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WO1996000704A1 - Materiau ferroelectrique a couches d'oxyde de bismuth - Google Patents

Materiau ferroelectrique a couches d'oxyde de bismuth Download PDF

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WO1996000704A1
WO1996000704A1 PCT/JP1995/001205 JP9501205W WO9600704A1 WO 1996000704 A1 WO1996000704 A1 WO 1996000704A1 JP 9501205 W JP9501205 W JP 9501205W WO 9600704 A1 WO9600704 A1 WO 9600704A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
layer
layered oxide
layered
oxide ferroelectric
pseudo
Prior art date
Application number
PCT/JP1995/001205
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Masahiko Hiratani
Keiko Kushida
Kazushige Imagawa
Kazumasa Takagi
Original Assignee
Hitachi, Ltd.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi, Ltd. filed Critical Hitachi, Ltd.
Priority to US08/765,575 priority Critical patent/US5914068A/en
Publication of WO1996000704A1 publication Critical patent/WO1996000704A1/ja

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Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B35/00Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/01Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics
    • C04B35/453Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on zinc, tin, or bismuth oxides or solid solutions thereof with other oxides, e.g. zincates, stannates or bismuthates

Definitions

  • the present invention relates to a Bi layered oxide ferroelectric, and more particularly, to a Bi layered oxide ferroelectric and particularly useful for a capacitor and an ultrasonic oscillator.
  • the present invention relates to a manufacturing method capable of forming such a Bi layered oxide ferroelectric with high precision.
  • Oxide ferroelectrics used in, for example, canopy transusers include, for example, Pb (Z) having a Verobskite structure. r, T i) 0 3 or, b i layered base mouth ugly mosquito wells group of compounds that have been known, et al.
  • the “perovskite structure” refers to a B formed by hexagonal coordination of an oxygen ion (0) with a certain positive ion (B) as the center.
  • B positive ion
  • 0 6 oxygen octahedra is et by corner-sharing to form a three-dimensional basic skeleton, a gap of that is occupied by Tsu by the other cations Lee on- (a), the general formula AB 0 It means the crystal structure represented by 3 .
  • the above-mentioned Pb (Zr, Ti) 03 is a lobskite structure in which Pb is equivalent to the A ion and (Zr, Ti) is equivalent to the B ion.
  • the parentheses () are, as a rule, at least one of the elements described in the parentheses. It means that it contains a kind of element. However, when the mixing ratio is specified, it does not necessarily indicate that the above element is contained in the composition ratio.
  • layered lobskite structure refers to a pseudo lobskite structure and an intermediate layer having a structure other than the pseudo lobskite as a basic skeleton (adjacent layer).
  • the layer inserted between the pseudo-robskite structure and the pseudo-robskite structure is the middle layer and the pseudo-robskite structure / middle layer is It means a crystal structure that is arranged alternately and repeatedly in layers with a certain period.
  • the “simulated mouth bushite structure” is basically composed of a bellows kite structure, but is adjacent to the middle layer in the stacking direction. eyes Ru had, in the AB 0 3 that means the structure has Na came the element ratio in the positive tooth rather than description.
  • the "Bi layered bellows kite structure” means that the positive ion that constitutes the above-mentioned intermediate layer is Bi.
  • a typical layer-shaped base B Buss mosquito wells structure by a preparative Ru I ⁇ object group a (B i 2 0 2) ( A n -, ⁇ ⁇ 0 3 ⁇ ) is Re inform ing .
  • n pseudo-Perot ugly mosquito wells structure is have you in the direction that has been laminated, B 0 6 oxygen octahedral skeleton shared vertices of the n stages, a call that has been configured means .
  • Rectangle 1 1 cross is Fill out in the, the oxygen Lee on-is centered B Lee on-octahedral coordination and B 0 6 oxygen octahedra, which is formed by the table ring, is this Luo B 0 6 oxygen octahedra 3-dimensionally are vertices shared pseudo Perot Buss mosquito wells structure 1 8 has been configured. Between gap between the Tonarigo cormorant B 0 6 oxygen octahedron 1 1 is Tsu by the A Lee on-1 2 that has been occupancy. The portion surrounded by the dotted line 15 is the middle layer of Bi 2 0 2 that separates adjacent pseudo-lobskite structures 18 from each other, and the B 1 ion 13 And 0 to 14 ions.
  • A is any one of Pb, Ba and Sr, and B is Nb and a small amount of Ta. At least one kind of element is known. It is. This is these compounds B i 2 0 2 ⁇ AB 2 0 7 or is that Ki out and this represent an AB i 2 B 2 0 9.
  • the compound is known. Set configuration of this compound B i 0 ⁇ AB i 2 T i 4 0 was 1 3 or is that Ki out and this represent an AB i 4 T i 4 0, 5.
  • the B i layered lobskite compound group represented by B i 0 ⁇ ⁇ ⁇ —] ⁇ ⁇ 0 3 ⁇ —] has a large anisotropic crystal structure as described above.
  • the ferroelectric material has a large anisotropy.
  • n 3
  • A is B i
  • B is T i
  • the spontaneous polarization in the direction parallel and perpendicular to the layer is 50 micro-colon Z cm 2 and 4 respectively. It shows an order of magnitude different from micro-colon / cm 2 and shows remarkable anisotropy.
  • the anisotropy of the coupling coefficient of electromechanical devices is also large, for example, when used as a transversal user using an ultrasonic oscillator, the shape ratio of width Z thickness Advantages such as small restrictions are obtained.
  • the coercive electric field is small and polarization is easy, and in the Bi layer structure, the polarization inversion cycle is small.
  • the deterioration of spontaneous polarization associated with it is small. This is pseudo-Perot ugly mosquito wells structure Oh Ru at the origin of the ferroelectric characteristics, in and this, which is buffered in the atmosphere of the molecular level in Tsu by between B i 2 0 2 layer Therefore, mechanical strain in the crystal due to the polarization inversion is absorbed.
  • the ions that can be used as B ions are limited to Ti, Nb, and Ta with small ion diameters, and PbTi0 3 and P b Z r 0 3 of the solid solution P b (Z r, T i ) Ni would Yo of 0 to 3, all b Lee on-part also rather is of, was substituted One by the Z r No compound has been obtained.
  • An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems of the above-mentioned conventional Bi layered oxide ferroelectric, and to eliminate the above-mentioned crystallographic defects.
  • Bi-layered oxide ferroelectrics which can obtain desired physical property values and have excellent ferroelectric characteristics, and such Bi-layered oxides
  • An object of the present invention is to provide a method for producing a Bi layered oxide ferroelectric which can easily form a ferroelectric material with high accuracy.
  • the present invention is to be between in the above-mentioned layer, B i 2 0 of a two-layer rather than, in Tsu by the B i O layer and this Ru physician use, pseudo-Bae b Buss mosquito wells structure P b n -, configure the (Z r, T i) n O 3, in the i table, middle-layer Ru Ah in B i 0 B i layered ferroelectric oxide It is something.
  • the conventional B i layered pane which shows the FIG. 1 (b) B Buss mosquito wells Compound B i 2 0 2 ⁇ A n -, B ⁇ 0 3 n -, a is the middle tier
  • the B i 2 0 2 during layer 1 6 shows in FIG. 1 (c) possess, and the T i i on-set to B Lee on- attempted synthesis of including of compounds.
  • the ratio of B ion to Bi ion is 2 to n in both cases. Due to the same, it is inevitable that the more stable conventional compound shown in FIG. 1 (b) would be produced, and it is unavoidable that it is shown in FIG. 1 (c).
  • the Bi layered Ti Pecobskite structure could not be formed.
  • Figure 1 (a) shows the Bi layered compound formed by substituting this ( ⁇ 0) intermediate layer with a BiO layered intermediate layer.
  • the middle layer 17 is composed of a single Bi-10 ion plane, and the same as the structure shown in FIG. 0
  • the ion plane is in the pseudo-lobite kite structure. A It is adjacent to the ion surface.
  • the first difference is that the relative positions of the pseudo-lobskite structures through the B middle layer are different from each other.
  • Match for to Chi the structures shown in FIG. 1 (a), arranged B 0 6 oxygen octahedron on the middle tier 1 7, under the B i O during layer 1 7 while you are positioned right above the placement oxygen octahedron, the structure shows a first diagram (b) Contact good beauty FIG. 1 (c), while B i 2 0 2 layer 1
  • the oxygen octahedra located above 5, 16 is located at a position that is half-period shifted from the oxygen octahedron located below the middle layers 15, 16 (on the paper). The same is true for vertical directions.
  • the second difference is that the Bi layered verobskite compound group shown in FIG. 1 (a) is represented by the formula B i0 ⁇ An ,, B n O a: , B i: A: B has an ion ratio of 1: n + 1: n. This ion ratio is completely different from the ion ratio of the compound shown in FIG. 1 (b), 2: n-1: n. From these differences, the structure shown in Fig. 1 (a) is a novel ferroelectric Bi layered lobskite structure, and the ratio of each element is different. Therefore, there is no possibility that the compound shown in FIG. 1 (b) may be mixed, and a highly pure compound can be obtained.
  • the composition of the B i layer-like Perot Buss mosquito wells compounds shown in Figure 1 (a) has the formula B i 0 ⁇ A n -, B n 0 3 n -, and Ru are I Table.
  • Pb n- (ZrT i) n 0 3 n — which has excellent ferroelectric properties, is used as the pseudo-lobes kite structure 18, that is, A If +2 valent Pb ion is used as ion and +4 valent Ti and / or Zr ion is used as B ion Since the B i ion is +3 valence, the charge of (+ (2n + 1)) in total for n + 1 A ions 12 is based on the principle of electrical neutrality. Is assigned, but the charge of + (2n + 1) cannot be equally assigned to n + 1 divalent Pb ions.
  • the A ion is expressed in two different crystallographically distinct places, namely, in the condensed lobskite structure surrounded by the BOs oxygen octahedron.
  • N — 1 A ions 12 and two A ions 19 in the pseudo lobskite structure adjacent to the B i — 0 ion surface.
  • n pseudo Perot Buss mosquito wells structure surrounds or is the A Lee on-the B 0 6 oxygen octahedron - one +2 P b i on-1 2 and B i - It can be divided into the 0 ion plane and the adjacent A 'ion 19 in the pseudo lobskite structure.
  • a ' is (the ratio of B a, K), to it other B a and K Is one-to-one, or a. It is 5 . Since both Ba and K have a larger ion radius than Pb, it is likely that selective occupation at the A 'ion position is likely to occur. , used . La occupies only half of the A 'position, and the rest is lattice-deficient.
  • n 5 or more, in terms of free energy, the difference between different n's is small, and it is difficult to isolate the compound, so n is set to 4 or less.
  • n 1, n was set to 2 or more because a pseudo-lobite force structure including Pb was not formed.
  • FIGS. 1 (a) to 1 (c) are projection schematic diagrams of the crystal structure, and the illustration of crystal distortion peculiar to perovskite ferroelectrics is omitted.
  • B 0 6 Oxygen octahedron and simple The vesicles are shown as highly symmetrical ideal shapes. Although no subtle crystal distortion is shown, the basic skeleton of the crystal of the Bi layered oxide ferroelectric of the present invention is clear from FIG. 1 (a).
  • the Bi-layered oxide ferroelectric of the present invention shown in FIG. 1 (a) has excellent ferroelectric properties as described below, the Bi-layered oxide ferroelectric has the following characteristics.
  • ferroelectrics such as canisters, ultrasonic oscillators, and surface acoustic wave devices have better properties than before. An element can be obtained.
  • one Bi-O surface 13, 14 has a structure independent of the pseudo-lobes kite structure 18. It exists in the crystal lattice as a unit. It also bonds in the B i O during layer 1 7, B i 2 0 if between layer 1 5 2 nearly as because had such a three-dimensional, B i 0 during layer 1 7, The force that governs the lattice constant in a plane parallel to the layer of the pseudo-lobskite structure 18 is weak. Rather, the lattice constant is determined by the bond length in the pseudo-lobskite structure 18.
  • the lattice constant changes from 2.6 nm to 4.2 nm in the case of the intermediate layer 15 of Bi 2 0 2 , whereas the lattice constant changes from 2.6 nm to 4.2 nm. If you only that B i 0 during layer 1 7 of the present invention, the change in lattice constant 1. 3 nm or et 2. Ri Ah at 1 nm, while layer 1 5 above B i 2 0 2 Only half of the change that can be made.
  • the periodic force in the c-axis direction is small, the stability of the lattice is high, the synthesis is easy, and the number of lattice defects is small. There are many advantages.
  • the Bi layered oxide ferroelectric compound group of the present invention can be formed by a conventional ceramic synthesis method such as a powder synthesis method or a sol-gel method, and also by a chemical vapor deposition (CVD) method. It can be easily formed by well-known methods, such as various thin film preparation methods such as a growth method, a sputtering method, a reactive evaporation method, and a pulse laser evaporation method. And can be done.
  • CVD chemical vapor deposition
  • this precursor it is not always necessary to strictly maintain the lobskite composition ratio, but the lobskite structure and some heterogeneous phases are homogeneously mixed with each other. It is important that they are maintained.
  • B i oxides Contact good beauty
  • a 'oxide eg if, B i 2 0 3, L a 2 0 3, K 2 0, B a 0 , etc.
  • the pseudo-bosquitite structure is composed of Pb (Zr, Ti) O and the intermediate layer is composed of Bi0.
  • a layered oxide ferroelectric is synthesized with a high yield.
  • a as a precursor '2 P b n -] (Z r, T i) have use the n 0, also be a mixture of B i 2 O to Re this at a predetermined composition ratio reaction, A similar effect can be obtained.
  • a thin film of a layered lobskite structure compound having an intermediate layer of B i it is also effective to form a thin film in a so-called layer unit (a method of laminating one layer at a time). It is. Since the B i layered structure has a strong crystal anisotropy, that is, a strong two-dimensionality of the crystal structure, the atomic planes having a crystal structure parallel to the layer are formed by stacking. Can be considered as
