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WO1988000767A1 - Multi-mode narrow-band oscillation excimer laser - Google Patents

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WO1988000767A1
WO1988000767A1 PCT/JP1987/000366 JP8700366W WO8800767A1 WO 1988000767 A1 WO1988000767 A1 WO 1988000767A1 JP 8700366 W JP8700366 W JP 8700366W WO 8800767 A1 WO8800767 A1 WO 8800767A1
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WO
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etalon
light
laser
mirror
oscillation
Prior art date
Application number
PCT/JP1987/000366
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English (en)
French (fr)
Inventor
Yasuhiro Nozue
Noritoshi Ito
Osamu Wakabayashi
Junichi Fujimoto
Masahiko Kowaka
Koichi Kajiyama
Kaoru Saito
Yasuo Itakura
Original Assignee
Kabushiki Kaisha Komatsu Seisakusho
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Publication date
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Priority claimed from JP61189803A external-priority patent/JPH0834327B2/ja
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70483Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
    • G03F7/7055Exposure light control in all parts of the microlithographic apparatus, e.g. pulse length control or light interruption
    • G03F7/70575Wavelength control, e.g. control of bandwidth, multiple wavelength, selection of wavelength or matching of optical components to wavelength
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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    • G03F7/70583Speckle reduction, e.g. coherence control or amplitude/wavefront splitting
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/10Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
    • H01S3/106Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating by controlling devices placed within the cavity
    • H01S3/1062Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating by controlling devices placed within the cavity using a controlled passive interferometer, e.g. a Fabry-Perot etalon
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/14Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
    • H01S3/22Gases
    • H01S3/223Gases the active gas being polyatomic, i.e. containing two or more atoms
    • H01S3/225Gases the active gas being polyatomic, i.e. containing two or more atoms comprising an excimer or exciplex

Definitions

  • the present invention provides an excimer laser that emits a laser beam with a narrow, narrow ;; if range oscillation in a spatially incoherent multiple beam.
  • the multi-mode drilling technique which is used as a light source for photolithographic exposure, and achieves high resolution
  • an excimer laser that emits light in the ultraviolet region is known as an excimer laser. This is explained using the product of Ramda Physics as an example. As shown in Fig. 16, this induction lock type laser has a total reflection mirror 11 and an emission mirror 12 power. Resonator, a distributed prism 13, anano, placed inside this resonator.
  • the oscillating section 10 is a distributed processor.
  • Re-J-Zoom (or gray ing, etalon) 13 divides the wave ⁇ at 13, and acts to cripple the beam at aperture 14.
  • laser light is obtained with a hollow spectral width and coherent beam characteristics, and the laser light is unstable. It is injected into the amplifier section 20 that composes the vibrator and forcedly fired in the cavity mode to enlarge the power o
  • This laser has a total reflection 31, an output mirror 32, an excitation area 34 ′ in the laser cavity, and two lasers 3. By arranging it between the excitation area 34 and the output mirror 32, the spectrum line width is reduced, and a small number of horizontal modules are provided. The oscillation is enabled.
  • Excimer lasers of the projection ⁇ -pick type can obtain high-power and hollow laser beams with a spectral line width. At the same time, it becomes a single mode (coherent light), so if it is used as a reduced projection light source, the speckles are generated and high resolution is obtained. There was a drawback that I could not do this
  • the present invention is free from the drawbacks of the conventional excimer laser and has a spatially incoherent beam characteristic.
  • the specification of the exhaust port provided in the excimer laser is expressed by the following equation.
  • the virtual S is provided by the addition of a threshold value due to the presence of a space between the chamber and the rear mirror. No. Word vector
  • the multi-mode and narrow-band In order to vibrate if one of the above-specified ETAs is placed between the rear mirror and the chamber, the EH In order to avoid vibrations as a carrier mirror, the range of the tilt angle of 0 in the direction of the normal to the laser beam with respect to the laser beam is assumed.
  • the laser beam is incident on the above-mentioned aperture, and the beam spread angle S 'and the human angle of incidence 0 depart from the large limit line ⁇ .
  • the line width K that can be applied to the area ⁇
  • Fig. 1, 2! ⁇ And Fig. 5 3 ⁇ 4 No. 8 is a schematic configuration diagram showing an excimer laser each having a jaw gap outlet, and Fig. 3 is a view of the inside of the cavities.
  • is a graph showing the gain curve when an etalon is placed outside
  • Fig. 4 shows the power spectrum of the natural oscillation of the KrF excimer laser.
  • Fig. 9 is a graph showing the spectral characteristics when the emission mirror and the etalon coincide with each other.
  • Fig. 10 shows the range of angles in which the etalon becomes a total reflection mirror.
  • Fig. 11 shows the diagram for determining the condition of the etalon's tilt angle.
  • Figure 2 shows the relationship between the beam divergence angle and the etalon tilt angle, and
  • Figure 13 shows the beam divergence angle and the edalone angle.
  • Fig. 14 shows the exit force of the launch mirror,
  • Fig. 14 shows the beam mode at a distance of about 2 m
  • Fig. 15 shows the desired emission width. Shows the range of the angle of the etalon to obtain the value of ⁇ .
  • Figures 16 and 17 are conceptual diagrams showing an example of the configuration of a conventional excimer laser. It is. The best way to implement the light
  • Figure 1 shows a case where the total reflection mirror 1 and the output mirror 2 are combined with the force, and the jagged edge is located in the cavity of the excimer laser with the vibrator. It shows the cooling with one Talon 3 distribution.
  • the excimer laser arranges the above-mentioned air gap etalon 3, which is a wavelength selective element, in the cavity, and the desired position is obtained by this air cavity.
  • the choice of the light of the wave is made without depending on the number of horizontal modes, but by the power and the over-characteristics of etalon 3.
  • a laser beam suitable for reduced projection exposure with narrow spectral lines can be emitted.
  • Figure 2 shows an example in which etalon 3 is arranged outside the cavity of the excimer laser, that is, outside the output mirror 2.
  • the other parts of the structure are the same as those in ⁇ 1.
  • a light vector f ( ⁇ ) is transmitted through a single etalon
  • the over-light ⁇ ( ⁇ ) is expressed by the following equation. Will be represented.
  • T (s) f ( ⁇ ) ⁇ [10 (4 ⁇ ) F, si ⁇ 2
  • FSR is the free-angle range of the etalon, and the free-angle range FSR is the distance d between the reflection films and the bending distance between them. Given by n
  • this etalon can be removed by the rear mirror and the channel of the laser beam.
  • the line becomes much thinner than the etalon, causing the threshold and force of laser oscillation, and the phenomenon of addition of the fin at the hood of the damper to occur. .
  • the light intensity in the cavity is in the case of the inner part of the cabin.
  • the width of the wave is% greater than the desired wave length.
  • the threshold value of the threshold value of the internal etalon (when the etalon is inserted into the rear mirror and the channel) is ⁇ , then the threshold is obtained. It has value - increase that by the virtual path word over the scan Bae click door Le f in (a) is Tsu by the following formula Ru is I table.
  • f out is the laser spectrum when the etalon power is not present.
  • the internal power of the internal etalon is less than the power of the laser if there is an external power port between the rear mirror and the chamber.
  • the rule ( ⁇ ) is compromised by the following equation by specifying the finesse coefficient k as a constant of the ratio of the line width.
  • the white color of the illumination optical system and the reduced projection lens is 0
  • w is the value of white OTF
  • the monochromatic OTF, R A (u, v), can be obtained by dividing it in the wavelength range.
  • W A T ( ⁇ ) / ⁇ ⁇ ⁇ ( ⁇ ) d ⁇ ... (7) (W ⁇ is the power spectrum of the excimer laser at the wavelength I. Weight (weighting), normalized for wave length; intensity against)
  • the color 0 TFR w (u, V) must be greater than or equal to 0 ⁇ F ⁇ , which is the minimum required for exposing the resist through the reticle pattern. is necessary .
  • the laser light of the narrow-band oscillation is substituted into the equation (6), and if j Set the etalon condition so that the laser light oscillates so that the color is 0 TFR (u, V). By doing so, you can obtain the desired resolution.
  • FIG. 3 shows the profit curve in the case of the so-called internal etalon in Fig. 1 in which the etalon is arranged in the cavity of the excimer laser.
  • FIG. 2 is a diagram showing a curved line b in the case of a so-called external ethanol port in FIG. 2 in which a and an etalon are arranged outside the cavity.
