WO1997008179A1

WO1997008179A1 - Complexes de metaux de transition, catalyseur de polymerisation des olefines et procede de production de polymeres d'olefines

Info

Publication number: WO1997008179A1
Application number: PCT/JP1996/002439
Authority: WO
Inventors: Hiroaki Katayama; Akio Imai; Hidenori Hanaoka; Norio Kawamura; Akira Miyashita
Original assignee: Sumitomo Chemical Company, Limited
Priority date: 1995-08-31
Filing date: 1996-08-30
Publication date: 1997-03-06
Also published as: KR19990044281A; EP0852230A4; CN1194650A; CN1080724C; DE69617713D1; US6066704A; EP0852230B1; EP0852230A1; KR100453414B1; DE69617713T2

Description

明細書遷移金属錯体、ォレフィン重合用触媒及びォレフィン重合体の製造方法技術分野

本発明は、ォレフィン重合用触媒成分として有用な遷移金属錯体、ォレフィン重合用触媒及びォレフィン重合体の製造方法に関するものである。更に詳しくは、へテ口原子を置換基に持つ芳香環とシクロペンタジェニル環とをへテ口原子で連結した配位子を持つ、ォレフィン重合用触媒成分として有用な遷移金属錯体、ォレフィン重合用触媒及びォレフィン重合体の製造方法に関するものである。

背景技術

既に、メタロセン錯体を用いるォレフィン重合体の製造法については多くの報告がなされている。例えば、特開昭 5 8 - 1 9 3 0 9号公報において、メタロセン錯体とアルミノキサンを用いたォレフィン重合体の製造方法に関して報告されている。このビス（シクロペンタジェニル）ジルコニウムジ.クロライド及びメチルアルミノキサンを用いた系でォレフィン重合を行うと、得られるォレフィン重合体の分子量が低レ、という P口 3題があつた。

この問題点は、 W0 8 7ノ0 2 3 7 0号公開明細書において、 2個のフヱノキシ基を硫黄原子で連結した配位子を有する遷移金属錯体により改善されることが報告されている。し力、し、その報告にある 2， 2，一チォビス（6—第三級プチル一 4ーメチルフエノキシ）チタンジクロライド及びメチルアルミノキサンを用いた系においても、特開平 5— 2 3 0 1 3 3号公報に記載の 2， 2 ' —チォビス ( 6—第三級プチルー 4一メチルフヱノキシ）チタンジクロライド、トリイソブチルアルミニウム及びトリフヱニルメタンテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ホウ素を用いた系においても、分子量は改良されるものの、その活性は工業的観点からは低 L、という問題点があつた。

また特開平 3— 1 6 3 0 8 8号公報において、シクロペンタジェニル環とアミノ基をゲイ素原子で連結した配位子を有する遷移金属錯体、（第三級プチルァミド）ジメチル（テトラメチルシクロペンタジェニル）シランジルコニウムジクロライド力く報告されている。

しかし、シクロペンタジェニル環と酸素原子を置換基に持つ芳香環を硫黄原子ゃリン原子で連結したものは、未だに知られていない。

本発明はこのような状況に鑑み、工業プロセスにおいてォレフィン重合用触媒成分として有用な、ヘテロ原子を置換基に持つ芳香環とシクロペンタジェニル環をへテロ原子で架橋した配位子を有する遷移金属錯体を提供し、高活性なォレフィン重合用触媒及びォレフィン重合体の製造方法を提供することを目的とする。発明の開示

本発明は、下記一般式〔1〕で表される遷移金属錯体、該遷移金属錯体を含有するォレフィン重合用触媒、及び該触媒を用いるォレフィン重合体の製造方法にかかるものである。

〔1〕

(式中、 Mは元素の周期律表の第 4族の遷移金属原子を、 C pはシクロペンタジェン形ァニオン骨格を有する基を表わす。 A及び Gは元素の周期律表の第 1 5、 1 6族の原子を含有する 2価の残基を表し、それらは同一でも異なっても良い。 X ' 、 X ²、 R ' 、 R ² 、 R ³、 R ⁴ はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数 1〜2 0のアルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数？〜 2 0のァラルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数 6〜2 0のァリール基、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数 1〜2 0の置換シリル基、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数 1〜2 0のアルコキシ基、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数 7〜2 0のァラルキルォキシ基、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数 6〜 2 0のァリールォキシ基または炭素原子数 2〜 2 0 の 2置換アミノ基を示す。 R ¹ 、 R ²、 R ³、 R ⁴ は任意に結合して環を形成していてもよい。 Lはルイス塩基であり、 wは 0〜2の整数を表す。）

( 1 ) 遷移金属錯体

本発明において用いる、上記の一般式〔1〕で表される遷移金属錯体における Mは、元素の周期律表 ( I U P A C無機化学命名法改訂版 1 9 8 9 ) の第 4族の遷移金属原子であり、好ましくは、チタニウム原子、ジルコニウム原子、ハフ二ゥム原子が挙げられる。

上記の一般式〔1〕で表される遷移金属錯体における C pはシクロペンタジェン形ァ二オン骨格を有する基を表わし、具体例としては、シクロペンタジェニル基、メチルシクロペンタジェニル基、ジメチルシクロペンタジェニル基、トリメチルシクロペンタジェニル基、テトラメチルシクロペンタジェニル基、ェチルシクロペンタジェニル基、ノルマルプロビルシクロペンタジェニル基、イソプロピルシクロペンタジェニル基、第一級ブチルシクロペンタジェニル基、第二級ブチルシクロペンタジェニル基、第三級ブチルシクロペンタジェニル基、フヱニルシクロペンタジェニル基、トリメチルシリルシクロペンタジェニル基、インデニル基、メチルインデニル基、ジメチルインデニル基、ェチルインデニル基、ノルマルプロピルインデニル基、イソプロピルインデニル基、第一級ブチルインデニル基、第二級プチルインデニル基、第三級プチルインデニル基、フヱ二ルインデニル基、トリメチルシリルインデニル基、フルォレニル基、メチルフルォレニル基、ジメチルフルォレニル基、ェチルフルォレニル基、ジェチルフルォレニル基、ノルマルプロピルフルォレニル基、ジノルマルプロピルフルォレニノレ基、イソプロピルフルォレニル基、ジイソプロピルフルォレニル基、第一級ブチルフルォレニル基、ジ第一級ブチルフルォレニル基、第二級ブチルフルォレニル基、ジ第二級ブチルフルォレニル基、第三級プチルフルォレニル基、ジ第三級プチルフルォレニル基、フヱニルフルォレニル基、ジフヱニルフルォレニル基、トリメチルシリルフルォレニル基、ジトリメチルシリルフルォレニル基等が挙げられ、好ましくは、シクロペンタジェニル基、メチルシクロペンタジェニル基、テトラメチルシクロペンタジェニル基、インデニル基、メチルインデニル基、フルォレニル基であ上記の一般式〔1〕で表される遷移金属錯体における A及び Gは、元素の周期律表の第 1 5 1 6族の原子を含有する 2価の残基を表す。かかる残基の例としては、下記構造式で表される 2価の基や、さらにこれらと非水素原子数 1 20 の 2価の基が連結したもの等が挙げられる。

(R⁵ X³ は上記と同様なものを意味する。 )

さらに好ましくは Gは硫黄原子又は下記構造式で表される 2価の基である _c

(R⁵、 X³ は上記と同様なものを意味する。 )

X¹ X²、 R¹ R²、 R³、 R⁴ R^s におけるハロゲン原子としてはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が例示される。 X ¹ 、 X ²、 R ¹ 、 R ²、 R ³、 R ⁴ 、 R ⁵ における炭素原子数 1〜2 0のァルキノレ基としては、例えばメチル基、ェチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基、ノルマルブチル基、第二級ブチル基、第三級ブチル基、ノルマルペンチル基、ネオペンチル基、アミル基、ノルマルへキシル基、ノルマルォクチル基、ノルマルデシル基、ノルマルドデシノレ基、ノルマルペンタデシル基、ノルマルェイコンル基などが挙げられ、好ましくはメチル基、ェチル基、イソプロピル基、第三級ブチル基、アミル基である。

これらのアルキル基はいずれもハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）で置換されていてもよい。ハロゲン原子で置換された炭素原子数 1〜2 0のアルキル基としては、例えばフルォロメチル基、ジフルォロメチル基、トリフルォロメチル基、クロロメチル基、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基、ブロモメチル基、ジブロモメチル基、トリブロモメチル基、ョードメチル基、ジョードメチル基、トリョードメチル基、フルォ口ェチル基、ジフルォ口ェチル基、トリフルォロェチル基、テトラフルォロェチル基、ペンタフルォロェチル基、クロ口ェチル基、ジクロロェチル基、トリクロ口ェチル基、テトラクロ口ェチル基、ペンタクロロェチル基、ブロモェチル基、ジブロモェチル基、トリブロモェチル基、テトラブロモェチル基、ペンタブロモェチル基、パ一フルォロプロピル基、パーフルォロブチル基、パーフルォロペンチル基、パーフルォ口へキシル基、パーフルォロォクチノレ基、パーフルォロドデシル基、パ一フルォロぺンタデシル基、パーフルォロエイコシル基、パークロロプロピル基、パークロロブチル基、パ一クロ口ペンチル基、パークロロへキシル基、パークロロクチル基、パーク口ロドデシル基、パークロロペンタデシル基、パークロロエイコシル基、パーブロモプロピノレ基、パーブ口モブチノレ基、パーブロモペンチノレ基、パーブ口モへキシル基、パーブ口モクチル基、パーブ口モドデシル基、パーブロモペン夕デシル基、パーブロモエイコシノレ基など力《挙げられる。

