RU2481364C2 - Промежуточные слои, обеспечивающие улучшенную функциональность верхнего слоя - Google Patents
Промежуточные слои, обеспечивающие улучшенную функциональность верхнего слоя Download PDFInfo
- Publication number
- RU2481364C2 RU2481364C2 RU2011124950/05A RU2011124950A RU2481364C2 RU 2481364 C2 RU2481364 C2 RU 2481364C2 RU 2011124950/05 A RU2011124950/05 A RU 2011124950/05A RU 2011124950 A RU2011124950 A RU 2011124950A RU 2481364 C2 RU2481364 C2 RU 2481364C2
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- coating
- titanium dioxide
- vol
- layer
- substrate
- Prior art date
Links
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 237
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 215
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 174
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 claims abstract description 82
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 72
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 58
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims abstract description 27
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims abstract description 26
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 24
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims abstract description 24
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 24
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 23
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 22
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 22
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 claims abstract description 21
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 21
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims abstract description 19
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 6
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 106
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 53
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims description 43
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 40
- 229910001392 phosphorus oxide Inorganic materials 0.000 claims description 33
- VSAISIQCTGDGPU-UHFFFAOYSA-N tetraphosphorus hexaoxide Chemical compound O1P(O2)OP3OP1OP2O3 VSAISIQCTGDGPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 33
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 12
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 claims description 10
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 claims description 8
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 3
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract description 33
- 230000001699 photocatalysis Effects 0.000 abstract description 22
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 7
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 4
- 239000010409 thin film Substances 0.000 abstract description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 97
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 32
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 26
- 239000010408 film Substances 0.000 description 24
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N titanium(IV) isopropoxide Chemical compound CC(C)O[Ti](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000005329 float glass Substances 0.000 description 10
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- -1 for example Polymers 0.000 description 9
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000008859 change Effects 0.000 description 8
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 7
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 7
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 7
- HJYACKPVJCHPFH-UHFFFAOYSA-N dimethyl(propan-2-yloxy)alumane Chemical compound C[Al+]C.CC(C)[O-] HJYACKPVJCHPFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 description 6
- BDZBKCUKTQZUTL-UHFFFAOYSA-N triethyl phosphite Chemical compound CCOP(OCC)OCC BDZBKCUKTQZUTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 5
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 5
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 5
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 5
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 5
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 5
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 5
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 4
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 4
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 239000002957 persistent organic pollutant Substances 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 3
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 3
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 229910001415 sodium ion Inorganic materials 0.000 description 3
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000010748 Photoabsorption Effects 0.000 description 2
- 235000021355 Stearic acid Nutrition 0.000 description 2
- OUUQCZGPVNCOIJ-UHFFFAOYSA-M Superoxide Chemical class [O-][O] OUUQCZGPVNCOIJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000004630 atomic force microscopy Methods 0.000 description 2
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 2
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Natural products CCCCCCCC(C)CCCCCCCCC(O)=O OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SOQBVABWOPYFQZ-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);titanium(4+) Chemical class [O-2].[O-2].[Ti+4] SOQBVABWOPYFQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 description 2
- 239000008117 stearic acid Substances 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WOZZOSDBXABUFO-UHFFFAOYSA-N tri(butan-2-yloxy)alumane Chemical compound [Al+3].CCC(C)[O-].CCC(C)[O-].CCC(C)[O-] WOZZOSDBXABUFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004876 x-ray fluorescence Methods 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical class [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010073306 Exposure to radiation Diseases 0.000 description 1
- 229910001335 Galvanized steel Inorganic materials 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006124 Pilkington process Methods 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FKNQFGJONOIPTF-UHFFFAOYSA-N Sodium cation Chemical compound [Na+] FKNQFGJONOIPTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical class OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 238000005275 alloying Methods 0.000 description 1
