+

WO2016006507A1 - ミラープレート、及び、ミラーディスプレイ - Google Patents

ミラープレート、及び、ミラーディスプレイ Download PDF

Info

Publication number
WO2016006507A1
WO2016006507A1 PCT/JP2015/068940 JP2015068940W WO2016006507A1 WO 2016006507 A1 WO2016006507 A1 WO 2016006507A1 JP 2015068940 W JP2015068940 W JP 2015068940W WO 2016006507 A1 WO2016006507 A1 WO 2016006507A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
mirror
layer
mirror plate
thickness
reflective polarizing
Prior art date
Application number
PCT/JP2015/068940
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
坂井　彰
雅浩 長谷川
博之 箱井
箕浦　潔
Original Assignee
シャープ株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by シャープ株式会社 filed Critical シャープ株式会社
Priority to CN201580037061.8A priority Critical patent/CN106471399B/zh
Priority to US15/323,143 priority patent/US10054818B2/en
Publication of WO2016006507A1 publication Critical patent/WO2016006507A1/ja

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133553—Reflecting elements
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/14—Protective coatings, e.g. hard coatings
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/08—Mirrors
    • G02B5/0808—Mirrors having a single reflecting layer
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/08—Mirrors
    • G02B5/0816—Multilayer mirrors, i.e. having two or more reflecting layers
    • G02B5/0825—Multilayer mirrors, i.e. having two or more reflecting layers the reflecting layers comprising dielectric materials only
    • G02B5/0841—Multilayer mirrors, i.e. having two or more reflecting layers the reflecting layers comprising dielectric materials only comprising organic materials, e.g. polymers
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G02B5/3025—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state
    • G02B5/3033—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G02B5/3025—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state
    • G02B5/3033—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid
    • G02B5/3041—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid comprising multiple thin layers, e.g. multilayer stacks
    • G02B5/305—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid comprising multiple thin layers, e.g. multilayer stacks including organic materials, e.g. polymeric layers
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133528—Polarisers
    • G02F1/133536—Reflective polarizers