X ¹ 、 X ²、 R ¹ 、 R ²、 R ³、 R ⁴ 、 R ⁵ における炭素原子数？〜 2 0のァラルキル基としては、例えばべンジル基、（2—メチルフヱニル）メチル基、 ( 3—メチルフエニル）メチル基、（4 —メチルフエニル）メチル基、（2， 3 ージメチルフエニル）メチル基、 ( 2 , 4—ジメチルフエニル）メチル基、 ( 2 , 5 —ジメチルフエニル）メチル基、（2， 6 —ジメチルフエニル）メチル基、 ( 3 , 4ージメチルフエニル）メチル基、（4， 6—ジメチルフエニル）メチル基、（2， 3 , 4 —トリメチルフエニル）メチル基、（2， 3， 5 —トリメチルフエニル）メチル基、（2， 3 , 6 —トリメチルフエニル）メチル基、（3， 4， 5 —トリメチルフエニル）メチル基、（2， 4， 6 —トリメチルフエニル）メチル基、（2， 3， 4 , 5 —テトラメチルフエニル）メチル基、（2， 3， 4， 6 —テトラメチルフエニル）メチル基、 ( 2 , 3 , 5， 6—テトラメチルフエ二ル）メチル基、（ペンタメチルフエニル）メチル基、（ェチルフエニル）メチル基、（n—プロピルフヱニル）メチル基、（イソプロピルフエニル）メチル基、 ( n—ブチルフヱニル）メチル基、（s e c—ブチルフエニル）メチル基、 ( t e r t —ブチルフヱニル）メチル基、（n—ペンチルフヱニル）メチル基、（ネォペンチルフエニル）メチル基、（n—へキシルフェニル）メチル基、（n—ォクチルフヱニル）メチル基、（n—デシルフヱニル）メチル基、（n—デシルフェニル）メチル基、（n—テトラデシルフエ二ル）メチル基、ナフチルメチル基、アントラセニルメチル基などが挙げら、好ましくはべンジル基である。

これらのァラルキル基はいずれもハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）で置換されていてもよい。

X ¹ 、 X ²、 R ' 、 R ²、 R ³、 R ⁴、 R ⁵ における炭素原子数 6〜2 0のァリール基としては、例えばフエニル基、 2 —トリル基、 3 —トリル基、 4 一トリル基、 2， 3—キシリル基、 2 , 4—キシリル基、 2 , 5—キシリル基、 2 , 6 —キシリル基、 3， 4ーキシリル基、 3， 5—キシリル基、 2， 3， 4—トリメチルフエニル基、 2， 3 , 5—トリメチルフエニル基、 2， 3， 6—トリメチルフエニル基、 2， 4， 6 —トリメチルフエニル基、 3， 4， 5 —トリメチルフエニル基、 2， 3， 4， 5 —テトラメチルフエニル基、 2， 3， 4， 6—テトラメチルフエニル基、 2 , 3 , 5， 6 —テトラメチルフエニル基、ペンタメチルフエニル基、ェチルフヱニル基、ノルマルプロピルフヱニル基、イソプロピルフエ二ル基、ノルマルブチルフエニル基、第二級ブチルフエニル基、第三級ブチルフエ二ノレ基、ノルマルペンチルフヱ二ノレ基、ネオペンチルフヱニル基、ノルマルへキシルフヱニル基、ノルマルォクチルフヱニル基、ノルマルデシルフヱニル基、ノルマルドデシルフエ二ノレ基、ノルマルテトラデシルフェニル基、ナフチル基、了ントラセニル基などが挙げられ、好ましはフヱニル基である。

これらのァリール基はいずれもハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）で置換されていてもよい。

X ¹ 、 X ²、 R ¹ 、 R ²、 R ³ 、 R ⁴ における置換シリル基とは炭化水素基で置換されたシリル基であって、ここで炭化水素基としては、例えばメチル基、ェチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基、ノルマルブチル基、第二級ブチル基、第三級ブチル基、イソブチル基、ノルマルペンチル基、ノルマルへキシル基、シクロへキシル基などの炭素原子数 1〜 1 0のアルキル基、フヱニル基などのァリール基などが挙げられる。かかる炭素原子数 1〜 2 0の置換シリル基としては、例えばメチルシリル基、ェチルシリル基、フヱニルシリル基などの炭素原子数 1〜 2 0の 1置換シリル基、ジメチルシリル基、ジェチルシリル基、ジフエニルシリル基などの炭素原子数 2〜 2 0の 2置換シリル基、トリメチルシリル基、トリェチルシリル基、トリノルマルプロビルシリル基、トリィソプロビルシリル基、トリノルマルプチルシリル基、トリ第二級プチルシリル基、トリ第三級プチルシリル基、トリーイソブチルシリル基、第三級プチルージメチルシリル基、トリノルマルペンチルシリル基、トリノルマルへキシルシリル基、トリシクロへキシルシリル基、トリフヱニルシリル基などの炭素原子数 3〜 2 0の 3置換シリル基などが挙げられ、好ましくはトリメチルシリル基、第三級プチルジメチルシリル基、トリフヱニルシリル基である。

これらの置換シリル基はいずれもその炭化水素基がハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）で置換されていてもよい。

X ' 、 X ²、 R ¹ 、 R ²、 R ³ 、 R ⁴ における炭素原子数 1〜2 0のアルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、ノルマルプロポキシ基、イソプ口ポキシ基、ノルマルブトキシ基、第二級ブトキシ基、第三級ブトキシ基、ノルマルペントキシ基、ネオペントキシ基、ノルマルへキソキシ基、ノルマルォクトキシ基、ノルマルドデソキシ基、ノルマルペンタデソキシ基、ノルマルイコソキシ基などが挙げられ、好ましくはメトキシ基、エトキシ基、第三級ブトキシ基である。これらのアルコキシ基はいずれもハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）で置換されていてもよい。

X ¹ 、 X ²、 R ¹ 、 R ²、 R ³、 R ⁴ における炭素原子数 7〜2 0のァラルキルォキシ基としては、例えばべンジルォキシ基、（2—メチルフヱニル）メトキシ基、（3—メチルフヱニル）メトキシ基、（4—メチルフヱニル）メトキシ基、 ( 2， 3—ジメチルフエニル）メトキシ基、（2， 4 —ジメチルフエニル）メトキシ基、（2， 5—ジメチルフエニル）メトキシ基、（2， 6—ジメチルフエ二ル）メトキシ基、（3， 4ージメチルフエニル）メトキシ基、（3， 5—ジメチルフヱニル）メトキシ基、（2， 3， 4 —トリメチルフエニル）メトキシ基、 ( 2 , 3， 5 —トリメチルフエニル）メトキシ基、（2， 3， 6 —トリメチルフ工ニル）メトキシ基、（2， 4， 5 —トリメチルフヱニル）メトキシ基、（2， 4 , 6—トリメチルフエニル）メトキシ基、（3， 4， 5—トリメチルフエ二ノレ）メトキシ基、（2， 3， 4， 5—テトラメチルフエニル）メトキシ基、（2， 3， 4 , 6 —テトラメチルフエニル）メトキシ基、（2， 3， 5， 6—テトラメチルフエニル）メトキシ基、（ペンタメチルフエニル）メトキシ基、（ェチルフェニル）メトキシ基、（ノルマルプロピルフヱニル）メトキシ基、（イソプロピルフヱニル）メトキシ基、（ノルマルブチルフエニル）メトキシ基、（第二級ブチルフヱニル）メトキシ基、（第三級プチルフヱニル）メトキシ基、（ノルマルへキシルフヱニル）メトキシ基、（ノルマルォクチルフヱニル）メトキシ基、 (ノルマルデシルフヱニル）メトキシ基、（ノルマルテトラデシルフヱニル）メトキシ基、ナフチルメトキシ基、アントラセニルメトキシ基などが挙げられ、好ましくはべンジルォキシ基である。

これらのァラルキルォキシ基はいずれもハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）で置換されていてもよい。

X ¹ 、 X ²、 R ¹ 、 R ²、 R ³、 R ⁴ におけるァリールォキシ基としては、例えばフエノキシ基、 2—メチルフエノキシ基、 3 —メチルフエノキシ基、 4ーメチルフエノキシ基、 2， 3 —ジメチルフエノキシ基、 2， 4—ジメチルフエノキシ基、 2 , 5—ジメチルフエノキシ基、 2， 6 —ジメチルフエノキシ基、 3， 4 —ジメチルフエノキシ基、 3， 5 —ジメチルフエノキシ基、 2， 3 , 4 —トリメチルフエノキシ基、 2， 3， 5 —トリメチルフエノキシ基、 2， 3， 6 —トリメチルフエノキシ基、 2， 4， 5 —トリメチルフエノキシ基、 2， 4 , 6 —トリメチルフエノキシ基、 3， 4， 5 —トリメチルフエノキシ基、 2， 3， 4， 5—テトラメチルフエノキシ基、 2， 3 , 4， 6 —テトラメチルフエノキシ基、 2， 3， 5， 6—テトラメチルフエノキシ基、ペンタメチルフエノキシ基、ェチルフエノキシ基、ノルマルプロピルフエノキシ基、イソプロピルフヱノキシ基、ノルマルプチルフヱノキシ基、第二級一プチルフヱノキシ基、第三級プチルフヱノキシ基、ノルマルへキシルフエノキシ基、ノルマルォクチルフエノキシ基、ノルマルデシルフ Xノキシ基、ノルマルテトラデシルフユノキシ基、ナフトキシ基、アントラセノキシ基などの炭素数 6〜2 0のァリールォキシ基などが挙げられる。