- SMZOGRDCAXLAAR-UHFFFAOYSA-N aluminium isopropoxide Chemical compound [Al+3].CC(C)[O-].CC(C)[O-].CC(C)[O-] SMZOGRDCAXLAAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 1
- YHWCPXVTRSHPNY-UHFFFAOYSA-N butan-1-olate;titanium(4+) Chemical compound [Ti+4].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-] YHWCPXVTRSHPNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- IVMYJDGYRUAWML-UHFFFAOYSA-N cobalt(ii) oxide Chemical class [Co]=O IVMYJDGYRUAWML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- HHFAWKCIHAUFRX-UHFFFAOYSA-N ethoxide Chemical compound CC[O-] HHFAWKCIHAUFRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008397 galvanized steel Substances 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N iron oxide Inorganic materials [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000013980 iron oxide Nutrition 0.000 description 1
- VBMVTYDPPZVILR-UHFFFAOYSA-N iron(2+);oxygen(2-) Chemical class [O-2].[Fe+2] VBMVTYDPPZVILR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005355 lead glass Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- NBTOZLQBSIZIKS-UHFFFAOYSA-N methoxide Chemical compound [O-]C NBTOZLQBSIZIKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000006060 molten glass Substances 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- OTCVAHKKMMUFAY-UHFFFAOYSA-N oxosilver Chemical class [Ag]=O OTCVAHKKMMUFAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVRQVWSVLMGPRN-UHFFFAOYSA-N oxotungsten Chemical class [W]=O VVRQVWSVLMGPRN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 231100000572 poisoning Toxicity 0.000 description 1
- 230000000607 poisoning effect Effects 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- IKNCGYCHMGNBCP-UHFFFAOYSA-N propan-1-olate Chemical compound CCC[O-] IKNCGYCHMGNBCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 1
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 1
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 description 1
- WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N rhenium atom Chemical compound [Re] WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052706 scandium Inorganic materials 0.000 description 1
- SIXSYDAISGFNSX-UHFFFAOYSA-N scandium atom Chemical compound [Sc] SIXSYDAISGFNSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004626 scanning electron microscopy Methods 0.000 description 1
- 239000005368 silicate glass Substances 0.000 description 1
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical class [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 229910001923 silver oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- HUAUNKAZQWMVFY-UHFFFAOYSA-M sodium;oxocalcium;hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+].[Ca]=O HUAUNKAZQWMVFY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N strontium titanate Chemical compound [Sr+2].[O-][Ti]([O-])=O VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000475 sunscreen effect Effects 0.000 description 1
- 239000000516 sunscreening agent Substances 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 229920001897 terpolymer Polymers 0.000 description 1
- QHGNHLZPVBIIPX-UHFFFAOYSA-N tin(ii) oxide Chemical class [Sn]=O QHGNHLZPVBIIPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JMXKSZRRTHPKDL-UHFFFAOYSA-N titanium ethoxide Chemical compound [Ti+4].CC[O-].CC[O-].CC[O-].CC[O-] JMXKSZRRTHPKDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 238000000411 transmission spectrum Methods 0.000 description 1
- JLTRXTDYQLMHGR-UHFFFAOYSA-N trimethylaluminium Chemical compound C[Al](C)C JLTRXTDYQLMHGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 229910001930 tungsten oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000014692 zinc oxide Nutrition 0.000 description 1
- BNEMLSQAJOPTGK-UHFFFAOYSA-N zinc;dioxido(oxo)tin Chemical compound [Zn+2].[O-][Sn]([O-])=O BNEMLSQAJOPTGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RNWHGQJWIACOKP-UHFFFAOYSA-N zinc;oxygen(2-) Chemical class [O-2].[Zn+2] RNWHGQJWIACOKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D1/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, based on inorganic substances
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
- C03C17/3417—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials all coatings being oxide coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
- C09D5/16—Antifouling paints; Underwater paints
- C09D5/1693—Antifouling paints; Underwater paints as part of a multilayer system
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
- C09D5/24—Electrically-conducting paints
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
- C23C16/40—Oxides
- C23C16/401—Oxides containing silicon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
- C23C16/40—Oxides
- C23C16/405—Oxides of refractory metals or yttrium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/70—Properties of coatings
- C03C2217/71—Photocatalytic coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/90—Other aspects of coatings
- C03C2217/91—Coatings containing at least one layer having a composition gradient through its thickness
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/90—Other aspects of coatings
- C03C2217/94—Transparent conductive oxide layers [TCO] being part of a multilayer coating
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Abstract
Изобретение относится к получению изделий с многослойным светочувствительным покрытием и может быть использовано для получения тонкопленочных солнечных элементов, фотокаталитических изделий. Изделие включает подложку, например стеклянную подложку, и первое покрытие, сформированное, по меньшей мере, на части подложки. Первое покрытие является многослойным и включает смесь оксидов, содержащую оксиды, по меньшей мере, двух элементов, выбранных из Р, Si, Ti, Al и Zr. Функциональное покрытие сформировано, по меньшей мере, на части первого покрытия. Функциональное покрытие выбрано из электропроводящего покрытия и светочувствительного покрытия. В одном осуществлении изобретения функциональное покрытие включает оксид олова, допированный фтором. В другом осуществлении функциональное покрытие включает диоксид титана. Для изготовления изделия с покрытием получают, например, стеклянную подложку. Формируют первое многослойное покрытие, по меньшей мере, на части подложки химическим осаждением из паровой фазы. Формируют функциональное покрытие, по меньшей мере, на части первого покрытия. 4 н. и 10 з.п. ф-лы, 5 ил., 12 табл., 7 пр.