Definitions

  • the present invention relates to a mirror plate and a mirror display. More specifically, the present invention relates to a mirror plate having a function as a mirror and a mirror display including the mirror plate.
  • mirror displays have been proposed in which a mirror film is provided on the observation surface side of the display device to give the display device a function as a mirror (see, for example, Patent Documents 1 to 4).
  • image display is performed by display light emitted from the display device, and the mirror display is also used as a mirror by reflecting external light.
  • an optical member having a reflection function such as a reflective polarizing layer (see, for example, Patent Document 5), a dielectric multilayer film (see, for example, Patent Document 6), a metal vapor deposition film, or the like is known.
  • a mirror film a reflective polarizing layer or the like
  • the mirror film is bent, and as a result, the mirror image ( In some cases, the quality of the image such as the distortion of the reflected image is reduced. Therefore, by adopting a configuration having an adhesive layer (for example, see Patent Documents 7 to 9) in addition to the mirror layer as the mirror film, the mirror film can be used in the state of a mirror plate attached to a base material. there were.
  • the light use efficiency is increased, and both the visibility of the mirror image and the visibility of the image (hereinafter also simply referred to as an image) by the display device are achieved.
  • a dielectric multilayer film or a reflective polarizing layer as the mirror layer 5, and it is particularly preferable to use a reflective polarizing layer.
  • the material constituting most of the mirror layer 5 is preferably a resin, more preferably a thermoplastic resin from the viewpoint of improving moldability, and it is inexpensive, highly reliable, and has good moldability.
  • the polymer material B include a copolyester (coPEN) of naphthalene dicarboxylic acid and terephthalic acid or isotalic acid, and 70 naphthalate / 30 terephthalate copolymer (coPEN) is preferable.
  • coPEN copolyester
  • Such an ultra-multi-layer reflective polarizing layer formed, for example, a multilayer laminated film in which layers of polymer materials A and B were alternately laminated by using an extruder, a multilayer feed block, and a multiplier. Then, it can manufacture by performing a extending
  • As the reflective polarizing layer a reflective polarizing layer using a selective reflection phenomenon of cholesteric liquid crystal can be used in addition to the super multilayer reflective polarizing layer.
  • the dielectric multilayer film has a reflectivity adjusted to an arbitrary value using the principle of optical interference.
  • the material and manufacturing method of the dielectric multilayer film are not particularly limited, and for example, a multi-layered dielectric thin film (resin) having a different refractive index can be used.
  • a dielectric multilayer film can be manufactured, for example, by alternately laminating layers of two kinds of polyester materials using the materials and manufacturing method described in Patent Document 6. Unlike the reflective polarizing layer, the dielectric multilayer film does not have polarization performance.
  • metal vapor deposition film As a metal vapor deposition film, what vapor-deposited the metal on PET film can be used, for example. Unlike the reflective polarizing layer, the metal vapor-deposited film does not have polarizing performance.
  • the adhesive layer 4 is not particularly limited as long as it is excellent in adhesiveness and has transparency and smoothness that do not impair the visibility of mirror images and images.
  • the material of the adhesive layer 4 is not particularly limited.
  • Those having a base polymer as a polymer can be appropriately selected and used. Of these, those having appropriate wettability, cohesiveness, and adhesiveness, and excellent in transparency, weather resistance, and heat resistance, as in the case of using an acrylic polymer, are particularly preferable.
  • the adhesion layer 4 does not specifically limit as a method to apply the adhesion layer 4,
  • a roll coat, a kiss roll coat, a gravure coat, a reverse coat, a roll brush, a spray coat, a dip as described in the said patent document 8
  • Methods such as roll coating, bar coating, knife coating, air knife coating, curtain coating, lip coating, and die coater can be used.
  • a die coater that can be easily applied with a small amount of solvent.
  • the thickness of the adhesion layer 4 is not specifically limited, It is preferable that they are 5 micrometers or more and 25 micrometers or less. If the thickness of the adhesive layer 4 is too thin, there is a concern that the adhesive strength will be weakened. When the thickness of the adhesive layer 4 is too thick, the mirror film 2a (mirror plate 1a) becomes thick, and there is a concern that practicality may be reduced.
  • the substrate 3 is not particularly limited as long as the arithmetic average roughness (hereinafter also referred to as Ra) of the surface on the pressure-sensitive adhesive layer 4 side is less than 0.03 ⁇ m.
  • Ra arithmetic average roughness
  • the mirror film 2a is affixed to the wall surface instead of a conventional mirror (for example, a metal thin film deposited on a glass substrate), which may cause glass breakage. It is possible to realize a film-type mirror that is inexpensive, lightweight, and can be increased in size.
  • Ra is measured according to JIS B0601 2001.
  • an optical interference type surface shape observation device (trade name: Wyko NT1100) manufactured by Veeco, an atomic force microscope (trade name) manufactured by SII. : SPI3800) or the like.
  • the Ra of a very flat substrate such as a glass substrate used in the field of display is 0.001 ⁇ m or less, while the Ra of rubbed glass is larger than 0.2 ⁇ m.
  • the relationship between the thickness of the mirror layer 5 and the pressure-sensitive adhesive layer 4 satisfies tA / tM ⁇ 0.18 when the thickness of the mirror layer 5 is tM and the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer 4 is tA. From the viewpoint of sufficiently achieving the above, it is preferable to satisfy tA / tM ⁇ 0.15, and it is more preferable to satisfy tA / tM ⁇ 0.14.
  • the thickness of the mirror layer 5 and the adhesion layer 4 is a value measured to a micrometer unit.
  • the laminated body for example, the thing in which the some reflective polarizing layer was laminated
  • the base material 3 is an observation surface side
  • it is a base material in the laminated body.
  • the thickness of the mirror layer disposed on the side close to 3 (side close to the adhesive layer 4) is defined as tM.
  • stacked in multiple numbers as the mirror layer 5 and the opposite side to the base material 3 is an observation surface side
  • an acrylic pressure-sensitive adhesive composition solution
  • an acrylic pressure-sensitive adhesive composition was applied to one surface of a 38 ⁇ m-thick PET film subjected to silicone treatment using a die coater so that the thickness (tA) of the pressure-sensitive adhesive layer 4 after drying was 5 ⁇ m. And the drying process is performed for 1 minute at 155 degreeC, and the adhesion layer 4 is completed.
  • Example 5 is a case where the number of doublings in forming the reflective polarizing layer is 12 and the thickness (tM) of the reflective polarizing layer is 70 ⁇ m.
  • the mirror plate of the fifth embodiment is the same as the mirror plate of the first embodiment except for these conditions, and thus the description of the overlapping points is omitted.
  • Example 8 In Example 8, the number of doublings in forming the reflective polarizing layer is 18 and the thickness (tM) of the reflective polarizing layer is 104 ⁇ m. Since the mirror plate of the eighth embodiment is the same as the mirror plate of the first embodiment except for these conditions, description of overlapping points is omitted.
  • Example 9 In Example 9, the number of doublings in forming the reflective polarizing layer is 20 and the thickness (tM) of the reflective polarizing layer is 116 ⁇ m. Since the mirror plate of the ninth embodiment is the same as the mirror plate of the first embodiment except for these conditions, the description of overlapping points is omitted.
  • Example 11 In Example 11, the number of doublings in forming the reflective polarizing layer is 12, the thickness (tM) of the reflective polarizing layer is 70 ⁇ m, and the thickness (tA) of the adhesive layer 4 is 12 ⁇ m.
  • the mirror plate of the eleventh embodiment is the same as the mirror plate of the first embodiment except for these conditions.
  • Example 12 In Example 12, the number of doublings in forming the reflective polarizing layer is 14 and the thickness (tM) of the reflective polarizing layer is 81 ⁇ m.
  • the mirror plate of the twelfth embodiment is the same as the mirror plate of the eleventh embodiment except for these conditions.
  • Example 13 In Example 13, the number of doublings in forming the reflective polarizing layer was 16 and the thickness (tM) of the reflective polarizing layer was 93 ⁇ m. Since the mirror plate of the thirteenth embodiment is the same as the mirror plate of the eleventh embodiment except for these conditions, the description of overlapping points is omitted.
  • Example 14 In Example 14, the number of doublings in forming the reflective polarizing layer is 18 and the thickness (tM) of the reflective polarizing layer is 104 ⁇ m. Since the mirror plate of Example 14 is the same as the mirror plate of Example 11 except for these conditions, description of overlapping points is omitted.
  • Example 16 In Example 16, the number of doublings in forming the reflective polarizing layer was 26, and the thickness (tM) of the reflective polarizing layer was 151 ⁇ m.
  • the mirror plate of the sixteenth embodiment is the same as the mirror plate of the eleventh embodiment except for these conditions.
  • Example 17 In Example 17, the number of doublings in forming the reflective polarizing layer is 26, the thickness (tM) of the reflective polarizing layer is 151 ⁇ m, and the thickness (tA) of the adhesive layer 4 is 25 ⁇ m.
  • the mirror plate of the seventeenth embodiment is the same as the mirror plate of the first embodiment except for these conditions.
  • Example 18 is a case where the substrate 3 has an acrylic plate. Ra of the surface by the side of the adhesion layer 4 of an acrylic board is 0.014 micrometer. Since the mirror plate of Example 18 is the same as the mirror plate of Example 14 except for these conditions, description of overlapping points is omitted.
  • Example 21 is a case where the mirror layer 5 has a dielectric multilayer film.
  • the dielectric multilayer film a material in which a total of 801 layers of two kinds of polyester materials are alternately laminated using the material and the manufacturing method described in Example 1 of Patent Document 6 is used.
  • the dielectric multilayer film has a thickness (tM) of 100 ⁇ m and a reflectance of 88%. Since the mirror plate of Example 21 is the same as the mirror plate of Example 14 except for these conditions, description of overlapping points is omitted.
  • Example 22 is a case where the mirror layer 5 has a metal vapor deposition film.
  • a metal vapor deposition film a film obtained by depositing aluminum with a purity of 99.9% on a PET film with a thickness of 100 ⁇ m so as to have a film thickness of 100 nm is used.
  • the metal vapor deposition film has a thickness (tM) of 100 ⁇ m (except that the film thickness of aluminum is relatively small), and the reflectance is 85%.
  • the adhesive layer 4 is affixed to the surface of the metal vapor deposition film on the PET film side. Since the mirror plate of Example 22 is the same as the mirror plate of Example 14 except for these conditions, description of overlapping points is omitted.
  • the comparative form 1 relates to a configuration in which the Ra and / or tA / tM value of the surface of the base material 3 on the pressure-sensitive adhesive layer 4 side is in a different range from the first embodiment. Since the mirror plate of Comparative Embodiment 1 is the same as the mirror plate of Embodiment 1 except for these conditions, the description of overlapping points is omitted.
  • Comparative Example 1 is a case where the number of doublings when forming the reflective polarizing layer is 3, and the thickness (tM) of the reflective polarizing layer is 17 ⁇ m. Since the mirror plate of Comparative Example 1 is the same as the mirror plate of Example 1 except for these conditions, description of overlapping points is omitted.
  • Comparative Example 2 is a case where the number of doublings when forming the reflective polarizing layer is 4 and the thickness (tM) of the reflective polarizing layer is 23 ⁇ m. Since the mirror plate of Comparative Example 2 is the same as the mirror plate of Example 1 except for these conditions, the description of overlapping points is omitted.
  • Comparative Example 3 In Comparative Example 3, the number of doublings when the reflective polarizing layer is formed is 3, and the thickness (tM) of the reflective polarizing layer is 17 ⁇ m. Since the mirror plate of Comparative Example 3 is the same as the mirror plate of Example 11 except for these conditions, the description of overlapping points is omitted.
  • Comparative Example 4 is a case where the number of doublings when forming the reflective polarizing layer is 4, and the thickness (tM) of the reflective polarizing layer is 23 ⁇ m. Since the mirror plate of Comparative Example 4 is the same as the mirror plate of Example 11 except for these conditions, the description of overlapping points is omitted.
  • Comparative Example 5 In Comparative Example 5, the number of doublings when forming the reflective polarizing layer is 5 and the thickness (tM) of the reflective polarizing layer is 29 ⁇ m. Since the mirror plate of Comparative Example 5 is the same as the mirror plate of Example 11 except for these conditions, description of overlapping points is omitted.
  • Comparative Example 8 In Comparative Example 8, the number of doublings when forming the reflective polarizing layer is 10 and the thickness (tM) of the reflective polarizing layer is 58 ⁇ m. Since the mirror plate of Comparative Example 8 is the same as the mirror plate of Example 11 except for these conditions, description of overlapping points is omitted.
  • Comparative Example 9 In Comparative Example 9, the number of doublings when forming the reflective polarizing layer is 3, and the thickness (tM) of the reflective polarizing layer is 17 ⁇ m. Since the mirror plate of Comparative Example 9 is the same as the mirror plate of Example 17 except for these conditions, the description of the overlapping points is omitted.
  • Comparative Example 10 is a case where the number of doublings when forming the reflective polarizing layer is 4 and the thickness (tM) of the reflective polarizing layer is 23 ⁇ m. Since the mirror plate of Comparative Example 10 is the same as the mirror plate of Example 17 except for these conditions, the description of overlapping points is omitted.
  • Comparative Example 11 In Comparative Example 11, the number of doublings when forming the reflective polarizing layer is 5 and the thickness (tM) of the reflective polarizing layer is 29 ⁇ m. Since the mirror plate of Comparative Example 11 is the same as the mirror plate of Example 17 except for these conditions, the description of overlapping points is omitted.
  • Comparative Example 12 In Comparative Example 12, the number of doublings in forming the reflective polarizing layer is 6 and the thickness (tM) of the reflective polarizing layer is 35 ⁇ m. Since the mirror plate of Comparative Example 12 is the same as the mirror plate of Example 17 except for these conditions, the description of overlapping points is omitted.
  • Comparative Example 13 In Comparative Example 13, the number of doublings when forming the reflective polarizing layer is 8 and the thickness (tM) of the reflective polarizing layer is 46 ⁇ m. Since the mirror plate of Comparative Example 13 is the same as the mirror plate of Example 17 except for these conditions, the description of the overlapping points is omitted.
  • Comparative Example 14 In Comparative Example 14, the number of doublings in forming the reflective polarizing layer is 10 and the thickness (tM) of the reflective polarizing layer is 58 ⁇ m. Since the mirror plate of Comparative Example 14 is the same as the mirror plate of Example 17 except for these conditions, the description of the overlapping points is omitted.
  • Comparative Example 15 is a case where the number of doublings when forming the reflective polarizing layer is 12 and the thickness (tM) of the reflective polarizing layer is 70 ⁇ m. Since the mirror plate of Comparative Example 15 is the same as the mirror plate of Example 17 except for these conditions, the description of overlapping points is omitted.
  • Comparative Example 17 In Comparative Example 17, the number of doublings when forming the reflective polarizing layer is 16 and the thickness (tM) of the reflective polarizing layer is 93 ⁇ m. Since the mirror plate of the comparative example 17 is the same as the mirror plate of the example 17 except for these conditions, the description of the overlapping points is omitted.
  • Comparative Example 18 is a case where the number of doublings in forming the reflective polarizing layer is 18 and the thickness (tM) of the reflective polarizing layer is 104 ⁇ m. Since the mirror plate of Comparative Example 18 is the same as the mirror plate of Example 17 except for these conditions, the description of the overlapping points is omitted.
  • Comparative Example 19 is a case where the number of doublings when forming the reflective polarizing layer is 20 and the thickness (tM) of the reflective polarizing layer is 116 ⁇ m. Since the mirror plate of Comparative Example 19 is the same as the mirror plate of Example 17 except for these conditions, the description of overlapping points is omitted.
  • the comparative example 20 is a case where the base material 3 has a polarizing plate that has been subjected to AG (anti-glare, anti-glare) treatment with a haze (diffusion degree) of 37%.
  • the adhesive layer 4 is affixed to the surface of the polarizing plate that has been subjected to AG treatment, and the Ra of the surface is 0.162 ⁇ m. Since the mirror plate of Comparative Example 20 is the same as the mirror plate of Example 14 except for these conditions, description of overlapping points is omitted.
  • a mirror display including the first mirror plate of the present invention and a display device For example, a mirror display including the mirror plate of Example 14 and a liquid crystal display device can be configured. In this case, the liquid crystal display device is disposed on the back side of the mirror plate so as to face the mirror film.
  • mirror plates of the eighteenth and twenty-eighth embodiments may be used.
  • other display devices such as a plasma display device, an organic electroluminescence display device, and an inorganic electroluminescence display device may be used instead of the liquid crystal display device. According to these mirror displays, it is possible to achieve both a function as a mirror and a function as a display for displaying an image, and it is possible to suppress the occurrence of a skin-like unevenness.
  • the first mirror plate of the present invention instead of a conventional mirror.
  • the mirror plates of Examples 21 and 22 if a flat wall is used instead of the glass substrate as a base material, the mirror film is attached to the wall surface, so there is no concern about glass breakage, and it is inexpensive and lightweight. A film-type mirror that can be made larger can be realized.
  • the hard-coat layer 6 does not specifically limit as a method to apply the hard-coat layer 6,
  • roll coat, kiss roll coat, gravure coat, reverse coat, roll brush, spray coat, dip roll coat, bar coat, knife coat, air Methods such as knife coating, curtain coating, lip coating, and die coater can be used.
  • the thickness of the hard coat layer 6 is not particularly limited, but is preferably 4 ⁇ m or more and 7 ⁇ m or less. When the thickness of the hard coat layer 6 is too thin, there is a concern that the hardness is lowered and the durability is lowered. If the thickness of the hard coat layer 6 is too thick, the mirror film 2b (mirror plate 1b) becomes thick, and there is a concern that practicality may be reduced.
  • an acrylic pressure-sensitive adhesive composition solution
  • an acrylic pressure-sensitive adhesive composition was applied to one surface of a 38 ⁇ m-thick PET film subjected to silicone treatment using a die coater so that the thickness (tA) of the pressure-sensitive adhesive layer 4 after drying was 5 ⁇ m. And the drying process is performed for 1 minute at 155 degreeC, and the adhesion layer 4 is completed.
  • Example 24 In Example 24, the number of doublings when forming the reflective polarizing layer was 8 and the thickness (tM) of the reflective polarizing layer was 46 ⁇ m. Since the mirror plate of Example 24 is the same as the mirror plate of Example 23 except for these conditions, description of overlapping points is omitted.
  • Example 26 In Example 26, the number of doublings in forming the reflective polarizing layer was 12 and the thickness (tM) of the reflective polarizing layer was 70 ⁇ m.
  • the mirror plate of the twenty-sixth embodiment is the same as the mirror plate of the twenty-third embodiment except for these conditions.
  • Example 27 In Example 27, the number of doublings when forming the reflective polarizing layer was 14, and the thickness (tM) of the reflective polarizing layer was 81 ⁇ m.
  • the mirror plate of the twenty-seventh embodiment is the same as the mirror plate of the twenty-third embodiment except for these conditions, and thus the description of the overlapping points is omitted.
  • Example 28 In Example 28, the number of doublings in forming the reflective polarizing layer was 16 and the thickness (tM) of the reflective polarizing layer was 93 ⁇ m. Since the mirror plate of Example 28 is the same as the mirror plate of Example 23 except for these conditions, description of overlapping points is omitted.