  • each atomic layer is confirmed by RHEED (reflection electron beam diffraction), and while the crystal growth is controlled to a high degree, there are CVD method and pulse laser evaporation method.
  • CVD method Uses the oxide MBE method to obtain B i O / (K, B a) 0 / (Zr, T i) ⁇ 2 / ⁇ b ⁇ / ( ⁇ ⁇ , ⁇ i) 0 / ( ⁇ , ⁇ a
  • a thin film of a Bi layered oxide ferroelectric is efficiently formed. be able to .
  • a method for selectively orienting the crystal grains of the Bi layered ferroelectric material of the present invention a method of sintering at a high temperature while applying a pressure can be used.
  • the crystal structure is anisotropic
  • the crystal when pressure is applied to the aggregate of crystal grains, the crystal has a higher priority depending on the level of inter-particle or intra-particle pressure. Orientation. Therefore, since the compound of the present invention has an anisotropic crystal structure, The Bi layered structure is formed by laminating along the direction in which the pressure is applied.
  • the following method is effective for forming an oriented thin film on which a BIO layer grows in a direction perpendicular to the substrate surface.
  • Bi layered compound is a method of forming a Bi layered compound at a high growth rate, for example, 30 nm Z, and in this case, it depends on excess supply of positive ions such as Bi. This causes supersaturated growth, which facilitates the growth of the Bi0 layer perpendicular to the substrate surface.
  • Irradiating the substrate surface during the growth of a thin film with light in the infrared to ultraviolet region is effective as a method for achieving the same oriented growth at a slow growth rate, for example, 1 nm Z. . If the thin film growth surface is grown by repeating intermittent light irradiation and rapid heating and cooling of the thin film growth surface, the film is supercooled and crystal growth occurs, and the Bi layer is grown perpendicular to the substrate surface. Grow more easily.
  • the method of generating the orientation by light irradiation is also effective when the Bi0 layer is formed by coating using a sol-gel method or the like.
  • this coating film is irradiated with light intermittently, and is rapidly heated and cooled to be crystallized. .
  • an alignment nucleus in which the Bio layer is perpendicular to the substrate surface is formed.
  • the alignment nuclei are formed once.
  • the entire thin film can be grown perpendicularly to the substrate without performing light irradiation.
  • FIG. 1 (a) is a diagram showing a Bi layered lobskite structure of the present invention.
  • FIG. 1 (b) shows a conventional Bi layered bellows kite structure.
  • FIG. 1 (c) is a diagram showing a virtual Bi layered lobskite structure.
  • FIG. 2 is a diagram showing the structure of a capacitor using a Bi0 layered ferroelectric as a dielectric film.
  • Fig. 3 shows the change in the saturation remanent polarization value due to the polarization inversion cycle.
  • FIG. 4 is a diagram schematically showing a SAW device using a Bi0 layered ferroelectric.
  • a group of Bi-layered toposite compounds was formed using ordinary powder synthesis and sintering methods.
  • the mixed powder of these metal oxides is put into a polystyrene port together with a zirconium port, and immersed in acetonitrile. After mixing uniformly for about 12 hours, dry in a dryer at 200 ° C for 5 hours, and apply a pressure of about 0.9 tons Z square centimeter in a cylindrical pressure molding machine. Molded with.
  • the obtained molded body was placed in an aluminum crucible, calcined in the air at 850 ° C. for 2 hours, and then ground again by a mill and mixed. This pre-baking and mixing treatment was repeated a total of three times, and the resulting powder of the composite was pressed at a pressure of 2 ton / cm 2 using a cylindrical pressure molding machine. It is molded into a disc with a diameter of 10 millimeters and a thickness of 5 millimeters, and then baked in air at 105 ° C for 1 hour. A compound was formed.
  • Example 2> The present embodiment is an example in which a Bi layered lobskite thin film is formed by using the RF magnetron notting method.
  • the substrate surface was irradiated with an excimer laser during sputtering.
  • the Bi layer grows perpendicular to the substrate surface.
  • the conditions for laser irradiation are: energy density: 20 milliliters / cm 2 , repetition frequency: 10 Hz, wavelength: 248 nm, irradiation area: the entire surface of the substrate did .
  • the identification of the produced compound and the orientation of the thin film were performed by X-ray diffraction.
  • Several X-ray diffraction lines that could not be assigned (diffraction lines whose properties could not be identified) were observed, but the target of such unknown diffraction lines was the target.
  • the intensity ratio with respect to the diffraction line was 0.5% or less, and it was confirmed that the formation of a compound of unknown composition was practically negligible.
  • the c-axis is perpendicular to the Mg0 substrate surface, and the laser is irradiated while the laser is irradiated.
  • the powder of the above precursor was synthesized using a hot press method.
  • P b OT i 0 2 Z r 0 2 and n 2 3 4 case
  • the mixed powder thus obtained is reacted by a hot press apparatus at 120 ° C. for 2 hours in an oxygen atmosphere under the condition of 120 cm 2.
  • a precursor was formed.
  • a result of the powder of the resulting precursor was analyzed Tsu by the X-ray diffraction, Ru Oh in the pseudo-cubic crystal form P b (Z r, T i ) 0 3, Z r 0 2 your good beauty T i O 2
  • Overall molar ratio is this is, B i 0 (B a. . 5, K.. 5)
  • the powder After drying at 200 ° C. for 5 hours in a dryer, the powder was molded into a cylindrical shape and reacted in air at 850 ° C. for 2 hours. Pulverization by a trimmer and uniform mixing using a pole mill were repeated a total of three times, and the resulting synthetic powder was subjected to a cylindrical pressure molding machine. After applying a pressure of 2 ton cm 2 to form a disc with a diameter of 10 mm and a thickness of 5 mm, it is further fired in air at 105 ° C for 1 hour. Thus, the target compound was obtained.
  • the powder of the obtained compound was re-analyzed by X-ray diffraction, and the half-width of the diffraction line was the same as the half-width of the diffraction line of the compound obtained by the method without using the precursor. It was about 70%. This indicates that the selective occupancy of ions in the Bi0 middle layer and pseudo-lobskite structures is more prominent, respectively. And are shown.
  • the present example is an example in which the Bi layered oxide ferroelectric of the present invention is formed by using a sol-gel method.
  • Nitric acid di Le co-two U-time, lead acetate, nitric acid bi-Bus master, the nitric acid La te down your good beauty Ji data two U-time Te door La blanking door key rhino de, formula B i 0 L a P b n - (.... Z r 3 , T i 7) n 0 3 n - ( it's the other, n 2, 3, 4 ) ] to weighed and follow, and the door re-ethylene record in g Li co-Lumpur It was dissolved in a mixed solvent of acetic acid and stirred in a nitrogen gas atmosphere for 10 hours.
  • the obtained film was examined by X-ray diffraction. As a result, all diffraction lines were assigned to the Bi layered lobskite structure. It was confirmed that the desired compound had been formed.
  • n B i layered oxide ferroelectrics Oh Ru invention at 4 B i O (B a, K) a P b ⁇ - i (. Z r .. 5 T i 0 5) ⁇ 03 ⁇ —
  • B i O (B a, K) a P b ⁇ - i (. Z r .. 5 T i 0 5) ⁇ 03 ⁇ —
  • Motosho sintered te r g e t preparative A, B, C such to D KazuSatoshi, A: (B a, K , 0), B: (Z r 0 2, T i 0 2), C: (P b O) your good beauty D: B i 2 O 3, had for wo.
  • AZBZC / BZCZB / CZBZAZD on a (001) single crystal substrate of SrTio3 (strontium titanate) for a single unit cell.
  • the repetition unit was used, and this was repeated 25 times to form a thin film.
  • each layer A, B, C, and D is monitored by in-situ observation using a working exhaust type RHEED (reflection electron beam diffraction), and the intensity oscillation of the reflection spot on the phosphor screen is monitored.
  • Real-time measurement was performed using a CCD camera, and this was linked with the laser and target exchange rotation motor to control the growth of each layer.
  • the conditions for producing the thin film are as follows.
  • Laser An excimer laser with a wavelength of 248 nm is used, and the energy density on the surface of the market is 0.5 to 1 J / cm2. The returned frequency was 5 Hz.
  • Oxidation source Ozone generated by an ozone generator was purified by low-temperature fractionation at low temperature, and the pure ozone gas obtained was blown near the substrate.
  • the pressure in the vacuum chamber was set to 0.1 mi.
  • the vapor deposition was interrupted for a maximum of 30 seconds, and after confirming the return of the intensity, the vapor deposition was restarted.
  • the RHEED pattern immediately after the formation of the thin film confirmed that the thin film had four-fold symmetry in the substrate plane.
  • X-ray diffraction was used to measure diffraction lines from a lattice plane parallel to the substrate surface.
  • a precursor that having a composition formula L a 2 P b x L a x Z r 2 O z Ru is I table were synthesized Ri in Tsu by the solid phase reaction method.
  • the above X is of four types: 0.020.050.1 and 0.15.
  • the L a 2 0 3 P b O Contact good beauty Z r 0 2 having a predetermined composition ratio, for two hours at machine have or have al grinding, after mixing, molded into a cylindrical, 9 in the air 0 0 ° C It was calcined for 2 hours.
  • the main calcination was performed while applying pressure to the obtained columnar shaped product.
  • the X-ray diffraction pattern for a surface perpendicular to the direction in which the pressure is applied is represented by a (00L) diffraction line.
  • Diffraction lines from other lattice planes whose intensities were weaker by about 5% than the (001 L) diffraction lines were observed.
  • the diffraction lines from the lattice planes other than (00L) Observed mainly.
  • the precursor represented by (1) was synthesized using the usual solid-phase reaction method.
  • the obtained mixture was dried in a drier at 200 ° C. for 5 hours, then compacted into a cylinder, and subjected to a heat treatment in air at 850 for 2 hours. The mixture is then crushed and mixed by a mill, and the mixture is dried and mixed. The process was repeated three times in total.
  • a pressure of 2 ton Z cm 2 was applied to the obtained composite powder using a cylindrical pressure molding machine to form a disc having a diameter of 10 mm and a thickness of 5 mm. Further, baking was performed in air at 110 ° C. for 1 hour to form a target compound.
  • a thin film was formed, and the resulting compound was measured for the saturation spontaneous polarization, the coercive electric field and the anisotropy of the electromechanical coupling coefficient.
  • the measurement electrode a silver paste baked at 400 ° C was used for the sintered body, and the Bi layered compound thin film was used for the thin film.
  • a vacuum-deposited platinum electrode was used.
  • the spontaneous polarization and coercive electric field were measured at a frequency of 50 Hz using a circuit of a self-made software, and the electromechanical coupling coefficient was measured using a commercially available impedance. It was calculated from the values measured by the well-known resonant-reciprocal resonance method using a scanner.
  • Table 1 shows the composition, morphology, and physical properties of the compounds used for the measurement. Table 1 shows the values for which the degree of orientation was not accurately corrected for the sintered body, and the values for the thin film were different from those of other samples with different orientations. The values obtained by comparison are shown.
  • FIG. 2 shows the structure of the canister formed in this example.
  • a 200-nm-thick white gold film is formed by vacuum evaporation on a 1 O mm x 1 O mm silicon substrate 21 covered with silicon oxide. Unnecessary portions were removed by a lighting process to form a lower electrode 22 having a width of 20 ⁇ .
  • An upper platinum electrode 24 having a thickness of 200 nm is vacuum-deposited through a metal mask having a gap of 200 m in width so as to be orthogonal to the lower electrode 22.
  • the part 25 where the upper electrode 24 formed three-dimensionally intersects the lower electrode 22 using the conventional electron beam lithography has a width different from that of the other parts. It was narrowed to 20 tm.
  • the effective electrode area is 20 m X 2 O / m. Since the initial value of the spontaneous polarization is applied perpendicular to the ferroelectric thin film 2, the effective electrode area is 20 ⁇ mx2Otm. The initial value of the spontaneous polarization was 12 micro-colon Z cm 2 , reflecting that the ferroelectric thin film 23 was non-oriented.
  • Fig. 3 shows that changes along with the polarization inversion cycle.
  • the vertical axis represents the remanent polarization normalized with the initial value being 1.
  • the present embodiment is an example in which a SAW (surface acoustic wave) element is manufactured using the Bi layered oxide ferroelectric of the present invention.
  • SAW surface acoustic wave
  • Example 6 The method used in Example 6 in which sintering is performed and a sample is oriented by applying pressure in the axial direction while applying sintering is used.
  • the oxide ferroelectric B having a flat shape is used.
  • i O B a .. 5, K .. 5) 2 P b 2 (Z r .. 5, T io. 5) 3
  • the electric signal applied to the signal 3 of the input side translator is converted into a BG (Bleuste 1 n-Gu 1 ae) wave propagating in the longitudinal direction 44.
  • BG Band 1 n-Gu 1 ae
  • the signal 2 of the output side transmis- sor is transmitted through the amplifier to the input side transmis- sion unit. I returned to the traffic light.
  • the surface acoustic wave element can be formed to have a relatively small width and a large thickness, and use the BG mode.
  • the symbol 41 represents a ground line, and it is apparent from FIG. Such a remarkable effect can be obtained
  • the B i layered lobskite structure having a B i 0 insertion structure is represented by (Zr) as a B ion in a pseudo-port bus force insertion structure.
  • T i Excellent ferroelectric properties can be obtained.
  • a highly crystalline compound can be obtained by using a synthesis method using a precursor.

