカルレンズ５７ａ・５７ｂを備えている。

　シリンドリカルレンズ５７ａ・５７ｂの出射面は曲面を有し、表示領域５に対し、傾いた形状になっている。このため、シリンドリカルレンズ５７ａ・５７ｂが設けられた表示領域５から出射された光は、シリンドリカルレンズ５７ａ・５７ｂを通過するときに屈折し、上記フレキシブルディスプレイ１を上記導光体５３ａ・５３ｂの上方から見たときに、各表示領域５の画像の一部が、上記額縁領域６に表示（シフト）される。

　本実施形態によれば、以上のように、折り曲げ部を挟んで隣り合う表示領域５間の発光素子非形成領域（額縁領域６）に、折り曲げ部を挟んで隣り合う表示領域５からそれぞれ出射された光の一部を導くことができる。このため、本実施形態によれば、折り曲げ部を挟んで隣り合う表示領域５にそれぞれ表示される画像の一部を、折り曲げ部を挟んで隣り合う表示領域５間の上記額縁領域６に表示（シフト）させることができる。このため、本実施形態によれば、隣り合う表示領域５間の非表示領域の幅を実質的に小さくすることができる。

　〔まとめ〕
　本発明の態様１にかかる表示装置（フレキシブルディスプレイ１）は、少なくとも１つの折り曲げ部を有する表示装置であって、バリア層（バリア層１１ｃ、バリア層１１ｃ１・１１ｃ２）を有する支持体（ＴＦＴ基板１０）と、上記支持体上に設けられた複数の光学素子（例えば有機ＥＬ素子２４）と、互いに重畳配置された複数の無機層（第１無機層３１、第２無機層３３）と上記複数の無機層の間に挟持された少なくとも１層の有機層（有機層３２）とを含み、上記複数の光学素子を封止する封止膜３０と、上記封止膜３０上に設けられた接着剤層４０（接着剤層４０、接着剤層４０ａ・４０ｂ）と、上記接着剤層上に設けられた、機能性フィルム層を含むカバー層（カバー層５０、カバー層５０ａ・５０ｂ）と、を備え、上記接着剤層および上記カバー層は、平面視で、上記折り曲げ部における、少なくとも、上記光学素子に隣接する領域を避けて設けられている。

　本発明の態様２にかかる表示装置は、上記態様１において、上記接着剤層および上記カバー層は、それぞれ、平面視で、複数の島状に分割して設けられており、島状に分割された上記接着剤層（接着剤層４０ａ・４０ｂ）および島状に分割された上記カバー層（カバー層５０ａ・５０ｂ）が、それぞれ、上記折り曲げ部を挟んで平面視で互いに離間して設けられていてもよい。

　本発明の態様３にかかる表示装置は、上記態様１において、上記接着剤層および上記カバー層は、それぞれ、平面視で、上記折り曲げ部における、上記光学素子に隣接する領域に、開口部（開口部４０Ａ・５０Ａ）を有していてもよい。

　本発明の態様４にかかる表示装置は、上記態様１～３の何れかにおいて、上記光学素子は、第１電極２１と、第２電極２３と、上記第１電極２１と上記第２電極２３との間に設けられた機能層（有機ＥＬ層２２）とを備え、上記第２電極２３は、上記折り曲げ部を跨いで設けられていてもよい。

　本発明の態様５にかかる表示装置は、上記態様１～４の何れかにおいて、上記折り曲げ部を跨ぐ配線（ゲート配線ＧＬ）を備えるとともに、上記支持体の縁部と、上記複数の光学素子が設けられた表示領域５と、の間に、上記配線を含む配線の端子ＴＭが形成された端子部１２Ｔが、上記折り曲げ部と重ならないように設けられていてもよい。

　本発明の態様６にかかる表示装置は、上記態様１～３の何れかにおいて、上記複数の光学素子は、上記折り曲げ部を避けて設けられており、上記複数の光学素子が設けられた複数の表示領域５が、上記折り曲げ部を挟んで設けられていてもよい。

　本発明の態様７にかかる表示装置は、上記態様６において、上記折り曲げ部に設けられた無機層が、上記バリア層、並びに、上記封止膜３０を構成する上記無機層であってもよい。

　本発明の態様８にかかる表示装置は、上記態様６において、上記バリア層は、平面視で、複数の島状に分割して設けられており、島状に分割された上記バリア層（バリア層１１ｃ１・１１ｃ２）が、それぞれ、上記折り曲げ部を挟んで平面視で互いに離間して設けられており、上記折り曲げ部に設けられた無機層が、上記封止膜３０を構成する上記無機層であってもよい。