  • Example 29 In Example 29, the number of doublings in forming the reflective polarizing layer was 18 and the thickness (tM) of the reflective polarizing layer was 104 ⁇ m. Since the mirror plate of Example 29 is the same as the mirror plate of Example 23 except for these conditions, the description of overlapping points is omitted.
  • Example 30 is a case where the number of doublings when forming the reflective polarizing layer is 20 and the thickness (tM) of the reflective polarizing layer is 116 ⁇ m. Since the mirror plate of Example 30 is the same as the mirror plate of Example 23 except for these conditions, description of overlapping points is omitted.
  • Example 31 In Example 31, the number of doublings when forming the reflective polarizing layer was 26, and the thickness (tM) of the reflective polarizing layer was 151 ⁇ m. Since the mirror plate of Example 31 is the same as the mirror plate of Example 23 except for these conditions, the description of overlapping points is omitted.
  • Example 33 In Example 33, the number of doublings when forming the reflective polarizing layer was 14 and the thickness (tM) of the reflective polarizing layer was 81 ⁇ m. Since the mirror plate of Example 33 is the same as the mirror plate of Example 32 except for these conditions, description of overlapping points is omitted.
  • Example 34 In Example 34, the number of doublings when forming the reflective polarizing layer was 16, and the thickness (tM) of the reflective polarizing layer was 93 ⁇ m. Since the mirror plate of Example 34 is the same as the mirror plate of Example 32 except for these conditions, description of overlapping points is omitted.
  • Example 36 In Example 36, the number of doublings in forming the reflective polarizing layer was 20 and the thickness (tM) of the reflective polarizing layer was 116 ⁇ m.
  • the mirror plate of the thirty-sixth embodiment is the same as the mirror plate of the thirty-second embodiment except for these conditions, and therefore, overlapping description is omitted.
  • Example 37 In Example 37, the number of doublings in forming the reflective polarizing layer was 26, and the thickness (tM) of the reflective polarizing layer was 151 ⁇ m. Since the mirror plate of Example 37 is the same as the mirror plate of Example 32 except for these conditions, description of overlapping points is omitted.
  • Example 38 In Example 38, the number of doublings in forming the reflective polarizing layer was 26, the thickness (tM) of the reflective polarizing layer was 151 ⁇ m, and the thickness (tA) of the adhesive layer 4 was 25 ⁇ m. Since the mirror plate of Example 38 is the same as the mirror plate of Example 23 except for these conditions, description of overlapping points is omitted.
  • Example 40 In Example 40, the number of doublings in forming the reflective polarizing layer was 12 and the thickness (tM) of the reflective polarizing layer was 70 ⁇ m. Since the mirror plate of Example 40 is the same as the mirror plate of Example 39 except for these conditions, description of overlapping points is omitted.
  • Example 41 In Example 41, the number of doublings in forming the reflective polarizing layer was 14 and the thickness (tM) of the reflective polarizing layer was 81 ⁇ m. Since the mirror plate of Example 41 is the same as the mirror plate of Example 39 except for these conditions, the description of overlapping points is omitted.
  • Example 42 In Example 42, the number of doublings when forming the reflective polarizing layer was 16, and the thickness (tM) of the reflective polarizing layer was 93 ⁇ m. Since the mirror plate of Example 42 is the same as the mirror plate of Example 39 except for these conditions, the description of overlapping points is omitted.
  • Example 43 In Example 43, the number of doublings when forming the reflective polarizing layer was 18 and the thickness (tM) of the reflective polarizing layer was 104 ⁇ m. Since the mirror plate of Example 43 is the same as the mirror plate of Example 39 except for these conditions, the description of overlapping points is omitted.
  • Example 46 In Example 46, the number of doublings when forming the reflective polarizing layer was 12, the thickness (tM) of the reflective polarizing layer was 70 ⁇ m, and the thickness (tA) of the adhesive layer 4 was 12 ⁇ m. Since the mirror plate of Example 46 is the same as the mirror plate of Example 39 except for these conditions, the description of overlapping points is omitted.
  • Example 48 In Example 48, the number of doublings when forming the reflective polarizing layer was 16 and the thickness (tM) of the reflective polarizing layer was 93 ⁇ m. Since the mirror plate of Example 48 is the same as the mirror plate of Example 46 except for these conditions, the description of overlapping points is omitted.
  • Example 49 In Example 49, the number of doublings in forming the reflective polarizing layer was 18 and the thickness (tM) of the reflective polarizing layer was 104 ⁇ m. Since the mirror plate of Example 49 is the same as the mirror plate of Example 46 except for these conditions, the description of overlapping points is omitted.
  • Example 50 In Example 50, the number of doublings in forming the reflective polarizing layer was 20 and the thickness (tM) of the reflective polarizing layer was 116 ⁇ m. Since the mirror plate of Example 50 is the same as the mirror plate of Example 46 except for these conditions, the description of overlapping points is omitted.
  • Example 51 In Example 51, the number of doublings in forming the reflective polarizing layer was 26, and the thickness (tM) of the reflective polarizing layer was 151 ⁇ m. Since the mirror plate of Example 51 is the same as the mirror plate of Example 46 except for these conditions, the description of overlapping points is omitted.
  • Example 52 In Example 52, the number of doublings when forming the reflective polarizing layer was 26, the thickness (tM) of the reflective polarizing layer was 151 ⁇ m, and the thickness (tA) of the adhesive layer 4 was 25 ⁇ m. Since the mirror plate of Example 52 is the same as the mirror plate of Example 39 except for these conditions, the description of overlapping points is omitted.
  • Example 53 is a case where the substrate 3 has an acrylic plate. Ra of the surface by the side of the adhesion layer 4 of an acrylic board is 0.014 micrometer. Since the mirror plate of Example 53 is the same as the mirror plate of Example 35 except for these conditions, the description of overlapping points is omitted.
  • Example 54 is a case where the substrate 3 has a polarizing plate. Ra of the surface of the polarizing plate on the pressure-sensitive adhesive layer 4 side is 0.024 ⁇ m. Since the mirror plate of Example 54 is the same as the mirror plate of Example 35 except for these conditions, the description of overlapping points is omitted.
  • Example 55 the mirror layer 5 has a dielectric multilayer film.
  • the dielectric multilayer film a material in which a total of 801 layers of two kinds of polyester materials are alternately stacked using the material and the manufacturing method described in Example 2 of Patent Document 6 is used.
  • the thickness (tM) of the dielectric multilayer film is 100 ⁇ m, and the reflectance is 51%. Since the mirror plate of Example 55 is the same as the mirror plate of Example 35 except for these conditions, the description of overlapping points is omitted.
  • Example 56 the mirror layer 5 has a dielectric multilayer film.
  • the dielectric multilayer film a material in which a total of 801 layers of two kinds of polyester materials are alternately laminated using the material and the manufacturing method described in Example 1 of Patent Document 6 is used.
  • the dielectric multilayer film has a thickness (tM) of 100 ⁇ m and a reflectance of 88%. Since the mirror plate of Example 56 is the same as the mirror plate of Example 35 except for these conditions, the description of overlapping points is omitted.
  • Example 57 is a case where the mirror layer 5 has a metal vapor deposition film.
  • a metal vapor deposition film a film obtained by depositing aluminum with a purity of 99.9% on a PET film with a thickness of 100 ⁇ m so as to have a film thickness of 100 nm is used.
  • the metal vapor deposition film has a thickness (tM) of 100 ⁇ m (except that the film thickness of aluminum is relatively small), and the reflectance is 85%.
  • the adhesive layer 4 is affixed to the surface of the metal vapor deposition film on the PET film side. Since the mirror plate of Example 57 is the same as the mirror plate of Example 35 except for these conditions, description of overlapping points is omitted.
  • Example 58 is a case where the mirror layer 5 has a dielectric multilayer film and the substrate 3 has an acrylic plate.
  • the dielectric multilayer film a material in which a total of 801 layers of two kinds of polyester materials are alternately laminated using the material and the manufacturing method described in Example 1 of Patent Document 6 is used.
  • the dielectric multilayer film has a thickness (tM) of 100 ⁇ m and a reflectance of 88%.
  • Ra of the surface by the side of the adhesion layer 4 of an acrylic board is 0.014 micrometer. Since the mirror plate of Example 58 is the same as the mirror plate of Example 35 except for these conditions, the description of overlapping points is omitted.
  • the comparative form 2 relates to a configuration in which at least one of Ra, tA / tM, and tH / tM on the surface of the base material 3 on the pressure-sensitive adhesive layer 4 side is different from that in the second embodiment. Since the mirror plate of the comparative form 2 is the same as the mirror plate of the second embodiment except for these conditions, description of overlapping points is omitted.
  • Comparative Example 22 In Comparative Example 22, the number of doublings when forming the reflective polarizing layer is 3, and the thickness (tM) of the reflective polarizing layer is 17 ⁇ m. Since the mirror plate of Comparative Example 22 is the same as the mirror plate of Example 23 except for these conditions, the description of the overlapping points is omitted.
  • Comparative Example 23 In Comparative Example 23, the number of doublings when the reflective polarizing layer is formed is 4, and the thickness (tM) of the reflective polarizing layer is 23 ⁇ m. Since the mirror plate of Comparative Example 23 is the same as the mirror plate of Example 23 except for these conditions, the description of the overlapping points is omitted.
  • Comparative Example 29 In Comparative Example 29, the number of doublings when forming the reflective polarizing layer was 8 and the thickness (tM) of the reflective polarizing layer was 46 ⁇ m. Since the mirror plate of Comparative Example 29 is the same as the mirror plate of Example 32 except for these conditions, the description of the overlapping points is omitted.
  • Comparative Example 34 In Comparative Example 34, the number of doublings in forming the reflective polarizing layer is 6 and the thickness (tM) of the reflective polarizing layer is 35 ⁇ m. Since the mirror plate of Comparative Example 34 is the same as the mirror plate of Example 38 except for these conditions, the description of the overlapping points is omitted.
  • Comparative Example 39 In Comparative Example 39, the number of doublings when forming the reflective polarizing layer is 16 and the thickness (tM) of the reflective polarizing layer is 93 ⁇ m. Since the mirror plate of Comparative Example 39 is the same as the mirror plate of Example 38 except for these conditions, the description of the overlapping points is omitted.
  • Comparative Example 40 In Comparative Example 40, the number of doublings in forming the reflective polarizing layer is 18 and the thickness (tM) of the reflective polarizing layer is 104 ⁇ m. Since the mirror plate of Comparative Example 40 is the same as the mirror plate of Example 38 except for these conditions, the description of the overlapping points is omitted.
  • Comparative Example 41 is a case where the number of doublings when forming the reflective polarizing layer is 20 and the thickness (tM) of the reflective polarizing layer is 116 ⁇ m. Since the mirror plate of Comparative Example 41 is the same as the mirror plate of Example 38 except for these conditions, the description of overlapping points is omitted.
  • Comparative Example 42 In Comparative Example 42, the number of doublings when forming the reflective polarizing layer is 3, and the thickness (tM) of the reflective polarizing layer is 17 ⁇ m. Since the mirror plate of Comparative Example 42 is the same as the mirror plate of Example 39 except for these conditions, the description of overlapping points is omitted.
  • Comparative Example 43 In Comparative Example 43, the number of doublings when forming the reflective polarizing layer is 4 and the thickness (tM) of the reflective polarizing layer is 23 ⁇ m. Since the mirror plate of Comparative Example 43 is the same as the mirror plate of Example 39 except for these conditions, the description of overlapping points is omitted.
  • Comparative Example 44 In Comparative Example 44, the number of doublings when forming the reflective polarizing layer is 5 and the thickness (tM) of the reflective polarizing layer is 29 ⁇ m. Since the mirror plate of Comparative Example 44 is the same as the mirror plate of Example 39 except for these conditions, the description of the overlapping points is omitted.
  • Comparative Example 45 In Comparative Example 45, the number of doublings in forming the reflective polarizing layer is 6 and the thickness (tM) of the reflective polarizing layer is 35 ⁇ m. Since the mirror plate of Comparative Example 45 is the same as the mirror plate of Example 39 except for these conditions, the description of overlapping points is omitted.
  • Comparative Example 46 In Comparative Example 46, the number of doublings in forming the reflective polarizing layer is 8 and the thickness (tM) of the reflective polarizing layer is 46 ⁇ m. Since the mirror plate of Comparative Example 46 is the same as the mirror plate of Example 39 except for these conditions, the description of the overlapping points is omitted.
  • Comparative Example 47 In Comparative Example 47, the number of doublings in forming the reflective polarizing layer is 3, and the thickness (tM) of the reflective polarizing layer is 17 ⁇ m. Since the mirror plate of the comparative example 47 is the same as the mirror plate of the example 46 except for these conditions, the description of the overlapping points is omitted.
  • Comparative Example 48 In Comparative Example 48, the number of doublings when forming the reflective polarizing layer is 4, and the thickness (tM) of the reflective polarizing layer is 23 ⁇ m. Since the mirror plate of the comparative example 48 is the same as the mirror plate of the example 46 except for these conditions, the description of the overlapping points is omitted.
  • Comparative Example 50 In Comparative Example 50, the number of doublings when forming the reflective polarizing layer is 6 and the thickness (tM) of the reflective polarizing layer is 35 ⁇ m. Since the mirror plate of Comparative Example 50 is the same as the mirror plate of Example 46 except for these conditions, the description of the overlapping points is omitted.
  • Comparative Example 51 In Comparative Example 51, the number of doublings in forming the reflective polarizing layer is 8 and the thickness (tM) of the reflective polarizing layer is 46 ⁇ m. Since the mirror plate of Comparative Example 51 is the same as the mirror plate of Example 46 except for these conditions, the description of the overlapping points is omitted.
  • Comparative Example 52 In Comparative Example 52, the number of doublings in forming the reflective polarizing layer is 10 and the thickness (tM) of the reflective polarizing layer is 58 ⁇ m. Since the mirror plate of the comparative example 52 is the same as the mirror plate of the example 46 except for these conditions, description of overlapping points is omitted.
  • Comparative Example 53 In Comparative Example 53, the number of doublings when forming the reflective polarizing layer is 3, and the thickness (tM) of the reflective polarizing layer is 17 ⁇ m. Since the mirror plate of the comparative example 53 is the same as the mirror plate of the example 52 except for these conditions, the description of the overlapping points is omitted.
  • Comparative Example 54 In Comparative Example 54, the number of doublings when forming the reflective polarizing layer is 4 and the thickness (tM) of the reflective polarizing layer is 23 ⁇ m. Since the mirror plate of the comparative example 54 is the same as the mirror plate of the example 52 except for these conditions, description of overlapping points is omitted.
  • Comparative Example 55 In Comparative Example 55, the number of doublings in forming the reflective polarizing layer is 5 and the thickness (tM) of the reflective polarizing layer is 29 ⁇ m. Since the mirror plate of Comparative Example 55 is the same as the mirror plate of Example 52 except for these conditions, the description of the overlapping points is omitted.
  • Comparative Example 56 In Comparative Example 56, the number of doublings in forming the reflective polarizing layer is 6 and the thickness (tM) of the reflective polarizing layer is 35 ⁇ m. Since the mirror plate of Comparative Example 56 is the same as the mirror plate of Example 52 except for these conditions, the description of the overlapping points is omitted.
  • Comparative Example 58 In Comparative Example 58, the number of doublings in forming the reflective polarizing layer is 10 and the thickness (tM) of the reflective polarizing layer is 58 ⁇ m. Since the mirror plate of the comparative example 58 is the same as the mirror plate of the example 52 except for these conditions, description of overlapping points is omitted.
  • Comparative Example 61 is a case where the number of doublings when forming the reflective polarizing layer is 16 and the thickness (tM) of the reflective polarizing layer is 93 ⁇ m. Since the mirror plate of the comparative example 61 is the same as the mirror plate of the example 52 except for these conditions, the description of the overlapping points is omitted.
  • Comparative Example 63 is a case where the number of doublings when forming the reflective polarizing layer is 20 and the thickness (tM) of the reflective polarizing layer is 116 ⁇ m. Since the mirror plate of the comparative example 63 is the same as the mirror plate of the example 52 except for these conditions, description of overlapping points is omitted.
  • the comparative example 65 is a case where the base material 3 has a rubbed glass having a haze of 62%. Ra of the surface of the rubbed glass on the pressure-sensitive adhesive layer 4 side is 0.331 ⁇ m. Since the mirror plate of Comparative Example 65 is the same as the mirror plate of Example 35 except for these conditions, the description of overlapping points is omitted.
  • each of the mirror plates of Examples 35, 53, 54, and 55 to 59 has higher image clarity G and F than the mirror plates of Comparative Examples 23, 24, 64, and 65.
  • the mapping clarity G and F are indicators having a correlation with the appearance of the mirror image, preferably 45% or more, and preferably 60% or more. More preferably, it is more preferably 80% or more.
  • Examples 35, 53, and 54 and Comparative Examples 64 and 65 in which tM, tA, and tH are the same and Ra of the surface on the adhesive layer 4 side of the base material 3 are different from each other are compared, Ra is It can be seen that the map definition G, F increases as the size decreases.
  • Ra of the surface of the base material 3 on the adhesive layer 4 side is preferably 0.014 ⁇ m or less, more preferably 0.001 ⁇ m or less, and 0 More preferably, it is not more than .0005 ⁇ m.
  • a mirror display including the second mirror plate of the present invention and a display device can be configured.
  • a mirror display including the mirror plate of Example 35 and a liquid crystal display device can be configured.
  • the liquid crystal display device is disposed on the back side of the mirror plate so as to face the mirror film.
  • mirror plates of the thirty-fifth to 55th embodiments may be used.
  • other display devices such as a plasma display device, an organic electroluminescence display device, and an inorganic electroluminescence display device may be used. According to these mirror displays, it is possible to achieve both a function as a mirror and a function as a display for displaying an image, and it is possible to suppress the occurrence of a skin-like unevenness.
  • the polarizing plate as the base material provided in the mirror plate of Example 54 is a polarizing plate on the observation surface side of the liquid crystal display device.
  • the number of members can be reduced by one point as compared with the configuration in which the liquid crystal display device is simply disposed on the back side of the mirror plate, a mirror display with improved cost, thickness, weight, and the like can be realized.
  • the second mirror plate of the present invention instead of a conventional mirror.
  • the mirror plates of Examples 58 and 59 if a flat wall is used instead of an acrylic plate as a base material, the mirror film is affixed to the wall surface, so there is no fear of glass breakage, and it is inexpensive and lightweight. A film-type mirror that can be made larger can be realized.
  • the thickness relationship between the mirror layer and the adhesive layer may satisfy tA / tM ⁇ 0.15. Thereby, generation
  • the thickness relationship between the mirror layer, the adhesive layer, and the hard coat layer satisfies tA / tM ⁇ 0.15 and tH / tM ⁇ 0.12. It may be a thing. Thereby, generation
  • the mapping definition calculated by the following formula (2) may be 45% or more.
  • Map definition (%) 100 ⁇ (M2 ⁇ m2) / (M2 + m2) (2)
  • the mirror layer may include a reflective polarizing layer.
  • a reflective polarizing layer may be used as the said mirror layer.