Description
Перекрестная ссылка на родственные заявки
Эта заявка испрашивает приоритет по US 12/273,617; 12/273,623 и 12/273,641, все поданы 19 ноября 2008, и все три из которых полностью включены в описание ссылкой.
Область техники, к которой относится изобретение
Это изобретение относится в целом к изделиям с покрытием и, в частности, к изделиям с многослойным покрытием, имеющим функциональный верхний слой и, по меньшей мере, один промежуточный слой.
Уровень техники
Изделия с многослойными покрытиями широко используются в различных применениях. Один пример находится в области тонкопленочных солнечных элементов. Обычный солнечный элемент включает подложку, такую как стеклянная пластина, с прозрачной проводящей пленкой (первый электрод). Полупроводниковая пленка с материалом фотоэлектрического преобразователя нанесена на прозрачную проводящую пленку. Элемент включает другую подложку с прозрачной проводящей пленкой (второй электрод). Электролит может быть помещен между этими двумя электродами. Когда материал фотоэлектрического преобразователя, адсорбированный на полупроводниковой пленке, освещен, электроны, генерируемые освещением, движутся через полупроводниковую пленку в одну из прозрачных проводящих пленок. Например, электроны могут двигаться через первый электрод, через электрический вывод и на другой электрод. В солнечных элементах для эффективности фотоэлектрического преобразования важно, чтобы электроны перемещались настолько быстро, насколько возможно через первую проводящую пленку на другой электрод. Таким образом, желательно, чтобы удельное поверхностное сопротивление прозрачной проводящей пленки было низким. Если электроны не будут перемещаться быстро, может происходить рекомбинация электронов с материалом фотоэлектрического преобразователя (обычно называемая "ток обратного напряжения " или "обратный ток"). Также желательно, чтобы проводящая пленка была очень прозрачной, чтобы позволить максимальному количеству солнечного излучения проходить к материалу фотоэлектрического преобразователя. Поэтому было бы желательно создать изделие с покрытием для солнечного элемента, которое увеличивает поток электронов через прозрачную проводящую пленку. То есть прозрачную проводящую пленку с низким удельным поверхностным сопротивлением.
Другой пример области использования изделий с покрытием является область фотокаталитических изделий. Известно нанесение фотокаталитического покрытия, такого как диоксид титана, на подложку для создания изделия с покрытием со свойствами самоочищения. Под действием определенного электромагнитного излучения, такого как ультрафиолетовое излучение, фотокаталитическое покрытие взаимодействует с органическими загрязнителями на поверхности покрытия, разлагая или разрушая органические загрязнители. Однако обычные фотокаталитические изделия обладают относительно высоким коэффициентом отражения видимого света и, поэтому, могут не соответствовать для использования в некоторых архитектурных применениях. Кроме того, обычные фотокаталитические покрытия могут быть подвержены разрушению посредством традиционно называемого "отравления ионами натрия", вызванного диффузией ионов натрия из нижележащей стеклянной подложки в фотокаталитическое покрытие. Кроме того, обычные фотокаталитические покрытия имеют тенденцию проявлять эффекты радужности, которые снижают эстетический вид изделий с покрытием.
Поэтому было бы желательно создать изделие с покрытием, с промежуточным слоем между подложкой и функциональным верхним слоем (таким как, но не ограниченным проводящим фотогальваническим прозрачным покрытием или фотокаталитическим покрытием), который действует не только как барьер для диффузии ионов натрия, но также и улучшает характеристики изделия с покрытием. Например, характеристики могут быть улучшены снижением коэффициента отражения изделия с покрытием и/или подавлением цвета изделия и/или повышением функциональности верхнего слоя. Например, в фотогальванических применениях, промежуточный слой может уменьшить удельное поверхностное сопротивление верхнего слоя (например, прозрачного проводящего слоя) для увеличения потока электронов. В фотокаталитических применениях промежуточный слой может увеличить фотокаталитическую активность фотокаталитического покрытия.