  • Line c is a curved line in the case of natural oscillation.
  • the full width at half maximum due to the composition of the inner hole and that of the outer hole were 0.0092,5 nm and 0.06,16 nm, respectively. It has become .
  • the etalon fins are 3 3, 3, and 5, respectively. Is 6.7 times more powerful than external etalons.
  • the fin- ance coefficient k was 5 to 7, and in Fig. 3, in the case of the internal etalon, the sa that caused the decrease in resolution was reduced.
  • the id beak is 1Z 10 ° less than when the external beaker is used. The phenomenon that the light intensity ratio of the side peaks was reduced was observed even when two or more ports were arranged.
  • the spectrum waveform when only one etalon is provided between the rear mirror and the chamber.
  • the reduction shown in the first (a) to (d), consisting of a lens material synthetic stone pod with a medium: color design Regarding the projection lens the spectral waveform of the test ⁇ and I ⁇ % were calculated by using the equations (6) and (7),: 3 ⁇ 4, at the given exposure ffri , Resolution ⁇ .
  • Table 2 (a) to (d) show examples of the configuration of the ethanol port which became 0 TFR w ⁇ 0.4 or more at 5 m.
  • R (I) is the radius of curvature of the lens surface
  • D (I) is the distance between the surfaces
  • is the number of apertures in the lens. Oh.
  • the air gap is 50 ⁇ !
  • the resolution is 0.5 ⁇ m. Exposure of about m is possible.
  • Fig. 10 shows the range HI of the tilt angle at which the etalon 3 works strongly and the total internal reflection mirror 1 works. In other words, the angle of inclination of the etalon 3 is adjusted so that the angle of inclination of the etalon 3 does not fall within the rectangular-shaped range shown in FIG. Ali You need to make a comment.
  • Fig. 11 shows the condition of the angle of inclination to avoid the etalon 3 force ⁇ the total reflection mirror.
  • the angle of the aperture 3 of the aperture 3 in the region coincides with the angle of inclination of the output mirror 1 2, and the angle of the etalon 3 and the output mirror 1 2
  • the header 3 becomes a total reflection mirror, which affects the wavelength selection.
  • the optical axis is The angle of inclination of the etalon in the normal direction with respect to
  • the etalon inclination angle S such as the above beam expansion angle ⁇ 0, is shown in Fig. 12 As shown.
  • the beam for obtaining the line width of 0.5 [cm -1 ], 1 [cm “ 1 " and 2 Ccm “ 1 ] is, for example, ⁇ £.
  • a curved line that is almost inversely proportional to that shown in Fig. 13 is obtained.
  • the beam spread of the excimer laser with the configuration shown in Fig. 1 is-As shown in Fig. 14, the output mirror of launch mirror 2 is 2 m, etc.
  • A is the beam mode at the exit of the exit mirror
  • B is the output power of the exit mirror
  • the beam mode is 2 m from the exit.
  • the etalon With the force applied, the etalon is tilted with respect to the laser beam cross section (y flat Si) and the direction in which the The beam spread to the target changes.
  • the beam expansion angle 0 has been described in the first quadrant. However, in the second, third and fourth quadrants as well. You can think about it in the same way. Industrial benefits JTJ Possibilities
  • the excimer laser according to the present invention is useful as a light source for a reduction projection exposure apparatus such as a photolithography. It is suitable for use in integrator type exposure.

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Description

明 細 マ ル チ モ 一 ド 狭 '; '域発振 エ キ シ マ レ 一 ザ
技 術 分 野
本 発 明 は 、 レ ー ザ光の ビ ー ム 特性が空 的 に イ ン コ ヒ ー レ ン 卜 な マ ル チ 乇 一 ド で か つ 狭 -;if 域発振 す る ェ キ シ マ レ ー ザ に 聞 し 、 特 に フ ォ ト リ ソ グ ラ フ ィ の 露光用 光源 と し て用 い ら れ 、 高解 像度 を 得 る マ ル チ モ ー ド 抉 技