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)

Abstract

本発明は、ゆず肌状のムラの発生を抑制することができるミラープレートを提供する。本発明のミラープレートは、ミラー層、及び、粘着層を有するミラーフィルムと、基材とを備えるミラープレートであって、上記粘着層は、上記基材の一方の面に貼り付けられるものであり、上記基材の上記一方の面の算術平均粗さは、０．０３μｍ未満であり、上記ミラーフィルムは、硬化樹脂から形成されるハードコート層を有さず、上記ミラー層及び上記粘着層の厚みの関係は、上記ミラー層の厚みをｔＭ、上記粘着層の厚みをｔＡとすると、ｔＡ／ｔＭ≦０．１８を満たすものである。

Description

ミラープレート、及び、ミラーディスプレイ
本発明は、ミラープレート、及び、ミラーディスプレイに関する。より詳しくは、ミラーとしての機能を有するミラープレート、及び、上記ミラープレートを備えるミラーディスプレイに関するものである。
近年、デジタルサイネージ等の用途として、表示装置の観察面側にミラーフィルムを設けることで、表示装置にミラーとしての機能を付与したミラーディスプレイが提案されている（例えば、特許文献１～４参照）。ミラーディスプレイでは、表示装置から出射された表示光による画像表示が行われるとともに、外光を反射することによりミラーとしても使用される。なお、ミラー層としては、反射型偏光層（例えば、特許文献５参照）、誘電体多層膜（例えば、特許文献６参照）、金属蒸着膜等の反射機能を有する光学部材が知られている。
このようなミラーディスプレイにおいて、例えば、ミラーフィルム（反射型偏光層等）を、単独の状態で液晶表示装置の観察面側に配置した場合、ミラーフィルムが撓んでしまい、その結果、ミラーの鏡像（反射像）の歪み等の品位低下が発生してしまうことがあった。そのため、ミラーフィルムとして、ミラー層に加えて粘着層（例えば、特許文献７～９参照）を有する構成を採用することで、ミラーフィルムを基材に貼り付けたミラープレートの状態で使用することがあった。一方、基材のミラーフィルムに貼り付けられる側（粘着層側）の面の算術平均粗さが０．０４μｍよりも大きい場合は、基材の平滑性（凹凸）に起因したスジが肉眼でも確認できる程度になると言われている（例えば、特許文献１０参照）。また、ミラープレートの傷付きを防止するため、必要に応じて、ミラーフィルムの粘着層側とは反対側の面にハードコート層（例えば、特許文献１１参照）を配置することが知られている。
特開２００４－１２５８８５号公報 特開２００３－２４１１７５号公報 特開平１１－１５３９２号公報 特開２００４－０８５５９０号公報 特開２００８－５２２９４号公報 国際公開第２００７／０２０８６１号 特開２００９－１５７３５２号公報 特開２０１２－１３３３０８号公報 特開２０１１－９４１５０号公報 特開２００２－３６５４３２号公報 特開２００８－１５１９９８号公報
しかしながら、ミラープレートの構成によっては、ミラーフィルムを平坦な基材に貼り付けた構成であっても、ミラーの鏡像（以下、単に、鏡像とも言う。）にゆず肌（オレンジ・ピール）状のムラが発生し、その結果、ミラープレートの品位が低下してしまうことがあった。
このようなゆず肌状のムラの発生は、ミラープレートで自分の顔を見ながら化粧を行う等の、鏡像を能動的に観察する場合はもちろんのこと、ミラープレートが視界に入ることで鏡像を受動的に観察する場合においても問題となる。例えば、観察者が意図せずに、観察者の着衣や壁紙の模様がミラープレートに映り込む場合であっても、それらの模様にゆず肌状のムラが視認されると、観察者が不快感を抱くことがある。また、ゆず肌状のムラが発生する問題は充分に認識されておらず、それを解消する手段が見出されていなかった。例えば、上記特許文献１～１１には、このようなゆず肌状のムラに着目した記載はなく、上記課題を解決するものではなかった。
本発明は、上記現状に鑑みてなされたものであり、ゆず肌状のムラの発生を抑制することができるミラープレート、及び、上記ミラープレートを備えるミラーディスプレイを提供することを目的とするものである。
本発明者らは、ゆず肌状のムラが発生する原因について調査したところ、ミラーフィルムの表面又は内部に発生するシワが直接の原因であることが分かった。そして、本発明者らが更に調査したところ、ミラーフィルムを実用に供するために配置される粘着層及びハードコート層が、下記（１）及び（２）のようにシワの発生に大きな影響を与えていることが分かった。
（１）粘着層は、塗工して乾燥させるまでの間に発生するマイクロゲルや対流現象によって、表面にシワが発生する。
（２）ハードコート層は、塗工して乾燥させるまでの間に発生するマイクロゲルや対流現象によって表面にシワが発生したり、その塗膜が硬化する際に発生する硬化収縮によって自身にシワが発生したりする。
以上のようにして、粘着層及びハードコート層にシワが発生し、これらのシワによってミラー層にもシワが発生することが分かった。また、基材のミラーフィルムに貼り付けられる側の面の算術平均粗さが大きい（平滑性が低い）ことも、シワの発生に影響を与えていることが分かった。
そこで、本発明者らは、このようなシワの発生を抑制する方法について種々検討した。上記（１）に対して、粘着層を塗工する際の対流を抑制するためには、粘着層の厚みを薄くする方法が有効であるが、ゆず肌状のムラの発生を抑制する観点から本発明者らが鋭意検討したところ、ミラー層の厚みを基準とした粘着層の相対的な厚みを所定の値以下にすることが特に有効であることを見出した。上記（２）に対して、ハードコート層を塗工する際の対流を抑制し、及び／又は、ハードコート層の塗膜の硬化収縮を抑制するためには、ハードコート層の厚みを薄くする（厚みをゼロにする、すなわち、ハードコート層を配置しない場合も含む）方法が有効であるが、ゆず肌状のムラの発生を抑制する観点から本発明者らが鋭意検討したところ、ミラー層の厚みを基準としたハードコート層の相対的な厚みを所定の値以下にすることが特に有効であることを見出した。また、基材のミラーフィルムに貼り付けられる側の面の算術平均粗さを所定の値以下にすることでも、シワの発生の抑制に有効であることを見出した。以上により、上記課題をみごとに解決することができることに想到し、本発明に到達したものである。
すなわち、本発明の一態様は、ミラー層、及び、粘着層を有するミラーフィルムと、基材とを備えるミラープレートであって、上記粘着層は、上記基材の一方の面に貼り付けられるものであり、上記基材の上記一方の面の算術平均粗さは、０．０３μｍ未満であり、上記ミラーフィルムは、硬化樹脂から形成されるハードコート層を有さず、上記ミラー層及び上記粘着層の厚みの関係は、上記ミラー層の厚みをｔＭ、上記粘着層の厚みをｔＡとすると、ｔＡ／ｔＭ≦０．１８を満たすミラープレート（以下、本発明の第一のミラープレートとも言う。）であってもよい。
本発明の別の一態様は、ミラー層、粘着層、及び、ハードコート層を有するミラーフィルムと、基材とを備えるミラープレートであって、上記粘着層は、上記ミラー層の一方の面に配置され、かつ、上記基材の一方の面に貼り付けられるものであり、上記ハードコート層は、上記ミラー層の他方の面に配置され、かつ、硬化樹脂から形成されるものであり、上記基材の上記一方の面の算術平均粗さは、０．０３μｍ未満であり、上記ミラー層、上記粘着層、及び、上記ハードコート層の厚みの関係は、上記ミラー層の厚みをｔＭ、上記粘着層の厚みをｔＡ、上記ハードコート層の厚みをｔＨとすると、ｔＡ／ｔＭ≦０．１８、かつ、ｔＨ／ｔＭ≦０．１３を満たすミラープレート（以下、本発明の第二のミラープレートとも言う。）であってもよい。
本発明の更に別の一態様は、上記ミラープレートと、表示装置とを備えるミラーディスプレイであって、上記表示装置は、上記ミラープレートの背面側に配置されているミラーディスプレイであってもよい。
本発明によれば、ゆず肌状のムラの発生を抑制することができるミラープレート、及び、上記ミラープレートを備えるミラーディスプレイを提供することができる。
実施形態１のミラープレートを示す断面模式図である。 実施形態２のミラープレートを示す断面模式図である。
以下に実施形態（実施例）を掲げ、本発明について図面を参照して更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施形態（実施例）のみに限定されるものではない。また、各実施形態（各実施例）の構成は、本発明の要旨を逸脱しない範囲において適宜組み合わされてもよいし、変更されてもよい。
［実施形態１］
実施形態１は、上記本発明の第一のミラープレートに関する。
図１は、実施形態１のミラープレートを示す断面模式図である。図１に示すように、ミラープレート１ａは、ミラーフィルム２ａ、及び、基材３を備えている。ミラーフィルム２ａは、基材３側から順に、粘着層４、及び、ミラー層５を有している。粘着層４は、基材３の一方の面に貼り付けられている。なお、ミラーフィルム２ａは、硬化樹脂から形成されるハードコート層を有していない。
ミラー層５は、入射光に対する反射性能が付与された透光性の層であり、自然光に対して４０％以上の反射率を示すものであることが好ましく、５０％以上の反射率を示すものであることがより好ましい。本明細書中、「反射率」とは、特に断りがない限り、「視感反射率」を指す。また、ミラー層５は、入射光の一部を吸収するものであってもよい。ミラー層５としては、その材料や製造方法は特に限定されず、例えば、反射型偏光層、誘電体多層膜、金属蒸着膜等を用いることができる。ミラープレート１ａと表示装置とを組み合わせたミラーディスプレイを構成する場合、光利用効率を高めて、鏡像の視認性と表示装置による画像（以下、単に、画像とも言う。）の視認性とを両立させる観点から、ミラー層５としては、誘電体多層膜や反射型偏光層を用いることが好ましく、反射型偏光層を用いることが特に好ましい。ミラー層５の大部分を構成する材料は、樹脂であることが好ましく、成形性を良好にする観点から、熱可塑性樹脂であることがより好ましく、安価で信頼性が高く、成形性が良好なポリエステル樹脂（例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）やポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ））であることが特に好ましい。ミラー層５の反射率及び透過率は特に限定されず、金属蒸着膜や誘電体多層膜の厚みを増減させたり、２層以上の反射型偏光層を互いの透過軸をずらして積層させたり、２種類以上のミラー層を組み合わせたりすることによって、任意に調整できる。ミラー層５は、更に、赤外線吸収機能や紫外線吸収機能を備えていてもよい。ミラー層５の厚みは特に限定されないが、２８μｍ以上、１５５μｍ以下であることが好ましい。ミラー層５の厚みが薄過ぎると、ミラー層として充分な反射率を得ることが難しくなる懸念がある。ミラー層５の厚みが厚過ぎると、ミラーフィルム２ａ（ミラープレート１ａ）が厚くなり、実用性が低下してしまう懸念がある。
反射型偏光層は、ある特定の偏光状態を有する入射光を、それとは直交する偏光状態を有する入射光よりも強く反射するものである。反射型偏光層としては、その材料や製造方法は特に限定されず、例えば、複屈折性の多層構造を有する超多層型の反射型偏光層等を用いることができる。超多層型の反射型偏光層としては、例えば、上記特許文献５に記載されたような、２種類の異なる高分子材料Ａ、Ｂの積層体を用いることができる。高分子材料Ａの好ましい例としては、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等の結晶性ナフタレンジカルボン酸ポリエステルが挙げられる。高分子材料Ｂの好ましい例としては、ナフタレンジカルボン酸と、テレフタル酸又はアイソタル酸とのコポリエステル（ｃｏＰＥＮ）が挙げられ、７０ナフタレート／３０テレフタレート共重合体（ｃｏＰＥＮ）等が好ましい。このような超多層型の反射型偏光層は、例えば、押し出し機、多層フィードブロック、及び、マルチプライヤーを用いて、高分子材料Ａ、Ｂによる層が交互に積層された多層積層フィルムを形成した後、延伸処理を行うことで製造することができる。反射型偏光層としては、超多層型の反射型偏光層の他に、コレステリック液晶の選択反射現象を用いた反射型偏光層を用いることもできる。
誘電体多層膜は、光干渉の原理を利用して反射率が任意の値に調整されたものである。誘電体多層膜としては、その材料や製造方法は特に限定されず、例えば、屈折率の異なる誘電体薄膜（樹脂）を多数積層させたものを用いることができる。このような誘電体多層膜は、例えば、上記特許文献６に記載の材料及び製造方法を用いて、２種類のポリエステル材料による層を交互に積層させることによって製造することができる。誘電体多層膜は、反射型偏光層とは異なり、偏光性能を有していない。
金属蒸着膜としては、例えば、ＰＥＴフィルム上に金属を蒸着したものを用いることができる。金属蒸着膜は、反射型偏光層とは異なり、偏光性能を有していない。
粘着層４としては、粘着性に優れ、鏡像や画像の視認性を損なわない程度の透明性及び平滑性を有するものであればよい。粘着層４としては、その材料は特に限定されず、例えば、上記特許文献７に記載されたような、アクリル系重合体、シリコーン系ポリマー、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミド、ポリエーテル、フッ素系やゴム系等のポリマーをベースポリマーとするものを適宜選択して用いることができる。中でも、アクリル系重合体を用いた場合のように、適度な濡れ性、凝集性及び粘着性を有し、透明性、耐候性及び耐熱性に優れたものが特に好ましい。また、粘着層４を塗工する方法としては特に限定されず、例えば、上記特許文献８に記載されたような、ロールコート、キスロールコート、グラビアコート、リバースコート、ロールブラッシュ、スプレーコート、ディップロールコート、バーコート、ナイフコート、エアーナイフコート、カーテンコート、リップコート、ダイコーター等の方法を用いることができる。中でも、少量の溶媒で簡便に塗工することが可能なダイコーターを用いることが特に好ましい。粘着層４の厚みは特に限定されないが、５μｍ以上、２５μｍ以下であることが好ましい。粘着層４の厚みが薄過ぎると、粘着力が弱くなってしまう懸念がある。粘着層４の厚みが厚過ぎると、ミラーフィルム２ａ（ミラープレート１ａ）が厚くなり、実用性が低下してしまう懸念がある。
基材３としては、粘着層４側の面の算術平均粗さ（以下、Ｒａとも言う。）が０．０３μｍ未満であるものであれば特に限定されず、例えば、ガラス基板、アクリル板、偏光板、表示装置等が挙げられる。また、基材３として平坦な壁を採用した場合、従来のミラー（例えば、ガラス基板に金属薄膜が蒸着されたもの）の代わりに、ミラーフィルム２ａを壁面に貼り付けることで、ガラス割れの心配がなく、安価、軽量、大型化も可能なフィルムタイプのミラーを実現することができる。Ｒａは、ＪＩＳ　Ｂ０６０１　２００１に準拠して測定されたものであり、例えば、Ｖｅｅｃｏ社製の光干渉式の表面形状観察装置（商品名：Ｗｙｋｏ　ＮＴ１１００）、ＳＩＩ社製の原子間力顕微鏡（商品名：ＳＰＩ３８００）等を用いて測定することができる。なお、一般的に、ディスプレイの分野で用いられるガラス基板のような、非常に平坦な基板のＲａは０．００１μｍ以下であり、一方で、擦りガラスのＲａは０．２μｍよりも大きい。
ミラー層５、及び、粘着層４の厚みの関係は、ミラー層５の厚みをｔＭ、粘着層４の厚みをｔＡとすると、ｔＡ／ｔＭ≦０．１８を満たすものであり、本発明の効果を充分に奏する観点からは、ｔＡ／ｔＭ≦０．１５を満たすことが好ましく、ｔＡ／ｔＭ≦０．１４を満たすことがより好ましい。本明細書中、ミラー層５、及び、粘着層４の厚みは、μｍ単位まで測定された値である。また、ミラー層５として複数積層された積層体（例えば、複数の反射型偏光層が積層されたもの）を用い、基材３が観察面側である場合は、その積層体の中で基材３に近い側（粘着層４に近い側）に配置されたミラー層の厚みをｔＭとする。一方、ミラー層５として複数積層された積層体を用い、基材３とは反対側が観察面側である場合は、その積層体の中で基材３から遠い側（粘着層４から遠い側）に配置されたミラー層の厚みをｔＭとする。
以下に、実施形態１のミラープレートに関する実施例を示す。
（実施例１）
実施例１は、ミラー層５として反射型偏光層を有し、基材３としてガラス基板を有する場合である。以下に、実施例１のミラープレートの製造プロセスについて順に説明する。
（ａ）反射型偏光層の形成
第一の材料として、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）を準備し、第二の材料として、７０ナフタレート／３０テレフタレート共重合体（ｃｏＰＥＮ）を準備する。そして、第一及び第二の材料を、各々、別々の押し出し機に供給した後に加熱することで溶融状態とし、各々を１５層に分岐させる。その後、第一及び第二の材料による層が交互に積層され、かつ、各々の材料による層の厚みが、最大値が最小値の３．０倍となるように連続的に変化するような多層フィードブロック装置を用いて、各層を交互に合計３０層積層させた溶融体を得る。次に、この溶融体を、積層状態を保持したままマルチプライヤーを通過させることで、積層数が５倍（以下、ダブリング回数が５回とも言う。）となるようにする。その後、マルチプライヤーを通過した後の溶融体を、その積層状態を保持したままダイコーターへ供給し、キャスティングドラム上にキャストすることで、多層未延伸フィルムを得る。そして、この多層未延伸フィルムを、１２０℃で幅方向に５倍に一軸延伸した後、１２０℃で３秒間熱処理固定を行って、反射型偏光層（ミラー層５）を完成させる。得られる反射型偏光層の厚み（ｔＭ）は２９μｍであり、反射率は５０％である。
（ｂ）粘着層の形成
ブチルアクリレート９４．５部、アクリル酸５部、及び、２－ヒドロキシエチルアクリレート０．５部を酢酸エチル溶液で希釈して、モノマー濃度５０％の溶液を得る。そして、この溶液に、モノマー（固形分）１００部に対してベンゾイルパーオキサイド０．３部を加えた後、窒素置換を行う。次に、窒素置換後の溶液を攪拌しながら、６０℃で７時間反応させて、アクリル系ポリマー溶液を得る。そして、アクリル系ポリマー溶液１００部に対して、トリメチロールプロパントリレンジイソシアネート０．８部、γ－グリシジルプロパントリメトキシシラン０．１部を加えて、アクリル系の粘着剤組成物（溶液）を調製する。その後、シリコーン処理を施した厚み３８μｍのＰＥＴフィルムの一方の面に、乾燥後の粘着層４の厚み（ｔＡ）が５μｍとなるように、アクリル系の粘着剤組成物をダイコーターを用いて塗布し、１５５℃で１分間乾燥処理を行って、粘着層４を完成させる。
（ｃ）ミラーフィルムの形成
上記（ｂ）で得られる粘着層４付きのＰＥＴフィルムを、上記（ａ）で得られる反射型偏光層の一方の面に粘着層４を介して貼り付けた後、ＰＥＴフィルムを剥離することで、ミラーフィルム２ａを完成させる。
（ｄ）ミラープレートの形成
上記（ｃ）で得られるミラーフィルム２ａを、ガラス基板（基材３）に貼り付けることで、ミラープレート１ａを完成させる。ここで、ガラス基板の粘着層４側の面のＲａは０．０００５μｍである。
（実施例２）
実施例２は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を６回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を３５μｍとする場合である。実施例２のミラープレートは、これらの条件以外、実施例１のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（実施例３）
実施例３は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を８回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を４６μｍとする場合である。実施例３のミラープレートは、これらの条件以外、実施例１のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（実施例４）
実施例４は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を１０回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を５８μｍとする場合である。実施例４のミラープレートは、これらの条件以外、実施例１のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（実施例５）
実施例５は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を１２回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を７０μｍとする場合である。実施例５のミラープレートは、これらの条件以外、実施例１のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（実施例６）
実施例６は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を１４回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を８１μｍとする場合である。実施例６のミラープレートは、これらの条件以外、実施例１のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（実施例７）
実施例７は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を１６回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を９３μｍとする場合である。実施例７のミラープレートは、これらの条件以外、実施例１のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（実施例８）
実施例８は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を１８回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を１０４μｍとする場合である。実施例８のミラープレートは、これらの条件以外、実施例１のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（実施例９）
実施例９は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を２０回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を１１６μｍとする場合である。実施例９のミラープレートは、これらの条件以外、実施例１のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（実施例１０）
実施例１０は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を２６回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を１５１μｍとする場合である。実施例１０のミラープレートは、これらの条件以外、実施例１のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（実施例１１）
実施例１１は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を１２回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を７０μｍとし、粘着層４の厚み（ｔＡ）を１２μｍとする場合である。実施例１１のミラープレートは、これらの条件以外、実施例１のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（実施例１２）
実施例１２は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を１４回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を８１μｍとする場合である。実施例１２のミラープレートは、これらの条件以外、実施例１１のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（実施例１３）
実施例１３は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を１６回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を９３μｍとする場合である。実施例１３のミラープレートは、これらの条件以外、実施例１１のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（実施例１４）
実施例１４は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を１８回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を１０４μｍとする場合である。実施例１４のミラープレートは、これらの条件以外、実施例１１のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（実施例１５）
実施例１５は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を２０回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を１１６μｍとする場合である。実施例１５のミラープレートは、これらの条件以外、実施例１１のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（実施例１６）
実施例１６は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を２６回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を１５１μｍとする場合である。実施例１６のミラープレートは、これらの条件以外、実施例１１のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（実施例１７）
実施例１７は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を２６回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を１５１μｍとし、粘着層４の厚み（ｔＡ）を２５μｍとする場合である。実施例１７のミラープレートは、これらの条件以外、実施例１のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（実施例１８）
実施例１８は、基材３としてアクリル板を有する場合である。アクリル板の粘着層４側の面のＲａは０．０１４μｍである。実施例１８のミラープレートは、これらの条件以外、実施例１４のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（実施例１９）
実施例１９は、基材３として偏光板を有する場合である。偏光板の粘着層４側の面のＲａは０．０２４μｍである。実施例１９のミラープレートは、これらの条件以外、実施例１４のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（実施例２０）
実施例２０は、ミラー層５として誘電体多層膜を有する場合である。誘電体多層膜としては、上記特許文献６の実施例２に記載の材料及び製造方法を用いて、２種類のポリエステル材料による層を交互に合計８０１層積層させたものを用いる。誘電体多層膜の厚み（ｔＭ）は１００μｍであり、反射率は５１％である。実施例２０のミラープレートは、これらの条件以外、実施例１４のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（実施例２１）
実施例２１は、ミラー層５として誘電体多層膜を有する場合である。誘電体多層膜としては、上記特許文献６の実施例１に記載の材料及び製造方法を用いて、２種類のポリエステル材料による層を交互に合計８０１層積層させたものを用いる。誘電体多層膜の厚み（ｔＭ）は１００μｍであり、反射率は８８％である。実施例２１のミラープレートは、これらの条件以外、実施例１４のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（実施例２２）
実施例２２は、ミラー層５として金属蒸着膜を有する場合である。金属蒸着膜としては、厚み１００μｍのＰＥＴフィルム上に、真空蒸着装置で純度９９．９％のアルミニウムを膜厚が１００ｎｍとなるように蒸着したものを用いる。金属蒸着膜の厚み（ｔＭ）は１００μｍであり（アルミニウムの膜厚は、比較的小さいとして除いた）、反射率は８５％である。粘着層４は、金属蒸着膜のＰＥＴフィルム側の面に貼り付ける。実施例２２のミラープレートは、これらの条件以外、実施例１４のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
［比較形態１］
比較形態１は、基材３の粘着層４側の面のＲａ、及び／又は、ｔＡ／ｔＭの値が、実施形態１と異なる範囲である構成に関する。比較形態１のミラープレートは、これらの条件以外、実施形態１のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
以下に、比較形態１のミラープレートに関する比較例を示す。
（比較例１）
比較例１は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を３回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を１７μｍとする場合である。比較例１のミラープレートは、これらの条件以外、実施例１のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（比較例２）
比較例２は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を４回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を２３μｍとする場合である。比較例２のミラープレートは、これらの条件以外、実施例１のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（比較例３）
比較例３は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を３回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を１７μｍとする場合である。比較例３のミラープレートは、これらの条件以外、実施例１１のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（比較例４）
比較例４は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を４回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を２３μｍとする場合である。比較例４のミラープレートは、これらの条件以外、実施例１１のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（比較例５）
比較例５は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を５回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を２９μｍとする場合である。比較例５のミラープレートは、これらの条件以外、実施例１１のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（比較例６）
比較例６は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を６回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を３５μｍとする場合である。比較例６のミラープレートは、これらの条件以外、実施例１１のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（比較例７）
比較例７は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を８回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を４６μｍとする場合である。比較例７のミラープレートは、これらの条件以外、実施例１１のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（比較例８）
比較例８は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を１０回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を５８μｍとする場合である。比較例８のミラープレートは、これらの条件以外、実施例１１のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（比較例９）
比較例９は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を３回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を１７μｍとする場合である。比較例９のミラープレートは、これらの条件以外、実施例１７のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（比較例１０）