Раскрытие изобретения
Изделие с покрытием включает подложку и первое покрытие, сформированное, по меньшей мере, на части подложки. Первое покрытие включает оксиды, по меньшей мере, двух элементов из Р, Si, Ti, Al и Zr. Функциональное покрытие сформировано, по меньшей мере, на части первого покрытия. В одном неограничивающем осуществлении первое покрытие включает, по меньшей мере, оксиды Ti и Si. В другом неограничивающем осуществлении первое покрытие включает, по меньшей мере, оксиды Ti, Si и Р. В еще одном неограничивающем осуществлении первое покрытие включает, по меньшей мере, оксиды Ti, Si и Al. Другие осуществления могут включать любую комбинацию двух или большего числа этих материалов. Примеры функциональных покрытий включают, но не ограничены, светочувствительными покрытиями (такими как фотокаталитические покрытия и/или фотогидрофильные покрытия) и электропроводящими покрытиями. Функциональное покрытие может быть нанесено на первое покрытие с любой комбинацией вышеуказанных компонентов.
Другое изделие с покрытием включает стеклянную подложку и первое покрытие, сформированное, по меньшей мере, на части подложки. Первое покрытие включает оксиды, по меньшей мере, двух элементов из Р, Si, Ti, Al и Zr. Функциональное покрытие формируют, по меньшей мере, на части первого покрытия. Функциональное покрытие выбрано из диоксида титана и оксида олова, допированного фтором.
Способ изготовления изделия с покрытием включает получение стеклянной подложки; формирование первого покрытия, по меньшей мере, на части стеклянной подложки CVD (химическим осаждением из паровой фазы) направлением первой композиции покрытия на стеклянную подложку, первая композиция покрытия содержит предшественник диоксида кремния, предшественник диоксида титана и катализатор диоксид кремния, содержащий, по меньшей мере, один материал катализатора, по меньшей мере, с одним элементом из Р, Al и Zr; и формирование функционального покрытия, по меньшей мере, на части первого покрытия CVD направлением второй композиции покрытия на стеклянную подложку, вторая композиция покрытия включает предшественник композиции оксида олова, допированного фтором, или предшественник композиции диоксида титана.
Еще одно изделие с покрытием включает подложку и первое покрытие, сформированное, по меньшей мере, на части подложки. Первое покрытие включает смесь оксидов, содержащих оксиды, по меньшей мере, двух элементов из Р, Si, Ti, Al и Zr. Проводящее покрытие формируют, по меньшей мере, на части первого покрытия. Проводящее покрытие включает один или большее число оксидов Zn, Fe, Mn, Al, Се, Sn, Sb, Hf, Zr, Ni, Zn, Bi, Ti, Co, Cr, Si или In или сплавов двух или большего числа из этих материалов.
Способ снижения удельного поверхностного сопротивления проводящего покрытия включает получение подложки; формирование первого покрытия, по меньшей мере, на части подложки, причем первое покрытие содержит оксиды, по меньшей мере, двух элементов из Р, Si, Ti, Al и Zr; и формирование проводящего покрытия, по меньшей мере, на части первого покрытия.
Способ увеличения матовости и/или увеличения пропускания видимого света изделия с покрытием включает получение подложки; формирование первого покрытия, по меньшей мере, на части подложки, причем первое покрытие содержит оксиды, по меньшей мере, двух элементов из Р, Si, Ti, Al и Zr; и формирование функционального покрытия, по меньшей мере, на части первого покрытия.
Еще одно изделие с покрытием включает подложку и первое покрытие, сформированное, по меньшей мере, на части подложки. Первое покрытие включает смесь оксидов, включающих оксиды, по меньшей мере, двух элементов из Р, Si, Ti, Al и Zr. Светочувствительное покрытие сформировано, по меньшей мере, на части первого покрытия.
Светочувствительное изделие включает стеклянную подложку и первое покрытие, сформированное, по меньшей мере, на части подложки. Первое покрытие включает смесь диоксида кремния, диоксид титана и оксида алюминия. Светочувствительное функциональное покрытие, включающее диоксид титана, сформировано, по меньшей мере, на части первого покрытия.