帯域発振 エ キ シ マ レ ー ザ に 関す る 。 北
最近 フ ォ ト リ ソ グ ラ フ ィ の 露光用 光源 と し て は 、 紫 外 域 の 光 を 発生す る エ キ シ マ レ ー ザが ffl い ら れ て い る の エ キ シ マ レ 一 ザ に つ い て 、 ラ ム ダ · フ ィ ジ ッ ク 社 の 商 品 を 例 に と っ て 説 明 す る 。 第 1 6 図 に 示 す よ う に こ の イ ン ジ ヱ ク シ ヨ ン ロ ッ ク 方式 の レ ー ザ は 、 全反 射 ミ ラ ー 1 1 と 出 射 ミ ラ 一 1 2 力、 ら な る 共振 器、 こ の " 振 器 内 に 配設 さ れ た 分 散 プ リ ズ ム 1 3 、 ァ ノ、。一 チ ヤ
1 4 , 1 5 お よ び電極 1 6 力、 ら 構成 さ れ る ォ ッ シ レ ー 夕 部 1 0 と 、 該 ォ ッ シ レ ー 夕 部 1 0 と ミ ラ ー 1 7 , 1 8 を 介 し て 光学 的 に 接続 さ れ 、 ミ ラ 一 2 1 , 2 2 お よ び電極 2 3 力、 ら 構成 さ れ る ァ ン プ部 2 0 と を 有 し て い る
こ の レ ー ザ に お い て ォ ッ シ レ ー タ 部 1 0 は 、 分 散 プ リ Jズ 厶 ( ま た は グ レ 一 ア イ ン グ、 エ タ ロ ン ) 1 3 で波 βを分 け ァ パ 一 チ ャ 1 4 で ビー ム を狡 る 作用 を な し 、 れ に よ つ て 、- ス ぺ ク ト ル線幅が抉 く 、 かつ コ ヒ - レ ト な ビ一 ム 特性を も つ レ ー ザ光が得 ら れ る そ し て こ の レ 一 ザ光は不安定 振器を 構成す る ア ン プ 部 2 0 に 注入同 さ れて、 キ ヤ ビテ ィ モ ー ドで強制発 ざ- せて パ ヮ 一 を增大 さ せ る o
また:、 A T & T が発表 し た ( S P I E (会 lift m 文 ¾ の 記 一 マ ク 口 デバ イ ス コ ン フ ァ レ ン ス , 著者 V i c t o r P o l , 1 9 8 5 年 4 月 発行 ) は
1 7 図 の よ う な 成を と つ て い る 。 こ の レ — ザ は 全 反射 3 1 と 出射 ミ ラ - 3 2 、 り な る レ 一 ザ共振 器内 に励起領域 3 4 'を設け る と と も に、 2 個の ェ 'タ ロ 3 を励起領域 3 4 と 出射 ミ ラ 一 3 2 と の に配設 さ せ る こ と に よ つ て ス ぺ ク ト ル線幅が抉 く 、 かつ 多少 の 横モ 一 数を ¾·す る レ ー ザ発振を 可能に し て い る 。
ィ ン ジ ェ ク シ ョ ン π ッ ク 方式の エ キ シ マ レ 一 ザ は 、 大 出力でかつ ス ぺ ク ト ル線幅の 抉い レ ー ザ光を得 る こ と がで き る が、 同時 に単一モ ー ド ( コ ヒ 一 レ ン 卜 光) に な る た め 、 れを縮小投影光源 と し て使用 し た場合 ス ぺ ッ ク ルが ¾生 し て高解像度を得 る こ と がで き な い と い う 欠点があ つ た
ま た ィ ン ン ェ ク シ ヨ ン ロ ッ ク 方式で は、 ォ ッ シ レ ー 夕 部 1 0 の みで は、 ア パ ー チ ャ 1 4 , 1· 5 を使用す-る こ と カヽ り レ 一 ザ出 力が著 し く 低下す る の で 、 ア ン プ 部 2 ϋ を 備 え て注入 同期す る 必 ¾-力 < あ り 、 ¾繰 り 返 し で の 同期が取 り え な い場 合 に は !ϋ然 ¾ ¾ し 、 かつ 装 S
Θ休が大 き ぐな る と い う 欠点 も 有 し て い た ο
ま た 、 A Τ & T 方式の レ ー ザで は 、 通常の 照明光学 系 を ffl い て露光す る に は 、 横 モ ー ド数が不足 し て い る た め に や は り ス ぺ ッ ク ル が発生す る 。 そ の た め 光学系 と し て ス キ ャ ン ミ ラ ー 力 式を と る 必要が あ り 、 路允装 sの 造お よ び制御 を 複雑 な も の に し て い る 。 ま た こ の 方式の レ ー ザで は パ ヮ 一が小 さ い た め に露光 時間が 2 5 秒 を 要 し 、 %用性を 欠 い て い た o
従 つ て 、 本発明 は 、 こ の よ う な 従来の ェ キ シ マ レ ー ザの 欠点の存在 し な い 、 ビ ー ム 特性が空間 的 に ィ ン コ ヒ 一 レ ン 卜 な マ ノレ チ モ ー ド、 狭带域かつ 高出力 で縮小 投影 に 適 し た レ ー ザ光を発振す る こ と 力《で き る マ ル チ 乇一 ド狭帯域発振ェ キ シ マ レ 一 ザを 提供す る こ と を H 的 と し て い る 発 明 の 閒 示
即 ち 、 本発明 で は、 エ キ シ マ レ ー ザに 備え ら れ た ェ 夕 口 ン の 仕様が次式、
/ λ W , R λ ( u , ν ) d λ ≥ a
た だ し 、 α : レ ジ ス ト を レ チ ク ル パ タ ー ン 通 り に 感 光 さ せ る た め に 必 ¾ な 0 T F
( O T F は O p. t i c a l T r a n s f e r F u n c t i o n ) R V ) : 照明
λ ( u 系及 び縮小投影 レ ン ズ の 単色 光 0 T F
ザ光 の パ ヮ ス ぺ ク ト ノレ の あ
W λ · · 発振 レ ー
る 波長 λ に お け る ス ぺ ク ト ル 波 形 の ゥ ェ イ ト で
W Τ ( λ
λ > / s λ
Τ ( ) d λ
T λ 発振 レ ー ザ光の パ ワ ー ス ぺ ク ト ル で、 n
Τ ( λ ) ( え , β ) ΤΓ Ε
k - l
( k F S R , λ )
S ( λ , β ) チ ャ ン バ ― と リ ア ミ ラ 一 の 間 に ェ 夕 D ン が存在す る こ と に よ る し き い 値の增加 に よ ·る 仮想的 S 然允振 の ノヽ。 ワ ー ス ぺ ク ト ル
β し き い 値の 增加割合
λ ) : k 番 冃 の エ タ
Ε ( Κ F t k ' F s R k ,
ロ ン 1 個 に よ る 光のパ ヮ 一 ス ぺ ク ト ル の伝達関数
F . t , k : 各 エ タ ロ ン の 卜 ー タ ル フ ィ ネ ス
F S R エ タ π ン の フ
k :
各 一 ス ぺ ク 卜 ノレ レ ン ジ
K k : フ ィ 不 ス 係数
を ^ 足す る よ う に 疋 し 、 レ ジ ス ト を レ チ ク ルパ 夕 一 ン 通 り に 感光 さ せ る に 必要な 解像度 を も つ エキ シ マ レ - ザを. _発振 さ せ る よ う に し て い る 。
ま た 、 本発明 で は 、 マ ル チ モ 一 ドで、 かつ 狭帯域発 振 さ せ る た め に 、 上 記 の ご と く 仕 様 を 設定 し た エ タ 口 ン を リ ア ミ ラ ー と チ ヤ ン バ ー の 間 に 1 え た 場合 、 ヒ 記 エ タ 口 ン カ リ ア ミ ラ 一 と な っ て tij 然 ¾振 し な い た め に は 、 レ ー ザ光铀 に 対す る エ タ 口 ン の 法 線 方 向 の 傾 き 角 度 0 の 範 四 を
Θ > l a n _ 1 S / 2 A
( S : 出 射 ミ ラ ー に お け る ビ ー ム の 大 き さ 、 A エ タ ロ ン と 出 射 ミ ラ ー の 距 離 )
と し 、 レ ー ザ光が 上 記 エ タ 口 ン に 入射す る ビ ー ム 拡 が り 角 度 S ' お よ び人 射 角 度 0 に よ っ て ¾ 大 限線 ^ を 袂 -\\ 域化 さ せ る こ と 力 < で き る 線幅 K は 、 次式 、
Figure imgf000007_0001
. ( λ ο : ビ.一 ム 力く エ タ ロ ン に ^ lk 入射 し た 時 の 選 択波長)
に よ っ て 決定す る 。
し た 力く つ て 、 レ ー ザの ビ ー ム 拡 り お よ び ビ ー ム の 大 き さ を 実測す る こ と に よ っ て 、 所 望 の 線幅 を 得 る の に 必 ^ な ェ 夕 口 ン の 角 度 の 範 W を 定 め る こ と が で き る ま た こ の こ と に よ っ て エ キ シ マ レ ー ザ は.、 レ ー ザ光 を ア ン プ部 な し で 高 出 力 で 、 か つ 安定 し た マ ル チ モ ー ド で 抉帯域 発振 さ せ る こ と がで き る 。 」 面 の 簡 〖 - な 説 U