比較例１０は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を４回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を２３μｍとする場合である。比較例１０のミラープレートは、これらの条件以外、実施例１７のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（比較例１１）
比較例１１は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を５回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を２９μｍとする場合である。比較例１１のミラープレートは、これらの条件以外、実施例１７のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（比較例１２）
比較例１２は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を６回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を３５μｍとする場合である。比較例１２のミラープレートは、これらの条件以外、実施例１７のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（比較例１３）
比較例１３は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を８回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を４６μｍとする場合である。比較例１３のミラープレートは、これらの条件以外、実施例１７のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（比較例１４）
比較例１４は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を１０回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を５８μｍとする場合である。比較例１４のミラープレートは、これらの条件以外、実施例１７のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（比較例１５）
比較例１５は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を１２回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を７０μｍとする場合である。比較例１５のミラープレートは、これらの条件以外、実施例１７のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（比較例１６）
比較例１６は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を１４回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を８１μｍとする場合である。比較例１６のミラープレートは、これらの条件以外、実施例１７のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（比較例１７）
比較例１７は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を１６回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を９３μｍとする場合である。比較例１７のミラープレートは、これらの条件以外、実施例１７のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（比較例１８）
比較例１８は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を１８回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を１０４μｍとする場合である。比較例１８のミラープレートは、これらの条件以外、実施例１７のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（比較例１９）
比較例１９は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を２０回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を１１６μｍとする場合である。比較例１９のミラープレートは、これらの条件以外、実施例１７のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（比較例２０）
比較例２０は、基材３として、ヘイズ（拡散度）３７％のＡＧ（アンチグレア、防眩）処理が施された偏光板を有する場合である。粘着層４は、偏光板のＡＧ処理が施された面に貼り付けられており、その面のＲａは０．１６２μｍである。比較例２０のミラープレートは、これらの条件以外、実施例１４のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（比較例２１）
比較例２１は、基材３としてヘイズ６２％の擦りガラスを有する場合である。擦りガラスの粘着層４側の面のＲａは０．３３１μｍである。比較例２１のミラープレートは、これらの条件以外、実施例１４のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
［評価結果：鏡像の見え方］
実施例１～２２、及び、比較例１～２１のミラープレートについて、ミラー層５の厚みｔＭ、粘着層４の厚みｔＡ、ｔＡ／ｔＭ、基材３の粘着層４側の面のＲａ、及び、鏡像の見え方の評価結果を表１に示す。
評価方法としては、観察者（１２人の非専門家）に、各例のミラープレートに蛍光管を映り込ませた鏡像を観察してもらい、ゆず肌状のムラが見えるかどうかを評価してもらう。評価指標としては、Ａ：ゆず肌状のムラが見えない、Ｂ：ゆず肌状のムラがほとんど見えない、Ｃ：ゆず肌状のムラが若干見えるものの違和感がない、Ｄ：ゆず肌状のムラが見え違和感がある、を用いる。ここで、評価結果がＡ、Ｂ、又は、Ｃである場合を、本発明の効果が得られるものと判断する。また、ｔＡ／ｔＭについては、小数点以下第四位を四捨五入した数値を記載している。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
表１に示すように、実施例１～２２のミラープレートはいずれも、比較例１～２１のミラープレートよりも、鏡像の見え方がよいと評価される。特に、実施例３～１０、１３～１６、１８～２２のミラープレートはいずれも、鏡像にゆず肌状のムラが見えず、非常に高品位であると評価される。ゆず肌状のムラの発生を充分に抑制する観点からは、ｔＡ／ｔＭ≦０．１５であることが好ましく、ｔＡ／ｔＭ≦０．１４であることがより好ましい。
一方、比較例１～２１のミラープレートは、鏡像にゆず肌状のムラが観察されてしまい、大きな違和感がある。また、比較例１～１９のミラープレートのように、基材３の粘着層４側の面のＲａが実施例１～１７、２０～２２と同じ場合であっても、ｔＡ／ｔＭの値が大きい（ｔＡ／ｔＭ＞０．１８）と、ゆず肌状のムラが観察されてしまうことが分かる。更に、比較例２０、２１のミラープレートのように、ｔＡ／ｔＭの値が実施例１４、１８、１９と同じ場合であっても、基材３の粘着層４側の面のＲａが大きい（Ｒａが０．０３μｍ以上）と、ゆず肌状のムラが観察されてしまうことが分かる。
［評価結果：写像鮮明度］
実施例２、７、１４、１８～２２、及び、比較例２、２０、２１のミラープレートについて、表１（ｔＡ／ｔＭを除く）に対して写像鮮明度を追加した結果を表２に示す。
写像鮮明度とは、部材（本発明では、ミラープレートに相当）の表面に写る物体の像が、どの程度鮮明に歪みなく見えるかの度合いを示すものである。写像鮮明度は、ＡＳＴＭ－Ｄ５７６７－２００４に準拠して測定されたものである。測定機としては、スガ試験機社製の写像性測定機（商品名：ＩＣＭ－１）を用い、入射角４５°で反射測定を行う。表２中、写像鮮明度Ｇは、各例のミラープレートに対して基材３側の面から入射させた透過光を、０．２５ｍｍ幅の光学くしに照射したときの反射率最大値Ｍ１、反射率最小値ｍ１を測定し、下記式（１）によって算出する。
写像鮮明度Ｇ（％）＝１００×（Ｍ１－ｍ１）／（Ｍ１＋ｍ１）　　（１）
また、写像鮮明度Ｆは、各例のミラープレートに対してミラーフィルム２ａ側の面から入射させた透過光を、０．２５ｍｍ幅の光学くしに照射したときの反射率最大値Ｍ２、反射率最小値ｍ２を測定し、下記式（２）によって算出する。
写像鮮明度Ｆ（％）＝１００×（Ｍ２－ｍ２）／（Ｍ２＋ｍ２）　　（２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
表２に示すように、実施例２、７、１４、１８～２２のミラープレートはいずれも、比較例２、２０、２１のミラープレートよりも、写像鮮明度Ｇ、Ｆが高い。特に、実施例７、１４、１８、２０～２２のミラープレートはいずれも、写像鮮明度Ｇ、Ｆがともに８０％よりも高く、写像性が非常に優れていると評価される。鏡像の見え方の評価結果を合わせて考慮すると、写像鮮明度Ｇ、Ｆは、鏡像の見え方と相関がある指標であることが分かり、４５％以上であることが好ましく、６０％以上であることがより好ましく、８０％以上であることが更に好ましい。また、ｔＭ、及び、ｔＡが互いに同じで、基材３の粘着層４側の面のＲａが互いに異なる実施例１４、１８、１９、及び、比較例２０、２１を比較すると、Ｒａが小さくなるにつれて、写像鮮明度Ｇ、Ｆが高くなることが分かる。よって、写像鮮明度Ｇ、Ｆをより高める観点から、基材３の粘着層４側の面のＲａは、０．０１４μｍ以下であることが好ましく、０．００１μｍ以下であることがより好ましく、０．０００５μｍ以下であることが更に好ましい。
［その他の好適な実施例］
本発明の第一のミラープレートと、表示装置とを備えるミラーディスプレイを構成することが可能である。例えば、実施例１４のミラープレートと、液晶表示装置とを備えるミラーディスプレイを構成することが可能である。この場合、液晶表示装置は、ミラープレートの背面側、かつ、ミラーフィルムと対向するように配置される。実施例１４のミラープレートの代わりに、実施例１８、２０等のミラープレートを用いてもよい。また、液晶表示装置の代わりに、例えば、プラズマ表示装置、有機エレクトロルミネッセンス表示装置、無機エレクトロルミネッセンス表示装置等の他の表示装置を用いてもよい。これらのミラーディスプレイによれば、ミラーとしての機能及び画像を表示するディスプレイとしての機能が両立可能であるとともに、ゆず肌状のムラの発生を抑制することができる。
また、本発明の第一のミラープレートを従来のミラーの代わりに用いることも可能である。例えば、実施例２１、２２のミラープレートにおいて、基材として、ガラス基板の代わりに平坦な壁を採用すれば、ミラーフィルムを壁面に貼り付けることで、ガラス割れの心配がなく、安価、軽量、大型化も可能なフィルムタイプのミラーを実現することができる。
［実施形態２］
実施形態２は、上記本発明の第二のミラープレートに関する。実施形態２のミラープレートは、ミラーフィルムがハードコート層を有すること以外、実施形態１のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
図２は、実施形態２のミラープレートを示す断面模式図である。図２に示すように、ミラープレート１ｂは、ミラーフィルム２ｂ、及び、基材３を備えている。ミラーフィルム２ｂは、基材３側から順に、粘着層４、ミラー層５、及び、ハードコート層６を有している。粘着層４は、ミラー層５の一方の面に配置され、かつ、基材３の一方の面に貼り付けられている。ハードコート層６は、ミラー層５の粘着層４側とは反対側の面に配置されている。
ハードコート層６としては、硬化樹脂から形成されて、表面硬度に優れるものであればよい。ハードコート層６としては、その材料や製造方法は特に限定されず、例えば、紫外線硬化型樹脂、熱硬化型樹脂等を用いて形成することができる。紫外線硬化型樹脂としては、例えば、上記特許文献１１に記載されたような、ポリエステル系、アクリル系、ウレタン系、シリコーン系、エポキシ系等の各種のものが挙げられる。中でも、紫外線重合性の官能基を有するものが好ましく、官能基を２個以上、特に、３～６個有するアクリル系モノマーやオリゴマーを含むものが好ましい。また、ハードコート層６を塗工する方法としては特に限定されず、例えば、ロールコート、キスロールコート、グラビアコート、リバースコート、ロールブラッシュ、スプレーコート、ディップロールコート、バーコート、ナイフコート、エアーナイフコート、カーテンコート、リップコート、ダイコーター等の方法を用いることができる。中でも、少量の溶媒で簡便に塗工することが可能なダイコーターを用いることが特に好ましい。ハードコート層６の厚みは特に限定されないが、４μｍ以上、７μｍ以下であることが好ましい。ハードコート層６の厚みが薄過ぎると、硬度が低下するとともに、耐久性が低下してしまう懸念がある。ハードコート層６の厚みが厚過ぎると、ミラーフィルム２ｂ（ミラープレート１ｂ）が厚くなり、実用性が低下してしまう懸念がある。
ミラー層５、粘着層４、及び、ハードコート層６の厚みの関係は、ミラー層５の厚みをｔＭ、粘着層４の厚みをｔＡ、ハードコート層６の厚みをｔＨとすると、ｔＡ／ｔＭ≦０．１８、かつ、ｔＨ／ｔＭ≦０．１３を満たすものであり、本発明の効果を充分に奏する観点からは、ｔＡ／ｔＭ≦０．１５、かつ、ｔＨ／ｔＭ≦０．１２を満たすことが好ましく、ｔＡ／ｔＭ≦０．１４、かつ、ｔＨ／ｔＭ≦０．１０を満たすことがより好ましい。本明細書中、ミラー層５、粘着層４、及び、ハードコート層６の厚みは、μｍ単位まで測定された値である。また、ミラー層５として複数積層された積層体（例えば、複数の反射型偏光層が積層されたもの）を用い、基材３が観察面側である場合は、その積層体の中で基材３に近い側（粘着層４に近い側）に配置されたミラー層の厚みをｔＭとする。一方、ミラー層５として複数積層された積層体を用い、基材３とは反対側が観察面側である場合は、その積層体の中で基材３から遠い側（粘着層４から遠い側）に配置されたミラー層の厚みをｔＭとする。
以下に、実施形態２のミラープレートに関する実施例を示す。
（実施例２３）
実施例２３は、ミラー層５として反射型偏光層を有し、基材３としてガラス基板を有し、紫外線硬化型樹脂から形成されるハードコート層６を有する場合である。以下に、実施例２３のミラープレートの製造プロセスについて順に説明する。
（ａ）反射型偏光層の形成
第一の材料として、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）を準備し、第二の材料として、７０ナフタレート／３０テレフタレート共重合体（ｃｏＰＥＮ）を準備する。そして、第一及び第二の材料を、各々、別々の押し出し機に供給した後に加熱することで溶融状態とし、各々を１５層に分岐させる。その後、第一及び第二の材料による層が交互に積層され、かつ、各々の材料による層の厚みが、最大値が最小値の３．０倍となるように連続的に変化するような多層フィードブロック装置を用いて、各層を交互に合計３０層積層させた溶融体を得る。次に、この溶融体を、積層状態を保持したままマルチプライヤーを通過させることで、積層数が６倍（以下、ダブリング回数が６回とも言う。）となるようにする。その後、マルチプライヤーを通過した後の溶融体を、その積層状態を保持したままダイコーターへ供給し、キャスティングドラム上にキャストすることで、多層未延伸フィルムを得る。そして、この多層未延伸フィルムを、１２０℃で幅方向に５倍に一軸延伸した後、１２０℃で３秒間熱処理固定を行って、反射型偏光層（ミラー層５）を完成させる。得られる反射型偏光層の厚み（ｔＭ）は３５μｍであり、反射率は５０％である。
（ｂ）ハードコート層の形成
ハードコート層６を形成する材料として、イソシアヌル酸系アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、イソホロンジイソシアネートポリウレタンからなる紫外線硬化型樹脂にレベリング剤を加えたものを、酢酸エチルによって、固形分濃度が５０重量％となるように希釈したものを準備する。そして、このハードコート層６を形成する材料を、ダイコーターを用いて、上記（ａ）で得られる反射型偏光層の一方の面に塗工し、塗膜を形成する。この際、乾燥後のハードコート層６の厚み（ｔＨ）が４μｍとなるように、塗膜の厚みを調整する。次に、１００℃で１分間加熱することによって、塗膜を乾燥させる。その後、高圧水銀ランプを用いて、積算光量３００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を乾燥後の塗膜に照射することで硬化処理を行って、ハードコート層６付きの反射型偏光層を完成させる。
（ｃ）粘着層の形成
ブチルアクリレート９４．５部、アクリル酸５部、及び、２－ヒドロキシエチルアクリレート０．５部を酢酸エチル溶液で希釈して、モノマー濃度５０％の溶液を得る。そして、この溶液に、モノマー（固形分）１００部に対してベンゾイルパーオキサイド０．３部を加えた後、窒素置換を行う。次に、窒素置換後の溶液を攪拌しながら、６０℃で７時間反応させて、アクリル系ポリマー溶液を得る。そして、アクリル系ポリマー溶液１００部に対して、トリメチロールプロパントリレンジイソシアネート０．８部、γ－グリシジルプロパントリメトキシシラン０．１部を加えて、アクリル系の粘着剤組成物（溶液）を調製する。その後、シリコーン処理を施した厚み３８μｍのＰＥＴフィルムの一方の面に、乾燥後の粘着層４の厚み（ｔＡ）が５μｍとなるように、アクリル系の粘着剤組成物をダイコーターを用いて塗布し、１５５℃で１分間乾燥処理を行って、粘着層４を完成させる。
（ｄ）ミラーフィルムの形成
上記（ｃ）で得られる粘着層４付きのＰＥＴフィルムを、上記（ｂ）で得られるハードコート層６付きの反射型偏光層の、ハードコート層６が設けられた面とは反対側の面に、粘着層４を介して貼り付けた後、ＰＥＴフィルムを剥離することで、ミラーフィルム２ｂを完成させる。
（ｅ）ミラープレートの形成
上記（ｄ）で得られるミラーフィルム２ｂを、ガラス基板（基材３）に貼り付けることで、ミラープレート１ｂを完成させる。ここで、ガラス基板の粘着層４側の面のＲａは０．０００５μｍである。
（実施例２４）
実施例２４は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を８回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を４６μｍとする場合である。実施例２４のミラープレートは、これらの条件以外、実施例２３のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（実施例２５）
実施例２５は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を１０回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を５８μｍとする場合である。実施例２５のミラープレートは、これらの条件以外、実施例２３のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（実施例２６）
実施例２６は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を１２回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を７０μｍとする場合である。実施例２６のミラープレートは、これらの条件以外、実施例２３のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（実施例２７）
実施例２７は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を１４回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を８１μｍとする場合である。実施例２７のミラープレートは、これらの条件以外、実施例２３のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（実施例２８）
実施例２８は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を１６回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を９３μｍとする場合である。実施例２８のミラープレートは、これらの条件以外、実施例２３のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（実施例２９）
実施例２９は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を１８回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を１０４μｍとする場合である。実施例２９のミラープレートは、これらの条件以外、実施例２３のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（実施例３０）
実施例３０は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を２０回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を１１６μｍとする場合である。実施例３０のミラープレートは、これらの条件以外、実施例２３のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（実施例３１）
実施例３１は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を２６回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を１５１μｍとする場合である。実施例３１のミラープレートは、これらの条件以外、実施例２３のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（実施例３２）
実施例３２は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を１２回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を７０μｍとし、粘着層４の厚み（ｔＡ）を１２μｍとする場合である。実施例３２のミラープレートは、これらの条件以外、実施例２３のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（実施例３３）
実施例３３は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を１４回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を８１μｍとする場合である。実施例３３のミラープレートは、これらの条件以外、実施例３２のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（実施例３４）
実施例３４は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を１６回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を９３μｍとする場合である。実施例３４のミラープレートは、これらの条件以外、実施例３２のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（実施例３５）
実施例３５は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を１８回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を１０４μｍとする場合である。実施例３５のミラープレートは、これらの条件以外、実施例３２のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（実施例３６）
実施例３６は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を２０回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を１１６μｍとする場合である。実施例３６のミラープレートは、これらの条件以外、実施例３２のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（実施例３７）
実施例３７は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を２６回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を１５１μｍとする場合である。実施例３７のミラープレートは、これらの条件以外、実施例３２のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（実施例３８）
実施例３８は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を２６回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を１５１μｍとし、粘着層４の厚み（ｔＡ）を２５μｍとする場合である。実施例３８のミラープレートは、これらの条件以外、実施例２３のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（実施例３９）
実施例３９は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を１０回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を５８μｍとし、ハードコート層６の厚み（ｔＨ）を７μｍとする場合である。実施例３９のミラープレートは、これらの条件以外、実施例２３のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（実施例４０）
実施例４０は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を１２回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を７０μｍとする場合である。実施例４０のミラープレートは、これらの条件以外、実施例３９のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（実施例４１）
実施例４１は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を１４回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を８１μｍとする場合である。実施例４１のミラープレートは、これらの条件以外、実施例３９のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（実施例４２）
実施例４２は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を１６回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を９３μｍとする場合である。実施例４２のミラープレートは、これらの条件以外、実施例３９のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（実施例４３）
実施例４３は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を１８回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を１０４μｍとする場合である。実施例４３のミラープレートは、これらの条件以外、実施例３９のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（実施例４４）
実施例４４は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を２０回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を１１６μｍとする場合である。実施例４４のミラープレートは、これらの条件以外、実施例３９のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（実施例４５）
実施例４５は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を２６回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を１５１μｍとする場合である。実施例４５のミラープレートは、これらの条件以外、実施例３９のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（実施例４６）
実施例４６は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を１２回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を７０μｍとし、粘着層４の厚み（ｔＡ）を１２μｍとする場合である。実施例４６のミラープレートは、これらの条件以外、実施例３９のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（実施例４７）
実施例４７は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を１４回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を８１μｍとする場合である。実施例４７のミラープレートは、これらの条件以外、実施例４６のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（実施例４８）
実施例４８は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を１６回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を９３μｍとする場合である。実施例４８のミラープレートは、これらの条件以外、実施例４６のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（実施例４９）
実施例４９は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を１８回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を１０４μｍとする場合である。実施例４９のミラープレートは、これらの条件以外、実施例４６のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（実施例５０）
実施例５０は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を２０回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を１１６μｍとする場合である。実施例５０のミラープレートは、これらの条件以外、実施例４６のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（実施例５１）
実施例５１は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を２６回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を１５１μｍとする場合である。実施例５１のミラープレートは、これらの条件以外、実施例４６のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（実施例５２）
実施例５２は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を２６回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を１５１μｍとし、粘着層４の厚み（ｔＡ）を２５μｍとする場合である。実施例５２のミラープレートは、これらの条件以外、実施例３９のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（実施例５３）
実施例５３は、基材３としてアクリル板を有する場合である。アクリル板の粘着層４側の面のＲａは０．０１４μｍである。実施例５３のミラープレートは、これらの条件以外、実施例３５のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（実施例５４）
実施例５４は、基材３として偏光板を有する場合である。偏光板の粘着層４側の面のＲａは０．０２４μｍである。実施例５４のミラープレートは、これらの条件以外、実施例３５のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（実施例５５）