これらのァリールォキシ基はいずれもハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）で置換されていてもよい。

X ' 、 X ²、 R ¹ 、 R ²、 R ³、 R ⁴ における炭素原子数 2〜2 0の 2置換ァミノ基とは 2つの炭化水素基で置換されたァミノ基であって、ここで炭化水素基としては、例えばメチル基、ェチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基、ノルマルブチル基、 s e c—ブチル基、 t e r t—ブチル基、イソブチル基、ノルマルペンチル基、ノルマルへキシル基、シクロへキシル基などの炭素原子数 2 〜2 0のアルキル基、フエニル基などのァリール基などが挙げられる。かかる炭素原子数 2〜2 0の 2置換アミノ基としては、例えばジメチルァミノ基、ジェチルァミノ基、ジノルマルプ口ピルァミノ基、ジイソプロピルァミノ基、ジノルマルブチルァミノ基、ジ第二級プチルァミノ基、ジ第三級プチルァミノ基、ジイソブチルァミノ基、第三級ブチルイソプロピルァミノ基、ジ一ノルマルへキシルァミノ基、ジノルマルォクチルァミノ基、ジノルマルデシルァミノ基、ジフヱニルアミノ基、ピストリメチルシリルァミノ基、ビス一第三級ブチルジメチルシリルアミノ基などが挙げられ、好ましくはジメチルァミノ基、ジェチルァミノ基である。

R ¹ 、 R ²、 R ³、 R ⁴ は任意に結合して環を形成していてもよい。

X ¹ 、 X ² として好ましくはハロゲン原子、アルキル基、ァラルキル基であり、さらに好ましくはハロゲン原子である。 R ¹ として好ましくはハロゲン原子で置換されていてもよ L、炭素原子数 1〜 2 0のアルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数？〜 2 0のァラルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数 6〜 2 0のァリール基、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数 1〜2 0の置換シリル基であ

上記の一般式〔1〕で表される遷移金属錯体における Lはルイス塩基であり、具体例としてはジェチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメチルァニリン、トリメチルホスフィン等力《挙げられる。 wは 0〜2の整数である。

このような、一般式〔1〕で表される錯体の具体例としては、チォ（シクロべンタジェニル）（3—第三級ブチル一 5—メチル一 2—フエノキシ）チタニウムジクロライド、チォ（メチルシクロペンタジェニル）（3—第三級ブチルー 5— メチル一 2—フヱノキシ）チタニウムジクロライド、チォ（ジメチルシクロペンタジェニル）（3—第三級ブチル一 5—メチル一 2—フヱノキシ）チタニウムジクロライド、チォ（トリメチルシクロペンタジェニル）（3—第三級プチルー 5 —メチルー 2—フエノキシ）チタニウムジクロライド、チォ（テトラメチルシク口ペンタジェニル）（3—第三級ブチル一 5—メチル一 2—フヱノキシ）チタ二ゥムジクロライド、チォ（ェチルシクロペンタジェニル）（3—第三級ブチル一 5—メチル一 2—フヱノキシ）チタニウムジクロライド、チォ（ノルマルプロピルシクロペンタジェニル）（3—第三級ブチル一 5—メチル一 2—フヱノキシ）チタニウムジクロライド、チォ（イソプロビルシクロペンタジェニル）（3—第三級プチルー 5—メチル一 2—フエノキシ）チタニウムジクロライド、チォ（第一級プチルシクロペンタジェニル）（3—第三級プチルー 5—メチル一 2—フエノキシ）チタニウムジクロライド、チォ（第二級プチルシクロペンタジェニル） ( 3—第三級プチル一 5—メチルー 2—フエノキシ）チタニウムジクロライド、チォ（第三級ブチルシクロペンタジェニル）（3—第三級ブチル一 5—メチルー 2—フエノキシ）チタニウムジクロライド、チォ（イソブチルシクロペンタジェニル）（3—第三級プチルー 5—メチルー 2—フエノキシ）チタニウムジクロライド、チォ（フヱニルシクロペンタジェニル）（3—第三級ブチル一 5—メチル — 2—フエノキシ）チタニウムジクロライド、チォ（トリメチルシリルシクロべンタジェニル）（3—第三級ブチル一 5—メチル一 2—フヱノキシ）チタニウムジクロライド、チォ（ィンデニル）（ 3—第三級プチル一 5—メチル一 2—フエノキシ）チタニウムジクロライド、チォ（メチルインデニル）（3—第三級プチル一 5—メチル一 2—フヱノキシ）チタニウムジクロライド、チォ（フルォレニル）（3—第三級プチルー 5—メチル一 2—フエノキシ）チタニウムジクロライド、チォ（シクロペンタジェ二ノレ）（3—第三級ブチル一 2—フエノキシ）チタ二ゥムジクロライド、チォ（メチルシクロペンタジェニル）（3—第三級ブチル — 2—フエノキシ）チタニウムジクロライド、チォ（ジメチルシクロペンタジェニル）（3—第三級ブチル一 2—フヱノキシ）チタニウムジクロライド、チォ (トリメチルシクロペンタジェニル）（3—第三級ブチル一 2—フヱノキシ）チタニゥムジクロライド、チォ（テトラメチルシクロペンタジェニル）（3—第三級ブチル一 2—フエノキシ）チタニウムジクロライド、チォ（ェチルシクロペンタジェニル）（3—第三級ブチルー 2—フエノキシ）チタニウムジクロライド、チォ（ノルマルプロビルシクロペンタジェニル）（3—第三級ブチル _ 2—フエノキシ）チタニウムジクロライド、チォ（イソプロビルシクロペンタジェニル） ( 3—第三級ブチル一 2—フエノキシ）チタニウムジクロライド、チォ（第一級プチルシクロペンタジェニル）（3—第三級プチルー 2—フヱノキシ）チタニゥムジクロライド、チォ（第二級プチルシクロペンタジェニル）（3—第三級プチル一 2—フヱノキシ）チタニウムジクロライド、チォ（第三級ブチルシクロペンタジェニル）（3—第三級ブチル一 2—フエノキシ）チタニウムジクロライド、チォ（イソプチルシクロペンタジェニル）（3—第三級ブチル一 2—フヱノキシ）チタニウムジクロライド、チォ（フヱニルシクロペンタジェニル）（3—第三級ブチル一 2—フエノキシ）チタニウムジクロライド、チォ（トリメチルシリルシクロペンタジェニル）（3—第三級ブチル一 2—フヱノキシ）チタニウムジクロライド、チォ（インデニル）（3—第三級ブチル一 2—フエノキシ）チタ二ゥムジクロライド、チォ（メチルインデニル）（ 3—第三級プチル一 2—フエノキシ）チタニウムジクロライド、チォ（フルォレニル）（3—第三級ブチル一 2 —フヱノキシ）チタニウムジクロライド、チォ（シクロペンタジェニル）（2— フエノキシ）チタニウムジクロライド、チォ（メチルシクロペンタジェニル） ( 2—フヱノキシ）チタニウムジクロライド、チォ（ジメチルシクロペンタジェニル）（2—フヱノキシ）チタニウムジクロライド、チォ（トリメチルシクロべンタジェニル）（2—フエノキシ）チタニウムジクロライド、チォ（テトラメチルシクロペンタジェニル）（2—フヱノキシ）チタニウムジクロライド、チォ (ェチルシクロペンタジェニル）（2 —フヱノキシ）チタニウムジクロライド、チォ（ノルマルプロビルシクロペンタジェニル）（2—フヱノキシ）チタニウムジクロライド、チォ（イソプロビルシクロペンタジェ二ル）（2—フエノキシ）チタニウムジクロライド、チォ（第一級プチルシクロペンタジェニル）（2—フエノキシ）チタニウムジクロライド、チォ（第二級プチルシクロペンタジェ二ル）（2—フエノキシ）チタニウムジクロライド、チォ（第三級ブチルシクロべンタジェニル）（2—フヱノキシ）チタニウムジクロライド、チォ（イソブチルシクロペンタジェニル）（2—フエノキシ）チタニウムジクロライド、チォ（フェニルシクロペンタジェニル）（2—フヱノキシ）チタニウムジクロライド、チォ（トリメチルシリルシクロペンタジェニル）（2—フヱノキシ）チタニウムジクロライド、チォ（インデニル）（2 —フヱノキシ）チタニウムジクロライド、チォ（メチルインデニル）（2—フヱノキシ）チタニウムジクロライド、チォ (フルォレニル）（2—フヱノキシ）チタニウムジクロライド等が挙げられる。また、上記の具体例におけるチタニウムをジルコニウムあるいはハフニウムに変更した化合物、及びそれらを含めチォをォキソ、ジチォ、 N—フヱニルイミド、フヱニルホスフィド、フヱニルホスフィンォキサイド、又はフヱニルホスフィンチォオキサイドに変更したィ匕合物についても同様に例示できる。更に、ジクロライドをジブロマイド、ジメチル、ジェチル、ジベンジルに変更した化合物についても、同様に例示することができる。上記一般式〔1〕における Lとして、テトラヒドロフランがこれらの化合物に酉己位結合した化合物についてもまた同様に例示できる。