Способ увеличения фотокаталитической активности светочувствительного покрытия включает получение подложки; формирование первого покрытия, по меньшей мере, на части подложки, причем первое покрытие содержит оксиды, по меньшей мере, двух элементов из Р, Si, Ti, Al и Zr; и формирование светочувствительного покрытия, по меньшей мере, на части первого покрытия.
Способ изготовления светочувствительного изделия включает получение стеклянной подложки; формирование первого покрытия, по меньшей мере, на части стеклянной подложки CVD направлением первой композиции покрытия на стеклянную подложку, причем первая композиция покрытия содержит тетраэтилортосиликат, изопропоксид титана и диметилалюминийизопропоксид; и формирование светочувствительного покрытия, по меньшей мере, на части первого покрытия CVD направлением второй композиции покрытия на стеклянную подложку, причем светочувствительное покрытие содержит диоксид титана.
Краткое описание чертежей
Полное понимание изобретения будет достигнуто из последующего описания при рассмотрении совместно с прилагаемыми фигурами.
Фиг.1 является боковой проекцией (не в масштабе) изделия с покрытием, включающего признаки изобретения;
Фиг.2 является графиком зависимости удельного поверхностного сопротивления от [Sn] в покрытиях из оксида олова, допированного фтором, сформированных непосредственно на стекле или на промежуточном слое изобретения;
Фиг.3 является графиком зависимости процента пропускания от длины волны для покрытий из оксида олова, допированного фтором, сформированных непосредственно на стекле или на промежуточном слое изобретения;
Фиг.4 является графиком зависимости отражения от толщины покрытия из диоксида титана для изделий с покрытием примера 5; и
Фиг.5 является графиком изменения цвета изделий с покрытием примера 6.
Осуществление изобретения
В соответствии с использованием в описании, пространственные термины или термины направления, такие как "левый", "правый", "внутренний", "внешний", "выше", "ниже", и т.п., в изобретении используются так, как они представлены на фигурах. Однако следует понимать, что изобретение может допускать различные альтернативные ориентации и, соответственно, такие термины нельзя рассматривать как ограничивающие. Кроме того, в соответствии с использованием в описании, все числа, представляющие размеры, физические характеристики, технологические параметры, количества компонентов, условия реакции и т.п., используемые в описании и формуле изобретения, должны быть представлены во всех случаях, как предваренные термином "около". Соответственно, если не оговорено иное, числовые величины, изложенные в последующей заявке и формуле изобретения, могут меняться в зависимости от искомых свойств, которые предполагается получить в соответствии с настоящим изобретением. По меньшей мере, и не в качестве попытки ограничить применение теории эквивалентов к объему притязаний формулы изобретения, каждое числовое значение должно быть рассмотрено, по меньшей мере, с учетом представленных значащих цифр и применением обычных методов округления. Кроме того, следует понимать, что все диапазоны, раскрытые в описании, включают начальное и конечное значения диапазона и всех поддиапазонов, включенных в него. Например, указанный диапазон "1-10" следует рассматривать как включающий все поддиапазоны между (и включительно) минимальным значением 1 и максимальным значением 10; то есть, все поддиапазоны, начинающиеся с минимального значения 1 или более и заканчивающиеся максимальным значением 10 или менее, например, 1-3,3, 4,7-7,5, 5,5-10, и т.п. Кроме того, в соответствии с использованием в описании термины "сформированный на", "осажденный на" или "полученный на" означают сформированный, осажденный или полученный на, но не обязательно в прямом контакте с поверхностью. Например, слой покрытия, "сформированный на" подложке, не исключает присутствие одного или большего числа других слоев покрытия или пленок того же или другого состава, расположенных между сформированным слоем покрытия и подложкой. В соответствии с использованием в описании "полимер" или "полимерный" включают олигомеры, гомополимеры, сополимеры и терполимеры, например, полимеры, образованные из двух или более типов мономеров или полимеров. Термины "видимая область" или "видимый свет" относятся к электромагнитному излучению с длиной волны 380-760 нм. Термины "инфракрасная область" или "инфракрасное излечение" относятся к электромагнитному излучению с длиной волны в диапазоне от более 760 нм до 100000 нм. Термины "ультрафиолетовая область" или "ультрафиолетовое излучение " означают электромагнитную энергию с длиной волны в диапазоне от 300 нм до менее 380 нм. Термины "микроволновая область" или "микроволновое излучение " относятся к электромагнитному излучению с частотой в диапазоне от 300 МГц до 300 ГГц. Кроме того, все документы, такие как, но не ограниченные выданными патентами и заявками на патенты, упоминаемые в заявке, следует рассматривать как полностью "включенные ссылкой". В последующем обсуждении значения коэффициента преломления это значения для опорной длины волны 550 нанометров (нм). Термин "пленка" относится к области покрытий искомого или выбранного состава. "Слой" включает одну или более "пленок". "Покрытие" или "пакет покрытий" состоят из одного или более "слоев".