実施例５５は、ミラー層５として誘電体多層膜を有する場合である。誘電体多層膜としては、上記特許文献６の実施例２に記載の材料及び製造方法を用いて、２種類のポリエステル材料による層を交互に合計８０１層積層させたものを用いる。誘電体多層膜の厚み（ｔＭ）は１００μｍであり、反射率は５１％である。実施例５５のミラープレートは、これらの条件以外、実施例３５のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（実施例５６）
実施例５６は、ミラー層５として誘電体多層膜を有する場合である。誘電体多層膜としては、上記特許文献６の実施例１に記載の材料及び製造方法を用いて、２種類のポリエステル材料による層を交互に合計８０１層積層させたものを用いる。誘電体多層膜の厚み（ｔＭ）は１００μｍであり、反射率は８８％である。実施例５６のミラープレートは、これらの条件以外、実施例３５のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（実施例５７）
実施例５７は、ミラー層５として金属蒸着膜を有する場合である。金属蒸着膜としては、厚み１００μｍのＰＥＴフィルム上に、真空蒸着装置で純度９９．９％のアルミニウムを膜厚が１００ｎｍとなるように蒸着したものを用いる。金属蒸着膜の厚み（ｔＭ）は１００μｍであり（アルミニウムの膜厚は、比較的小さいとして除いた）、反射率は８５％である。粘着層４は、金属蒸着膜のＰＥＴフィルム側の面に貼り付ける。実施例５７のミラープレートは、これらの条件以外、実施例３５のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（実施例５８）
実施例５８は、ミラー層５として誘電体多層膜を有し、基材３としてアクリル板を有する場合である。誘電体多層膜としては、上記特許文献６の実施例１に記載の材料及び製造方法を用いて、２種類のポリエステル材料による層を交互に合計８０１層積層させたものを用いる。誘電体多層膜の厚み（ｔＭ）は１００μｍであり、反射率は８８％である。アクリル板の粘着層４側の面のＲａは０．０１４μｍである。実施例５８のミラープレートは、これらの条件以外、実施例３５のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（実施例５９）
実施例５９は、ミラー層５として金属蒸着膜を有し、基材３としてアクリル板を有する場合である。金属蒸着膜としては、厚み１００μｍのＰＥＴフィルム上に、真空蒸着装置で純度９９．９％のアルミニウムを膜厚が１００ｎｍとなるように蒸着したものを用いる。金属蒸着膜の厚み（ｔＭ）は１００μｍであり（アルミニウムの膜厚は、比較的小さいとして除いた）、反射率は８５％である。粘着層４は、金属蒸着膜のＰＥＴフィルム側の面に貼り付ける。アクリル板の粘着層４側の面のＲａは０．０１４μｍである。実施例５９のミラープレートは、これらの条件以外、実施例３５のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
［比較形態２］
比較形態２は、基材３の粘着層４側の面のＲａ、ｔＡ／ｔＭ、及び、ｔＨ／ｔＭの値のうちの少なくとも１つが、実施形態２と異なる範囲である構成に関する。比較形態２のミラープレートは、これらの条件以外、実施形態２のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
以下に、比較形態２のミラープレートに関する比較例を示す。
（比較例２２）
比較例２２は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を３回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を１７μｍとする場合である。比較例２２のミラープレートは、これらの条件以外、実施例２３のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（比較例２３）
比較例２３は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を４回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を２３μｍとする場合である。比較例２３のミラープレートは、これらの条件以外、実施例２３のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（比較例２４）
比較例２４は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を５回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を２９μｍとする場合である。比較例２４のミラープレートは、これらの条件以外、実施例２３のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（比較例２５）
比較例２５は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を３回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を１７μｍとする場合である。比較例２５のミラープレートは、これらの条件以外、実施例３２のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（比較例２６）
比較例２６は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を４回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を２３μｍとする場合である。比較例２６のミラープレートは、これらの条件以外、実施例３２のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（比較例２７）
比較例２７は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を５回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を２９μｍとする場合である。比較例２７のミラープレートは、これらの条件以外、実施例３２のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（比較例２８）
比較例２８は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を６回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を３５μｍとする場合である。比較例２８のミラープレートは、これらの条件以外、実施例３２のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（比較例２９）
比較例２９は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を８回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を４６μｍとする場合である。比較例２９のミラープレートは、これらの条件以外、実施例３２のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（比較例３０）
比較例３０は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を１０回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を５８μｍとする場合である。比較例３０のミラープレートは、これらの条件以外、実施例３２のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（比較例３１）
比較例３１は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を３回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を１７μｍとする場合である。比較例３１のミラープレートは、これらの条件以外、実施例３８のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（比較例３２）
比較例３２は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を４回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を２３μｍとする場合である。比較例３２のミラープレートは、これらの条件以外、実施例３８のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（比較例３３）
比較例３３は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を５回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を２９μｍとする場合である。比較例３３のミラープレートは、これらの条件以外、実施例３８のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（比較例３４）
比較例３４は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を６回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を３５μｍとする場合である。比較例３４のミラープレートは、これらの条件以外、実施例３８のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（比較例３５）
比較例３５は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を８回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を４６μｍとする場合である。比較例３５のミラープレートは、これらの条件以外、実施例３８のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（比較例３６）
比較例３６は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を１０回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を５８μｍとする場合である。比較例３６のミラープレートは、これらの条件以外、実施例３８のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（比較例３７）
比較例３７は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を１２回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を７０μｍとする場合である。比較例３７のミラープレートは、これらの条件以外、実施例３８のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（比較例３８）
比較例３８は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を１４回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を８１μｍとする場合である。比較例３８のミラープレートは、これらの条件以外、実施例３８のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（比較例３９）
比較例３９は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を１６回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を９３μｍとする場合である。比較例３９のミラープレートは、これらの条件以外、実施例３８のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（比較例４０）
比較例４０は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を１８回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を１０４μｍとする場合である。比較例４０のミラープレートは、これらの条件以外、実施例３８のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（比較例４１）
比較例４１は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を２０回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を１１６μｍとする場合である。比較例４１のミラープレートは、これらの条件以外、実施例３８のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（比較例４２）
比較例４２は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を３回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を１７μｍとする場合である。比較例４２のミラープレートは、これらの条件以外、実施例３９のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（比較例４３）
比較例４３は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を４回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を２３μｍとする場合である。比較例４３のミラープレートは、これらの条件以外、実施例３９のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（比較例４４）
比較例４４は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を５回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を２９μｍとする場合である。比較例４４のミラープレートは、これらの条件以外、実施例３９のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（比較例４５）
比較例４５は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を６回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を３５μｍとする場合である。比較例４５のミラープレートは、これらの条件以外、実施例３９のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（比較例４６）
比較例４６は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を８回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を４６μｍとする場合である。比較例４６のミラープレートは、これらの条件以外、実施例３９のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（比較例４７）
比較例４７は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を３回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を１７μｍとする場合である。比較例４７のミラープレートは、これらの条件以外、実施例４６のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（比較例４８）
比較例４８は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を４回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を２３μｍとする場合である。比較例４８のミラープレートは、これらの条件以外、実施例４６のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（比較例４９）
比較例４９は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を５回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を２９μｍとする場合である。比較例４９のミラープレートは、これらの条件以外、実施例４６のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（比較例５０）
比較例５０は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を６回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を３５μｍとする場合である。比較例５０のミラープレートは、これらの条件以外、実施例４６のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（比較例５１）
比較例５１は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を８回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を４６μｍとする場合である。比較例５１のミラープレートは、これらの条件以外、実施例４６のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（比較例５２）
比較例５２は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を１０回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を５８μｍとする場合である。比較例５２のミラープレートは、これらの条件以外、実施例４６のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（比較例５３）
比較例５３は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を３回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を１７μｍとする場合である。比較例５３のミラープレートは、これらの条件以外、実施例５２のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（比較例５４）
比較例５４は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を４回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を２３μｍとする場合である。比較例５４のミラープレートは、これらの条件以外、実施例５２のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（比較例５５）
比較例５５は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を５回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を２９μｍとする場合である。比較例５５のミラープレートは、これらの条件以外、実施例５２のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（比較例５６）
比較例５６は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を６回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を３５μｍとする場合である。比較例５６のミラープレートは、これらの条件以外、実施例５２のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（比較例５７）
比較例５７は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を８回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を４６μｍとする場合である。比較例５７のミラープレートは、これらの条件以外、実施例５２のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（比較例５８）
比較例５８は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を１０回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を５８μｍとする場合である。比較例５８のミラープレートは、これらの条件以外、実施例５２のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（比較例５９）
比較例５９は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を１２回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を７０μｍとする場合である。比較例５９のミラープレートは、これらの条件以外、実施例５２のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（比較例６０）
比較例６０は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を１４回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を８１μｍとする場合である。比較例６０のミラープレートは、これらの条件以外、実施例５２のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（比較例６１）
比較例６１は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を１６回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を９３μｍとする場合である。比較例６１のミラープレートは、これらの条件以外、実施例５２のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（比較例６２）
比較例６２は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を１８回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を１０４μｍとする場合である。比較例６２のミラープレートは、これらの条件以外、実施例５２のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（比較例６３）
比較例６３は、反射型偏光層を形成する際のダブリング回数を２０回とし、反射型偏光層の厚み（ｔＭ）を１１６μｍとする場合である。比較例６３のミラープレートは、これらの条件以外、実施例５２のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（比較例６４）
比較例６４は、基材３として、ヘイズ３７％のＡＧ処理が施された偏光板を有する場合である。粘着層４は、偏光板のＡＧ処理が施された面に貼り付けられており、その面のＲａは０．１６２μｍである。比較例６４のミラープレートは、これらの条件以外、実施例３５のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
（比較例６５）
比較例６５は、基材３としてヘイズ６２％の擦りガラスを有する場合である。擦りガラスの粘着層４側の面のＲａは０．３３１μｍである。比較例６５のミラープレートは、これらの条件以外、実施例３５のミラープレートと同様であるため、重複する点については説明を省略する。
［評価結果：鏡像の見え方］
実施例２３～５９、及び、比較例２２～６５のミラープレートについて、ミラー層５の厚みｔＭ、粘着層４の厚みｔＡ、ハードコート層６の厚みｔＨ、ｔＡ／ｔＭ、ｔＨ／ｔＭ、基材３の粘着層４側の面のＲａ、及び、鏡像の見え方の評価結果を表３及び表４に示す。
評価方法としては、観察者（１２人の非専門家）に、各例のミラープレートに蛍光管を映り込ませた鏡像を観察してもらい、ゆず肌状のムラが見えるかどうかを評価してもらう。評価指標としては、Ａ：ゆず肌状のムラが見えない、Ｂ：ゆず肌状のムラがほとんど見えない、Ｃ：ゆず肌状のムラが若干見えるものの違和感がない、Ｄ：ゆず肌状のムラが見え違和感がある、を用いる。ここで、評価結果がＡ、Ｂ、又は、Ｃである場合を、本発明の効果が得られるものと判断する。また、ｔＡ／ｔＭ、及び、ｔＨ／ｔＭについては、小数点以下第四位を四捨五入した数値を記載している。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000004
表３及び表４に示すように、実施例２３～５９のミラープレートはいずれも、比較例２２～６５のミラープレートよりも、鏡像の見え方がよいと評価される。特に、実施例２４～３１、３４～３７、４０～４５、４８～５１、５３～５９のミラープレートはいずれも、鏡像にゆず肌状のムラが見えず、非常に高品位であると評価される。ゆず肌状のムラの発生を充分に抑制する観点からは、ｔＡ／ｔＭ≦０．１５、かつ、ｔＨ／ｔＭ≦０．１２であることが好ましく、ｔＡ／ｔＭ≦０．１４、かつ、ｔＨ／ｔＭ≦０．１０であることがより好ましい。
一方、比較例２２～６５のミラープレートは、鏡像にゆず肌状のムラが観察されてしまい、大きな違和感がある。また、比較例２２～６３のミラープレートのように、基材３の粘着層４側の面のＲａが実施例２３～５２、５５～５７と同じ場合であっても、ｔＡ／ｔＭ、及び／又は、ｔＨ／ｔＭの値が大きい（ｔＡ／ｔＭ＞０．１８、及び／又は、ｔＨ／ｔＭ＞０．１３）と、ゆず肌状のムラが観察されてしまうことが分かる。更に、比較例６４、６５のミラープレートのように、ｔＡ／ｔＭ、及び、ｔＨ／ｔＭの値が実施例３５、５３、５４と同じ場合であっても、基材３の粘着層４側の面のＲａが大きい（Ｒａが０．０３μｍ以上）と、ゆず肌状のムラが観察されてしまうことが分かる。
［評価結果：写像鮮明度］
実施例３５、５３、５４、５５～５９、及び、比較例２３、２４、６４、６５のミラープレートについて、表３及び表４（ｔＡ／ｔＭ、及び、ｔＨ／ｔＭを除く）に対して写像鮮明度を追加した結果を表５に示す。
写像鮮明度は、ＡＳＴＭ－Ｄ５７６７－２００４に準拠して測定されたものである。測定機としては、スガ試験機社製の写像性測定機（商品名：ＩＣＭ－１）を用い、入射角４５°で反射測定を行う。表５中、写像鮮明度Ｇは、各例のミラープレートに対して基材３側の面から入射させた透過光を、０．２５ｍｍ幅の光学くしに照射したときの反射率最大値Ｍ１、反射率最小値ｍ１を測定し、下記式（１）によって算出する。
写像鮮明度Ｇ（％）＝１００×（Ｍ１－ｍ１）／（Ｍ１＋ｍ１）　　（１）
また、写像鮮明度Ｆは、各例のミラープレートに対してミラーフィルム２ａ側の面から入射させた透過光を、０．２５ｍｍ幅の光学くしに照射したときの反射率最大値Ｍ２、反射率最小値ｍ２を測定し、下記式（２）によって算出する。
写像鮮明度Ｆ（％）＝１００×（Ｍ２－ｍ２）／（Ｍ２＋ｍ２）　　（２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000005
表５に示すように、実施例３５、５３、５４、５５～５９のミラープレートはいずれも、比較例２３、２４、６４、６５のミラープレートよりも、写像鮮明度Ｇ、Ｆが高い。鏡像の見え方の評価結果を合わせて考慮すると、写像鮮明度Ｇ、Ｆは、鏡像の見え方と相関がある指標であることが分かり、４５％以上であることが好ましく、６０％以上であることがより好ましく、８０％以上であることが更に好ましい。また、ｔＭ、ｔＡ、及び、ｔＨが互いに同じで、基材３の粘着層４側の面のＲａが互いに異なる実施例３５、５３、５４、及び、比較例６４、６５を比較すると、Ｒａが小さくなるにつれて、写像鮮明度Ｇ、Ｆが高くなることが分かる。よって、写像鮮明度Ｇ、Ｆをより高める観点から、基材３の粘着層４側の面のＲａは、０．０１４μｍ以下であることが好ましく、０．００１μｍ以下であることがより好ましく、０．０００５μｍ以下であることが更に好ましい。
［その他の好適な実施例］
本発明の第二のミラープレートと、表示装置とを備えるミラーディスプレイを構成することが可能である。例えば、実施例３５のミラープレートと、液晶表示装置とを備えるミラーディスプレイを構成することが可能である。この場合、液晶表示装置は、ミラープレートの背面側、かつ、ミラーフィルムと対向するように配置される。また、実施例３５のミラープレートの代わりに、実施例５３～５５等のミラープレートを用いてもよい。更に、液晶表示装置の代わりに、例えば、プラズマ表示装置、有機エレクトロルミネッセンス表示装置、無機エレクトロルミネッセンス表示装置等の他の表示装置を用いてもよい。これらのミラーディスプレイによれば、ミラーとしての機能及び画像を表示するディスプレイとしての機能が両立可能であるとともに、ゆず肌状のムラの発生を抑制することができる。
実施例３５のミラープレートと、液晶表示装置とを備えるミラーディスプレイにおいて、液晶表示装置を、ミラープレートの背面側、かつ、基材と対向するように配置した構成とすることも可能である。この場合、ミラーフィルムがミラーディスプレイの観察面側に配置されることになるが、ハードコート層がミラーディスプレイの観察面側の最表面に存在するため、実用上の問題は発生しない。また、実施例３５のミラープレートの代わりに、実施例５５等のミラープレートを用いてもよい。これらのミラーディスプレイによれば、ゆず肌状のムラの発生を抑制することができる。
実施例５４のミラープレートが備える基材としての偏光板を、液晶表示装置の観察面側の偏光板とする、ミラーディスプレイを構成することも可能である。この場合、液晶表示装置をミラープレートの背面側に単に配置する構成よりも、部材を一点減らすことができるため、コスト、厚み、重量等が改善されたミラーディスプレイを実現することができる。
また、本発明の第二のミラープレートを従来のミラーの代わりに用いることも可能である。例えば、実施例５８、５９のミラープレートにおいて、基材として、アクリル板の代わりに平坦な壁を採用すれば、ミラーフィルムを壁面に貼り付けることで、ガラス割れの心配がなく、安価、軽量、大型化も可能なフィルムタイプのミラーを実現することができる。
［付記］
以下に、本発明に係るミラープレートの好適な態様の例を挙げる。各例は、本発明の要旨を逸脱しない範囲において適宜組み合わされてもよい。
上記本発明の第一のミラープレートにおいて、上記ミラー層及び上記粘着層の厚みの関係は、ｔＡ／ｔＭ≦０．１５を満たすものであってもよい。これにより、ゆず肌状のムラの発生を充分に抑制することができる。
上記本発明の第二のミラープレートにおいて、上記ミラー層、上記粘着層、及び、上記ハードコート層の厚みの関係は、ｔＡ／ｔＭ≦０．１５、かつ、ｔＨ／ｔＭ≦０．１２を満たすものであってもよい。これにより、ゆず肌状のムラの発生を充分に抑制することができる。
上記ミラープレートに対して上記基材側の面から入射させた透過光を、０．２５ｍｍ幅の光学くしに照射したときに測定される反射率最大値をＭ１、反射率最小値をｍ１とすると、下記式（１）によって算出される写像鮮明度は、４５％以上であってもよい。
写像鮮明度（％）＝１００×（Ｍ１－ｍ１）／（Ｍ１＋ｍ１）　　（１）
また、上記ミラープレートに対して上記ミラーフィルム側の面から入射させた透過光を、０．２５ｍｍ幅の光学くしに照射したときに測定される反射率最大値をＭ２、反射率最小値をｍ２とすると、下記式（２）によって算出される写像鮮明度は、４５％以上であってもよい。
写像鮮明度（％）＝１００×（Ｍ２－ｍ２）／（Ｍ２＋ｍ２）　　（２）
これにより、写像鮮明度を鏡像の見え方と相関がある指標として採用することができ、ゆず肌状のムラの発生が充分に抑制されたミラープレートを実現することができる。
上記ミラー層は、反射型偏光層を含むものであってもよい。これにより、上記ミラー層として反射型偏光層を用いる場合であっても、本発明を好適に用いることができる。また、上記ミラー層として複数の反射型偏光層を用いて、各々の透過軸を交差させるように積層することで、反射率を充分に高めることができる。
上記基材の上記一方の面の算術平均粗さは、０．０１４μｍ以下であってもよい。これにより、写像鮮明度をより高めることができ、鏡像の見え方を良好にすることができる。
以下に、本発明に係るミラーディスプレイの好適な態様の例を挙げる。各例は、本発明の要旨を逸脱しない範囲において適宜組み合わされてもよい。
上記表示装置は、液晶表示装置であってもよい。これにより、上記表示装置として液晶表示装置を用いる場合であっても、本発明を好適に用いることができる。更に、上記ミラー層としての反射型偏光層と組み合わせることで、鏡像の視認性と画像の視認性とを好適に両立させることができる。
１ａ、１ｂ：ミラープレート
２ａ、２ｂ：ミラーフィルム
３：基材
４：粘着層
５：ミラー層
６：ハードコート層