第 1 図, 第 2 ! ^及び第 5 図 乃 ¾第 8 は そ れ ぞれェ ァ ギ ヤ ッ プエ タ 口 ン を備え たエ キ シ マ レ 一 ザを示す溉 略構成図、 第 3 図 は キ ヤ ビテ ィ の 内 乂 は外に エ タ ロ ン を配 g し た場合の利得曲線を示す グ ラ フ 、 第 4 図 は K r F エキ シ マ レ ー ザの 然発振 の パ ワ ー ス ぺ ク ト ルを 示す グ ラ フ 、 第 9 図 は 出射 ミ ラ ー と エ タ ロ ン の ァ ラ イ メ ン 卜 が一致 し た場合の ス ペ ク ト ル特性を示す図、 第
1 0 図 は エ タ ロ ン が全反射 ミ ラ ー に な る 角 度の範囲 を 示す 図、 第 1 1 図 はエ タ ロ ン の 傾 き 角度の 条件を求め る た め の 図、 第 1 2 図 は ビー ム 拡カ り 角 と エ タ ロ ン の 傾 き 角 度 と の ! ¾係を示す図、 笫 1 3 図 は ビ ー ム 拡が り 角 と エ ダ ロ ン の倾 き 角 度と の関係を示す図、 筇 1 4 図 は 出 射 ミ ラ ー の 出 口 力、 ら 2 m の 位蘆で の ビ ー ム モ ー ド を示す図、 第 1 5 図 は発 線幅が所望の 値に な る た め の エ タ ロ ン の 角 度の範囲を示す囟、 第 1 6 図 お よ び第 1 7 ¾ は従来の エキ シ マ レ 一 ザの 構成例 を示 し た概念 図で あ る 。 明 を実施す る た め の ¾良の 形態
本発明 を よ り 詳細 に説述す る た め に、 以下添付図面 に従 っ て こ れを 説明す る 。
笫 1 図 は、 全反射 ミ ラ ー 1 と 出射 ミ ラ ー 2 と 力、 ら な る -振器を ϋίえ た エ キ シ マ レ ー ザの キ ヤ ビテ ィ 内 に ェ ァ ギ ャ ッ プエ タ ロ ン 3 を 1 個配 ¾ し た 冽を 示す。 こ の エ キ シ マ レ ー ザ は 波長 ^択 素 子 で あ る 上 記 エ ア ギ ヤ ッ プエ タ ロ ン 3 を キ ヤ ビ テ ィ 内 に 配 し 、 こ の エ タ 口 ン に よ り 所 望 の 波 の 光 を 選 択 す る よ う に し た の で 横 モ 一 ド の 数 を ^少 さ せ ず に 、 力、 つ エ タ ロ ン 3 の 過 特 性 に よ っ て 決定 さ れ る ス ぺ ク 卜 ル 線 の 狭 い 縮小投 影 露光 に 好適 な レ ー ザ光 を ½ さ せ る こ と がで き る 。
な:お:、、 5 : , 5 ' は ウ ィ ン ド で あ り 、 こ れ ら ウ ィ ン ド に よ っ て 密閉 さ れ た チ ヤ ン バ 一 内 に は 、 冽 え ば ァ ル ゴ ン と フ ッ 素 の 混合 ガ ス 、 ク リ プ 卜 ン と フ ッ 素 の ¾ 合 ガ ス な ど が充 ¾ さ れ て お り 、 エ キ シ マ と 呼 ばれ る 励起 状 態 の 原 子 と ^底状態 の 原 子が結 合 し て で き る 分 子 を ill い て 波 長が短 く ( A r F で 1 9 3 n m、 K r F で 2 4 8 n m の 紫外 ) 、 ま た 本質 的 に 非 コ ヒ 一 レ ン ト 性 を 有 す る レ ー ザ光 を 発振す る 。
筇 2 図 は 、 エ タ ロ ン 3 を エ キ シ マ レ ー ザの キ ヤ ビ テ ィ 外 、 つ ま り 出 力 ミ ラ ー 2 の 外 側方 向 に 配 ϋ し た 施 例 を 示 す も の で 他 の 搆成 部分 は ^ 1 図 と 同 様 に な つ て い る 。
次 に 、 所 望 の レ ー ザ光 を 得 る た め の 上 記 エ タ ロ ン の 仕様 に つ い て考察す る 。
—般 に 、 あ る ノヽ: ワ ー ス ぺ ク ト ル f ( λ ) の 光 を あ る エ タ ロ ン 1 個 に 透 過 さ せ た ¾ の 過 光 Τ ( λ ) は 、 ' 次式 に よ っ て 表 わ さ れ る 。
T ( ス ) = f ( λ ) Ζ [ 1 十 ( 4 Ζ ) F , s i η 2
( ( λ χ ) / F S R ) π } 1 ( 1 ) こ こ で F t は エ タ 口 ン の ト 一 タ ル フ イ ネ ス で 、 こ の 卜-一 タ ル フ イ ネ ス F t は エ タ 口 ン の エ ア ギ ヤ ッ プ 内 の 面;) ¾度 に よ る フ ィ ネ ス F ρ , 反射 に よ る フ イ ネ ス F , 卞: if 度 に よ る フ ィ ネ ス F — お よ び.人射光の ビ ー ム 拡が り に よ る フ イ ネ ス F d と に よ っ て、
F t = 2 + ( 1 / F R ) 2
9 - 1 / 2
+ 2 + ( 1 / F d ) 1 } … ( 2 ) で ^わ さ れ る 。 ま た 、 F S R は エ タ ロ ン の フ リ ー ス ぺ ク ト ル レ ン ジ で 、 こ の フ リ ー ス ぺ ク ト ル レ ン ジ F S R は反射膜間 の 距離 d と そ の 間 の 屈 折率 n に よ つ て ^わ さ れ る
F S R 2 - κ 2 n d
= X 22 κ 2 d ( エ ア ギ ヤ ッ プ の場合 n = 1 ) た だ し 、 £ は f ( λ ) の 屮 心波 ( K r F エ キ シ マ レ 一ザの場合 2 4 8 . 3 5 n m )
と こ ろ 力 <、 こ の エ タ ロ ン を レ ー ザキ ヤ ビ テ ィ の 屮 っ ま り リ ア ミ ラ ー と チ ヤ ン ノ 一 の | に 人れ る こ と に よ つ て 、 外 部 エ タ ロ ン よ り も 線 が非常 に ほ そ く な り 、 レ 一 ザ発振の し き い 値 と み 力、 け 伏の エ タ 口 ン の フ ィ ネ ス の 增加 現象が起 こ る 。
こ の 理 由 は 、
1 ) キ ヤ ビ テ ィ 内 で は光力 タ ー ン を 繰 り 返す た め 内 部 エ タ 口 ン の場合光が何 回 も エ タ 口 ン を透過す る 。
2 ) 内 部 ェ 夕'口 ン の 場合キ ヤ ビ テ ィ .内 の 光強度の a い 波 長 に パ ヮ 一が % 巾 す る 。
た め で あ る 。
こ れ ら し き い 値及 び フ ィ ネ ス の ¾ 加 割 合 は レ ー ザ の お よ び 磺 モ ー ド 数 、 エ タ ロ ン の ス ノレ 一 プ ッ 卜 等 に よ っ て 変勋す る 。 し た 力く つ て 、 マ ル チ モ ー ド 抉帯域 発 ¾ エ キ シ マ レ ー ザの 場合 に つ い て は 実験 的 に 決 定 す る 必 ¾:力く あ る 。
い ま 、 内 部 エ タ ロ ン ( リ ア ミ ラ 一 と チ ャ ン ノ 一 の に エ タ ロ ン を 入 れ た 場合 ) の し き い 値 の 增 カ π を と す る と 、 し き い 値-増加 に よ る 仮想 的 な パ ワ ー ス ぺ ク ト ル f i n ( A ) は 次式 に よ っ て 表 わ さ れ る 。
f ( λ , β ) ^ ( f out ( ^ ) - β ) / ' { ι - β )
… ( 3 ) た だ し 、 f out は エ タ ロ ン 力 ί存在 し な い ^ 合 の レ ー ザ の ス ぺ ク ト ル 。
し た 力《 つ て 、 内 部 エ タ ロ ン 1 個 力 < リ ア ミ ラ ー と チ ヤ ン バ ー の 間 に エ タ 口 ン が存在す る 埸 合 の レ ー ザ の ス ぺ ク ト ル Τ ( λ ) は 線 幅 が ほ そ く な る 割 合 の 定 数 と し て フ ィ ネ ス 係 数 k を 定 め る こ と に よ っ て 次 式 で 衷 ゎ さ れ る 。
T ( λ ) ^ f ( λ , β ) / ί \ +(4 / π 2 ) k F t s i η2 { ( ( λ - χ ) / F S R ) π } ]
… ( 4 ) η 個 の エ タ ロ ン が 存 す る J¾ の レ ー ザ光 の パ ワ ー ス ぺ ク ト ル T ( ス ) は 次式で 表 わ さ れ る 。 n
T ( λ ) f ( λ β ) IT い L
Ε ( Κ F F S R λ )
t k'
( 5 ) た だ し 、
E ( K P t k, F S R R , X )
2
- 1 [ 1 +(4 / π L ) K · F
1 tk.