Изделие с покрытием 10, с признаками изобретения, показано на фиг.1. Изделие 10 включает подложку 12, по меньшей мере, с одной главной поверхностью. Первое покрытие (промежуточный слой) 14 изобретения сформировано, по меньшей мере, на части главной поверхности. Второе покрытие (функциональное покрытие) 16 сформировано, по меньшей мере, на части первого покрытия 14. В то время как теперь будут описаны определенные типичные осуществления, нужно понимать, что один или более признаков изобретения, включенные в эти осуществления, могут быть объединены с одним или большим числом признаков других осуществлений и что изобретение не ограничено определенными типичными осуществлениями, описанными далее.
В общем плане осуществлений изобретения подложка 12 может включать любой требуемый материал с любыми требуемыми характеристиками. Например, подложка 12 может быть прозрачной, полупрозрачной или непрозрачной в видимом свете. "Прозрачный" означает обладающий пропусканием видимого света от более 0% до 100%. Альтернативно подложка 12 может быть полупрозрачной или непрозрачной. "Полупрозрачный" означает позволяющий пропускать электромагнитную энергию (например, видимый свет), но рассеивающий эту энергию таким образом, что объекты со стороны наблюдателя видны неясно. "Непрозрачный" означает обладающий пропусканием видимого света 0%. Примеры подходящих материалов включают, но не ограничены, пластмассовыми подложками (например, акриловые полимеры, такие как полиакрилаты; полиалкилметакрилаты, такие как полиметилметакрилаты, полиэтилметакрилаты, полипропилметакрилаты и т.п.; полиуретаны; поликарбонаты; полиалкилтерефталаты, такие как полиэтилентерефталат (PET), полипропилентерефталаты, полибутилентерефталаты и т.п.; полисилоксансодержащие полимеры; или сополимеры любых мономеров для их получения, или их любые смеси); металлические подложки, такие как, но не ограниченные оцинкованной сталью, нержавеющей сталью и алюминием; керамические подложки; подложки из плитки;
стеклянные подложки; или смеси, или комбинации любых материалов из вышеуказанных. Например, подложка может включать обычное натриево-кальциевое силикатное стекло, боросиликатное стекло или свинцовое стекло. Стекло может быть бесцветным стеклом. "Бесцветное стекло" означает нетонированное или неокрашенное стекло. Альтернативно стекло может быть тонированным или стеклом, окрашенным иначе. Стекло может быть отожженным или термообработанным стеклом. В соответствии с использованием в описании термин "термообработанный" означает закаленный или, по меньшей мере, частично закаленный. Стекло может быть любого типа, например, обычным флоат-стеклом и может быть любого состава, с любыми оптическими свойствами, например, с любой величиной пропускания в видимой, ультрафиолетовой, инфракрасной областях и/или общего пропускания солнечной энергии. "Флоат-стекло" означает стекло, изготовленное обычным флоат-процессом, в котором расплавленное стекло подают на расплавленный металл в ванне и охлаждают в регулируемых условиях для формирования полосы флоат-стекла. Неограничивающие изобретение примеры стекла, подходящего для подложки, описаны в US 4,746,347; 4,792,536; 5,030,593; 5,030,594; 5,240,886; 5,385,872; и 5,393,593. Не ограничивающие примеры стекла, которые могут быть использованы в практике изобретения, включают Solargreen®, Solextra®, GL-20®, GL-35™, Solarbronze®, Starphire®, Solarphire®, Solarphire PV® и Solargray® стекла, все коммерчески поставляемые PPG Industries Inc. of Pittsburgh, Pennsylvania. Стекло может иметь гладкую поверхность или, альтернативно, может иметь шероховатую или текстурированную поверхность. В одном неограничивающем осуществлении у стеклянной поверхности может быть поверхностная шероховатость (RMS) в диапазоне от 100 нм до 5 мм.