Claims (10)

  1. ミラー層、及び、粘着層を有するミラーフィルムと、
    基材とを備えるミラープレートであって、
    前記粘着層は、前記基材の一方の面に貼り付けられるものであり、
    前記基材の前記一方の面の算術平均粗さは、０．０３μｍ未満であり、
    前記ミラーフィルムは、硬化樹脂から形成されるハードコート層を有さず、
    前記ミラー層及び前記粘着層の厚みの関係は、前記ミラー層の厚みをｔＭ、前記粘着層の厚みをｔＡとすると、ｔＡ／ｔＭ≦０．１８を満たすことを特徴とするミラープレート。
  2. 前記ミラー層及び前記粘着層の厚みの関係は、ｔＡ／ｔＭ≦０．１５を満たすことを特徴とする請求項１に記載のミラープレート。
  3. ミラー層、粘着層、及び、ハードコート層を有するミラーフィルムと、
    基材とを備えるミラープレートであって、
    前記粘着層は、前記ミラー層の一方の面に配置され、かつ、前記基材の一方の面に貼り付けられるものであり、
    前記ハードコート層は、前記ミラー層の他方の面に配置され、かつ、硬化樹脂から形成されるものであり、
    前記基材の前記一方の面の算術平均粗さは、０．０３μｍ未満であり、
    前記ミラー層、前記粘着層、及び、前記ハードコート層の厚みの関係は、前記ミラー層の厚みをｔＭ、前記粘着層の厚みをｔＡ、前記ハードコート層の厚みをｔＨとすると、ｔＡ／ｔＭ≦０．１８、かつ、ｔＨ／ｔＭ≦０．１３を満たすことを特徴とするミラープレート。
  4. 前記ミラー層、前記粘着層、及び、前記ハードコート層の厚みの関係は、ｔＡ／ｔＭ≦０．１５、かつ、ｔＨ／ｔＭ≦０．１２を満たすことを特徴とする請求項３に記載のミラープレート。
  5. 前記ミラープレートに対して前記基材側の面から入射させた透過光を、０．２５ｍｍ幅の光学くしに照射したときに測定される反射率最大値をＭ１、反射率最小値をｍ１とすると、下記式（１）によって算出される写像鮮明度は、４５％以上であることを特徴とする請求項１～４のいずれかに記載のミラープレート。
    写像鮮明度（％）＝１００×（Ｍ１－ｍ１）／（Ｍ１＋ｍ１）　　（１）
  6. 前記ミラープレートに対して前記ミラーフィルム側の面から入射させた透過光を、０．２５ｍｍ幅の光学くしに照射したときに測定される反射率最大値をＭ２、反射率最小値をｍ２とすると、下記式（２）によって算出される写像鮮明度は、４５％以上であることを特徴とする請求項１～５のいずれかに記載のミラープレート。
    写像鮮明度（％）＝１００×（Ｍ２－ｍ２）／（Ｍ２＋ｍ２）　　（２）
  7. 前記ミラー層は、反射型偏光層を含むことを特徴とする請求項１～６のいずれかに記載のミラープレート。
  8. 前記基材の前記一方の面の算術平均粗さは、０．０１４μｍ以下であることを特徴とする請求項１～７のいずれかに記載のミラープレート。
  9. 請求項１～８のいずれかに記載のミラープレートと、表示装置とを備えるミラーディスプレイであって、
    前記表示装置は、前記ミラープレートの背面側に配置されていることを特徴とするミラーディスプレイ。
  10. 前記表示装置は、液晶表示装置であることを特徴とする請求項９に記載のミラーディスプレイ。
PCT/JP2015/068940 2014-07-08 2015-07-01 ミラープレート、及び、ミラーディスプレイ WO2016006507A1 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201580037061.8A CN106471399B (zh) 2014-07-08 2015-07-01 反射镜板和镜面显示器
US15/323,143 US10054818B2 (en) 2014-07-08 2015-07-01 Mirror plate and mirror display