かかる一般式〔1〕で表される遷移金属錯体は例えば下記に示す方法で得ることができる。

即ち、フヱノール性水酸基を適当な官能基（例えばアルコキシメチル基ゃァラルキル基等）で保護したハロゲン化フヱノ一ル化合物に M gを作用させてグリ二ヤール試薬を得る。そしてそれとジハロゲン化リン化合物（例えば二塩ィヒフヱ二ルホスホン酸や二塩化フヱニルホスフィン等）、次いでシクロペン夕ジェン骨格を有する化合物のアル力リ金属塩（例えばシクロペンタジェニルリチウムやフルォレニルリチウム等）を反応させることにより、シクロペンタジェン骨格を有する化合物と水酸基が保護されたフユノールがリン原子により架橋された種々の化合物が得られる。更に、力、かる化合物のリン原子が配位不飽和の場合、種々の試剤（例えば硫黄等）を反応させることにより、リン原子が配位飽和な化合物（例えばホスフインスルフィド基を有する化合物等）にすることもできる。そしてかかるシクロペンタジェン骨格を有する化合物と水酸基が保護されたフヱノールがリン原子により架橋された種々の化合物から適当な処方で保護基を取り去り（例えば保護基がアルコキシメチル基の場合は硫酸酸性水溶液で処理する方法等）、得られた C p—リン原子一フヱノーノレイヒ合物に 2当量のアルキルリチウム（例えば n—ブチルリチウム等）を作用させ、次いでこれと遷移金属のハロゲン化物 (例えば四塩ィヒチタン等）とを反応させることにより、遷移金属錯体が得られる。あるいは、先ずフヱノ一ルイヒ合物に例えば二塩化二硫黄等の硫黄化試薬を作用させてジチォ基で架橋された二量ィヒ物を得る。フヱノ一ノレ性水酸基を適当な官能基（例えばトリメチルシリノレ基等）で保護した後、臭素等を作用させてジチォ基の硫黄一硫黄結合を切断するとともに、シクロペンタジェン骨格を有する化合物のアルカリ金属塩等と反応させ、シクロペンタジェン骨格を有する化合物と水酸基が保護されたフヱノール化合物が硫黄で架橋された種々の化合物を得る。適宜保護基を取り去り、 2当量のアルキルリチウムを作用させ、遷移金属のハロゲンィヒ物と反応させることにより、遷移金属錯体が得られる。または、シクロペンタジェン骨格を有する化合物と水酸基が保護されたフヱノール化合物が硫黄で架橋された化合物と、シクロペンタジェン骨格の一つの水素原子と反応をおこすことができる遷移金属化合物（例えばテトラキス（ジメチルアミド）チタニウム等）との反応により、 C p— M結合を形成させ、種々のハロゲン化剤（例えばジメチルアンモニゥムクロライドゃ塩化水素等）で条件を変えて数回処理することにより、保護基を取り去り、 C p—M—フニノキシを含む環状構造を有する遷移金属錯体が得られる。 (2)有機アルミニウム化合物 (A)

本発明において用いる化合物 (A) としては、公知の有機アルミニウム化合物が使用できる。好ましくは、（A1)—般式 E¹ A 1 Z で示される有機アルミニウム化合物、 (A2)一般式 {— Al (E² ) -0-} _b で示される構造を有する環状のアルミノキサン、及び（A3)—般式 E³ {— Al (E³) -0-} A 1 E³ で示される構造を有する線状のアルミノキサン（但し、 E¹ 、 E² 、 E³ は、炭素数 1〜8の炭化水素基であり、全ての E¹ 、全ての E ² 及び全ての E³ は同じであっても異なっていても良い。 Zは水素原子又はハロゲン原子を表し、全ての Zは同じであっても異なっていても良い。 aは 0〜3の数、 bは 2以上の整数を、 cは 1以上の整数を表す。）のうちのいずれか、あるいはそれらの 2〜 3種の混合物を例示することができる。

一般式 E¹ A 1 Z で示される有機アルミニウム化合物 (A 1) の具体例としては、トリメチルアルミニウム、トリェチルアルミニウム、トリプロピルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリへキシルアルミニウム等のトリアルキルアルミニウム；ジメチルアルミニウムクロライド、ジェチルアルミ二ゥムクロライド、ジプロピルアルミニウムクロライド、ジイソブチルアルミニゥムクロライド、ジへキシル Tルミニゥムクロライド等のジアルキルアルミニウムクロライド；メチルアルミニウムジクロライド、ェチルアルミニウムジクロライド、プロピルアルミニウムジクロライド、イソブチルアルミニウムジクロライド、へキシルアルミニウムジクロライド等のアルキルアルミニウムジクロライド；ジメチルアルミニウムハイドライド、ジェチルアルミニウムハイドライド、ジプロピルアルミニウムハイドライド、ジイソブチルアルミニウムハイドライド、ジへキシルアルミニウムハイドライド等のジアルキルアルミニウムハイドライド等を例示することができる。

好ましくは、トリアルキルアルミニウムであり、より好ましくは、トリェチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウムである。

一般式 {—Al (E² ) 一 0— ) _b で示される構造を有する環状のアルミノキサン（A 2)、一般式 E³ {-A 1 (E³ ) -0-} A 1 E³ で示される構造を有する線状のアルミノキサン（A3) における、 E² 、 E³ の具体例としては、メチル、ェチル、ノルマルプロピル、イソプロピル、ノルマルブチル、イソブチル、ノルマルペンチル、ネオペンチル等のアルキル基を例示することができる。 bは 2以上の整数であり、 cは 1以上の整数である。好ましくは、 E² 及び E³ はメチル基、イソブチル基であり、 bは 2〜4 0、 cは 1〜4 0である _c 上記のアルミノキサンは各種の方法で作られる。その方法については特に制限はなく、公知の方法に準じて作ればよい。例えば、トリアルキルアルミニウム (例えば、トリメチルアルミニウムなど）を適当な有機溶剤（ベンゼン、脂肪族炭化水素など）に溶かした溶液を水と接触させて作る。また、トリアルキルアルミニゥム（例えば、トリメチルアルミニウムなど）を結晶水を含んでいる金属塩 (例えば、硫酸銅水和物など）に接触させて作る方法が例示できる。

〔化合物

本発明において化合物（B) としては、（B 1) —般式 BQ¹ Q² Q³ で表されるホウ素化合物、 (B 2) 一般式 J+ (BQ¹ Q² Q³ Q⁴ ) — で表されるホゥ素化合物、（B 3) —般式（L—H) + (BQ¹ Q² Q³ Q⁴ ) — で表されるホウ素ィ匕合物のいずれかを用いる。

一般式 BQ¹ Q² Q³ で表されるホウ素化合物 (B 1 ) において、 Bは 3価の原子価状態のホウ素原子で'あり、 Q¹ 〜Q³ はハロゲン原子、 1〜2 0個の炭素原子を含む炭化水素基、 1〜 2 0個の炭素原子を含むハロゲン化炭化水素基、 1〜 2 0個の炭素原子を含む置換シリル基、 1〜 2 0個の炭素原子を含むアルコキシ基または 2〜2 0個の炭素原子を含む 2置換アミノ基であり、それらは同じであっても異なっていても良い。好ましい Q¹ 〜Q³ はハロゲン原子、 1〜2 0 個の炭素原子を含む炭化水素基、 1〜 2 0個の炭素原子を含むハロゲン化炭化水素基である。

—般式 BQ¹ Q² Q³ で表されるホウ素化合物（B 1) の具体例としては、トリス（ペン夕フルオロフェニル）ボラン、トリス（2， 3, 5， 6—テトラフルオロフェニル）ボラン、トリス（2， 3， 4， 5—テ卜ラフルオロフェニル）ボラン、トリス（3， 4， 5—トリフルオロフェニル）ボラン、トリス（2， 3， 4一トリフルオロフヱニル）ボラン、フヱニルビス（ペンタフルオロフヱニル）ボラン等が挙げられるが、最も好ましくは、トリス（ペンタフルオロフュニル）フンである o

一般式 J+ (BQ¹ Q² Q³ Q⁴ ) で表されるホウ素化合物（B 2) において、 J+ は無機または有機のカチオンであり、 Bは 3価の原子価状態のホウ素原子であり、 Q¹ 〜Q⁴ は上記の（B 1) における Q¹ 〜Q³ と同様である。一般式 J+ (BQ¹ Q² Q³ Q⁴ ) で表される化合物の具体例としては、無機のカチオンである J ⁺ には、フエ口セニゥムカチオン、アルキル置換フエ口セニゥムカチオン、銀陽イオンなどが、有機のカチオンである J+ には、トリフ工ニルメチルカチオンなどが挙げられる。（BQ¹ Q² Q³ Q⁴ ) には、テトラキス（ペンタフルオロフヱニル）ボレート、テトラキス（2， 3， 5， 6—テトラフルオロフェニル）ボレート、テトラキス（2， 3， 4, 5—テトラフルォロフヱニル）ボレート、テトラキス（3， 4， 5 _トリフルオロフェニル）ボレート、テトラキス（2, 2， 4—トリフルオロフヱニル）ボレート、フヱニルビス（ペン夕フルオロフェニル）ボレート、テトラキス（3， 5—ビストリフルォロメチルフエニル）ボレートなどが挙げられる。

これらの具体的な組み合わせとしては、フヱロセニゥムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、 1, Γ —ジメチルフエロセニゥムテトラキス（ぺンタフルオロフェニル）ボレート、銀テトラキス（ペンタフルオロフヱニル）ボレート、トリフエニルメチルテトラキス（ペンタフルオロフヱニル）ボレート、トリフエニルメチルテトラキス（3， 5 _ビストリフルォロメチルフエニル）ボレートなどを挙げることができるカ^ 最も好ましくは、トリフニ二ルメチルテトラキス（ペンタフルオロフヱニル）ボレートである。