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Description

明 *15UU
B i 層状酸化物強誘電体
[技術分野〕
本発明 は B i 層状酸化物強誘電体 に 関 し 、 詳 し く は キ ャ パ シ タ お よ び超音波発振子 な ど に 特に 有用 な B i 層状酸化物強誘電体、 お よ び こ の よ う な B i 層 状酸化 物強誘電体 を 、 高 い精度 で形成す る こ と の で き る 製造 方法 に 関す る も の で あ る 。
[ 背景技術 〕
キ ヤ ノ シ タ ゃ ト ラ ン ス ジ ユ ーザ な ど に用 い ら れ る 酸 化物強誘電体 と し て は 、 例 え ばべ ロ ブス カ イ 卜 構造 を 有す る P b ( Z r 、 T i ) 03や 、 B i 層状べ 口 ブス カ イ ト 化合物群が知 ら れて い る 。
こ こ で "ぺ ロ ブス カ イ ト 構造 " と は 、 あ る 陽イ オ ン ( B ) を 中 心 と し 、 酸素 イ オ ン ( 0 ) が八面体 6 配位 し て形成 さ れ た B 06酸素八面体が、 さ ら に頂点共有 し て 3 次元的 な基本骨格 を 形成 し 、 そ の 間隙が他の陽 イ オ ン ( A ) に よ っ て 占有 さ れ た 、 一般式 A B 03で 表わ さ れ る 結晶構造 を 意味す る 。 上記 P b ( Z r 、 T i ) 03は 、 P b が Aイ オ ン に 、 ( Z r 、 T i ) が B イ オ ン にそ れぞれ相 当 す る ぺ ロ ブス カ イ ト 構造 を 有す る 化合物 を 表わす 。 こ こ で 、 括弧 ( ) は 、 原則 と し て こ の括弧内 に 記載 さ れ た元素の 内 の 少 な く と も 1 種 類の元素 が含 ま れて い る こ と を 意味す る 。 た だ し 、 そ の混合比率が規定 さ れて い る 場合 は 、 上記元素 が、 そ の組成比率で 含 ま れて い る こ と を 示す こ と は い う ま で も な い 。
ま た 、 "層状べ ロ ブス カ イ ト 構造 " と は 、 擬ぺ ロ ブ ス カ イ ト 構造 と 、 擬ぺ ロ ブス カ イ 卜 以外の構造 を 基本 骨格 と す る 中 間層 ( 隣 り 合 う 擬ぺ ロ ブス カ イ ト 構造の 間 に挿入 さ れ た層 ) が、 擬ぺ ロ ブス カ イ ト 構造ノ 中 間 層 擬ぺ ロ ブス カ イ ト 構造 / 中 間層 Z と 、 一方 向 に あ る 周期 で 、 層 状 に 交互 に繰 り 返 し て 配置 さ れ た 結晶構造 を 意味す る 。 こ こ で 、 " 擬ぺ 口 ブス カ イ ト構 造 " と は 、 基本的 に はべ ロ ブス カ イ ト 構造か ら 構成 さ れる が、 積層 方向 に お い て 上記 中 間層 と 隣接 し て い る た め 、 A B 03 で は元素比 を 正 し く 記述で き な い構造 を 意味す る 。
さ ら に 、 " B i 層状べ ロ ブス カ イ ト構造 " と は 、 上 記 中 間層 を 構成す る 陽イ オ ン が B i で あ る こ と を 意味 す る 。 た と え ば、 典型的 な層 状べ ロ ブス カ イ ト 構造 を と る ィ匕合物群 と し て ( B i 202 ) ( A n―, Β π 03 η ) が知 ら れて い る 。 こ の場合、 中 間層 は ( B i 2 02 ) で あ り 、 擬ぺ ロ ブス カ イ ト 構造は ( A n— , B π 03 n ) で あ る 。 添字 n は 、 擬ぺ ロ ブス カ イ ト 構造が積層 さ れて い る 方向 に お い て 、 n 段の頂点共有 し た B 06 酸素八 面体骨格が、 構成 さ れて い る こ と を 意味す る 。 第 1 図 ( b ) は 、 n = 3 で あ る 時の B i 層 状ぺ ロ ブ ス カ イ ト 化合物 ( B i 2 02 ) ( A S B S O ) の結晶構 造の層 を 横か ら 見 た投影模式図 で あ る 。 中 に 十字が記 入 さ れ た 矩形 1 1 は 、 酸素イ オ ン が中 心の B イ オ ン に 八面体配位 し て 形成 さ れ た B 06 酸素八面体 を 表わ し 、 こ れ ら B 06 酸素八面体が 3 次元的 に 頂点共有 さ れて 擬ぺ ロ ブス カ イ ト 構造 1 8 が構成 さ れて い る 。 隣合 う B 06 酸素八面体 1 1 の 間 の 間 隙 は 、 Aイ オ ン 1 2 に よ っ て 占 有 さ れて い る 。 点線 1 5 で 囲 ま れ た 部分は 、 隣 り 合 う 擬ぺ ロ ブス カ イ ト 構造 1 8 を 互い に 分離す る B i 2 02 中 間層 で あ り 、 B i イ オ ン 1 3 と 0 イ オ ン 1 4 か ら 構成 さ れて い る 。
純粋のぺ ロ ブス カ イ ト 構造で は 、 A : B : 0 の元素 比 は 1 : 1 : 3 で あ る が、 擬ぺ ロ ブス カ イ 卜 構造で は n — 1 : n : 3 n + l で あ り 、 そ の組成 を A B 03 と し て 表わす こ と は で き な い 。 こ れは 、 擬ぺ ロ ブス カ イ ト 構造が、 あ る 繰 り 返 し 周期 で 中 間層 と 隣接 さ れて い る た め で あ る こ と は 、 上記 し た と お り で あ る 。 こ の場 合、 第 1 図 ( b ) か ら 明 ら か な よ う に 、 Aイ オ ン 1 2 が 占有す べ き 場所が、 B i イ オ ン 1 3 に よ っ て 占有 さ れて い る 。
n = 2 で あ る ィ匕 合物群 と し て 、 Aが P b 、 B a お よ び S r の い ずれか一種類の元素 で あ り 、 B が N b お よ び T a の 少 な く と も 一種類の元素で あ る 化合物が知 ら れて い る 。 こ れ ら の化合物 は B i 2 02 · A B 2 07 ま た は A B i 2 B 2 09 と 表わす こ と がで き る 。
n = 3 で あ る ィ匕合物 と し て 、 Aが B i 、 B が T i で あ る 化合物が知 ら れて い る 。 こ の場合の組成は 、 B i 2 0 · B i T i 3 O 1 0 ま た は B i 4 T i 3 01 2 と 表わす こ と がで き る 。
n = 4 で あ る ィ匕合物 と し て 、 A は S r 、 B a お よ び P b の いずれか一種類の元素 お よ び B i か ら な リ 、 B は T i で あ る 化合物 が知 ら れて い る 。 こ の化合物 の組 成 は B i 0 · A B i 2 T i 4 01 3 ま た は A B i 4 T i 4 0 , 5 と 表わす こ と がで き る 。
な お 、 こ の種の B i 層状べ ロ ブス カ イ ト 化合物 は 、 た と え ば、 マ テ リ ア ル リ サーチ ブユ レ タ ン 6 ( 1 9 7 1 年 ) 1 0 2 9 頁 ( M a t e r . R e s . B u i 1 . 、 6 ( 1 9 7 1 ) 、 P P 1 0 2 9 ) な ど に 記載 さ れて い る 。
式 P b Z r , T i 】— x 03で表 さ れる ぺ ロ ブス カ イ ト 構造 を 有す る 酸化物強誘電体は 、 P b T i 03 と P b Z r O の混合比が x 対 1 一 X で あ る 固溶体で あ る 。 こ の混合比率 X を 0 力、 ら 1 ま で変 え る こ と に よ っ て 、 自 発分極、 抗電界 、 誘電率 お よ び圧電歪定数な どの物 理定数 を そ れぞれ変 え る こ と がで き 、 強誘電特性、 誘 電特性お よ び圧電性 な ど を 所望の値 に す る こ と がで き る 。 特に 、 X = 0 . 5 4 付近で 、 抗電界は最小 に 、 自 発分極は最大に な る の で 、 キ ヤ ノ シ タ と し て 使用 す る た め に は最も 優れ た 強誘電体特性が得 ら れ る 。
B i 0 · Α η— ] Β η 03 η—】 で表 さ れ る B i 層 状ぺ ロ ブス カ イ ト 化合物群 は 、 上記 の よ う に結晶構造の異 方性が大 き く 、 強誘電体特性 に お い て も 当 然大 き な異 方性 を 有 し て い る 。 例 え ば、 n が 3 、 Aが B i 、 B が T i で あ る B i 2 0 · B i 2 T i 3 01 () あ る い は B i 4 Τ i 3 Ο , 2 で表わ さ れ る 化合物 で は 、 層 に平行な 方 向 お よ び垂直な方向 に お け る 自 発分極は 、 そ れぞれ 5 0 マ イ ク ロ ク ー ロ ン Z c m2 お よ び 4 マ イ ク ロ ク ー ロ ン / c m 2 と 一桁異 な り 、 顕著 な異方性 を 示す 。 電気機 械結合係数の異方性も 大 き い の で 、 た と え ば超音波発 振子 を 用 い る ト ラ ン ス ジ ユ ーザ と し て 用 い る と 、 幅 Z 厚 み形状比の制約が小 さ い な どの利点が得 ら れる 。 ま た 、 積層 方向 で は 、 抗電界が小 さ く 分極が容易 で あ る と い う 特徴も 有 し て お り 、 さ ら に 、 B i 層状構造 に お い て は 、 分極反転サイ ク ル に と も な う 自 発分極の劣 化が小 さ い 。 こ れは 、 強誘電体特性の起源で あ る 擬ぺ ロ ブス カ イ ト 構造が、 B i 2 02 中 間層 に よ っ て 分子 レ ベルの大 き さ で緩衝 さ れる こ と に よ っ て 、 分極反転 に と も な う 結晶 内 の機械歪 みが吸収 さ れる か ら で あ る 。
し か し 、 一方で 、 第 1 図 ( b ) に示 し た従来の B i 層状べ ロ ブス カ イ ト 化合物 で は 、 擬ぺ ロ ブス カ イ ト 構 造 1 8 が、 B i 2 02層 か ら な る 中 間層 1 5 を 介 し て 、 B i 2 02層 1 5 と 平行な面 内 で 半周期す ベ リ 移動す る た め 、 B i 2 02層 1 5 に 垂直 な結晶格子 の単位胞は 、 た と え ば、 n = 2 で は 2 . 6 n m 、 n = 3 で は 3 . 3 n m、 n = 4 で は 4 . 2 n m と 非常 に 大 き く な る 。 こ の よ う な長周期構造は 、 熱平衡合成 に長時間 を 要 す る だ け で な く 、 結晶中 に 格子欠 陥 が導入 さ れやす い と い う 問題が生ず,る 。 さ ら に 、 B i 2 02層 1 5 は層 に 平行 な面内 で の 単位胞の大 き さ も 限定 さ れ 、 そ の格子 定数 は 0 . 5 4 n m力、 ら 0 . 5 5 n m ( 擬正方晶 と し て 定義 し た と き ) と い う 小 さ い値 に 制 限 さ れ る 。 そ の た め 、 B イ オ ン と し て使用 で き る イ オ ン は 、 イ オ ン半 径の小 さ い T i 、 N b お よ び T a に 限定 さ れ、 P b T i 03 と P b Z r 03 の 固溶体 P b ( Z r 、 T i ) 03 の よ う に 、 B イ オ ン の 一部も し く は全部が、 Z r に よ つ て 置換 さ れ た化合物 は得 ら れてい な い 。
す ぐ れ た 強誘電特性 を 有す る P b ( Z ]: 、 T i ) 0 3 と 、 種々 の特徴 を 付加で き る B i 中間層 の両者 を 有 す る新 し い B i 層状ぺ ロ ブス カ イ ト 強誘電体化合物が 得 ら れれば、 合成法や薄膜作製法 だ け で な く 、 こ の化 合物の キ ャ パ シ タ ゃ超音波発振子へ の応用 の広 が り が 期待 さ れ る 。
[ 発明 の開示 〕
本発明 の 目 的は 、 上記従来の B i 層状酸化物強誘電 体の有す る 上記問題 を解決 し 、 上記結晶学的欠点がな く 、 かつ 、 所望の物性値 を 得 る こ と がで き 、 かつ 、 強 誘電体特性がす ぐ れ た B i 層 状酸化物強誘電体、 お よ び こ の よ う な B i 層状酸化物強誘電体 を 、 容易 かつ高 い精度で形成す る こ と の で き る B i 層状酸化物強誘電 体の製造方法 を 提供す る こ と で あ る 。
上記 目 的 を 達成す る た め 、 本発明 は 、 上記 中 間層 と し て 、 B i 2 02 層 で は な く 、 B i O層 を 用 い る こ と に よ っ て 、 擬ぺ ロ ブス カ イ ト 構造が P b n -, ( Z r 、 T i ) n O 3 , で 表わ さ れ 、 中 間層 が B i 0 で あ る B i 層状酸化物強誘電体 を 構成す る も の で あ る 。
第 1 図 ( b ) に示 し た上記従来の B i 層状ぺ ロ ブス カ イ ト 化合物 B i 2 02 · A n―, B π 03 n - , で は 、 中 間層