s i n 2 ( ( λ x ) / F S R ) π
—般に 、 照明光学系及び し 縮小投影 レ ン ズの 白 色 0
T F C o p t L c a i t r a n s f e r f u n c t i o n ) であ る R 、„ ( u , v )
w は、 白 色 O T F の定
^式か ら 単色光 O T F で あ る R A ( u , v ) を波長範 で禎分す る こ と で求ま る 。
R ( u V ) R
w ( u ν ) d
λ W X λ
λ
( 6 ) た だ し 、 '
W A = T ( λ ) / ί χ τ ( λ ) d λ … ( 7 ) ( w λ は エ キ シ マ レ 一 ザの パ ワ ー ス ぺ ク ト ル の.あ る 波長 I にお け る ウ ェ イ ト (重みづけ) で、 波 長 ; 対す る 強度を規格化 し た も の )
U , V : 空間周波数
こ の Γΐ 色 0 T F R w ( u , V ) は 、 レ ジ ス 卜 を レ チ ク ルパ タ ー ン通 り 感光 さ せ る た め に ^低限必要な 0 Τ F α 以上で あ る こ と が必要で あ る 。 R w ( u , v ) a
し た 力く つ て 、 第 ( 5 ) 式で ί! ら れ る マ ル チ モ ー ド で 、 か つ 狭 带域 発振 の レ ー ザ光 を 第 ( 6 ) 式 に 代 入 し て ifj ら れ る Π 色 0 T F R ( u , V ) 力《 " 以 上 に な る よ う に 、 エ タ ロ ン の 条 件 を 設定 し て そ の レ ー ザ光 を 発振 さ せ る よ う に す る こ と に よ り 、 所 望 の 解 像 力 を ^ る こ と 力《 で き る 。
さ て 、 エ ア ギ ャ ッ プエ タ ロ ン 3 の 仕 ^ と し て フ リ ー ス ペ ク ト ル レ ン ジ 0 . 3 0 8 n m ( エ ア ギ ャ ッ プ ス ぺ — ス を 1 0 0 m に 設定 ) 、 フ イ ネ ス 5 、 反射率 9 0 % (反射膜 と し て は S i 0 2 、 A 1 2 0 3 、 Z r 0 2 、 • H f 0 2 、 N.a F 等 を 用 い る ) 、 [Mネ 度 A / .3 0 以'ヒ ( λ = 6 3 3 n m ) 、 平行度 Λ Z 3 Q 以 上 ( λ = 6 3 3 n m ) 、 有効面稻 1 0 x 2 0 η m の も の を 用 い た 場 合 の 第 1 図 、 第 2 図 に 示 す エ キ シ マ レ ー ザ の 出 力 の 実 験例 を 示 す。
筇 3 図 は エ タ ロ ン を エ キ シ マ レ 一 ザの キ ヤ ビ テ ィ 内 に 配 置 し た 第 1 図 の い わ ゆ る 内 部 エ タ ロ ン の 場 合 の 利 得 曲 線 a と エ タ ロ ン を キ ヤ ビ テ ィ 外 に 配 置 し た 第 2 図 の い わ ゆ る 外 部 エ タ 口 ン の 場 合 の 利 ^ 曲 線 b を 示 す 図 で あ り 、 曲 線 c は 白 然発振 の ¾ 合 の 利 ^ 曲 線で あ る 。
験 に よ る と 内 部 エ タ 口 ン の ^成 と 外 部 エ タ 口 ン の 成 に よ る 半 値全幅 は そ れ ぞれ 0 . 0 0 9 2 5 n m , 0 . 0 6 1 6 n m に な っ て い る 。 ま た エ タ ロ ン の フ ィ ネ ス は そ れ ぞれ 3 3 , 3 , 5 と な っ て お り 、 内 部 エ タ ロ ン は外部エ タ ロ ン に く ら べ フ イ ネ ス 力《 6 . 7 倍に な つ て い る 。 実験に よ る と フ イ ネ ス 係 数 k は 5 〜 7 と な っ た ま た 、 3 図に お いて、 内部エ タ ロ ン の場合、 解像 力 を 低下 さ せ る 原因 と な る サ イ ド ビー ク が外部エ タ 口 ン の場合に比べ 1 Z 1 0 ¾度に减少 し て い る 。 こ の よ う に、 サ イ ド ピ ー ク の光強度割合が減少す る 現象は 、 エ タ 口 ン を 2 個以上配置 し た場合で も 観測 さ れた。 こ の 理由 と し ては、 光がエ タ ロ ン を透過す る こ と に よ り 利 ^ に対す る 失が大 き く な り 、 レ ー ザ の し き い 値が增加す る た め と考え ら れ る 。 - こ の し き い 値の增加割合 ^ をサ イ ド ピ ー ク の減少割 合 よ り 見接-る と 、 0 . · 1 0 〜 ! 3 . 0 6 程度 と な っ た。 ま た、 分光器 に よ り K r F の エ キ シ マ レ 一 ザの Θ然 ¾ 振の パ ワ ー ス ぺ ク ト ル f 。 ( λ ) を測定 し た所、 第 4 図 の よ う に な っ た。
こ の 自 然発振のノ、。 ワ ースぺ ク 卜 ノレ f 。u t ( λ ) カヽ ら 内部エ タ ロ ン を使用す る 場合の ί反想的 な K r F ェキ シ マ レ 一 ザ の パ ワ ー ス ぺ ク ト ノレ f i η ( λ , β ) は ( 3 ) 式よ り 次式で衷わ さ れ る 。
f ( え , β ) ^ ( f Q u t ( λ ) — β ) / I - β ) た だ し 、 = 0 . 0 6 〜 0 . 1 0
例 え ば第 1 図の よ う に リ ア ミ ラ ー と チ ヤ ン バ ー の 間 に エ タ ロ ン を 1 個 だ け備え た場合の ス ぺ ク ト ル波形 Τ
( ス ) は次式で -わ さ れ る 。
τ ( え ) ^ f ί η ( λ , β ) · E ( k ♦ F t , F S R , Λ ) … ( 8 ) た だ し 、 S = 0 . 0 6 〜 〇 . 1 0 , k = 5 〜 7
ま た 、 2 図 の よ ό に 外 部 エ タ ロ ン 1 個 の 場 ^ は 、 ( 8 ) 式 に お い て 、 /3 = 〇 , k == 1
第 5 図 の よ う に 外 部 エ タ ロ ン 2 個 の 場 合 は 、
T ( λ ) ^ f ( λ , β )
• Ε ( k 1 · F t , , F S R , , λ )
. Ε ( k 2 · F t 2 , F S R 2 , A ) ··· ( 9 ) β = 0 , k 1 , k 2 = 1
第 6 図 の よ ό に レ ー ザ チ ヤ ン バ ー と リ ア ミ ラ ー の に エ タ ロ ン 力く 2 個 の 場合 は ( 9 ) 式 に お い て 、
β = 0 . 0 6 〜 0 . 1 0 , k , , k 2 5 〜 7 第 7 図 の よ う に レ ー ザ チ ヤ ン ノ ' 一 と リ ア ミ ラ ー の ! Ϊ] に エ タ ロ ン 力《 1 個 、 外 部 に エ タ ロ ン 力く 1 個 の 場 合 は 、 ( 9 ) 式 に お い て = 0 . 0 6 〜 0 . 1 〇 , = 5 〜 7 , k 2 = 1
第 8 図 の よ う に エ タ ロ ン を n 個 配 g: し た 場 合 の レ ー ザ光 の パ ワ ー ス ぺ ク ト ル 波 形 T ( λ ) は 、 ( ) 式 で わ さ れ る 。
た だ し β = 0 . ϋ 6 〜 0 . 1 〇
Κ エ タ ロ ン 力く レ ー ザ チ ャ ン バ 一 と リ ア ミ ラ 一 k
の 間 に あ る 場合 5 〜 7
エ タ ロ ン 力 < キ ヤ ビ テ ィ 外 に あ る 場 1 と な 以 J: の 数式 を 用 い て 計筧 し た ス ぺ ク ト ル 波 形 と 実験 で得 ら れた ス ぺ ク ト ル波形は よ く 一致 し た。
次に露光波長 2 4 8 . 3 5 n m の エキ シ マ レ ー ザ用 に 中:色設計 し た レ ン ズ素材合成石莢-か ら な る 第 1 ( a ) 〜 ( d ) に示す縮小投影 レ ン ズ につ い て ¾験 ^ の ス ペ ク ト ル波形お よ び ( 6 ) , ( 7 ) 式を用 い て I† % し た ,: ¾、 所定の露光 ffri に お い て、 解像力 ϋ .
5 m で 白 色 0 T F R w カ< 0 . 4 以 上 と な っ た エ タ 口 ン の 化様の例を第 2 表 ( a ) 〜 ( d ) に示す。 な お、 第 1 表お よ び第 2 表に お い て R ( I ) は レ ン ズ面の曲 率半径、 D ( I ) は面 ίϋί隔、 Ν Α は レ ン ズ の 開 口 数で あ O。
Figure imgf000017_0001
- ui ~ο υο 〇 οο θο ^ 〇 〇 ◦
( S 7 t -~0 t h- ' oo LO t t 〇 〇 00 I—1
〇 ( 787 〇 1 o 〇 o 〇 o 〇 〇 O 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇
Figure imgf000017_0002
〇 o 〇 〇 o 〇
〇 〇 〇 〇 〇 〇 o 〇 〇 〇 〇 o o 〇 〇 o 〇 〇 〇 〇 〇 O 〇 〇 〇 o 〇
( 6 539
t 00 t oo 1— » c
t 〇 00 oo 1—» 〇 00 ai o ^
〇 00 θο O t to t oc t oo v 〇 -0 t 00 t 〇 σι 0c ■o ¾
〇 00 L oo ·'〇 00 〇 t 〇 〇 00 〇 〇 00 〇 〇 o 。 一
〇 〇 〇 〇 〇 〇 o 〇 O 〇 〇 Ό 〇 c 〇 o
Figure imgf000017_0003
〇 〇 〇 o O o 〇 〇 o 〇 c c
〇 ο o 〇 〇 c 〇 〇 〇 o 〇 .〇 〇 〇 〇 〇 c 〇 〇 O o 〇 〇 〇 c 〇 o
CO en 00 ω CO CO CO w LO 00 in
〇 〇 〇 〇 o 〇 O O 〇 O O 〇 O O
倍率 1/5, NA 0. 3 露光醒 1 ϋ賴 2
[HlN Ο. R τ ヽ
Figure imgf000018_0001
( 1 ) 131. 17650 1 1. 4 Π U Π U Π U U Ui
1 U2
(.っ2)、 93. 27959 b. / Π υ Π υ υ Π ί υ π υ
づ ) - 100. 46322 つ Δつ. ( U
Figure imgf000018_0002
i U2 ί Λ \ 143. 08259 つ Q Π Π Π Π Γ π
. υ υ υ υ υι υ to I NF IN I TY Δ 3. D U Π U U ι U' π U 1 U2 ίο) -135. 03068 π U. 1 π U π U π U π U π υ f \
i f ) 242. 20820 ο π π π
丄 4. y υ π π o L U2 o) -257. 66086 U. 1
Figure imgf000018_0003
(9) 184. 26114 1 Γ\ C\ C\ C Λ
i じ2
Figure imgf000018_0004
(12) 268. 36447 35. l y y y y / r つ 、
(13) 一 444. 97981 5. u u u u u u S 1 〇2
( r 4メ ヽ) 73. 95901 4. Γ\
(15) 11 8. 76943 5. U u ϋ U u ϋ S 1 02
( 16) ' 95. 56114
(17) '- , . I NF I N I TY
Figure imgf000018_0005
(1 ) -232. 82731 1 14 A. υ υ υ υ υ υ
(19) 401. 67018 つ
Figure imgf000018_0006
C Ui d U Γ Uι Γ υϊ
I U2
(20) -304. 89259 υ. 1 υ υ υ υ π υ
(2 ヽ d c c
O 1 U2
Figure imgf000018_0007
(23) 94. 79885 14. 000000 S i O2
(24) 301. 67505 3. 000000
(25) -1329. 98382 19. 099991 S I 02
(26) 2975. 78633 1 . 000000
(27) I F I N I TY 18. 000000 S i 02
(28) 193. 30636 24. 455593 第 1表 (b ) 倍率 1/5, NA = 0. 36.