また、一般式 (L-H) + (BQ¹ Q² Q³ Q⁴ ) で表されるホウ素化合物 (B 3) においては、 Lは中性ルイス塩基であり、（L— H) ⁺ はブレンステツド酸であり、 Bは 3価の原子価状態のホウ素原子であり、 Q¹ 〜Q⁴ は上記の (B 1) における Q¹ 〜Q³ と同様である。

一般式（L— H) + (BQ¹ Q² Q³ Q⁴ ) _ で表される化合物の具体例としては、ブレンステッド酸である（L— H) ⁺ には、トリアルキル置換アンモニゥム、 N， N—ジアルキルァニリニゥム、ジアルキルアンモニゥム、トリァリールホスホニゥムなどが挙げられ、（BQ¹ Q² Q³ Q⁴ ) には、前述と同様のも /02 39

1 7 のが挙げられる。

これらの具体的な組み合わせとしては、トリエチルアンモニゥムテトラキス (ペン夕フルオロフヱニル）ボレート、トリプロピルアンモニゥムテトラキス (ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリ（ノルマルブチル）アンモニゥムテトラキス（ペンタフルオロフヱニル）ボレート、トリ（ノルマルブチル）アンモ二ゥムテトラキス（3， 5—ビストリフルォロメチルフヱニル）ボレート、 N, N—ジメチルァニリニゥムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、 N, N—ジェチルァニリニゥムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、 N, N - 2 , 4 , 6 —ペンタメチルァ二リニゥムテトラキス（ペンタフルオロフェニノレ）ボレート、 N， N—ジメチルァニリニゥムテトラキス（3， 5—ビストリフルォロメチルフエニル）ボレート、ジイソプロピルアンモニゥムテトラキス（ぺン夕フルオロフヱニル）ボレート、ジシクロへキシルアンモニゥムテトラキス (ペン夕フルオロフェニル）ボレート、トリフヱニルホスホニゥムテトラキス (ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリ（メチルフエニル）ホスホニゥムテトラキス（ペンタフルオロフヱニル）ボレート、トリ（ジメチルフヱニル）ホスホニゥムテトラキス（ペン夕フルオロフェニル）ボレートなどを挙げることができる力く、最も好ましくは、トリ（ノルマルプチル）アンモニゥムテトラキス（ぺンタフルオロフェニル）ボレート、もしくは、 N, N—ジメチルァニリニゥムテトラキス（ペンタフルオロフヱニル）ボレートである。

本発明においては、一般式〔1〕で表される遷移金属錯体及び化合物（A) 、あるいはさらに化合物（B) を、重合時に任意の順序で投入し使用することができるが、又それらの任意の化合物の組合せを予め接触させて得られた反応物を用いても良い。

各触媒成分の使用量は、ィヒ合物（A) Z遷移金属錯体のモル比が 0 . 1〜1 0 0 0 0で、好ましくは 5〜 2 0 0 0、化合物 (B ) Z遷移金属錯体のモル比が 0 . 0 1〜1 0 0で、好ましくは 0 . 5〜1 0の範囲にあるように、各成分を用いること力《望ましい。各触媒成分を溶液状態で使う場合の濃度については、一般式〔1〕で表される遷移金属錯体が、 0 . 0 0 0 1〜5 ミリモル Zリットルで、好ましくは、 0 . 0 0 1〜 1 ミリモル/リットル、化合物（A) が、 A 1原子換算で、 0 . 0 1〜 5 0 0 ミリモル/リットルで、好ましくは、 0 . 1〜 1 0 0 ミリモル/リットノレ、化合物（B ) は、 0 . 0 0 0 1〜5 ミリモル /リットルで、好ましくは、 0 . 0 0 1〜1 ミリモル zリットルの範囲にあるように、各成分を用いること力望ましい。

本発明において、重合に使用するモノマーは、炭素数 2〜2 0個からなるォレフィン、ジォレフイン等のいずれをも用いることができ、同時に 2種類以上のモノマーを用いることもできる。これらの具体例としては、エチレン、プロピレン、ブテン一 1、ペンテン一 1、へキセン一 1、ヘプテン _ 1、ォクテン一 1、ノネン一 1、デセン一 1、 5—メチル一 2—ペンテン一 1、ビニルシクロへキセン等力例示されるが、本発明は上記ィ匕合物に限定されるべきものではない。共重合体を構成するモノマーの具体例としては、エチレンとプロピレン、エチレンとブテンー 1、エチレンとへキセン一 1、プロピレンとブテン一 1等が例示される力く、本発明は、上記化合物に限定されるべきものではない。

重合方法も、特に限定されるべきものではないが、例えば、ブタン、ペンタン、へキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素、ベンゼ.ン、トルエン等の芳香族炭化水素、又はメチレンジクロライド等のハロゲン化炭化水素を溶媒として用いる溶媒重合、又はスラリー重合、ガス状のモノマー中での気相重合、または高温高圧下においてモノマー力 <超臨界状態になる高圧重合法等力《可能であり、また、連続重合、回分式重合のどちらでも可能である。

重合温度は、 —5 0 °C〜3 0 0 °Cの範囲を取り得るが、特に、 — 2 0 °C〜2 5 0 °Cの範囲が好ましい。重合圧力は、常圧〜 2 0 0 0 k g / c m² Gの範囲をとり得る力常圧〜 1 0 0 0 k gZ c m² Gの範囲が好ましい。重合時間は、一般的に、目的とするポリマーの種類、反応装置により適宜決定されるが、 1分間〜 2 0時間の範囲を取ることができる。また、本発明は共重合体の分子量を調節するために水素等の連鎖移動剤を添加することもできる。

発明を実施するための最良の形態

以下、実施例によって本発明をさらに詳細に説明するが、本発明は、これらに限定されるものではない。

実施例における重合体の性質は、下記の方法によつて測定した。 (1) 極限粘度 [ ] ：ウベローデ型粘度計を用い、 1 30°Cでテトラリン溶液中で測定した。

(2) 一才レフイン含有量：赤外分光光度計（日本分光工業社製 I R-8 1 0) を用いて、エチレンと α—ォレフィンの特性吸収より求め、 1 000炭素当たりの短鎖分岐数（SCB) として表した。

(3)共重合体の融点：セイコー SSC— 5200を用いて、以下の条件により測定した。

昇温： 40 °Cから 1 50 °C ( 1 0 °CZ分）、 5分間保持

冷却： 1 50 °C力、ら 1 0 °C ( 5 °CZ分）、 1 0分間保持

測定： 1 0 °Cから 1 60 °C ( 5 °CZ分）

実施例 1

( 1 )遷移金属錯体の合成

(1 - 1) 2—ブロモ一 4ーメチル一 6—第三級プチルフヱノールの合成窒素雰囲気下、 2—第三級プチルー 4—メチルフヱノール（20. 53 g， 1 25 mmo 1 ) のジメチルホルムアミド 1 00 m 1溶液に、撐拌下 N—ブロモスクシンイミド（22. 25 g, 1 25mmo 1 ) のジメチルホルムアミド 1 00 m 1溶液を 0°Cで滴下し、室温に昇温させ 5時間撹拌を続けた。

減圧下で溶媒を除去し残さに水 200 mlを加え酢酸ェチルで抽出した（20 0mlの酢酸ェチルで 2回抽出した。）一つにまとめた有機溶液層を飽和食塩水 1 00 mlで洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後溶媒を除去した。残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し油状生成物を得た。以下に、その 'Η— NMRスペクトルのデータを示す。 NMRデータは、日本電子社製 ΕΧ -270を用いて測定した。

Ή-NMR (CDC 1 , 270 MHz) δ 1. 39 (s， 9H) 、 2. 25 (s， 3H) 、 5. 62 (s， 1 H)、 7. 00 (s， 1 H) 、 7. 1 5 (s， 1 H)

(1 -2) 1—プロモー 2—メトキシメチルォキシ一 3—第三級プチルー 5—メチルベンゼンの合成

窒素雰囲気下、水素化ナトリウム（ 60 %， 5. 20 g， 1 3 Ommo 1 ) の 1 00ml THF懸濁液に、撹拌下 0 °Cで 2—プロモー 4—メチルー 6—第三級ブチル—フエノール（23. 4 1 g, 1 0 Ommo 1) の THF 5 Oml溶液を滴下した。 2時間後、メトキシメチルクロリド（95%, 1 2. 7 1 g, 1 50 mmo l) の THF 20ml溶液を滴下した。室温に昇温後 1 0時間撹拌を続けた。反応液を 0 °Cに冷却し水 1 00 m 1を加え、水層をトルエンで抽出した。 (20 Omlのトルエンで 2回抽出した。）一つにまとめた有機溶液層を飽和食塩水 1 00 m 1で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後溶媒を除去した。残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し無色のオイルを得た。以下に、その 'Η— NMRスペクトルのデータを示す。 NMRデータは、日本電子社製 Ε Χ- 270を用いて測定した。

Ή-NMR (CDC 1 , 270 MHz) δ 1. 4 1 (s， 9 H) 、 2. 27 (s， 3H) 、 3. 68 (s， 3 H) 、 5. 20 (s， 2 H) 、 7. 08 (d， 1 H， J = 2Hz) 、 7. 24 (d， 1 H, J = 2 Hz)

(1—3) 3—第三級ブチルー 2—メトキシメチルォキシ一 5—メチルフエニルマグネシウムブロマイドの合成

窒素雰囲気下、 1—プロモー 2—メトキシメチルォキシ一 3—第三級プチル一 5—メチルベンゼン（4. 3 1 , 1 5mmo 1 ) の THF 3 Om 1溶液をマグネシゥム 0. 37 g (1 5mmo 1) と 0. 00 1 m gのヨウ素のテトラヒドロフラン 50 m 1スラリ一溶液に室温で滴下し、滴下終了後 1時間還流させることにより、 5 Om 1 THF溶液の 3—第三級プチルー 2—メトキシメチルォキシ一 5—メチルフヱニルマグネシウムプロマイド（1 5mmo 1) を得た。