Подложка 12 может иметь любые требуемые размеры, например, длину, ширину, форму или толщину. Например, подложка 12 может быть плоской, изогнутой или иметь и плоские и искривленные части. В одном неограничивающем осуществлении толщина подложки 12 может составлять 1-10 мм, например 1-5 мм, например 2-4 мм, например 3-4 мм.
В одном неограничивающем осуществлении у подложки 12 может быть высокое пропускание видимого света при опорной длине волны 550 нанометров (нм). "Высокое пропускание видимого света" означает пропускание видимого света при 550 нм, более или равное 85%, например, более или равное 87%, например, более или равное 90%, например, более или равное 91%, например, более или равное 92%.
Первое покрытие (промежуточный слой) 14 обеспечивает изделию с покрытием 10 различные эксплуатационные преимущества, как будет описано подробно далее. В одном неограничивающем осуществлении изобретения первое покрытие 14 может быть гомогенным покрытием. "Гомогенное покрытие" означает покрытие, в котором материалы распределены по покрытию случайным образом. Альтернативно, первое покрытие 14 может включить большое число слоев покрытия или пленок (например, две или более отдельных пленок покрытия). Также альтернативно первое покрытие 14 может быть слоем с градиентом. "Слой с градиентом" означает слой с двумя или большим числом компонентов с непрерывно (или ступенчато) меняющейся концентрацией компонентов, при изменении расстояния от подложки.
В одном неограничивающем осуществлении первое покрытие 14 включает смесь двух или более оксидов, выбранных из оксидов кремния, титана, алюминия, циркония и/или фосфора. Оксиды могут присутствовать в любых требуемых пропорциях. В одном неограничивающем осуществлении первое покрытие 14 включает смесь диоксида кремния и диоксида титана, с содержанием диоксида кремния в диапазоне 0,1-99,9% масс. и содержанием диоксида титана в диапазоне 99,9-0,1% масс. Первое покрытие 14 может быть гомогенным покрытием. Альтернативно первое покрытие 14 может быть покрытием с градиентом с изменяющимися в покрытии пропорциями диоксида кремния и диоксида титана. Например, первое покрытие 14 может быть в основном диоксидом кремния в области, прилегающей к поверхности подложки, и в основном диоксидом титана во внешней части первого покрытия 14.
Как обсуждено выше, первое покрытие 14 может включать смеси, по меньшей мере, двух оксидов элементов, выбранных из кремния, титана, алюминия, циркония и/или фосфора. Такие смеси включают, но не ограничены, диоксидом титана и оксидом фосфора; диоксидом кремния и оксидом алюминия; диоксидом титана и оксидом алюминия; диоксидом кремния и оксидом фосфора; диоксидом титана и оксидом фосфора; диоксидом кремния и диоксидом циркония; диоксидом титана и диоксидом циркония; оксидом алюминия и диоксидом циркония; оксидом алюминия и оксидом фосфора; диоксидом циркония и оксидом фосфора; или любой комбинацией вышеуказанных материалов. Относительные пропорции оксидов могут составлять любые требуемые количества, например, 0,1-99,9% масс. одного материала и 99,9-0,1% масс. другого материала.
Кроме того, первое покрытие 14 может включать смеси, по меньшей мере, трех оксидов, таких как, но не ограниченных тремя или большим числом оксидов элементов, выбранных из кремния, титана, алюминия, циркония и/или фосфора. Примеры включают, но не ограничены, смесями, содержащими диоксид кремния, диоксид титана и оксид фосфора; диоксид кремния, диоксид титана и оксид алюминия; и диоксид кремния, диоксид титана и диоксид циркония. В одном неограничивающем осуществлении первое покрытие 14 включает смесь диоксида кремния и диоксида титана, по меньшей мере, с одним другим оксидом, выбранным из оксида алюминия, диоксида циркония и оксида фосфора. Относительные пропорции оксидов могут присутствовать в любом требуемом количестве, таком как 0,1-99.9% масс. одного материала, 99,9-0,1% масс. второго материала и 0,1-99,9% масс. третьего материала.
Одно определенное первое покрытие 14 изобретения включает смесь диоксида кремния, диоксида титана и оксид фосфора. Диоксид кремния может присутствовать в диапазоне 30-80% об. Диоксид титана может присутствовать в диапазоне 5-69% об. Оксид фосфора может присутствовать в диапазоне 1-15% об.
Первое покрытие 14 может быть любой требуемой толщины, такой как, но не ограниченной 10-120 нм, например, 30-80 нм, например, 40-80 нм, например, 30-70 нм.