露光而 "! 5 mm2
ikiNひ. R ( I ) D ( 1 .)
(!)■ 178. 6439 17. 000 ϋ s L 02
(2) —400. 8164 2000
(3) 16 ϋ. 0833 24. ϋ ϋ ο ϋ s L O
(4) 76. 18. ϋ ϋ ϋ
(5) - 105. 0716 21. 0000 s L 02
(6) 194. 6593 76. 5000
(7) I NF I N I TY 23. 5000 s L 02
(8) -171. 4472 2000
(9:)' 3· 9.. 5 34 7 3 2. 0 ϋ 00 s L 02
(1 0) -301. 41 24 2000
(11) 1 5. 3320 21. 0000 s L O2
(1 2) - 1 183. 7886 2000'
(1 ) 146. 8835 16. 0000 s L O2
(14) 830. 5295 14. ϋ ϋ ο ϋ
(1 5) I NF I N I TY 5. 0000 S L O2
(16) 74. 3100 1 . 5000
(17) -185. 0336 5. 0000 s L O2
八 「 广
(18) 143. 2734 130. 1 5b
(19) 301 . 3042 14. 0000 s L O2
(20) -376. 4888 2000
(21) 947. 0281 31. 0000 s L O2
(22) -310. 6545 143. 0000
(23) 6 58. 826 9 2 3. 5000 s L 02
(2.4) -405. 3201 2000
c c
(25) 124. 4284 28. 5000 L (J2
(26) - 1 51 5. 6514 2000
(2 7) 131. 87 2 5 2〇. 5090 s L 02
(28) 296. 6548 4. 5000
(2 9) - 1309. 5 586 .24. 6 7 66 s L 02
(30). 463. 9672 20. 5002
(31 ) 2292. 9016 24. 0000 s L 02
(32) 181. 0752 0000 第 1表 ( c ) 倍率 1/5, NA-CL 30-0. 40 露光 f隨 15 mm2
Figure imgf000020_0001
(1) 132. 00107 24. 000 ϋ 00 S i 02
(2) -729. 93252 0. 300000
(3) 246. 82499 34. ϋ o o o o ϋ S i 02
(4) 93. 35740 26. 000 ϋ 00
(5) 一 126. 16589 29. 000000 S i 02
(6) 145. 79960 10 ϋ. ΟΟΟϋϋΟ
(7) -578. 92922 34. 500000 S i 02
(8) -206.. 75273 0. 300000
(9) 414. 25510 37. 0000 ϋ 0 S i 02 n o) -376. 35358 0. 300000
(11) 139. 16929 33. ο ο ο ο ο ο S i 02
(12) 2' 90: 72255 0. 300000
(13) 169. 08068 18. 000000 S i 02
(14) 735. 10957 13. ϋϋϋϋϋθ
(1 ) 2645. 80525 7. 000000 S i 0?
(16) 86. 60173 25. ο ο σόοο
(17) 一 168. 77662 7. ϋ 00000 S i 02
(18) 1 13. 92879 118. 800000
(19) I NF I N I TY 16. 000000 S i 02
(20) -360. 89699 56. 000000
(21) 1091. 24935 44. 500000 S i 02
(22) -347. 23958 S3. 800000
(23) 3826. 08163 31. 000000 S i 02
(24) -3826. 14019 0. 300000
(25) 836. 30728 32. 500000 S i 02
(26) -472. 1 1516 0. 300000
(27) 150. 88504 31. 00ひ 000 S ί 02
(28) I NF I N ITY 0. 300000
(29) 138. 31440 18. 000000 S i 02
(3ϋ> 202. 49177 18. 00 ϋ 000
-1077. 37560 37. 000000 S I 02
(32) 1682. 80642 21. 300000
(33) 478, 49797 27. 500000 S i 02
(34) 548. 93398 26. 168679 第 1表 (d) 第 2 表 ( a )
Figure imgf000021_0001
第 2 衷 ( a ) - Π
リア ミ ラ とチャ ンバ一の間にエタロンを 1個設置した場合
N o , トータルフイ ネス フ リースぺク トルレンジ 半値全幅 〔η m〕 パワーの範 βί)
CMの範囲 ψΐί lit] ι n【n j (mJ/pul se) t
1
丄 y 丄 U . ·3 丄 ~ U , ~> 1 ηリ · 0 0 34〜〇. 0 044 3 7〜4 7
//
A U 丄 1 〜 : 1 2. に . 0 0 3 7〜 0. 0 04 8 3 9〜 5 2 つ 1 1— //
丄 0 〜 1 » 1— 1 π 0 04 0〜 0. 0 0 5 3 4 3〜 5 6
// ·
ノ 9 〜 : 1 0 π
A υ . 0 044 - 0. 0 0 5 9 4 7〜 6 3
/
8 〜 9 π
λ 3 0 04 9〜 0. 0 0 6 6 5 3〜 1
24 7 〜 8 υ . U U つ つ 〜 U · η U Π U 7 / つ
Figure imgf000022_0001
2 5 5 . 6 ~ 7 0. 0 0 7 3 - 0. 0 0 94 7 9〜 98
26 1 0. 2 5 - 0. 3 1 . 0. 0 0 2 7 - 0. 0 0 3 7 2 9 -4 0
2 7 1 1 〜 : 1 2 0. 0 0 3 0〜 0. 0 04 0 3 2 -4 3
28 1 0 - 1 1 ft 0. 0 0 3 2 - 0. 0 044 34 -4 7
2 9 9· 〜 : 1 0 0, 0 0 3 6 - 0. 0 04 9 3 9〜 5 3
3 0 8 - 9 0. .0 04 0〜 0. 0 0 5 5 4 3〜 5 9 1 7 〜 8 0. 0 04 5〜 0. 0 0 6 3 4 8 - 68
3 2 6 - ' 7 0. 0 0 5 1 - 0. 0 0 74 5 5〜 7 9
3 3 5 - 6 0. 0 0 6 0〜 0. 0 0 86 64〜4 2
34 4 , ο ~ 5 0. 0 0 7 :! 〜 0. 0 0 9 6
ト lA
〇 on リアミ ラーとチヤ ンバーの間にエタロンを 2個- 置した場合
Figure imgf000023_0001
第 2 表 ( c )
Figure imgf000024_0001
注) 出射 の前、 出射ミ ラ一の間どちらの間にエタ口ンをおいても出力および波形はほとんど変化しな L
第 2 表 (d)