1 5 は B i イ オ ン 1 3 面 酸素イ オ ン 1 4 面 Z B i ィ オ ン 1 3 面の よ う に 、 2 枚の B i イ オ ン面 と 1 枚の 0 イ オ ン 面か ら 構成 さ れて い る 。
一方 、 B イ オ ン と し て 銅 を 含 む B i 2 02 中 間層 を 有 す る B i 層状ぺ ロ ブス カ イ ト 構造が知 ら れて お り 、 こ の構造 を 第 1 図 ( c ) に示 し た 。 こ の場合の ( B i 2 02 ) 中 間層 1 6 は 、 B i イ オ ン 1 3 と 0 イ オ ン 1 4 の配列が、 第 1 図 ( b ) の場合 と は異な っ て お り 、 B i 2 02 中 間層 1 6 は 、 N a C 型構造 を 有す る 2 枚の B i — 0面か ら 構成 さ れて い る 。 し か も 、 擬ぺ ロ ブス カ イ ト構造 1 8 に 対す る 中 間層 1 6 の相対的配置が、 第 1 図 ( b ) の場合 と は異 な っ て い る 。 つ ま り 、 第 1 図 ( b ) の場合は 、 中 間層 1 5 の B i イ オ ン 1 3 を 含 む面 と 擬ぺ ロ ブス カ イ 卜 構造 1 8 の B 06 酸素八面体 1 1 と が隣接 し て る が、 第 1 図 ( c ) で は 、 中 間層 1 6 の B i 一 0イ オ ン面 と 擬ぺ ロ ブス カ イ ト 構造 1 8 の Aイ オ ン 1 2 と が隣接 し て い る 。 こ の違い に よ り 、 A イ オ ン の組成比が高 く な り 、 擬ぺ ロ ブス カ イ ト 構造 1 8 の組成 は 、 式 & i 2 02 · Α π -】 Β η 03 π— , で表わ さ れ る 。
第 1 図 ( c ) に 示 し た B i 2 02 中 間層 1 6 を 有 し 、 B イ オ ン と し て T i イ オ ン を 含 む化 合物 の合成 を 試み た 。 し か し 、 第 1 図 ( b ) お よ び第 1 図 ( c ) に示 し た構造で は 、 B i イ オ ン に対す る B イ オ ン の比が、 い ずれ も 2 対 n で 同 じ で あ る た め に 、 よ り 安定 な第 1 図 ( b ) に示 し た従来の化合物 が生成 さ れて し ま う の は 避 け ら れず、 第 1 図 ( c ) に 示 し た B i 層状 T i ペ コ ブス カ イ ト 構造 は形成で き な か っ た 。
し か し 、 B イ オ ン と し て 銅 を 含み 、 中 間層 が T 0 で構成 さ れる Τ £ 層状ぺ ロ ブス カ イ ト 化合物群が知 ら れて い る 。 こ の ( Τ £ 0 ) 中 間層 を B i O層状 中 間層 に 置換 し て 形成 さ れた B i 層状化合物 を 第 1 図 ( a ) に示 し た 。
こ の構造 に お い て は 、 中 間層 1 7 は 1 枚の B i 一 0 イ オ ン 面で構成 さ れ、 第 1 図 ( c ) に示 し た構造 と 同 様に 、 B i — 0 イ オ ン面 は擬ぺ ロ ブス カ イ ト構造中 の Aイ オ ン 面 と 隣接 し て い る 。
し か し 、 第 1 図 ( a ) に 示 し た構造 と 第 1 図 ( b ) も し く は第 1 図 ( c ) に 示 し た構造 と の 間 に は 、 二つ の大 き な相違点があ る 。
第 1 の相違点 は 、 B i 中 間層 を 介 し て の擬ぺ ロ ブス カ イ ト 構造の相対的位置関係 が互い に異 な る こ と で あ る 。 す な わ ち 、 第 1 図 ( a ) に 示 し た構造で は 、 中 間 層 1 7 の 上 に配置 さ れ た B 06 酸素八面体は 、 B i O 中 間層 1 7 の 下 に 配置 さ れ た 酸素八面体の真上 に位置 し て い る が、 第 1 図 ( b ) お よ び第 1 図 ( c ) に 示 し た構造で は 、 B i 202 中 間層 1 5 、 1 6 の 上 に 配置 さ れ た酸素八面体は 、 中 間層 1 5 、 1 6 の下 に配置 さ れ た 酸素八面体 と 半周期ずれ た位置 に位置 し て い る ( 紙 面 に垂直 な方向 で も 同 じ で あ る ) 。
第 2 の相違点 は 、 第 1 図 ( a ) に 示 し た B i 層 状べ ロ ブス カ イ ト 化合物群 は 、 式 B i 0 · A n, , B n O a : で表わ さ れ、 B i : A : B の イ オ ン比は 1 : n + 1 : n で あ る 。 こ の イ オ ン比 は 、 上記第 1 図 ( b ) に示 し た化合物 のイ オ ン比、 2 : n — 1 : n 、 と は全 く 異 な る 。 こ れ ら の相違点か ら 、 第 1 図 ( a ) に示 し た構造 は 、 新規な強誘電性の B i 層 状ぺ ロ ブス カ イ ト 構造で あ り 、 各元素 の比が異 な る た め 、 第 1 図 ( b ) に示 し た化合物 が混成 さ れ る 恐れは な く 、 純度の高 い化合物 が得 ら れ る 。 第 1 図 ( a ) に 示 し た B i 層 状ぺ ロ ブス カ イ ト化合 物 の組成は 、 式 B i 0 · A n- , B n 03 n— , と 表わ さ れ る 。 擬ぺ ロ ブス カ イ ト 構造 1 8 と し て 、 強誘電体特性 に優 れ る P b n - ( Z r T i ) n 03 n— , を 用 い た場合、 す な わ ち 、 Aイ オ ン と し て + 2 価 の P b イ オ ン を 用 い 、 B イ オ ン と し て + 4 価の T i お よ び / ま た は Z r ィ ォ ン を 用 い た場合は 、 B i イ オ ン は + 3 価 な の で 、 電気 的 中性の原理 に よ り 、 n + 1 個 の Aイ オ ン 1 2 に対 し て 、 合計 + ( 2 n + 1 ) の電荷 が割 リ 当 て ら れ る が、 + ( 2 n + 1 ) の電荷 を n + 1 個の 2 価 の P b イ オ ン に均等 に 割 り 当 て る こ と は で き な い 。
そ の た め 、 Aイ オ ン を 、 結晶学的 に 大 き く 異 な る 2 つ の場所、 す な わ ち 、 B O s酸素八面体 に 囲 ま れ る 凝 ぺ ロ ブス カ イ ト 構造中 の ( n — 1 ) 個 の Aイ オ ン 1 2 と 、 B i — 0 イ オ ン 面 と 隣接す る 擬ぺ ロ ブス カ イ ト 構 造 中 の 2 個 の Aイ オ ン 1 9 と に 分 け て 考 え る 。 具体的 に は 、 Aイ オ ン を B 06 酸素八面体 に 囲 ま れる 擬ぺ ロ ブス カ イ ト 構造中 の n — 1 個 の + 2 価 の P b イ オ ン 1 2 と B i — 0 イ オ ン 面 と 隣接す る 擬ぺ ロ ブス カ イ ト 構 造中 の A ' イ オ ン 1 9 と に 分 け る 。
こ の 主 旨 に沿 っ て 式 B ΐ Ο Α η ^ Β η Ο ^— , を 書 き 変 え る と 、 B i O A ' 2 P b n - ( Z r T i ) n 03 n と な り 、 具体的 に は下記 の よ う に な る 。
n = 2 の 時は 、 B i 0 A ' P b ( Z r 、 T :■ ) 207
n 3 の時は 、
B i O A ' 2 P b 2 ( Z r 、 T 1 ノ 、
n 4 の時は 、
B i O A ' 2 P b 3 ( Z r 、 T Ϊ ) 0 ,
で 、 Aイ オ ン 全体 に 割 り 当 て ら れ る 合計 + ( 2 n + 1 ) の電荷 の'内 、 ( n — 1 ) 個 の P b に 割 り 当 て ら れ る 電荷 + 2 ( n - 1 ) を 差 し 引 い て 、 A ' 2 に は 合計 + 3 価が割 り 当 て ら れ る の で 、 A ' は ( B a 、 K ) 、 た だ し B a と Kの比 は 1 対 1 、 も し く は し a。 . 5で あ る 。 B a と Kは 、 い ずれも P b よ り も イ オ ン 半径が 大 き い の で 、 A ' イ オ ン 位置へ の選択的 な 占 有が起 こ り やす い と い う 理由 か ら 、 使用 し た 。 L a は A ' 位置 の 半分の み を 占有 し 、 残 り は格子欠損 と な る の で 、 B
3· お よ び K と 同様 に 、 最 も イ オ ン 半径の大 き い と い う 理由 か ら 選択 さ れ た 。 .
n が 5 以上の 時は 、 自 由 エネル ギ の点で は 、 異 な る n の 間で の差が小 さ く 、 化 合物 を 単離 し に く い の で 、 n は 4 以下 と し た 。 n = 1 の 時は 、 P b を 含 む擬ぺ ロ ブス 力 ィ ト 構造が形成 さ れ な い の で 、 n は 2 以上 と し た 。
な お 、 第 1 図 ( a ) 〜第 1 図 ( c ) は結晶構造の投 影模式図 で あ り 、 ぺ ロ ブス カ イ ト 強誘電体 に 特有 な結 晶歪み の 図示は省略 さ れ、 B 06 酸素八面体 お よ び単 位胞 は対称性の高 い理想形状 と し て 示 さ れて い る 。 微 妙な結晶歪 み は示 さ れて い な い が、 本発明 の B i 層状 酸化物強誘電体の結晶 の基本骨格は 、 第 1 図 ( a ) か ら 明 ら かで あ る 。
上記第 1 図 ( a ) に示 し た 本発明 の B i 層状酸化物 強誘電体は 、 下記 の よ う に 、 優れ た強誘電体特性 を 有 し て い る の で 、 こ の B i 層状酸化物強誘電体 を 用 い る こ と に よ っ て 、 従来 よ り す ぐ れ た特性 を 有す る キ ヤ ノ シ タ 、 超音波発振子 お よ び弾性表面波素子等の強誘電 体素子 を 得 る こ と がで き る 。
す な わ ち 、 従来の B i 2 02 中 間層 1 5 を 有す る B i 層状ぺ ロ ブス カ イ ト 構造 ( 第 1 図 ( b ) ) で は 、 B i 2 02 中 間層 1 5 に よ っ て 、 擬ぺ ロ ブス カ イ ト 構造 1 8 が支配 さ れ 、 B i 2 02 中 間層 1 5 に平行な面 内 に お け る 結晶格子 の単位胞の大 き さ が規定 さ れて い た 。 す な わ ち 、 B i 2 02 中 間層 1 5 を 形成す る 2 枚の B i ィ ォ ン 面 1 3 は 、 擬ぺ ロ ブス カ イ ト 構造 1 8 中 の 8 06 酸 素八面体 に 対 し て 、 Aイ オ ン 1 2 と ほ ぼ同 じ 配位関係 を 保 ち 、 かつ 、 2 枚の B i 面 1 3 は 1 枚の 0面 1 4 で 結合 さ れ る た め 、 B i 2 02 中 間層 1 5 は強い結合力 で B i 2 02 中 間層 1 5 自 体 お よ び擬ぺ ロ ブス カ イ ト構造 1 8 を 拘束 し て い る 。 こ の た め 、 正方晶 と 見做 し た と き の 、 B i 2 02 中 間層 1 5 に 平行 な面内 で の格子定数 の大 き さ が制限 さ れて 、 0 . 5 4 n mか ら 0 . 5 5 η m に過 ぎな い 。 こ の こ と は 、 擬ぺ ロ ブス カ イ ト 構造 1 8 を 設計す る 際の 自 由 度が小 さ く 、 し た が っ て 、 強誘 電体化合物 を 設計す る 上で の 最 も 基本因子で あ る 結晶 格子 に 歪み を 持 た せ る こ と が困難で あ る あ こ と を 意味 す る 。
一方 、 本発明 に お け る B i 0 中 間層 1 7 で は 、 一枚 の B i — O面 1 3 、 1 4 が、 擬ぺ ロ ブス カ イ ト 構造 1 8 と は独立 し た構造単位 と し て 、 結晶格子 中 に存在す る 。 ま た 、 B i O 中 間層 1 7 内 で の結合 も 、 B i 2 02 中 間層 1 5 の場合ほ ど 3 次元 的で な い た め 、 B i 0 中 間層 1 7 は 、 擬ぺ ロ ブス カ イ ト 構造 1 8 の層 に平行な 面 内 で の格子定数 を 支配す る 力 が弱 い 。 む し ろ 、 擬ぺ ロ ブス カ イ ト 構造 1 8 中 に お け る 結合長 さ に よ っ て 、 そ の格子定数が決定 さ れ る 。 P b ( Z r 、 T i ) O で は 、 Z r 比率が高 く な る に と も な っ て 、 格子定数は 0 . 5 5 n mカヽ ら 0 . 5 8 n m ま で 変化す る 。 第 1 図 ( b ) に示 し た従来の構造 の場合は 、 B i 2 02 中 間層 1 5 の格子定数は 0 . 5 5 n m以下 に 制限 さ れて い た が、 こ の よ う な制限が除かれ る こ と は 、 本発明 の B i 0層状ぺ ロ ブス カ イ ト 化合物群の大 き な利点で あ り 、 所望の特性 を 得 る こ と がで き る 。
ま た 、 従来の B i 2 02 中 間層 1 5 で は 、 第 1 図 ( b ) カヽ ら 明 ら か な よ う に 、 B i 2 02 中 間層 1 5 を 挟ん で 設 け ら れ た擬ぺ ロ ブス カ イ ト 構造 1 8 の面内 で のすべ り に よ っ て 、 c 軸 方向 ( 層 が積み重 な る 方向 ) に お け る 格子定数が 2 倍 に な る 。