(1 -4) (3—第三級プチルー 2—メトキシメチルォキシ一 5—メチルフエ二ル）（フルオレン一 9一ィル）フエニルホスフィンオキサイドの合成

窒素雰囲気下、 —78 °Cで二塩化フヱニルホスホン酸（2. 92 g、 1 5 mm o 1) の THF 5 Oml溶液に、撹拌下 5 Oml TH F溶液の 3—第三級ブチル —2—メトキシメチルォキシ一 5—メチルフヱニルマグネシウムブロマイド（1 5mmo 1) を滴下し、室温に昇温させ 2時間撹拌を続けた。生成溶液を _ 78 °Cに冷却し、 50ml THF溶液の 9—フルォレニルリチウム（1 5mmo 1) を滴下し、室温に昇温後 1 2時間撹拌を続けた。飽和塩化アンモニゥム水溶液 5 Omlを加え反応を停止させ、有機層を分離し、水槽をトルエンで抽出した（トルェン 50 m 1で 2回抽出した）。有機層を一つにし飽和食塩水 50mlで洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後溶媒を除去した。残さをシリカゲルカラムク口マトグラフィ一で精製し黄白色結晶 0. 55 gを得た。

Ή-NMR (CDC 1₃ 、 27 ΟΜΗζ) δ 1. 58 (s， 9 H)、 2. 1 9 〈s， 3H！) 、 3. 75 (s， 3H) 、 5. 22 (d， 1 H, J = 4Hz) .

5. 76 (d, 1 H, J = 27Hz) 、 6. 24 (d. 1 H. J = 4 H z) . 6. 72 (d， 2 H, J = 8Hz) 、 6. 76 (dd， 2 H, J= 12, 1 Hz) ,

6. 92 (d t， 2H， J = 8. 3Hz) 、 7. 05 (d d, 1 H, J = 8， 7 Hz)、 7. 2 - 7. 4 (m， 4 H)、 7 45 (d d, 2 H, J= 1 , 2 H z)、 7. 57 (d， 1 H， J = 8 Hz) 8. 1 1 (dd， 1 H， J = 7, 2 Hz)

融点 234〜 236 °C

このデータから、得られた黄白色結晶を下記構造式の（3—第三級プチルー 2 ーメトキシメチルォキシ一 5—メチルフヱニル）（フルオレン一9—ィル）フエニルホスフィンォキサイドと同定した。

(1-5) (3—第三級ブチル一 2—ヒドロキシ一 5—メチルフエニル）（フルオレン一 9一ィル）フエニルホスフィンォキシドの合成

(3—第三級ブチル一 2—メトキシメチルォキシ _ 5—メチルフヱニル）（フルオレン一 9—ィル）フエニルホスフィンォキシド 1. 7gをクロ口ホルム 100 m 1に溶解し、メタノール（10ml)、水（10ml)および硫酸 (lml) の混合溶液を加えて、室温で 8時間撹絆した。

その後、 10 %水酸化ナトリウム水溶液を加えて中和し、次いで減庄留去して、得られた残掩査に水 15 Omlを加え、クロ口ホルム 10mlを用いる抽出処理を 2回行い、得られた有機層を合わせて、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去した。

得られた残さをシリカゲルカラムクロマトグラフ処理して、下記構造式の（3— 第三級ブチル一 2—ヒドロキシ一 5—メチルフエニル）（フルオレン一 9—ィル）フェニルホスフィンォキシド 1. 31 gを得た。

Ή-NMR (CDC 1 a 270 MHz) δ 1. 25 (s, 9 H) . 1. 9 2 (s， 3H) 、 5. 1 1 (d， 1 H, J = 20Hz) 、 5. 89 (dd， 1 H， J= 13, 2Hz) 、 6. 78 (d ci, 1 H, J = 8， lHz) 、 7. 02 (d， 1 H, J = 2Hz) 、 7. 07 (ddd， 1 H， J = 8, 8， lHz) 、 7. 2 1 (d d d, 1 H, J = 8, 8， 1 Hz)、 7. 33 (d d d， 2H, J = 7, 7, 7Hz) 、 7. 5-7. 6 (m, 3 H)、 7. 66 (d d d, 3 H， J = 7, 7， 7Hz) 、 7. 82 (dd， 1 H, J= 1 1 , 2) 、 7. 85 (d d d d， 1 H, J= 11, 1， 1， lHz) 、 1 1. 14 (s， 1 H)

融点 237〜 240 °C

(1— 6) フエニルホスフィンォキサイド（フルォレニル）（3—第三級ブチル — 5—メチル一 2—フエノキシ）（テトラヒドロフラン）チタニウムジクロライドの合成

0 °Cで（3—第三級ブチル _ 2—ヒドロキシー 5—メチルフヱニル）（フルォレン一 9—ィル）フヱニルホスフィンオキサイド（0. 226 g， 0. 5mmo 1 )のジェチルェ一テル 20ml溶液に、撹拌下 1. 72 m 01 Z 1へキサン溶液の n—ブチルリチウム（0. 6ml， 1 mmo 1) を滴下し、徐々に室温に昇温し 12時間撹拌を続けた。生成する白色沈殿を濾過し、ジェチルエーテルで洗 JP 602439

2 3 浄し白色粉末を得た。これに THF1 Om 1を加えフヱニルホスフィンォキサイド（フルォレニル） ( 3一第三級プチルー 5—メチル一 2—フヱノキシ）ジリチゥムの THF溶液とした。

別の反応容器中、四塩ィ匕チタンの 1 mo 1ノ1 トルエン溶液（0. 5ml， 0. 5mmo 1) を 10 m 1の凍結（—196 °C) THFに加えた。混合物を— 78 °Cに昇温し黄色溶液を得た。この溶液に前述のフヱニルホスフィンォキサイド (フルォレニル）（3—第三級プチルー 5—メチル一 2—フヱノキシ）ジリチウムの THF溶液を滴下し、 12時間撹拌を行いつつ溶液を室温に昇温させた。生成する濃赤色溶液から溶媒を除去し、残さをトルエンで抽出した。母液を濃縮し n—へキサン 10mlを加え、沈殿物を濾別し n—へキサンで洗浄を行いォレンジ色粉末 0. 10 gを取得した。その 'H— NMRスぺクトルデータを以下に示す。 NMRデータは日本電子社製 EX— 270を用いて測定した。

Ή-NMR (C₆ D₆， 27 ΟΜΗζ) δ 1. 42 (m， 4 H)、 1. 8 0 (s， 9H) 、 2. 02 (m， 3 H)、 4. 10 (m， 4 H)、 5. 75 (d， 1 H， J = 26 Hz) . 6. 31 (d d， 1 H， J- 12, lHz) 、 6. 70 -7. 16 (m， 4H) 、 7. 69 (dd， 1 H， J = 7, 1 Hz)

これらの 'Η— NMRデータから、得られたオレンジ色粉末を下記構造式のフェニルホスフィンォキサイド（フルォレニル）（3—第三級ブチルー 5—メチル — 2—フエノキシ）（テトラヒドロフラン）チタニウムジクロライドと同定した。収率は 32 %であった。

(2)重合

内容積 0. 4リットルの撹拌機付きオートクレープを真空乾燥してアルゴンで置換後溶媒としてトルエン 170ml、一ォレフィンとしてへキセン一 1を 3 0ml仕込み、反応器を 8 0°Cまで昇温した。昇温後、エチレン圧を 1 2 kgZ c m² に調節しながらフィ一ドし、系内が安定した後、卜リイソブチルアルミ二ゥム 1. Ommo lを投入し、続いて上記の（1) で合成したフエニルホスフィンオキサイド（フルォレニル）（3—第三級ブチル一 5—メチル一 2—フエノキシ）（テトラヒドロフラン）チタニウムジクロライド 5. 0〃mo lを投入し、続いてトリフエニルメチルテトラキス（ペンタフルオロフヱニル）ボレート 1 5. 0〃mo lを投入した。 8 0°Cに温度を調節しながら、 3 0分間重合を行った。重合の結果、 SCB= 1 4. 3、 [77] = 6. 6 9、融点が 1 1 7. 1 °Cであるエチレン一へキセン一 1共重合体を、チタニウム 1 mo 1あたり、 1時間当たり、 5. 72 X 1 0⁵ g製造した。

比較例 1

( 1 ) 重合

内容積 40 0 mlの撹拌機付きォ一トクレーブを真空乾燥してアルゴンで置換後溶媒としてトルエン 1 7 0ml、一ォレフィンとして、へキセン一 1を 3 0 m 1仕込み、反応器を 8 0 °Cまで昇温した。昇温後、ェチレン圧を 6 kg cm² に調節しながらフィードし、系内が安定した後、トリェチルアルミニウム 0. 2 5 mm 0 1を投入し、続いて WO 8 7/0 2 3 70号公報及び特開平 5― 23 0 1 33号公報に記載の方法により合成した 2， 2， —チォビス（ 6—第三級プチルー 4一メチルフヱノキシ）チタニウムジクロライド 5. 0 umo 1を投入し、続いてトリフヱニルメチルテトラキス（ペンタフルオロフヱニル）ボレート 1 5. 0 / mo lを投入した。 8 0°Cに温度を調節しながら 6 0分間重合を行つた