　本発明の態様９にかかる表示装置は、上記態様６～８の何れかにおいて、上記有機層のエッジに重なる枠状のバンク（バンクＢＫ４）が、上記複数の表示領域５を囲むように、上記折り曲げ部を跨いで設けられていてもよい。

　本発明の態様１０にかかる表示装置は、上記態様６～９の何れかにおいて、上記折り曲げ部で分離された複数の配線を備え、上記複数の配線の各端子ＴＭが形成された端子部１２Ｔが、上記支持体の縁部と各表示領域５との間に、上記折り曲げ部と重ならないようにそれぞれ設けられていてもよい。

　本発明の態様１１にかかる表示装置は、上記態様１～１０の何れかにおいて、上記封止膜３０は、上記複数の無機層として、第１無機層３１および第２無機層３３を備えるとともに、上記少なくとも１層の有機層として、上記第１無機層３１と上記第２無機層３３との間に設けられた、１層の有機層３２を備えていてもよい。

　本発明の態様１２にかかる表示装置は、上記態様１～１１の何れかにおいて、平面視で、上記折り曲げ部を挟んで隣り合う光学素子からそれぞれ出射された光の一部を、上記折り曲げ部を挟んで隣り合う光学素子間の領域に導く導光体（導光体５３ａ・５３ｂ、シリンドリカルレンズ５７ａ・５７ｂ）を備えていてもよい。

　本発明の態様１３にかかる表示装置（フレキシブルディスプレイ１）の製造方法は、バリア層（バリア層１１ｃ、バリア層１１ｃ１・１１ｃ２）を有する支持体（ＴＦＴ基板１０）と、上記支持体上に設けられた複数の光学素子（例えば有機ＥＬ素子２４）と、互いに重畳配置された複数の無機層（第１無機層３１、第２無機層３３）と上記複数の無機層の間に挟持された少なくとも１層の有機層（有機層３２）とを含み、上記複数の光学素子を封止する封止膜３０と、上記封止膜３０上に設けられた接着剤層（接着剤層４０、接着剤層４０ａ・４０ｂ）と、上記接着剤層上に設けられた、機能性フィルム層を含むカバー層（カバー層５０、カバー層５０ａ・５０ｂ）と、を備えるとともに、少なくとも１つの折り曲げ部を有する表示装置の製造方法であって、平面視で、上記折り曲げ部における、少なくとも、上記光学素子に隣接する領域を避けて、上記接着剤層および上記カバー層を形成する。

　本発明は上述した各実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能であり、異なる実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。さらに、各実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を組み合わせることにより、新しい技術的特徴を形成することができる。

　　１　　　フレキシブルディスプレイ（表示装置）
　　２　　　ＯＬＥＤパネル
　　３　　　副画素
　　４　　　画素
　　５　　　表示領域
　　６　　　額縁領域
　　７　　　溝部
　１０　　　ＴＦＴ基板（支持体）
　１１　　　支持体
　１１ａ　　下面フィルム
　１１ｂ　　樹脂層
　１１ｃ、１１ｃ１、１１ｃ２　　バリア層
　１２、１２ａ、１２ｂ　　ＴＦＴ層
　１２Ｔ　　端子部
　１３　　　半導体層
　１４　　　ゲート絶縁膜
　１５、１６　　無機絶縁膜
　１７　　　有機絶縁膜
　１７Ａ　　第１有機絶縁膜パターン部
　１７Ｂ　　第２有機絶縁膜パターン部
　１７Ｃ　　第３有機絶縁膜パターン部
　１７Ｔ　　端子部有機絶縁膜パターン部
　１８　　　ＴＦＴ
　２０　　　ＯＬＥＤ層
　２１　　　第１電極
　２２　　　有機ＥＬ層
　２３　　　第２電極
　２４　　　有機ＥＬ素子（光学素子）
　３０　　　封止膜
　３１　　　第１無機層
　３２　　　有機層
　３３　　　第２無機層
　４０、４０ａ、４０ｂ　　接着剤層
　４０Ａ、５０Ａ　　開口部
　５０、５０ａ、５０ｂ　　カバー層
　５１ａ、５１ｂ　　保護フィルム
　５２ａ、５２ｂ　　　偏光フィルム
　５３ａ、５３ｂ　　　導光体
　５４　　　導光層
　５５　　　反射層
　５６　　　透光性カバーシート
　５７　　　シリンドリカルレンズ（導光体）
　ＢＫ、ＢＫ１、ＢＫ２、ＢＫ３、ＢＫ４、ＢＫ５　　　バンク
　ＢＫ２ａ、ＢＫ３ａ　　　ドット状バンク
　ＧＬ　　　ゲート配線（配線）
　ＳＬ　　　ソース配線
　Ｗ　　　　配線
　ＴＭ　　　端子
　ＦＬ　　　折り曲げ線