し か し 、 本発明 の B i 0 中 間層 1 7 で は 、 B i 0面 を 挟ん で格子 のすベ リ がな く 、 c 軸方向 に お い て 格子 行数が 2 倍 に な る こ と は な い 。
n が 2 か ら 4 に増 大 し た場合、 B i 2 02 中 間層 1 5 の場合 に は 、 格子定数 は 2 . 6 n mか ら 4 . 2 n m に 変化す る の に 対 し 、 本発明 に お け る B i 0 中 間層 1 7 の場合 に は 、 格子定数の変化 は 1 . 3 n m か ら 2 . 1 n mで あ り 、 上記 B i 2 02 中 間層 1 5 に お け る 変化の 半分 に 過 ぎな い 。
本発明で は 、 こ の よ う に 、 c 軸方向 に お け る 周期 力 小 さ い た め 、 格子の 安定性が高 い 、 合成が容易 で あ る お よ び格子欠陥 が少 な い な ど 、 多 く の利点 が得 ら れる 。
ま た 、 P b ( Z r 、 T i ) O 3 の場合 と 同様 に 、 部 分元素置換 を B i 0層 状べ ロ ブス カ イ ト 構造 に も 行 う こ と がで き 、 P b イ オ ン の一部 を L a イ オ ン で 置換す る こ と に よ り 、 抗電界が減少す る 。 例 え ば、 n = 3 の B i O層状強誘電体で は 、 P b イ オ ン を L a イ オ ン で 5 %置換す る こ と に よ り 、 抗電界は数 k V Z c m低下 す る 。 置換 限界は薄膜の方が大 き い が、 少 な く と も 1 0 % 以上置換す る と 、 異相 の析出 が、 X線回折 に よ つ て 明 ら か に認め ら れ る 。
( Z r 、 T i ) を ( N b 、 T a ) で 置換す る こ ども で き る 。 n = 3 の B i O層状強誘電体の ( Z r 、 T i ) イ オ ン を N b イ オ ン に よ っ て 3 %置換す る こ と に よ り 、 同様 に抗電界は数 k V Z c m低下す る 。 置換限界は 同 様 に 1 0 %程度で あ る 。
本発明 の B i 層 状酸化物強誘電体化合物群は 、 例 え ば粉体合成法や ソ ルゲル法な ど通常 のセ ラ ミ ッ ク 合成 法、 お よ び例 え ば C V D ( 化学気相成長 ) 法 、 ス パ ッ タ リ ン グ法 、 反応性蒸着法 お よ びパル ス レ ーザ蒸着法 な ど各種薄膜作製法 な ど 、 周 知 の 方法 に よ っ て 容易 に 形成す る こ と がで き る 。
た だ し 、 さ ら に 異相 の 少 な い 、 あ る い は 、 さ ら に結 晶方位が配向 し た化合物 を 得 る 場合 に は 、 下記方法 を 用 い る こ と が好 ま し い 。
あ ら か じ め 前駆体 と し て 所望組成の P b n_ , ( Z r 、 T i ) n C を 合成す る 。 こ の前駆体 に お い て 、 必ず し も 厳密 にぺ ロ ブス カ イ ト 組成比で な く て も よ い が、 ぺ ロ ブス カ イ ト 構造 と 若干 の異相 が、 互い に均一 に 混合 さ れて い る こ と が重要で あ る 。
次 に 、 B i 酸化物 お よ び A ' 酸化物 ( 例 え ば、 B i 2 03 、 L a 203 、 K 20 、 B a 0 な ど ) を所定 の組成 比で 前駆体 と 混合 し 、 反応 さ せ る こ と に よ っ て 、 擬ぺ 口 ブス カ イ ト 構造が P b ( Z r 、 T i ) O か ら な リ 、 中間層 が B i 0 か ら な る B i 層状酸化物強誘電体が、 高い収率で合成 さ れ る 。 ま た 、 前駆体 と し て A ' 2 P b n—】 ( Z r 、 T i ) n 0 を 用 い 、 こ れ に B i 2 O を 所定 の組成比で混合 し 反応 さ せて も 、 同様の効果が得 ら れ る 。
B i 0 中 間層 を 有す る 層状ぺ ロ ブス カ イ ト構造化合 物 の薄膜形成で は 、 い わ ゆ る 層 単位 の薄膜形成 ( 1 層 づっ順次積層 し て形成す る 方法 ) も 有効 で あ る 。 B i 層 状構造は結晶 の異方性が強 い 、 つ ま り 、 結晶構造の 2 次元性が強 い ので 、 結晶構造が層 に平行 な原子面が、 積み重 っ て 構成 さ れて い る と 見做す こ と がで き る 。
例 え ば、 R H E E D ( 反射電子線回 折 ) に よ っ て 各原 子層 の完成 を 確認 し 、 結晶成長 を 高度 に 制御 し な が ら 、 C V D法 、 パル ス レ ーザ蒸着法あ る い は 酸化物 M B E 法 を 用 い て 、 B i O / ( K、 B a ) 0 / ( Z r 、 T i ) Ο 2 / Ρ b Ο / ( Ζ Γ 、 Τ i ) 0 / ( Κ 、 Β a ) 0 / Β i 0 /…… の よ う に 、 多 く の原子層 を順次積み重ね て形成す る こ と に よ っ て 、 B i 層状酸化物強誘電体の 薄膜 を 効率良 く 形成す る こ と がで き る 。
本発明 の B i 層状強誘電体の結晶粒 を 選択的 に 配向 さ せ る 方法 と し て 、 圧力 を 印加 し な が ら 高温で焼結す る 方法 を 用 い る こ と がで き る 。
結晶構造が異方的で あ る 場合 、 結晶粒 の集合体 に圧 力 を カ卩 え る と 、 粒子間 あ る い は粒子内 に お け る すベ リ に よ っ て 、 結晶が優先的 に 配向 す る 。 従 っ て 、 本発明 の化合物で は 、 結晶構造が異方性 を 有 し て い る た め 、 圧力 を 加 え た方 向 に沿 っ て 、 B i 層状構造が積層 し て 形成 さ れ る 。
基板面 と 垂直 な 方向 に 、 B i O 層 が成長す る 配向薄 膜 を形成す る に は 、 下記方法が有効で あ る 。
す な わ ち 、 速 い成長速度 、 例 え ば 3 0 n m Z分で B i 層状化合物 を 形成す る 方法で あ り 、 こ の場合、 B i な ど陽イ オ ン の供給過剰 に よ っ て 過飽和成長が起 こ り 、 そ の た め 、 基板面 と 垂直 に B i 0 層 が成長 し やす く な る 。
遅 い成長速度 、 例 え ば 1 n m Z分で 同様の配向成長 を 達成す る 方法 と し て 、 薄膜成長中 の基板表面 に 赤外 か ら 紫外領域の光 を 照射す る 方法が有効で あ る 。 断続 的 に 光 を 照射 し て 、 薄膜成長表面の急速加熱 と 冷却 を 繰 り 返 し な が ら 成長 を 行 う と 、 過冷却 さ れて 結晶成長 が行われ 、 基板面 と 垂直 に B i 層 が成長 し や す く な る 。
光照射 に よ っ て 配向 を 生 じ さ せ る 方法は 、 ゾルゲル 法な ど を 用 い た塗布 に よ っ て 、 B i 0 層 を 形成す る 場 合 に も 有効で あ る 。 こ の場合、 ま ず、 厚 さ 数 1 0 n m 程度 の塗布膜 を 形成 し た後、 こ の塗布膜 に 光 を 断続的 に 照射 し て 、 急速 な加熱 と 冷却 を 行い 、 結晶化 さ せ る 。 こ れ に よ り 、 B i 0 層 が基板面 と 垂直で あ る 配向核が 形成 さ れ る 。
薄膜形成方法 と し て 、 ゾルゲル法 お よ び通常 の薄膜 形成法の いずれ を 用 い て も 、 配向核が一度形成 さ れれ ば、 以降の膜成長で は 、 光照射 を 行わ な く て も 、 薄膜 全体 を 基板 と 垂直 に 成長 さ せ る こ と がで き る 。
[ 図面 の簡単な説明 〕
第 1 図 ( a ) は 本発明 の B i 層状ぺ ロ ブス カ イ ト 構 造 を 示す 図 、
第 1 図 ( b ) は従来の B i 層 状べ ロ ブス カ イ ト 構造 を 示す 図 、
第 1 図 ( c ) は仮想的 な B i 層状ぺ ロ ブス カ イ ト 構 造 を 示す 図 、
第 2 図 は B i 0 層 状強誘電体 を 誘電体膜 と し て 用 い た キ ャ パ シ タ の構造 を 示す 図 、
第 3 図 は分極反転サ イ ク ル に伴 う 飽和残留 分極値の 変化 を 示す 図 、
第 4 図 は B i 0 層状強誘電体 を 用 い た S A W素子 の 概略 を 示す 図 で あ る 。
〔 発明 を 実施す る た め の最良 の形態 〕
本発明 を 実施例 に も と づい て 詳細 に 説明 す る 。
く実施例 1 〉
通常 の粉体合成 と 焼結法 を 用 い て B i 層状べ ロ プス カ イ ト 化合物群 を 形成 し た 。
ま ず、 試薬特級品 ( 純度 9 9 . 5 % 以上 ) の金属酸 化物粉末、 B i 2 03 、 B a C 03 、 K 2 C 03 、 P b O 、 Z r 02 、 T i 02 の所要量 を 、 式 B i O ( B a o . 5 K o .
5 ) 2 P b n- , ( Ζ Γ Ο . 5、 T ΐ 0. 5 ) n 03 n + , ( Π = 2 、 3 、 4 ) に従 っ て 、 そ れぞれ秤量 し た 。
次 に 、 こ れ ら の金属 酸化物 の混合粉末 を 、 ポ リ ェチ レ ン 製 のポ ッ ト に ジル コ ニ ァ 製ポ ール と と も に 入れ、 ア セ ト ン に浸潰 さ せて 約 1 2 時間均一 に混合 し た後、 乾燥器中で 2 0 0 °C 、 5 時間乾燥 し 、 円筒形圧力 成型 器で 約 0 . 9 ト ン Z平方セ ン チ メ ー ト ル の圧力 で成型 し た 。
得 ら れ た成型体 を ア ル ミ ナ る つ ぼに 入れ 、 空気中 8 5 0 °C で 2 時間 、 仮焼成 し た後 、 ら い か い機で 再び粉 砕 し て 混合 し た 。 こ の仮焼成 と 混合の処理 を 合計 3 回 繰 り 返 し 、 得 ら れ た合成物 の粉末 を 、 円筒形圧力 成型 器に よ っ て 2 ト ン / c m 2の圧力 を 印カ卩 し て 、 直径 1 0 ミ リ メ ー ト ル厚 さ 5 ミ リ メ 一 ト ル の 円板状 に 成型 し 、 さ ら に 、 空気中 1 0 5 0 °C で 1 時間焼成 し て 、 目 的 と す る 化合物 を形成 し た 。
得 ら れ た化 合物 を 粉砕 し て 粉末 X線回 折法 に よ っ て 分析 し た と こ ろ 、 特 に 顕著 な異相や不純物 は認め ら れ ず、 n = 2 、 3 、 4 のす ベ て の場合 に つ い て 、 層状ぺ ロ ブス カ イ ト 構造 を 示す 回 折線が得 ら れ た 。 格子定数 は 、 n = 2 の と き は 、 a = 0 . 5 6 n m、 c = 1 . 3 n m、 n = 3 の と き は 、 a = 0 . 5 6 n m、 c = 1 . 7 n m 、 n = 4 の と き は 、 a = 0 . 5 6 n m、 c = 2 . 1 n mで あ っ た 。
く実施例 2 〉 本実施例 は 、 B i 層状ぺ ロ ブス カ イ ト 薄膜 を R F マ グネ ト ロ ン ス ノ ッ タ リ ン グ法 を 用 い て 作成 し た例で あ る 。
実施例 1 と 同 じ 方法 を 用 い て 、 式 B i O ( L a 0 . 5 ) 2 P b 2 T i 3 B 1 (1 ( 元素比、 B i : L a : P b : T i = 1 : 1 : 2 : 3 ) 、 で 表 さ れ る 組成 を 有す る 直径 3 0 m m の焼結体タ ーゲ ッ ト を 作成 し た 。 基板 に は厚 さ 1 2 0 n mの 白 金電極で被覆 し た 1 0 m m角 の M g O ( 1 0 0 ) 単結晶 を 用 い 、 成膜条件は 、 ヒ ー タ 温度 7 0 0 t 、 放電 ガス /酸素 ガス 圧 力比 A r / 02 = 9 0 1 0 、 全圧力 5 m T o r r 、 入射電力 1 . 5 W Z c m2 、 成膜速度 5 n m Z分 と し た 。
同 一 の条件で い く つ かの薄膜 を 作製 し た が、 あ る 薄 膜 に つ い て は 、 ス パ ッ タ リ ン グの 際 に 基板表面 に ェ キ シ マ レ ーザ を 照射 し て 、 B i 層 が基板面 と 垂直 に 成長 す る よ う に し た 。 レ ーザ照射 の条件は 、 エネ ル ギ密度 : 2 0 ミ リ ジ ュ ール / c m2 、 繰 り 返 し 周波数 : 1 0 へ ル ツ 、 波長 : 2 4 8 n m、 照射面積 : 基板全面 と し た 。
生成 さ れ た化合物の 同定 お よ び薄膜 の配向 は 、 X線 回折法 に よ っ て 行 っ た 。 帰属 で き な い X線回折線 ( 物 質 が同定で き な い 回折線 ) が数本観察 さ れ た が、 こ の よ う な未知 の 回 折線の 、 目 的 と す る ィ匕合物か ら の 回折 線 に 対す る 強度比 は 0 . 5 % 以下で あ り 、 組成不明 な 化合物 の生成は 、 実用 上無視で き る こ と が認め ら れ た 。 I C P s 法 ( イ ン ダ ク テ ィ ブ リ · カ プル ト · プラ ズ マ 分光法 ) を 用 い た 分析 に よ っ て 得 ら れ た 、 膜の陽ィ オ ン組成比 は 、 B i : L a : P b : T i = 0 . 9 8 : 1 : 1 . 9 7 : 3 で あ り 、 測定精度 の範囲 内 で タ ー ゲ ッ ト 組成 と 一致 し た 。