リア ミ ラ一とチヤ ンバーの間にエタロンを 1個 ®, 出射ミ -の前または出射ミラーとチャ ンバ一の間!:
Figure imgf000025_0001
ま た 、 実験 に使 ffl し た エ タ ロ ン の 仕俅範囲
反射率 5 0 〜 9 ϋ %
反射 フ イ ネ ス F s = 4 . 4 〜 4 3 . 3 面精度 λ Ζ 2 0 〜 Ι Ζ Ι ϋ ϋ ( 6 3 3 n m ) 面精度 フ イ ネ ス F p - 3 . 9 〜 1 9 . 5 平行度 Α Χ 2 0 ~ Λ / 1 0 0 ( 6 3 3 n m ) 平行度 フ イ ネ ス F p = 3 . 9 〜 1 9 . 5 レ ー ザ光軸 と エ タ ロ ン の なす角 度
エ タ ロ ン 力 チ ャ ン バ 一 と -出 射 ミ ラ ー の {¾ に あ る 時 ϋ 〜 2 . 5 。
エ タ 口 ンカ 出射 ミ ラ ー の 前の 位 Sに あ る 時
0 〜 2. 5 °
エ タ ロ ン力《 リ ア ミ ラ ー と チ ャ ン バ 一 に あ る 時
' 0 . 1 〜 5 ο
ビ ー ム拡カ《 り に よ る フ イ ネ ス F 」 = 2 ~ 5 0 0 有効径 2 0 翻 ø 以上
ト ー タ ノレ フ イ ネ ス は F t = l . 5 〜 1 3 . 1 の 範囲で あ る 。 エア ギ ャ ッ プ は 5 0 π! 〜 5 0 0 mの範囲で あ り 、 フ リ ー ス ペ ク ト ル レ ン ジ は F S R = 0 . 0 0 6 2 〜 0 . 6 2 n mの範囲であ る 。
第 2 表 ( a ) 〜 ( d ) に示す よ う な 仕 ^の エ タ ロ ン を俯え たエキ シマ レ ー ザの レ ー ザ光を光源 と し て用 い れば解像力 0 . 5 μ m程度の露光が可能で あ る 。
ま た 、 レ ー ザチ ヤ ン ノく と リ ア ミ ラ ー の 間 に エ タ ロ ン を配置す る こ と に よ っ て レ ー ザ出力が飛躍的 に増大す る こ と 力;' 判 明 し た 。
さ ら に 、 本案 の レ ー ザ &<: の ΐ-·渉性 の テ ス 卜 を 行 つ た と こ ろ ほ と ん ど 干 涉性 は み と め ら れ な い 。 た だ し 、 キ ヤ ビ テ ィ 内 に.ビ ン ホ ー ル を も う け て ピ ン ホ ー ル ί¾ を
^整 し て 干 渉性 の テ ス ト を 行 う と 、 ピ ン ホ ー ル 径 2 ram 程度で ス ペ ッ ク ルが 生す る 。 こ の こ と 力、 ら 、 キ ヤ ビ テ ィ 内 の ス リ ツ 卜 お よ びエ タ ロ ン の ^効 径 は 、 2 S 度 以 上必 ¾ で あ る 。
次 に エ タ 口 ン を リ ァ ミ ラ ー と チ ヤ ン バ ー の 問 に ϋ え た 場合 に お け る エ タ 口 ン の 傾 き 角 度 の 設定 に つ い て 説 明 す る 。
ま ずエ ア ギ ヤ ッ プ エ タ ロ ン 3 の 仕 様 と し て フ リ ー ス ぺ ク ト ル レ ン ジ 5 0 cm - 1 ( エ ア ギ ヤ ッ プ ス ペ ー ス を 1 Ό 0 m に 設定) 、 反射率 9 0 % 、 面 精度 お よ び ^ 行度 ス ノ 1 0 以上 ( 2 4 8 . 4 n m ) 、 有効径 3 5 0 の も の を用 い た 場合 の 第 1 図 に 示 す エ キ シ マ レ ー ザの 出 力 の ¾験結果 を 笫 9 図 に 示 す。
第 9 図 に 示 す よ う に 、 出 射 ミ ラ ー 2 と エ タ ロ ン 3 の 7 ラ イ メ ン 卜 力《一致 し て く る と 、 エ タ ロ ン 3 が全反射 ミ ラ 一 1 の 働 き を し て ビ ー ム を 全反射す る た め 、 ェ キ シ マ レ ー ザ の 出 力 は 、 自 然発振 の 線幅 5 0 [ cm ~ 1 ] と な っ て し ま ό 。 こ の エ タ ロ ン 3 力く全反射 ミ ラ 一 1 の 働 き を す る 傾 き 角 度 の 範 HI を 第 1 0 図 に 示 す。 す な わ ち エ タ ロ ン 3 の 傾 き 角 度 は 、 第 1 0 図 に 示 し た 長方-形 の 範 囲 に な ら な い よ う に 傾 け て 出 射 ミ ラ 一 2 と の ァ ラ イ メ ン ト を づ ら す必要があ る 。
ま た第 1 1 図 は、 エ タ ロ ン 3 力 <全反射 ミ ラ 一 に な ら な い た め の傾 き 角度の 条件を求め る も の で、 出射 ミ ラ — 2 の所 に お け る ^領域内 の エ タ 口 ン 3 の倾 き 角 度 が出射 ミ ラ 一 2 の傾 き 角 度 と 一致 し 、 エ タ ロ ン 3 と 出 射 ミ ラ 一 2 と が平行に な っ た場 、 少な く と も ェ ダ 口 ン 3 が全反射 ミ ラ ー と な り 波長選択 に影響が出 る と 考 え ら れ る 。 そ こ で、 出射 ミ ラ 一 に お け る ビー ム の大 き さ を S [ ci 1 、 エ タ ロ ン 3 と 出射 ミ ラ 一 2 と の距離を A [ cm ] とす る と、 光軸 に 対す る エ タ ロ ン の 法線方向 の 傾 き 角 度 は、
Θ = tan"1 S / 2 A -" ( 1 0 ) と な る 。
な お .1:記 ( 1 0 ) 式に A = 1 4 〇 [ cm ] 、 S = 1 C cm ] X 2 [ cm ] を代入 し て計算 し た エ タ ロ ン の 傾 き 角 度 0 と 実験で得 ら れた エ タ ロ ン の傾 き 角 度 S は よ く —致 し た。
次 に ビ ー ム の拡カ《 り 角 に対す る エ タ ロ ン の倾 き 角 度 Θ と 線幅 K の依 性に閔 し て説明す る。
ま ずエ タ 口 ン の透過波長の s本式は、
πι λ = 2 d cos 0 - ( 1 1 )
( m : 整数、 d : エ ア ギ ャ ッ プ)
で あ る。 こ こ で ビー ム の拡カ《 り 角 を 0 ' と す る と 、 上 記 ビ ー ム の 拡カ < り 角 ' どエ タ ロ ン の傾 き 角 度 S と は、 笫 1 2 図 に 示す如 く と な る 。 こ こ で ビー ム 力 < ェ タ ロ ン 3 に ώ に 入 射 し た 時 の 選 択 波 長 を ; I Q と す る と 、 上 記 ( 1 1 ) 式 は 、
m λ 0 = 2 d - ( 1 2 ) と な り 、 ビ - ム 拡が り に よ る 透過 波 長 の 差 は 、
m λ i = 2 d cos 0 -- ( 1 3 ) m λ 2 = 2 d cos ( 0 + S ' ) - ( 1 4 )
( λ ! : ビ ー ム の 入射 角 に 対 し 透過 す る 波 長 λ 2 : ビ ー ム の 入射角 θ + Θ ' ) に 対 し 透 過 す る 波 長 )
と な る 。 上 記 ( 1 2 ) , ( 1 3 ) , ( 1 4 ) 式 力、 ら λ 1 - λ 2 = o I COS Θ 一 cos ( Θ + Θ ' ) }
… ( 1 5 ) よ っ て 線 .Κ は
1 1.