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014-140658 2014-07-08
JP2014140658 2014-07-08

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2016006507A1 true WO2016006507A1 (ja) 2016-01-14

Family

ID=55064143

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2015/068940 WO2016006507A1 (ja) 2014-07-08 2015-07-01 ミラープレート、及び、ミラーディスプレイ

Country Status (4)

Country Link
US (1) US10054818B2 (ja)
CN (1) CN106471399B (ja)
TW (1) TW201608288A (ja)
WO (1) WO2016006507A1 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2017175581A1 (ja) * 2016-04-07 2017-10-12 日本化薬株式会社 光反射フィルム、ならびにこれを用いた光制御フィルムおよびミラーディスプレイ
WO2018146958A1 (ja) * 2017-02-09 2018-08-16 富士フイルム株式会社 ハーフミラー、ハーフミラーの製造方法、および画像表示機能付きミラー

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20200019010A1 (en) * 2018-07-16 2020-01-16 Sharp Kabushiki Kaisha Switching device and display device

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001242450A (ja) * 1997-07-14 2001-09-07 Citizen Watch Co Ltd 液晶表示装置
JP2004085590A (ja) * 2002-06-24 2004-03-18 Seiko Epson Corp 表示装置及びこれを備えた電子機器
JP2004184575A (ja) * 2002-12-02 2004-07-02 Sumitomo Chem Co Ltd 半透過半反射性偏光フィルム並びにそれを用いた偏光光源装置及び液晶表示装置
JP2005345958A (ja) * 2004-06-07 2005-12-15 Nitto Denko Corp 液晶パネル、偏光板および液晶表示装置
JP2005345990A (ja) * 2004-06-07 2005-12-15 Nitto Denko Corp 液晶パネル、偏光板および液晶表示装置
JP2009223198A (ja) * 2008-03-18 2009-10-01 Sumitomo Chemical Co Ltd 輝度向上フィルム積層光拡散板及びその製造方法
JP2010020211A (ja) * 2008-07-14 2010-01-28 Sumitomo Chemical Co Ltd 光拡散性反射型偏光板、積層偏光板、偏光光源装置及び液晶表示装置
JP2010231016A (ja) * 2009-03-27 2010-10-14 Sumitomo Chemical Co Ltd 偏光子保護フィルム、偏光板及び液晶表示装置
WO2014002130A1 (ja) * 2012-06-25 2014-01-03 コニカミノルタ株式会社 偏光板

Family Cites Families (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1052795C (zh) 1993-12-21 2000-05-24 美国3M公司 光学显示器
US5828488A (en) 1993-12-21 1998-10-27 Minnesota Mining And Manufacturing Co. Reflective polarizer display
US20070091230A1 (en) 1993-12-21 2007-04-26 3M Innovative Properties Company Display incorporating reflective polarizer
US6804058B1 (en) 1993-12-21 2004-10-12 3M Innovative Properties Company Electroluminescent light source and display incorporating same
DE69435173D1 (de) 1993-12-21 2009-01-15 Minnesota Mining & Mfg Mehrschichtiger optischer Film
JPH1115392A (ja) 1997-06-26 1999-01-22 Sony Corp バックライト式画像表示装置、画像表示部材及びハーフミラー部材
AU8130598A (en) 1997-07-14 1999-02-10 Citizen Watch Co. Ltd. Liquid crystal display
JP2000329914A (ja) * 1999-05-24 2000-11-30 Nitto Denko Corp 粘着拡散半透過型反射板
JP2001264515A (ja) * 2000-03-16 2001-09-26 Nitto Denko Corp 干渉防止コート基板
JP2002365432A (ja) * 2001-06-07 2002-12-18 Nitto Denko Corp 偏光板の製造方法及びそれを用いた表示装置
JP2003195036A (ja) * 2001-12-25 2003-07-09 Fuji Photo Film Co Ltd 偏光板、その製造方法および液晶表示装置
JP2003241175A (ja) 2002-02-18 2003-08-27 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶表示素子
JP4211344B2 (ja) 2002-09-30 2009-01-21 セイコーエプソン株式会社 表示装置及びこれを備えた電子機器
KR20050001425A (ko) * 2003-06-27 2005-01-06 아사히 가라스 가부시키가이샤 고반사경
JP4961100B2 (ja) * 2004-06-30 2012-06-27 富士フイルム株式会社 反射防止フィルム、偏光板、および画像表示装置
EP1938966B1 (en) 2005-08-18 2013-02-27 Toray Industries, Inc. Laminate film and molded article
JP2008151998A (ja) 2006-12-18 2008-07-03 Nitto Denko Corp ハードコートフィルムの製造方法、ハードコートフィルム、偏光板および画像表示装置
JP5167083B2 (ja) 2007-12-06 2013-03-21 日東電工株式会社 偏光板、その製造方法、光学フィルムおよび画像表示装置
US20110199561A1 (en) * 2009-12-03 2011-08-18 Sharp Kabushiki Kaisha Liquid Crystal Display Device
JP5011444B2 (ja) 2010-09-03 2012-08-29 日東電工株式会社 粘着型光学フィルム、その製造方法および画像表示装置
JP5354691B2 (ja) 2010-12-10 2013-11-27 日東電工株式会社 粘着層
JP6083924B2 (ja) * 2011-08-05 2017-02-22 日東電工株式会社 光学積層体、光学積層体のセットおよびそれらを用いた液晶パネル
KR20140125448A (ko) 2012-04-12 2014-10-28 제이에프이 스틸 가부시키가이샤 태양광 반사판

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001242450A (ja) * 1997-07-14 2001-09-07 Citizen Watch Co Ltd 液晶表示装置
JP2004085590A (ja) * 2002-06-24 2004-03-18 Seiko Epson Corp 表示装置及びこれを備えた電子機器
JP2004184575A (ja) * 2002-12-02 2004-07-02 Sumitomo Chem Co Ltd 半透過半反射性偏光フィルム並びにそれを用いた偏光光源装置及び液晶表示装置
JP2005345958A (ja) * 2004-06-07 2005-12-15 Nitto Denko Corp 液晶パネル、偏光板および液晶表示装置
JP2005345990A (ja) * 2004-06-07 2005-12-15 Nitto Denko Corp 液晶パネル、偏光板および液晶表示装置
JP2009223198A (ja) * 2008-03-18 2009-10-01 Sumitomo Chemical Co Ltd 輝度向上フィルム積層光拡散板及びその製造方法
JP2010020211A (ja) * 2008-07-14 2010-01-28 Sumitomo Chemical Co Ltd 光拡散性反射型偏光板、積層偏光板、偏光光源装置及び液晶表示装置
JP2010231016A (ja) * 2009-03-27 2010-10-14 Sumitomo Chemical Co Ltd 偏光子保護フィルム、偏光板及び液晶表示装置
WO2014002130A1 (ja) * 2012-06-25 2014-01-03 コニカミノルタ株式会社 偏光板

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2017175581A1 (ja) * 2016-04-07 2017-10-12 日本化薬株式会社 光反射フィルム、ならびにこれを用いた光制御フィルムおよびミラーディスプレイ
JPWO2017175581A1 (ja) * 2016-04-07 2019-02-21 日本化薬株式会社 光反射フィルム、ならびにこれを用いた光制御フィルムおよびミラーディスプレイ
WO2018146958A1 (ja) * 2017-02-09 2018-08-16 富士フイルム株式会社 ハーフミラー、ハーフミラーの製造方法、および画像表示機能付きミラー
JPWO2018146958A1 (ja) * 2017-02-09 2019-11-21 富士フイルム株式会社 ハーフミラー、ハーフミラーの製造方法、および画像表示機能付きミラー
US11281017B2 (en) 2017-02-09 2022-03-22 Fujifilm Corporation Half mirror, method for producing half mirror, and mirror with image display function

Also Published As

Publication number Publication date
CN106471399B (zh) 2019-06-11
TW201608288A (zh) 2016-03-01
CN106471399A (zh) 2017-03-01
US20170168349A1 (en) 2017-06-15
US10054818B2 (en) 2018-08-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6932420B2 (ja) フレキシブル画像表示装置用粘着剤組成物、フレキシブル画像表示装置用粘着剤層、フレキシブル画像表示装置用積層体、及び、フレキシブル画像表示装置
JP6932421B2 (ja) フレキシブル画像表示装置用粘着剤層、フレキシブル画像表示装置用積層体、及び、フレキシブル画像表示装置
TWI557447B (zh) Liquid crystal display device, polarizing plate and polarizer protective film
JP4816183B2 (ja) 光学用積層二軸延伸ポリエステルフィルム及びそれを用いたハードコートフィルム
CN104919344B (zh) 偏振片、图像显示装置和图像显示装置的明处对比度的改善方法
JP6957885B2 (ja) 有機エレクトロルミネッセンス表示装置用フィルムおよび積層シート
JP6729365B2 (ja) 光学用ポリエステルフィルム及びそれを用いた偏光板
JP5525362B2 (ja) 反射防止層付き円偏光板および画像表示装置
JP6617561B2 (ja) 積層ポリエステルフィルム、及び、それを用いた偏光板
JP2006058574A (ja) ハードコートフィルム
JP7459868B2 (ja) 反射防止用円偏光板およびそれを用いた画像表示装置
JP6234798B2 (ja) 透明導電性フィルム及びその用途
JPWO2019107036A1 (ja) ハードコートフィルム、光学積層体および画像表示装置
JP2015232120A (ja) 光学用ポリエステルフィルム及びそれを用いた偏光板および透明導電性フィルム
WO2016006507A1 (ja) ミラープレート、及び、ミラーディスプレイ
JP6354410B2 (ja) 偏光子保護フィルム、偏光板、それを用いた液晶表示装置
JP2004345223A (ja) 光学機能性フィルム、および画像表示装置
JP2015143778A (ja) 偏光子保護フィルム、偏光板、それを用いた液晶表示装置
JP6808924B2 (ja) 光学用ポリエステルフィルム及びそれを用いた偏光板、透明導電性フィルム
JP6815955B2 (ja) 積層体、偏光板、液晶表示パネルおよび画像表示装置
US20240255798A1 (en) Decorative film, decorative panel, and display device
JPWO2018146958A1 (ja) ハーフミラー、ハーフミラーの製造方法、および画像表示機能付きミラー
JP2006212549A (ja) ハードコートフィルムの製造方法
KR20220012288A (ko) 화상 표시 장치의 제조 방법 및 편광자 전사용 적층체
TW201248208A (en) Polarizer protective film

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 15818370

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 15323143

Country of ref document: US

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: JP

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 15818370

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

点击 这是indexloc提供的php浏览器服务，不要输入任何密码和下载