レ ーザ を 照射 し な い で ス ノ ッ タ リ ン グ を 行 っ た場合 は 、 c 軸が M g 0基板面 と 垂直 に な り 、 レ ーザ を 照射 し な が ら ス ノ ッ タ リ ン グ を 行 っ た場合は 、 c 軸 が基板 面 と 平行 に な る よ う に 、 薄膜 ( 膜厚 2 0 0 n m ) が配 向成長 し た 。 こ の薄膜の膜厚 が、 基板 と の格子不整合 の影響 を 無視 し 得 る の に 十分 な膜厚で あ る よ う に す る と 、 こ の化 合物薄膜の格子定数 は 、 a = 0 . 5 4 n m c = 1 . 6 n mで あ っ た 。
く実施例 3 〉
本実施例は 、 B i 層状ぺ ロ プス カ イ ト 化合物 を P b Z r Q. 7 T i . 3 ) n O z前駆体 を 用 い て 合成 し た例で あ る 。
ま ず、 上記前駆体の粉末 を ホ ッ ト プ レ ス法 を 用 い て 合成 し た 。 P b O T i 02 Z r 02 を n = 2 3 4 の場合 に つ い て そ れぞれ秤量 し 、 メ ノ ゥ 乳鉢 を 用 い る ら い か い機で 2 時間均一混合 し た 。
得 ら れ た混合粉末 を ホ ッ ト プ レ ス装置 に よ っ て 、 1 2 0 0 °C 2 時間 、 酸素雰囲気中 、 1 2 0 キ ロ グラ ム ノ c m2 と い う 条件で 反応 さ せて 、 前駆体 を 形成 し た 。 得 ら れ た 前駆体の粉末 を X線回折 に よ っ て 分析 し た 結果、 擬立方晶形で あ る P b ( Z r 、 T i ) 03 、 Z r 02 お よ び T i O 2 と 思わ れ る 混合相 が確認 さ れ た 。 こ れ に 全体 の モル比が、 B i 0 ( B a。 . 5、 K。 . 5 )
2 P b n - , ( Z r 0. 7 、 T ΐ 0 . 3 ) n 03 n と な る よ う に 規定量 の B i 2 03 、 B a C 03 お よ び K 2 C 03 を 添加 し た後 、 ア セ ト ン を 混合溶媒 と し て ポ リ エチ レ ン製の ポ ッ ト に ジル コ ニ ァ 製ボ ール と と も に 入れて 、 約 1 2 時間均一 に 混合 し た 。
乾燥器中 で 2 0 0 °C 、 5 時間の乾燥 を 行 っ た後 、 円 筒形 に 圧粉成型 し 、 空気中 、 8 5 0 °Cで 2 時間反応 さ せ た 。 ら い か い機 に よ る 粉砕 と ポール ミ ル を 用 い た均 —混合 を 合計 3 回繰 り 返 し 、 得 ら れ た合成粉体 を 、 円 筒形圧 力成型器 を 用 い て 、 2 ト ン c m2 の圧力 を 印 加 し て 、 直径 1 0 m m厚 さ 5 m mの 円板状 に 成型 し た 後 、 さ ら に 空気中 に お い て 1 0 5 0 °Cで 1 時間焼成 し て 、 目 的の化合物 を 得 た 。
得 ら れ た化 合物の粉末 を X線回折法 に よ リ 分析 し た が、 回折線の半値幅 は 、 前駆体 を 用 い な い 方法で 得 ら れ た化合物 の 回折線の 半値幅 の約 7 0 % で あ っ た 。 こ の こ と は 、 B i 0 中 間層 お よ び擬ぺ ロ ブス カ イ ト 構造 に お け る 、 イ オ ン の選択的 占有が、 そ れぞれ さ ら に 顕 著で あ る こ と を 示 し て い る 。
ま た 、 すべ て の 回 折線が、 B i 層状ぺ ロ ブス カ イ 卜 構造 に よ る も の で あ る こ と が認め ら れ た 。 格子定数は 、 n = 2 の と き は 、 a = 0 . 5 7 n m 、 c = 1 . 3 n m、 n = 3 の と き は 、 a = 0 . 5 7 n m、 c = 1 . 7 n m、 n = 4 の と き は 、 a = 0 . 5 7 n m 、 c = 2 . 1 n m で あ っ た 。
く実施例 4 〉
本実施例 は 、 本発明 の B i 層 状酸化物強誘電体 を 、 ゾル ゲル法 を 用 い て 形成 し た例 で あ る 。
硝酸 ジ ル コ ニ ウ ム 、 酢酸鉛 、 硝酸 ビ ス マ ス 、 硝酸ラ ン タ ン お よ びチ タ ニ ウ ム テ ト ラ ブ ト キ サイ ド を 、 式 B i 0 L a P b n— ( Z r 。 . 3 、 T i 。 . 7 ) n 03 n -】 ( た だ し 、 n = 2 、 3 、 4 ) に従 っ て 秤量 し 、 ト リ エチ レ ン グ リ コ ール と 酢酸の混合溶媒 に 溶解 さ せて 、 窒素 ガス 雰囲気中 で 1 0 時間攪拌 し た 。
蒸着法 に よ っ て 表面 に 白 金膜が形成 さ れ た シ リ コ ン 基板 を 上記硝酸ラ ン タ ン な ど が溶解 さ れ た 上記混合溶 媒 に浸 し た後 、 4 c m 分の 一定速度で 引 き 上 げた 。
5 分間風乾 し た後 、 8 0 °C で 2 時間乾燥、 2 °C 分 の速度で 5 0 0 °C ま で 昇温 し 、 5 0 0 °Cで の 1 時間加 熱 お よ び 4 °C Z分の速度 で 7 5 0 °C ま で昇温 を 、 順次 行 っ た後、 7 5 0 °C、 5 時間 の熱処理 を 行 っ て 、 膜厚 力 1 5 0 n m程度の所定の化合物膜 を 形成 し た 。
得 ら れ た膜 を X線回折 に よ っ て 調べ た結果、 すべ て の 回折線は B i 層状ぺ ロ ブス カ イ ト 構造 に 帰属 し 、 所 望化合物 が形成 さ れて い る こ と が確認 さ れ た 。 格子定 数は 、 n = 2 の と き は 、 a = 0 . 5 5 n m 、 c = 1 . 3 n m 、 n = 3 の と き は 、 a = 0 . 5 5 n m、 c = 1 . 6 n m 、 n = 4 の と き は 、 a = 0 . 5 5 n m、 c = 2 . 0 n mで あ っ た 。
く実施例 5 〉
本実施例は 、 n = 4 で あ る 本発明 の B i 層状酸化物 強誘電体 B i O ( B a 、 K ) a P b η - i ( Z r 。. 5 T i 0. 5 ) η 03 η— ,化合物薄膜 を 、 パル ス レ ーザ蒸着法 を 用 い て 層 単位の逐次形成法 に よ り 作成 し た例 で あ る 。
下記 4 元焼結体タ ーゲ ッ ト A、 B 、 C 、 Dす な わち 、 A : ( B a 、 K、 0 ) 、 B : ( Z r 02 、 T i 02 ) 、 C : ( P b O ) お よ び D : B i 2 O 3 、 を 用 い た 。
S r T i O 3 ( チ タ ン 酸ス ト ロ ン チ ウ ム ) の ( 0 0 1 ) 単結晶基板上 に 、 A Z B Z C / B Z C Z B / C Z B Z A Z D を ひ と つ の単位格子 に 対す る 基本的 な繰 り 返 し 単位 と し 、 こ れ を 2 5 回繰 り 返 し て 薄膜 を 形成 し た 。
各層 A、 B 、 C 、 D の成長状態 を 、 作動排気型 R H E E D ( 反 射電子線回折 ) に よ る そ の場観察 に よ っ て 監視 し 、 蛍光板上の反射ス ポ ッ 卜 の強度振動 を C C D カ メ ラ を 用 い て リ ア ルタ イ ム に 測定 し 、 こ れ を レ ーザ お よ びタ ー ゲ ッ ト 交換回転モー タ と 連動 さ せて 、 各層 の成長 を 制御 し た 。 薄膜作製条件は下記 の通 り で あ る 。 レ ーザ : 波長 2 4 8 n mのエ キ シ マ レ ーザ を 用 い 、 タ ーケ ッ 卜 表面上で の エネ ル ギ密度 は 0 . 5 か ら 1 ジ ユ ー ノレ c m - 、 繰 り 返 し 周 波数 は 5 ヘル ツ と し た 。 酸化源 : ォ ゾ ン発生機 に よ っ て 生成 さ れ た オ ゾ ン を 低温分留 し て 精製 し 、 得 ら れ た純オ ゾ ン ガス を 基板近 傍 に 吹 き 付 け た
真空槽内 の圧力 : 0 . 1 ミ リ ト ーノレ と し た 。
R H E E D 強度振動 に減衰が見 ら れ た と き に は 、 最 長 3 0 秒間蒸着 を 中 断 し 、 強度 の復帰 を 確認 し た後 に 蒸着 を 再開 し た 。 薄膜形成 直後 の R H E E D図形か ら 薄膜は 、 基板面 内 で 4 回 対称性 を 有 し て い て い る こ と が確認 さ れ た 。
X線回折 を 用 い て 基板面 と 平行な格子面か ら の 回折 線 を 測定 し た 。
そ の結果、 上記実施例 2 に 示 し た通常 の薄膜合成法 を 用 い た場合 と 比較 し て 、 よ り 大 き い 2 シ ー タ 角 ま で 明瞭な 回折線が観察 さ れ、 c 軸方 向へ の格子面の積層 がさ ら に 完全で あ る こ と が認め ら れ た 。
( 0 0 L ) で表わ さ れ る 回折線は 、 L = l か ら 2 4 ま で観察 さ れ、 ネ ル ソ ン リ レ ー法 を 用 い た最小 自 乗法 に よ れば、 c 軸 の長 さ は 2 . 0 7 n mで あ っ た 。
く 実施例 6 〉
本実施例は 、 P b イ オ ン の一部 を L a で 置換 し た 、 n = 2 で あ る B i 層状べ ロ ブス カ イ ト 化合物 を 合成 し た例で あ る 。
ま ず、 式 L a 2 P b x L a x Z r 2 O zで表わ さ れ る 組成 を 有す る 前駆体 を 、 固相反応法 に よ っ て り 合成 し た 。 た だ し 、 上記 X は 、 0 . 0 2 0 . 0 5 0 . 1 お よ び 0 . 1 5 の 4 種類 と し た 。
所定組成比の L a 203 P b O お よ び Z r 02 を 、 ら い か い機で 2 時間粉砕、 混合 し た後 、 円柱状 に 成型 し 、 空気中 で 9 0 0 °C 2 時間仮焼成 し た 。
上記粉砕、 混合 、 成型 お よ び仮焼成の 工程 を 、 合計 3 回繰 り 返 し 、 上記前駆体 を 形成 し た 。
得 ら れ た前駆体 に所定量の B i 2 03 を 加 え 、 ポ リ エ チ レ ン 製のポ ッ ト 中 で 、 ジル コ ニ ァ 製のポール を 用 い て 、 ア セ ト ン を 溶媒 と し て 6 時間混合 し た後、 空気中 2 0 0 °Cで 2 時間乾燥 し て ア セ ト ン を 除去 し た 。 残留 物 を 円柱状 に 成型 し た後 、 空気中 に お い て 8 5 0 °C 2 時間 の仮焼成 を 行 っ た 。
上記ポール ミ ル を 用 い た粉砕 と 混合、 成型 お よ び仮 焼成の処理 を を 合計 3 回繰返 し 、 得 ら れ た合成物の粉 体 を 、 円筒形圧力成型器 を 用 い て で 2 ト ン Z c m2 の 圧力 で 加圧 し て 、 直径 1 5 m m厚 さ 3 0 m mの 円柱状 に 成型 し た 。
得 ら れ た 円柱状形成形物 に 圧力 を 印加 し な が ら 本焼 成 を 行 っ た 。
す な わ ち 、 上記 円柱形成物 の上下方向 か ら 圧力 を - 2 1 - 加 え 、 焼結体の配向化処理を 行 っ た 。 ま ず 、 2 0 0 °C ノ時間 の昇温速度 で 1 0 5 0 °C ま で加熱 し 、 こ の温度 に 2 時間保 っ て 焼成 を 行 っ た 。 さ ら に 、 こ の温度 を保 持 し た ま ま 、 上記 円 柱状形成物 に約 0 . 2 卜 ン Z c m 2 の圧力 を 円柱の上下方向 に 3 時間加 え た 。 こ れ に よ リ 、 上記 円柱状形成物 は塑性変形 し て 、 厚 さ が約 1 3 の扁平形状 に な つ た 。
最後 に 、 2 0 0 °C Z時間 の降温速度 で 4 0 0 °cま で 冷却 し た後 、 室温 ま で 自 然冷却 し て 、 B i 層 状ぺ ロ ブ ス カ イ ト 化 合物 を 形成 し た 。
上記圧 力 を 加 え た 方向 に 垂直 な 面、 す な わ ち 上記圧 力 の 印加 に よ っ て 偏平 に な っ た面 に 対す る X線 回折図 形は 、 ( 0 0 L ) 回折線 お よ び こ の ( 0 0 L ) 回折線 よ リ も 強度 が 5 %程度弱 い他の格子面か ら の 回折線が 観察 さ れ た 。 一方 、 圧力 を 加 え た 方向 に平行 な 面、 す なわ ち 、 上記 円柱状形成物 の側面 に対す る X線 回折図 形で は 、 ( 0 0 L ) 以外の格子面か ら の 回折線が主 と し て 観察 さ れ た 。
す なわ ち 、 焼成中 に 圧力 を 加 え る こ と に よ っ て 、 高 配向 の焼結体 B i 層状強誘電体 を 形成す る こ と がで き た 。 L a 置換量 X が 0 . 1 以下 の と き は 、 B i 層状ぺ ロ ブス カ イ ト 構造の み が観察 さ れ た が、 X が 0 . 1 5 の場合は 、 L a 203 な ど の異相が観察 さ れ た 。