Claims

　少なくとも１つの折り曲げ部を有する表示装置であって、
　バリア層を有する支持体と、
　上記支持体上に設けられた複数の光学素子と、
　互いに重畳配置された複数の無機層と上記複数の無機層の間に挟持された少なくとも１層の有機層とを含み、上記複数の光学素子を封止する封止膜と、
　上記封止膜上に設けられた接着剤層と、
　上記接着剤層上に設けられた、機能性フィルム層を含むカバー層と、を備え、
　上記接着剤層および上記カバー層は、平面視で、上記折り曲げ部における、少なくとも、上記光学素子に隣接する領域を避けて設けられていることを特徴とする表示装置。
　上記接着剤層および上記カバー層は、それぞれ、平面視で、複数の島状に分割して設けられており、
　島状に分割された上記接着剤層および島状に分割された上記カバー層が、それぞれ、上記折り曲げ部を挟んで平面視で互いに離間して設けられていることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
　上記接着剤層および上記カバー層は、それぞれ、平面視で、上記折り曲げ部における、上記光学素子に隣接する領域に、開口部を有していることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
　上記光学素子は、第１電極と、第２電極と、上記第１電極と上記第２電極との間に設けられた機能層とを備え、
　上記第２電極は、上記折り曲げ部を跨いで設けられていることを特徴とする請求項１～３の何れか１項に記載の表示装置。
　上記折り曲げ部を跨ぐ配線を備えるとともに、
　上記支持体の縁部と、上記複数の光学素子が設けられた表示領域と、の間に、上記配線を含む配線の端子が形成された端子部が、上記折り曲げ部と重ならないように設けられていることを特徴とする請求項１～４の何れか１項に記載の表示装置。
　上記複数の光学素子は、上記折り曲げ部を避けて設けられており、上記複数の光学素子が設けられた複数の表示領域が、上記折り曲げ部を挟んで設けられていることを特徴とする請求項１～３の何れか１項に記載の表示装置。
　上記折り曲げ部に設けられた無機層が、上記バリア層、並びに、上記封止膜を構成する上記無機層であることを特徴とする請求項６に記載の表示装置。
　上記バリア層は、平面視で、複数の島状に分割して設けられており、島状に分割された上記バリア層が、それぞれ、上記折り曲げ部を挟んで平面視で互いに離間して設けられており、上記折り曲げ部に設けられた無機層が、上記封止膜を構成する上記無機層であることを特徴とする請求項６に記載の表示装置。
　上記有機層のエッジに重なる枠状のバンクが、上記複数の表示領域を囲むように、上記折り曲げ部を跨いで設けられていることを特徴とする請求項６～８の何れか１項に記載の表示装置。
　上記折り曲げ部で分離された複数の配線を備え、
　上記複数の配線の各端子が形成された端子部が、上記支持体の縁部と各表示領域との間に、上記折り曲げ部と重ならないようにそれぞれ設けられていることを特徴とする請求項６～９の何れか１項に記載の表示装置。
　上記封止膜は、上記複数の無機層として、第１無機層および第２無機層を備えるとともに、上記少なくとも１層の有機層として、上記第１無機層と上記第２無機層との間に設けられた、１層の有機層を備えていることを特徴とする請求項１～１０の何れか１項に記載の表示装置。
　平面視で、上記折り曲げ部を挟んで隣り合う光学素子からそれぞれ出射された光の一部を、上記折り曲げ部を挟んで隣り合う光学素子間の領域に導く導光体を備えていることを特徴とする請求項１～１１の何れか１項に記載の表示装置。
　バリア層を有する支持体と、上記支持体上に設けられた複数の光学素子と、互いに重畳配置された複数の無機層と上記複数の無機層の間に挟持された少なくとも１層の有機層とを含み、上記複数の光学素子を封止する封止膜と、上記封止膜上に設けられた接着剤層と、上記接着剤層上に設けられた、機能性フィルム層を含むカバー層と、を備えるとともに、少なくとも１つの折り曲げ部を有する表示装置の製造方法であって、
　平面視で、上記折り曲げ部における、少なくとも、上記光学素子に隣接する領域を避けて、上記接着剤層および上記カバー層を形成することを特徴とする表示装置の製造方法。