κ
λ 2 λ 1
1 1 1
λ ο cos ( θ + θ ' ) cos θ
… ( 1 6 ) に な る 。 こ の ( 1 6 ) 式 よ り 線幅が例 え ば 0 . 5 〔 cm - 1] 、 1 [ cm " 1 ] お よ び 2 C cm " 1 ] と な る た め の ビ ー ム ϊ£ が り 角 Θ ' と エ タ ロ ン の 傾 き 角 度 の 関係 を 求 め る と 、 第 1 3 図 の ご と く 反比例 の よ う な 曲 線 に な る 。 と こ ろ で笫 1 図 の 構成に よ る エキ シ マ レ 一 ザの ビー 厶 拡カ り -は、 第 1 4 図 に示す よ う に 出 射 ミ ラ ー 2 の 出 ロ カ、 ら 2 m の 位置で測定 し た結 ¾、 X 軸方向 (光軸 に 対 し 横軸 方向 ) 力 2 . 2 [ mm ] 、 y 鈾方向 (光軸 に対 し 縦軸 方向 ) 力《 1 . 1 [匪 ] であ っ た。 な お第 1 4 図
、, A は出射 ミ ラ 一 出 口 での ビ一 厶 モ ー ド、 B は 出射 ラ一 出 口 力、 ら 2 m の位置での ビー ム モ 一 ドであ る 。 し た力《 つ て X 軸方向 (エ キ シ マ レ ー ザの電極の 放電 方 向 ) の ビ ー ム 拡カ り は 、 1 . 1 [ m rad] = 0 . 0 6
[ deg ] 、 y 軸方向の ビー ム 拡カ < り は、 0 . 5 5 C m r ad] = 0 . 0 3 [ deg ] と な る 。
し た 力く つ て、 エ タ ロ ン を レ ー-ザの ビー ム断面 ( y 平 Si ) に対'し て、 どの 方向 に傾け る か に よ つ てエ タ 口 ン を傾 け た方向 に対す る ビー ム 拡カ り が変化す る 。
こ れを式で表わす と 、
Θ ' = 0 . 0 6 X eos 0 ( 0 ° ≤ δ ≤ tan"10 . 5 )
… ( 1 7 )
Θ ' = 0 . 0 3 / s i n o ( t an"10 . 5 ≤ <5 ≤ 9 0 ° )
• … ( 1 8 ) と な る 。 た だ し 5 は x y 平面にエ タ ロ ン を倾け る 方向 を投影 し た場合の X 軸 に対す る 角 度であ る 。
ί: ( 1 6 ) , ( 1 7 ) , ( 1 8 ) 式よ り 線幅力《 0 . 5 [ cm " 13 、 1 [ cm _ 11 お よ び 2 C cm " 13 と な る た め の エ タ ロ ン の 角 度の 範 H を求め る と第 1 5 図の待.性曲 線 と し て 不-す こ と がで き る 。 ' m値 と 理論的 な範四 内 は よ く 一致 し た 。 ま た こ れ ら の レ ー ザ光 に 対 し て 干 - 性 の 験 を 行 つ た 所 干 渉性 は 認 め ら れ ず マ ル チ モ 一 ド で あ る こ と が 判 明 し た 。 ま た こ れ ら め 測定点 で の 出 力 は 、 1 パ ノレ ス 当 り 4 0 〜 1 0 〇 m J と な り 高 出 力 で 安 定 し た 発振が得 ら れ た 。
な お 、 本発 明 の 実施例 で は 、 ビ ー ム 拡力く り 角 0 ' を 第 1 象 限 に つ い て 説 明 し た が 、 第 2 , 3 , 4 象 限 に つ い て も 同 様 に し て 考 え る こ と が で き る 。 産 業 上 の 利 JTJ 可 能 性
以 上 の よ う に 、 本発 明 に 係 る エ キ シ マ レ 一 ザ は 、 フ ォ ト リ ソ グ ラ フ ィ 等 ·の 縮小投影露光装 置 の 光源 と し て 有用 で あ り 、 特 に イ ン テ グ レ ー タ 方式 の 露光 に 用 い る の に 適 し て い る 。

Claims

請 求 の 範 囲
1 . マ ル チ モ ー ドでかつ 狭帯域発振を さ せ る た め に エ タ 口 ン を.備 え た エ キ シ マ レ ー ザに お い て 、 エ タ ロ ン の 仕様が次式、
f λ W λ R , ( u , v ) d λ ≥
た だ し 、 a : レ ジ ス ト を レ チ ク ル パ タ ー ン 通 り に 感 光 さ せ る た め に 必 要 な 0 T F
( 0 T F は 0 p t i c a 1 Γ r a n s f e r F u n c t i o n ) R χ ( u , v ) '· 照明系及 び縮小投影 レ ン ズ の 単色 光 0 T F
W χ : 発振 レ ー ザ光の パ ワ ー ス ぺ ク ト ノレ の あ る 波長 ; I 〖こ'お け る ス ぺ ク ト ル波 形の' ゥ エ イ 卜 で、
W Τ ( λ ) X f λ T C λ ) d λ
λ
Τ ( λ ) : 発振 レ ー ザ光の ノ、。 ヮ 一 ス ペ ク ト ルで n
Τ ( λ ) = J* ( λ , β ) π Ε
k - L
F S R k , λ ) f ( λ , β ) チ ヤ ン ノく — と リ ア ミ ラ 一 の 間 に ェ 。 夕 π ン が存在す る こ と に よ る し き い.値の增加に よ る 仮想的 S 然発振 の パ ワ ー ス ぺ ク 卜 ノレ β ; し き い 値 の 増加割 合
Ε ( Κ F F S R λ ) k 番 0 の エ タ t k'
ロ ン 1 個 こ よ る 光 の パ ワ ー ス ぺ ク ト ル の 伝達 閲 数
F 各 エ タ ロ ン の 卜 一 タ ル フ ィ ネ ス
t k
F S R k : 各 エ タ ロ ン の フ リ 一 ス ペ ク ト ル レ ン ジ K k : フ イ ネ ス 係 数
を ^ 足 す る よ う に 設定 し た こ と を 特 徴 と す る マ ル チ モ 一 ド 抉 域允 振 エ キ シ マ レ ー ザ。
2 . マ ル チ モ ー ド で か つ 狭带域 允 振 を さ せ る た め に エ タ ロ ン を 備 え 、 該 ェ タ ロ ン の ί上 1 Ε様が次式、
f , W Ί R , ( u , v ) -ά λ ≥ a
た だ し'、 a : レ ジ ス ト を レ チ ク 'ル ノ、。 夕 一 ン 通 り に 感 光 さ せ る た め に 必要 な 0 T F
( O T F は O p t i c a l T r a n s f e r F u " n c t i o n )
R ( u v ) : 照明 系及 び縮小投影 レ ン ズ の 単 色 光 0 T F
W : 発振 レ ー ザ光 の パ ヮ 一 ス ぺ ク ト ル の あ る 波長 え に お け る ス ぺ ク ト ル 波 形 の ゥ エ イ 卜 で 、
W τ ( λ ) d λ
λ τ ( λ ) / ί λ
τ ( λ ) : 発振 レ ー ザ光 の パ ワ ー ス ペ ク ト ル で τ ( λ ) f ( ス , β ) F , A ) f ( λ , β ) : チ ャ ン ノ<一 と リ ア ミ ラ ー の 間 に ェ タ ロ ン が 在す る こ と に よ る し き い 値の增加 に よ る K想的 ΰ然 ¾ の パ つ — ス ぺ ク ト メ
β ; し き い 値の增加割
Ε ( k 番 目 の エ タ
F tk» F S R " :
ロ ン 1 個 に よ る 光のパ ワ ー ス ぺ ク 卜 ル の伝達関数 F t,, : 各エ タ ロ ン の 卜 一タ ル フ ィ ネ ス
F S R ¾ : 各エ タ ロ ン の フ リ ー ス ぺ ク 卜 ノレ レ ン ジ K k : フ イ ネ ス 係数
を 足す る よ う に 設定 した マ ル チ モ ー ド狭帯域発振ェ キ シ マ レ 一 ザに お い て、 前記エ タ ロ ン を チ ヤ ン バ ー と リ ア ミ ラ ー の 間 に備え た と き に、 光輪に対す る エ タ 口 ン の縦軸 ^向の傾 き 角度 S を
Θ > tan "l S / 2 A
( S : 出射 ミ ラ ー に お け る ビ ー ム の火 き さ 、 A エ タ ロ ン と 出射 ミ ラ ー の距離)
と し 、 発振線幅 K が
Figure imgf000034_0001
( λ ο : ビ ー 厶 カ《エ タ ロ ン に 垂直入射 し た時の選 択波長、 Θ ' : ビ ー ム の 拡カ < り 角 度)
た だ し Κ ≤ X
。 ^ 一 '
« ^ ? ¾ ? 2 ¾ x? 2! c 9 ¾ ¾
; S ¾ ¾ί SI ? )¾ ¾ 一 く' T f ) X )
0/i8df/lDd 〜 f ε — 19Z.00/88 OM
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