く 実施例 7 > 本実施例は 、 Z r イ オ ン の 一部 を N b も し く は T a で 置換 し た 、 n = 3 で あ る B i 層状ぺ ロ ブス カ イ ト 化 合物 を 形成 し た例で あ る 。
ま ず 、 組成が式 P b 2 ( Z r 】 x、 M x ) 30 z 、 ( た だ し 、 Mは N b も し く は T a 、 x = 0 . 0 5 、 0 . 1 、 0 . 1 5 ) で表わ さ れる 前駆体 を 、 通常 の固相反応法 を 用 い て 合成 し た
所定組成比 の P b O 、 Z r 02 、 N b 205お よ び T a 2 〇 5 を ら い かい機で 2 時間粉砕 お よ び混合 し た後 、 圧 力 成型機 を 用 い 、 約 1 ト ン Z c n^ の圧 力 で 円柱状 に 成型 し 、 さ ら に 、 空気中 で 9 0 0 、 2 時間仮焼成 し た 。
上記粉砕 、 混合、 成型 お よ び仮焼成の工程 を 合計 3 回繰 り 返 し 、 上記組成 を 有す る 前駆体 を 形成 し た 。
こ の 前駆体 に 、 全体の モル比が、 B i 0 ( B a。 . 5、 K o . s ) 2 P b 2 ( Z r , x、 M x ) 3 O z、 と な る よ う に 、 規定量 の B i 2 03 、 B a C 〇 3 お よ び K 2 C 03 を 添加 し 、 ア セ ト ン を 混合溶媒 と し て 用 い 、 ジル コ 二 ァ 製ポ ール を 用 い て 、 ポ リ エチ レ ン 製のポ ッ ト 中 で約 1 2 時 間均一 に混合 し た 。
得 ら れ た 混 合物 を 、 乾燥器中 で 2 0 0 °C 、 5 時間乾 燥 し た後 、 円 筒形 に 圧粉成型 し 、 空気中 8 5 0 で 、 2 時間 の熱処理 を 行 っ て 反応 さ せ 、 さ ら に 、 ら い かい機 で粉砕 お よ び混合 を 行い 、 こ れ ら 乾燥か ら 混合 ま で の 工程 を 合計 3 回繰 り 返 し た 。
得 ら れ た 合成物 の粉体 に 、 円筒形圧力 成型器 を 用 い て 、 2 ト ン Z c m2 の圧 力 を 印加 し て 、 直径 1 0 m m 厚 さ 5 m mの 円板状 に 成型 し 、 さ ら に 空気中 1 1 0 0 °C 、 焼成 を 1 時間行 っ て 、 目 的 と す る 化合物 を 形成 し た 。
得 ら れ た化 含物 を粉末 X線回 折法 に よ っ て 分析 し た と こ ろ 、 N b も し く は T a 置換量 X が 0 . 1 以下 の化 合物 は 、 す べ て の 回折線が B i 層状ぺ ロ ブス カ イ ト 構 造 に 帰属 し 、 形成 さ れ た化 合物 が、 B i 層状ぺ ロ ブス カ イ ト 構造の みで あ る こ と が確認 さ れ た 。
し か し 、 X が 0 . 1 5 の場 合は 、 T a 205や N b 2 05な ど の異相 が観察 さ れ 、 こ れ ら が混在 し て い る こ と が認め ら れ た 。
格子定数は 、 N b あ る い は T a を 置換 し て も 、 いず れも 違い は認め ら れな か っ た 。 N b お よ び T a を 、 そ れぞれ単独 に混合 し た場合の み で は な く 、 両者 を 任意 の比率で混合 し て も 、 同様 に 置換で き る こ と が確認 さ れ た 。 置換量 x = 0 . 0 5 の と き は 、 a = 0 . 5 7 η m 、 c = 1 . 3 n mで あ り 、 x = 0 . 1 0 の と き は 、 a = 0 . 5 6 n m、 c = 1 . 3 n m、 で あ っ た 。
〈実施例 8 〉
上記実施例 6 と 同 じ の方法 を 用 い焼結体 を形成 し た 後 、 上記実施例 2 と 同 じ 方法を 用 いて 、 所定の化合物 第 1 表
Figure imgf000032_0001
の薄膜 を 形成 し 、 得 ら れ た 化合物 の 、 飽和 自 発分極、 抗電界 お よ び電気機械結 合係数 の異方性 を 測定 し た 。 測定電極 と し て は 、 焼結体 に 対 し て は銀ペー ス ト を 4 0 0 °C で焼 き 付 け た も の を 用 い 、 薄膜 に対 し て は B i 層状化合物薄膜の上 に 白 金電極 を 真空蒸着 し た も の を 用 い た 。
自 発分極お よ び抗電界は 、 自 作の ソ 一 ャ タ ワ ーの 回 路 を 用 い て 周波数 5 0 H z で測 定 し 、 電気機械結合係 数は 、 市販の イ ン ピー ダ ン ス ア ナ ラ イ ザ を 用 い て 、 周 知 の共振 一 反共振法 に よ っ て 測 定 し た値か ら 算 出 し た 。
測定 に 供 し た化合物 の組成 、 形態 お よ び物性値 を 第 1 表 に 示 し た 。 第 1 表 に お い て 、 焼結体 に 関 し て は 、 配向度 に 関す る 正確な補正は行わ な い値 を 示 し 、 薄膜 に 関 し て は 、 配向 が異 な る 他の試料 と 比較 し て 得 ら れ た値 を 示 し た 。
第 1 表 に示 し た よ う に 、 n 力 2 お よ び 4 で あ る場合 は 、 擬ぺ ロ ブス カ イ ト 構造の鏡面対称性か ら 自 発分極 は観察 さ れ な い 。 A ' と し て ( B a 、 K ) を 用 い た場 合 と L a を 用 い た場合 と で は 、 顕著 な差 は見 ら れな か つ た 。 表 1 か ら 明 ら か な よ う に 、 幅広 い範囲 の組成 の 中 か ら 、 所望の異方性や物性値 を 有す る B i 層状強 誘電体 を 、 使用 目 的 に応 じ て 選択す る こ と がで き る 。
く実施例 9 〉
本実施例 は 、 シ リ コ ン 基板上 に B i 0 層状強誘電体 キ ヤ ノ シ タ を形成 し 、 分極反転サイ ク ル に と も な う 自 発分極の変化 を 測定 し た例で あ る 。 本実施例 に お い て形成 さ れ た キ ヤ ノ シ タ の構造 を第 2 図 に示 し た 。 酸化 シ リ コ ン で被覆 さ れ た 1 O m m x 1 O m mの シ リ コ ン基板 2 1 上 に 、 厚 さ 2 0 0 n mの 白 金膜 を 真空蒸着 に よ っ て 形成 し 、 通常 の ド ラ イ エ ツ チ ン グプ ロ セ ス に よ っ て 不要部分 を 除去 し て 、 幅 2 0 μ ιηの下部電極 2 2 を 形成 し た 。
次 に 、 上記実施例 4 に お い て 示 し た ゾル ゲル法 を 用 い 、 η 力 3 で あ る 強誘電体膜 と し て 、 厚 さ 1 5 O n m か ら 2 0 0 n m の B i 0 ( L a。. 5 ) 2 P b 2 ( Z r 。. 5 丁 1 。. 5 ) 30 ,。膜 2 3 を 形成 し た 。 こ の 際、 下部電極 2 2 の一端部が ゾル ゲル液 に 浸 さ れ る の を 避 け 、 下部 電極 2 2 と 外部か ら の配線 ( 図示せず ) と の 間 が導通 す る よ う に し た 。
熱処理後 に X線回折 を 行 い 、 そ の 分析結果か ら 、 上 記 B i 0 ( L a 0 . 5 ) 2 P b 2 ( Z r 0. 5、 T i 0. 5 ) 30 ,。膜 2 3 は 、 ほ ぼ無配向 で あ こ と が認め ら れ た 。
幅 2 0 0 mの空隙 を 有す る 金属 マ ス ク を 介 し て 、 上記下部電極 2 2 と 直交す る よ う に 、 厚 さ 2 0 0 n m の 上部 白 金電極 2 4 を 、 真空蒸着法 を 用 い て形成 し た 上部電極 2 4 が下部電極 2 2 と 立体的 に 交差す る 部 分 2 5 は 、 通常の電子線 リ ソ グラ フ ィ を 用 い て 幅 を他 の部分 よ リ 狭 く し 、 2 0 t m と し た 。
電場は上部電極 2 4 と 下部電極 2 2 の 間 に基板面 と 垂直 に 印加 さ れ る の で 、 有効電極面積は 2 0 m X 2 O / mで あ る 。 自 発分極の初期値は 、 強誘電体薄膜 2 垂直 に 印加 さ れる の で 、 有効電極面積は 2 0 β m X 2 O t mで あ る 。 自 発分極の初期値は 、 強誘電体薄膜 2 3 が無配向 で あ る こ と を 反 映 し て 、 1 2 マ イ ク ロ ク ー ロ ン Z c m2 で あ っ た 。
上記の よ う に し て 作製 さ れ た キ ャ パ シ タ に 対 し て 、 印加電圧 4 . 5 V 、 周 波数 5 M H z 、 室温 と い う 条件 で 、 飽和残留 分極値 の 2 倍 の値が分極反転サイ ク ル と と も に 変化す る 様子 を 第 3 図 に示 し た 。 第 3 図 に お い て 、 縦軸 は初期値 を 1 と し て 規格化 さ れ た残留 分極 を 示 し て あ る 。
第 3 図か ら 明 ら か な よ う に 、 測定 さ れ た 反転サ イ ク ル数が 1 0 1 4以下 の範囲で は 、 残留 分極値 の顕著な低 下 は全 く 観察 さ れ な か っ た 。 他の組成の薄膜 に つ いて も 、 少 な く と も 反転サイ ク ル数が 1 0 ' 4以下 の範囲で は 同様の高 い特性が得 ら れ た 。
ぐ実施例 1 0 〉
本実施例 は 、 本発明 の B i 層状酸化物強誘電体 を 用 い 、 S A W ( 弾性表面波 ) 素子 を 作製 し た例で あ る 。
実施例 6 に お い て 用 い た 、 焼結 を 行い な が ら 試料の —軸方向 に圧力 を 印加 し て 配向 さ せ る 方法 を 用 い 、 形 状が扁平形の 酸化物強誘電体 B i O ( B a。. 5、 K。. 5 ) 2 P b 2 ( Z r 。. 5、 T i o . 5 ) 30 ,。 を 作製 し た 。
こ の扁平試料か ら 長 さ 3 0 m m、 幅 6 m m、 厚 さ 2 . 5 m m の 円柱状試料 を 切 り 出 し た 。 厚 さ 方向 は圧力 を 加 え た 方 向 と し た 。 こ の 円柱状試料 に 幅方向 4 5 と 平 行 に 5 k V Z m m の電界 を 5 分間 印可 し て 分極処理 し た 。
第 4 図 に し た よ う に 、 こ の扁平面上 に 、 4 0 0 μ m ピ ッ チ の 2 1 対の電極で構成 さ れ た 2 対の櫛型電極 を 、 分極軸 と 平行 に 1 5 m m 間隔で 形成 し た
入 力側 卜 ラ ン ス ジ ュ 一ザ の信 3 に 印加 さ れ た 電気信号 は 、 長 さ 方向 4 4 に 伝搬 る B G ( B l e u s t e 1 n - G u 1 a e ) 波 に 変換 さ れ る が、 こ の 素子 を 遅延線型発振器 と し て 動作 さ せ る た め に 、 出 力 側 卜 ラ ン ス ジ ュ一サ の信 2 を 、 増幅器 を 介 し て 入 力側 卜 ラ ン ス ジ ユ ーザの信号 に き 還 さ せ た 。
そ の結果、 ス プ リ ア ス がほ と ん ど観測 さ れ な い単一 モ ー ド の 発振 ( 室温で の発振周 波数 7 M H z ) が観測 さ れ た 。 こ の よ う に 、 結晶 の異力 性 を 用 い る こ と に よ り 、 比較的成型 し ゃす い幅 厚 み形状比 に形成 し 、 B G モー ド を 用 い る 弾性表面波素子 を 得 る こ と がで き た な お 、 図 4 に お い て 、 記号 4 1 は グラ ン ド線 を 表わす 上 δし n¾明 か ら 明 ら か な よ う に 、 本発明 に よ れば下記 の よ う な 顕著 な 効果が得 ら れ る
( 1 ) B i 0 揷入構造 を 有す る B i 層状ぺ ロ ブス カ イ ト 構造は 、 擬ぺ 口 ブス 力 イ ト 揷入構造 に お け る B ィ ォ ン と し て、 ( Z r 、 T i ) を 用 い る こ と がで き る の で す ぐ れた 強誘電特性が得 ら れる 。
( 2 ) 従来 の B i 層状構造 と 比較 し て 、 c 軸方 向 に お け る 周期 が半分で あ る の で 、 熱力 学的安定性が優れて い る 。
( 3 ) P b ( Z r 、 T i ) 03ぺ ロ ブス カ イ ト 強誘電 体 に 、 B i 0揷入構造 に 起因す る 異方性 を 加味 し た強 誘電体特性が得 ら れ る 。
( 4 ) P b イ オ ン の 一部 を L a イ オ ン で 置換す る か、 ま た は ( Z r 、 T i ) イ オ ン の 一部 を ( N b 、 T a ) で 置換す る こ と に よ っ て 、 抗電界 を 減少 さ せ る こ と が で き る 。
( 5 ) 前駆体 を 用 い る 合成法 を 用 い る こ と に よ っ て 、 結晶性の 高 い化 合物が得 ら れる 。
( 6 ) c 軸 に 垂直 な格子面 を 、 層 単位 で 形成す る こ と に よ リ 、 さ ら に結晶性が高 い配向性薄膜 を形成で き る