重合の結果、 SCB=2 6. 1、 [ ] =3. 7 8、融点が 1 1 6. 8 °Cであるエチレン一へキセン一 1共重合体を、チタニウム 1 _mo 1あたり、 2. 9 X 1 0⁴ g製造した。

実施例 2

(1— 1) ビス（3—第三級ブチル一 5—メチルー 2—フエノール）一 1—ジスルフィドの合成

窒素雰囲気下、撹拌機を備えたシュレンク管中で、二塩化二硫黄 8. 4 9 g (2 6. 3mmo 1 ) をへキサン 4 Om lに溶かし、そこへ 2—第三級プチルー

P—クレゾール 1 8. 4 9 g (5 1. 8mmo 1 ) のへキサン溶液 2 0m 1を、氷冷下に 3 0分かけて加えた。そして室温にて 6時間撹拌を続けた。その後、溶媒を減圧留去し、黄色の固体 1 0. 6 2 gを得た。この黄色固体をへキサン 2 0 m 1に溶かし冷却すると薄黄色の析出固体と黄色の溶液に分かれたので、この黄色溶液を分別し、溶媒を減圧留去し、黄色固体 8. 4 gを得た。これをシリカゲルカラム（Me r c k社シリカゲル 6 0) にへキサン一ベンゼン混合溶液（へキサン：ベンゼン = 5 ： 1 ) で展開し、留分の溶媒を除去することによって精製した。黄色の固体 3. 4 7 gを得た。その 'H— NMR (CDC 1 ₃ 溶媒）のデ —タを以下に示す。 NMRデータは、 B r u k e r社製 AC— 2 0 0 (2 0 0

MH z) を用いて測定した。

δ 1. 3 7 (s， 9 H)、 2. 1 9 (s， 3 H)、 6. 5 3 (s， 1 H) ,

6. 9 9 (d， 1 H)、 7. 1 1 (d， 1 H)

さらに、 ¹³C— NMR (CDC 1 溶媒）のデータを以下に示す。

6 2 0. 5 1、 2 9. 3 8、 3 5. 0 3、 1 2 0. 6 3、 1 2 9. 0 7、 1

3 1. 3 9、 1 3 3. 9 2、 1 3 6. 3 1、 1 5 3. 2 0

これらの 'H―、 ¹³C— NMRデータから、得られた黄色固体を下記構造式のビス（3—第三級ブチル一 5—メチル一 2—フエノール）一 1—ジスルフイドと同定した。収率は 3 4. 4 %であった。

(1 - 2) ビス（3—第三級ブチル一 5—メチル一 2—フヱノール一トリメチルシリルェ一テル） ― 1―ジスルフィドの合成

窒素雰囲気下、撹拌機を備えたシュレンク管中で、ビス（3—第三級プチルー 5—メチル一 2—フエノール）一 1 _ジスルフイド 3. 3 3 g (8. 4 5 mm o 1 ) を THF 3 0m lに溶かし、そこへクロ口トリメチルシラン 2. 2 0m l (1 7. 4 mmo 1 ) を加え氷冷した。さらにトリェチルァミン 2. 4m l (1 7. 2mmo 1) を加え、ゆっくりと室温に戻し、室温で 2時間撹拌した。薄黄色の懸濁溶液になった後、溶媒を減圧留去し、薄黄色固体を得た。この薄黄色固体をエーテル 50mlに溶かし、その溶液を蒸留水 20 m 1で 2回、飽和食塩水 20mlで 1回洗浄し、無水硫酸ナトリウムで 2時間乾燥し、濾過した。濾液の溶媒を減圧留去し、黄色固体 4. 3 1 gを得た。その 'H— NMR (CDC 1₃ 溶媒）のデータを以下に示す。 NMRデータは、 B r uk e r社製 AC— 20 0 (200 MHz) を用いて測定した。

δ 0. 37 (s， 9 H) . 1. 36 (s， 9 H)、 2. 1 9 (s， 3 H)、 7. 04 (d， 1 H)、 7. 1 0 (d， 1 H)

これらの 'H— NMRデータから、得られた黄色固体を下記構造式のビス（3 —第三級ブチル一 5—メチル— 2—フエノールートリメチルシリルエーテル） ― 1—ジスルフィドと同定した。収率は、 94. 5%であった。

(1— 3) 3—第三級ブチル一 5—メチル一チオシクロペンタジェニル一 2—フェノールトリメチルシリルェ一テルの合成

窒素雰囲気下、撹拌機を備えたシュレンク管中で、ビス（3—第三級プチルー 5—メチル一 2—フエノールートリメチルシリルエーテル）ー 1一ジスルフイド 388. 9 g (0. 728 mmo 1 ) を塩化メチレン 1. 0mlに溶かし、臭素 1 23. 3mg (0. 772 mmo 1 ) を加えた。 3—第三級ブチル— 5—メチルー 2—フエノール一トリメチルシリルエーテル一 1—スルフェニルブロマイド力く生成する。この溶液をシクロペンタジェ二ルナトリウム塩 1 94. 4mg (2. 2 1 mmo 1 ) の THF溶液 2 m 1に、 ― 50°Cで少しづつ加えた。ゆつくり室温に戻し、室温で 5時間撹拌した。溶媒を減圧留去し茶褐色固体 620. 7 mg を得た。これを塩化メチレン 30 m 1に溶かして濾過し、濾液の溶媒を減圧留去し、茶褐色固体 5 1 8. 2mgを得た。これをシリカゲルカラム（Me r ck社シリカゲル 60) を通し、へキサン一ベンゼン混合溶媒（へキサン：ベンゼン =5 ： 1) で展開し、留分の溶媒を減圧除去することによって精製した。赤色固体 26. 5mgを得た。その 'Η— NMR (CDC 1₃ 溶媒）のデータを以下に示す。

NMRデータは、 B r u k e r社製 AC— 200 (200 MHz) を用いて測定した。

δ 0. 365 (s， 9H) . 1. 38 (s， 9 H) 、 2. 23 (s， 3 H) ヽ 2. 93 (m， 1 H) 、 3. 06 (m, 1 H) 、 5. 99— 6. 1 9 (m， 1 H) 、 6. 29 (m， 1 H) 、 6. 43 (m， 1 H) 、 7. 07 (b r, 2 H) この 'Η— NMRデータから、得られた赤色固体を下記構造式の 3—第三級ブチル一 5—メチルーチオシクロペンタジェニル一 2—フエノールトリメチルシリルェ一テルと同定した。収率は、 7. 0%であった。

(1— 4) (6—第三級ブチル一 4—メチル一 2—トリメチルシロキシ一フエ二ルチオ）（シクロペンタジェニル）（トリスジメチルアミド）チタニウムの合成撹拌機を備えたシュレンク管中に、トルエン 8 mlに、テトラキス（ジメチルァミド）チタニウム 5 Omg (0. 223 mmo 1 ) と、 3—第三級ブチル一 5 一メチル一チオシクロペンタジェ二ルー 2—フエノールトリメチルシリルェ一テル 54. 5mg (0. 1 64mmo 1) を加え、そこへトルエン 8 m 1を真空下で移動させた。この溶液を 5 0°Cで 2時間、室温で 4時間撹拌した。その後、溶媒を減圧留去し、褐色タールが 95mg得られた。そのタールの、 'Η— NMR (Ce D₆ 溶媒）を、 B ruk e r社製 AC— 200 (200 MHz) を用いて測定した。そのデータを以下に示す。

δ 0. 575 (s， 9H) 、 1. 46 (s， 9H) ヽ 2. 05 (s， 3H) 、 3. 14 (s， 1 8 H) 5. 94 (t， 2 H) 、 6. 1 4 (t， 2 H) 、 6. 8 6 (d， 1 H) 、 6. 99 (d、 1 H)

この 'H— NMRデータから、得られたタールを下記構造式の（6—第三級ブチル一 4—メチル一 2—トリメチルシ口キシーフヱニルチオ）（シクロペンタジェニル）（トリスジメチルアミド）チタニウムと同定した。収率は、 1 00%であった o

(1 -5) (6—第三級ブチル一 4—メチル一 2—トリメチルシロキシ一フエ二ルチオ）（シクロペンタジェニル）（ジメチルアミド）チタニウムジクロライドの合成

撹拌機を備えたシュレンク管中に、（6—第三級プチルー 4ーメチルー 2―トリメチルシ口キシ一フエ二ルチオ）（シクロペンタジェニル）（トリスジメチルアミド）チタニウム 27 Omg (0. 505 mmo 1 ) とジメチルアンモニゥムクロライド 1 23mg (l. 5 1 mmo 1 ) を加え、そこへジクロロメタン 8 m 1を真空下で移動させた。この溶液を一 20°Cで 4時間、室温で 2時間撹拌した。その後、溶媒を減圧留去し、褐色タールが 303 mg得られた。そのタールの、 'Η—匪 R (CDC 13 溶媒）を、 B r u k e r社製 AC- 200 (200 MHz) を用いて測定した。そのデータを以下に示す。

δ 0. 324 (s, 9H) , 1. 37 (s, 9H) , 2. 24 (s, 3H) , 6. 17， (t, 2 H) 6. 5 1 (t， 2 H) , 7. 1 7 (d， 1 H) , 7. 2 8 (d, 1 H)

この 'H— NMRデータから、得られたタールを下記構造式の（6—第三級ブチルー 4—メチル一 2—トリメチルシ口キシ一フヱニルチオ）（シクロペンタジェニル）（ジメチルアミド）チタニウムジクロライドと同定した。収率は、 1 0 0%であった。