Claims

請求 の範囲
1 . 式 B i O A ' 2 P b B - , ( Z r x 、 T i 】— x ) n 03 】 で 表わ さ れ る 組成 を 有す る B 06酸素八面体 を 基本骨 格 と し 、 かつ 、 式 A ' 2 P b n— , ( Z r x 、 T i , _x ) n 03 n -—】 で 表わ さ れ る 組成 を 有す る 擬ぺ ロ ブス カ イ ト 層 と B i — 0層 か ら な る 中 間層 が、 交互 に複数回積層 さ れ た構造 を 有 し 、 '上記 n は 2 、 3 も し く は 4 で あ り 、 上記 A ' は B a 、 お よ び Kか ら な る 群か ら 選 ばれ た 少 な く と も 1 種も し く は L a を そ れぞれ表わ し 、 0 ≤ x ≤ 1 で あ る こ と を 特徴 と す る B i 層状酸化物強誘電体。
2 . 上記 B a 対 Kの元素比 力 1 対 1 で あ る こ と を 特徴 と す る 請求項 1 記載 の B i 層状酸化物強誘電体。
3 . 上記 Z r 対 T i の元素比が 1 対 1 で あ る こ と を特 徴 と す る 請求項 1 若 し く は 2 に 記載 の B i 層状酸化物 強誘電体。
4 . 上記 P b の 1 0 % 以下が L a に よ っ て 置換 さ れて い る こ と を 特徴と す る 請求項 1 か ら 3 の いずれか一 に 記載 の B i 層状酸化物強誘電体。
5 . 上記 Z r お よ び T i の 少 な く と も 一方の 1 0 % 以 下 が、 N b も し く は T a に よ っ て 置換 さ れて い る こ と を 特徴 と す る 請求項 1 、 2 若 し く は 4 に 記載の B i 層 状酸化物強誘電体。
6 . 上記 A ' は 、 B a 、 K お よ び L a 力、 ら な る 群か ら 選択 さ れ た元素の混合物で あ り 、 当 該混合物の平均原 子価が + 1 . 5 で あ る こ と を 特徴 と す る 請求項 1 、 3 、 4 も し く は 5 に 記載の B i 層 状酸化物強誘電体。
7 . 上記請求項 1 か ら 6 の い ずれか一 に 記載の B i 層 状酸化物強誘電体が、 上部電極 と 下部電極の 間 に 介在 さ れて い る こ と を 特徴 と す る キ ャ パ シ タ 。
8 . 上記請求項 1 か ら 6 の い ずれか一 に 記載の B i 層 状酸化物強誘電 ^か ら な る 発振子 を 具備す る こ と を 特 徴 と す 超音波発振器。
9 . 式 P b n^ ( Z r 、 T i ) n O zで表わ さ れ る 組成 を 有す る 前駆体 を形成す る 工程 と 、 当 該前駆体 に B i 酸化物 お よ び A ' 酸化物 を 所定 の組成比 で混合 し 反応 さ せて 、 式 A ' P b „- , ( Z r 、 T i ) n O zで 表わ さ れ る 組成 を 有す る 擬ぺ ロ ブス カ イ ト 層 と B i 0層 か ら な る 中 間層 を形成す る 工程 を 含み 、 上記 n は 2 、 3 も し く は 4 で あ り 、 上記 A ' は B a お よ び Kか ら な る 群 か ら 選 ばれ た 少 な く と も 1 種 も し く は L a を 表わ し 、 上記 z は 3 n + 1 で あ る こ と を 特徴 と す る B i 層 状酸 化物強誘電体の製造方法。
1 0 . 上記擬ぺ ロ ブス カ イ ト 層 と 上記中 間層 は順次積 層 さ れ る こ と こ と を 特徴 と す る 請求項 9 に 記載 の B i 層状酸化物強誘電体の製造方法。
1 1 . 上記反応は 、 光 を 照射 し な が ら 行われる こ と を 特徴 と す る 請求項 9 も し く は 1 0 に 記載の B i 層状酸 化物強誘電体の製造方法。
1 2 . 上記光は 、 赤外か ら 紫外領域 に あ る 光で あ る こ と を 特徴 と す る 請求項 1 1 に 記載の B i 層状酸化物強 誘電体の製造方法。
1 3 . 上記光は 断続的 に 照射 さ れる こ と を 特徴 と す る 請求項 1 1 若 し く は 1 2 に 記載 の B i 層 状酸化物強誘 電体の製造方法。
1 4 . 上記反応 は 、 圧力 を 印加 し た後 に 熱処理す る こ と に よ っ て 行われ る こ と を 特徴 と す る 請求項 9 か ら 1
3 の いずれか一 に 記載 の B i 層 状酸化物強誘電体の製 造方法。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001222913A (ja) * 1999-11-19 2001-08-17 Taiyo Yuden Co Ltd 誘電体薄膜,その製造方法,その電子部品
JP2008231313A (ja) * 2007-03-22 2008-10-02 Kumamoto Univ 酸化物ナノシート蛍光体及びその製造方法
CN107935590A (zh) * 2017-12-08 2018-04-20 安阳工学院 微波烧结制备Aurivillius相SrBiFeCoTiO材料的方法及制备的产品

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6262462B1 (en) * 1998-06-22 2001-07-17 Motorola, Inc. Enhanced dielectric constant gate insulator
US6143366A (en) * 1998-12-24 2000-11-07 Lu; Chung Hsin High-pressure process for crystallization of ceramic films at low temperatures
TWI261914B (en) * 1999-07-07 2006-09-11 Sony Corp A method for fabricating dielectric films
US6277254B1 (en) * 1999-12-16 2001-08-21 Honeywell International Inc. Ceramic compositions, physical vapor deposition targets and methods of forming ceramic compositions
JP3733860B2 (ja) * 2000-02-01 2006-01-11 株式会社村田製作所 圧電素子およびその製造方法
JP4147954B2 (ja) * 2002-03-25 2008-09-10 株式会社村田製作所 圧電素子の製造方法
JP4029295B2 (ja) * 2004-02-05 2008-01-09 セイコーエプソン株式会社 強誘電体メモリ
JP4365712B2 (ja) * 2004-03-25 2009-11-18 富士通株式会社 半導体装置の製造方法
EP1675162A3 (en) 2004-12-27 2007-05-30 Seiko Epson Corporation Ferroelectric film, method of manufacturing ferroelectric film, ferroelectric capacitor, and ferroelectric memory
US8179025B1 (en) 2008-02-29 2012-05-15 University Of Maryland College Park Lead-free piezoceramic materials
JP6067524B2 (ja) * 2013-09-25 2017-01-25 株式会社東芝 半導体装置および誘電体膜

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5525690B2 (ja) * 1975-03-25 1980-07-08
JPS5912618B2 (ja) * 1974-09-25 1984-03-24 株式会社日立製作所 電気光学セラミツクスの製法
JPS63236793A (ja) * 1987-03-26 1988-10-03 Matsushita Electric Ind Co Ltd 配向性積層膜
JPH02279555A (ja) * 1989-03-03 1990-11-15 Corning Inc 高誘電率のセラミック材料
JPH04137407A (ja) * 1990-09-28 1992-05-12 Toshiba Corp 導電性酸化物

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5426075A (en) * 1994-06-15 1995-06-20 Ramtron International Corporation Method of manufacturing ferroelectric bismuth layered oxides
US5683614A (en) * 1996-08-16 1997-11-04 Sandia Corporation Sol-gel type synthesis of Bi2 (Sr,Ta2)O9 using an acetate based system

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5912618B2 (ja) * 1974-09-25 1984-03-24 株式会社日立製作所 電気光学セラミツクスの製法
JPS5525690B2 (ja) * 1975-03-25 1980-07-08
JPS63236793A (ja) * 1987-03-26 1988-10-03 Matsushita Electric Ind Co Ltd 配向性積層膜
JPH02279555A (ja) * 1989-03-03 1990-11-15 Corning Inc 高誘電率のセラミック材料
JPH04137407A (ja) * 1990-09-28 1992-05-12 Toshiba Corp 導電性酸化物

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
CERAMICS SOCIETY JOURNAL, (1982), 90(11), pages 633-641. *

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001222913A (ja) * 1999-11-19 2001-08-17 Taiyo Yuden Co Ltd 誘電体薄膜,その製造方法,その電子部品
JP2008231313A (ja) * 2007-03-22 2008-10-02 Kumamoto Univ 酸化物ナノシート蛍光体及びその製造方法
CN107935590A (zh) * 2017-12-08 2018-04-20 安阳工学院 微波烧结制备Aurivillius相SrBiFeCoTiO材料的方法及制备的产品
CN107935590B (zh) * 2017-12-08 2021-02-05 安阳工学院 微波烧结制备Aurivillius相SrBiFeCoTiO材料的方法及制备的产品

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Publication number Publication date
KR100370516B1 (ko) 2003-03-15
US5914068A (en) 1999-06-22

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