(1 -6) (6 _第三級ブチルー 4ーメチル一 2—トリメチルシ口キシ一フエ二ルチオ）（シクロペンタジェニル）チタニウムトリクロライドの合成

撹拌機を備えたシュレンク管中の、乾燥された塩化水素を含むクロ口ホルム 1 5m 1に、（6—第三級ブチルー 4—メチルー 2—トリメチルシ口キシーフエ二ルチオ）（シクロペンタジェニル）（ジメチルアミド）チタニウムジクロライド 27 Omg (0. 505 mmo 1) を 0°Cで加えた。この溶液を 0°Cで 30分、室温で 2時間撹拌した。この懸濁液をセライトを用いて濾過した。その後、溶媒を減圧留去し、褐色タールが 303 mg得られた。そのタールの、 'H— NMR (CDC 13 溶媒）を、 B r uk e r社製 AC— 200 (200 MHz) を用いて測定した。そのデータを以下に示す。

δ 1. 40 (s， 9H) ， 2. 3 1 (s， 3 H)， 3. 88 (s， 3 H)， 6. 67 (t， 2 H) , 6. 78 (t， 2 H) , 7. 26 (d， 1 H)， 7. 3 1 (d， 1 H)

この 'H— NMRデータから、得られたタールを下記構造式の（6—第三級ブチルー 4一メチル一 2—トリメチルシロキシ一フヱニルチオ）（シクロペンタジェニル）チタニウムトリクロライドと同定した。収率は、 1 00%であった。

(1 -7) チォ（シクロペンタジェニル）（6—第三級ブチルー 4—メチル一 2 -フヱノキシ）チタニウムジクロライドの合成

撹拌機を備えたシュレンク管中の、乾燥された塩化水素を含むジェチルエーテノレ 1 5m 1に、（6 _第三級ブチル一 4—メチル一 2—トリメチルシ口キシ一フヱ二ルチオ）（シクロペンタジェニル）チタニウムトリクロライド 88. 4mg (0. 1 82mmo 1) を 0°Cで加えた。この溶液を 0°Cで 1分、室温で 1 6時間撹拌した。この懸濁液をセライトを用いて濾過した。その後、溶媒を減圧留去し、褐色タールが 46. Omg得られた。そのタールの、 'Η— NMR (CDC

13 溶媒）を、 B r uk e r社製 AC— 200 (200 MHz) を用いて測定した。そのデータを以下に示す。

δ 1. 45 (s， 9H) ， 2. 25 (s， 3 H) , 6. 1 7 (t， 2 H)，

6. 92 (t、 2H) ， 7. 21 (d， 1 H)， 7. 26 (d, 1 H)

この 'H— NMRデータから、得られたタールを下記構造式の（チォ（シクロペンタジェニル）（6—第三級ブチル一 4—メチル一 2—フヱノキシ）チタニゥムジクロライドと同定した。収率は、 67. 0%であった。

(2) 重合

実施例 1 (2) と同様にエチレンとへキセン一 1を重合することにより、ェチレン一へキセン一 1共重合体を得ることができる。

産業上の利用可能性

以上詳述したように、本発明によれば、第 1 5、 1 6族へテロ原子を置換基に持つ芳香環とシクロペンタジェ二ル環を第 1 5、 1 6族の原子を含む 2価の残基で連結した配位子を持つ、工業プロセスにおいてォレフィン重合用触媒成分として有用な遷移金属錯体が得られる。また該錯体を含有する触媒を用いて、高分子量で、組成分布の狭いォレフィン重合体、特に線状低密度ポリエチレンを効率よく製造することができる。

Claims

請求の範囲

1. 一般式〔 1〕

〔1〕

(式中、 Mは元素の周期律表の第 4族の遷移金属原子を、 C pはシクロペンタジェン形ァニオン骨格を有する基を表わす。 A及び Gは元素の周期律表の第 1 5、 1 6族の原子を含有する 2価の残基を表し、それらは同一でも異なっても良い。 X ' 、 X ² 、 R ' 、 R ²、 R ³、 R ⁴ はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数 1〜2 0のアルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数？〜 2 0のァラルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数 6〜2 0のァリール基、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数 1〜2 0の置換シリル基、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数 1〜2 0のアルコキシ基、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数？〜 2 0のァラルキルォキシ基、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数 6〜2 0のァリールォキシ基または炭素原子数 2〜 2 0 の 2置換アミノ基を示す。 R ¹ 、 R ² 、 R ³、 R ⁴ は任意に結合して環を形成していてもよい。 Lはルイス塩基であり、 wは 0〜2の整数を表す。）

で表される遷移金属錯体。

2. —般式〔1〕で表される遷移金属錯体において、 Mがチタニウム原子、ジルコニゥム原子あるいはハフニウム原子であることを特徴とする請求項 1に記載の遷移金属錯体。

3. 一般式〔1〕で表される遷移金属錯体において、 A及び Gがそれぞれ独立に下記構造式のいずれかであることを特徴とする請求項 1に記載の遷移金属錯体。

(R ⁵ はハロゲン原子、炭素原子数 1〜 20の炭化水素基又は炭素原子数 1〜 2 0のハロゲン化炭ィヒ水素基を、 X³ は水素原子又はハロゲン原子を表す。）

4. 一般式〔1〕で表される遷移金属錯体において、 Aが酸素原子であることを特徴とする請求項 1に記載の遷移金属錯体。

5. 一般式〔1〕で表される遷移金属錯体において、 Gが下記構造式のいずれかであることを特徴とする請求項 1記載の遷移金属錯体。

(R ⁵ はハロゲン原子、炭素原子数 1〜 20の炭化水素基又は炭素原子数 1〜 2 0のハロゲン化炭化水素基を、 X³ は水素原子又はハロゲン原子を表す。）

6. 一般式〔1〕で表される遷移金属錯体において、 Gが硫黄原子であることを特徴とする請求項 1に記載の遷移金属錯体。

7. 一般式〔1〕で表される遷移金属錯体において、 R¹ が炭素原子数 1〜2 0の炭化水素基又は炭素原子数 1〜 20のハロゲン化炭化水素基であることを特徵とする請求項 1に記載の遷移金属錯体。

8. 一般式〔1〕で表される遷移金属錯体において、 X¹ 及び X² がハロゲン原子であることを特徴とする請求項 1記載の遷移金属錯体。

9. 請求項 1〜8のいずれかに記載する遷移金属錯体、及び下記化合物（A) よりなることを特徴とするォレフィン重合用触媒。

(A) 下記化合物 (A 1)〜（A3) のいずれか、あるいはそれらの 2〜 3種の混合物

(A 1) 一般式 E¹ _a A 1 Z₃-a で示される有機アルミニウム化合物

(A2) 一般式 {— A l (E²)— 0— } _b で示される構造を有する環状のアルミノキサン

(A3) —般式 E³ {-A 1 (E³)— 0— } A 1 E³ ₂で示される構造を有する線状のアルミノキサン

(但し、 E¹ 〜E³ は炭素数 1〜8の炭化水素基であり、全ての E¹ 、全ての E² 及び全ての E ³ は同じであっても異なっていても良い。 Zは水素原子又はハロゲン原子を表し、全ての Zは同じであっても異なっていても良い。 aは 0〜3 の数、 bは 2以上の整数を、 cは 1以上の整数を表す。）

10. 請求項 1〜8のいずれかに記載する遷移金属錯体、下記化合物 (A) 及び (B) よりなることを特徴とするォレフィン重合用触媒。

(A) 下記化合物（A 1) 〜（A3) のいずれか、あるいはそれらの 2〜 3種の混合物

(A 1) 一般式 E' _a A 1 Z で示される有機アルミニウム化合物

(A2) 一般式 {— A l (E²)— O— } _b で示される構造を有する環状のアルミノキサン

(A3) —般式 E³ {-A 1 (E³)— 0— } _e A 1 E で示される構造を有する線状のアルミノキサン

(但し、 E' 〜E³ は炭素数 1〜8の炭化水素基であり、全ての E¹ 、全ての E² 及び全ての E ³ は同じであっても異なっていても良い。 Zは水素原子又はハロゲン原子を表し、全ての Zは同じであっても異なっていても良い。 aは 0〜3 の数、 bは 2以上の整数を、 cは 1以上の整数を表す。）

(B)下記化合物（B 1) 〜（B 3) のいずれかの化合物

(B 1) 一般式 BQ¹ Q² Q³ で表されるホウ素化合物、

(B 2) 一般式 J⁺ (BQ¹ Q² Q³ Q⁴ ) で表されるホウ素化合物、 (B3) 一般式（L— H) ⁺ (BQ¹ Q² Q³ Q⁴ ) で表されるホウ素化合物

(但し、 Bは 3価の原子価状態のホウ素原子であり、 Q¹ 〜Q⁴ はハロゲン原子、炭素原子数 1〜 20の炭化水素基、炭素原子数 1〜 20のハロゲン化炭化水素基、炭素原子数 1〜20の置換シリル基、炭素原子数 1〜20のアルコキシ基または炭素原子数 2〜 20の 2置換アミノ基であり、それらは同じであっても異なっていてもよい。 J ⁺ は無機又は有機のカチオンである。 Lは中性のルイス塩基であり、（L— H) + はブレンステツド酸である。）

11. 化合物（A) がトリェチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム又はメチルアルミノキサンであることを特徴とする請求項 9または 1 0に記載する ί ォレフィン重合用触媒。

12. 請求項 9〜1 1のいずれかに記載するォレフイン重合触媒を用いることを特徴とするォレフィン重合体の製造方法。

13. ォレフィン重合体がエチレン一一ォレフィン共重合体であることを特徵とする請求項 1 2に記載するォレフィン重合体の製造方法。