Второе покрытие (верхний слой) 16 включает функциональное покрытие. Примеры функционального покрытия, пригодного для изобретения, включают, но не ограничены проводящими покрытиями, солнцезащитными покрытиями, покрытиями с низкой излучательной способностью и светочувствительными покрытиями.
В одном неограничивающем осуществлении второе покрытие 16 включает, по меньшей мере, один электропроводящий оксидный слой, такой как допированный оксидный слой. Например, второе покрытие 16 может включать один или большее число оксидных материалов, таких как, но не ограниченных одним или большим числом оксидов одного или большего числа элементов из Zn, Fe, Mn, Al, Ce, Sn, Sb, Hf, Zr, Ni, Zn, Bi, Ti, Co, Cr, Si или In, или сплав двух или большего числа этих материалов, таких как станнат цинка. Второе покрытие 16 может также включать один или более легирующих материалов, таких как, но не ограниченных F, In, Al и/или Sb. В одном неограничивающем осуществлении второе покрытие 16 является покрытием оксида олова, допированного фтором, с содержанием фтора в материале предшественника покрытия в количестве менее 20% масс. по отношению к общей массе материалов предшественника, например, менее 15% масс., например, менее 13% масс., например, менее 10% масс., например, менее 5% масс. Второе покрытие 16 может быть аморфным, кристаллическим или, по меньшей мере, частично кристаллическим.
В одном неограничивающем осуществлении второе покрытие 16 включает оксид олова, допированный фтором, с толщиной более 200 нм, например, более 250 нм, например, более 350 нм, например, более 380 нм, например, более 400 нм, например, более 420 нм. В одном неограничивающем осуществлении толщина находится в диапазоне 350-420 нм.
Промежуточный слой 14 изобретения обеспечивает верхнее покрытие 16 (например, оксид олова, допированный фтором) с удельным поверхностным сопротивлением менее 15 Ом на квадрат (Ω/□), например, менее 14 Ω/□, например, менее 13,5 Ω/□, например, менее 13 Ω/□, например, менее 12 Ω/□, например, менее 11 Ω/□, например, менее 10 Ω/□.
В другом неограничивающем осуществлении второе покрытие 16 может быть светочувствительным покрытием. Термины "светочувствительные" или "фотоактивно" относятся к фотогенерации пары электрон дырка при освещении излучением определенной частоты, например ультрафиолетовым ("УФ") светом. Светочувствительное покрытие может быть фотокаталитическим, фотоактивно гидрофильным или и тем и тем. "Фотокаталитическое" означается покрытие со свойствами самоочищения, то есть покрытие, которое при воздействии определенного электромагнитного излучения, например УФ, взаимодействует с органическими загрязнителями на поверхности покрытия для разрушения или разложения органических загрязнителей. Фотоактивно "гидрофильное" означает покрытие, для которого краевой угол смачивания капли воды на покрытии уменьшается во времени в результате воздействия на покрытие электромагнитного излучения в полосе фотопоглощения материала. Например, угол контакта может уменьшиться до величины менее 15°, например, менее 10°, и может стать супергидрофильным, например, снижением до менее 5°, после шестидесяти минут действия излучения в полосе фотопоглощения материала, с интенсивностью 24 Ватт/м2 на поверхности покрытия. Хотя светочувствительное покрытие может не обязательно быть фотокаталитическим до такой степени, что оно будет самоочищающимся, то есть возможно не является достаточно фотокаталитическим для разложения органического материала, подобного грязи, на поверхности покрытия за допустимый или экономически приемлемый промежуток времени. Например, фотокаталитическая активность может быть менее 4×10-3 на сантиметр в минуту (см-1мин-1), например, менее 3×10-3 см-1мин-1, например, менее 2×10-3 см-1мин-1, например, менее 1×10-3 см-1мин-1.
Светочувствительное покрытие может включать, по меньшей мере, один светочувствительный материал покрытия и, при необходимости, по меньшей мере, одну добавку или допант, выполненную с возможностью влияния на фотоактивность покрытия по сравнению с покрытием без материала допанта. Светочувствительный материал покрытия может включать, по меньшей мере, один оксид, такой как, но не ограниченный, одним или большим числом оксидов или оксидов полупроводников, например, оксиды титана, оксиды кремния, оксиды алюминия, оксиды железа, оксиды серебра, оксиды кобальта, оксиды хрома, оксиды меди, оксиды вольфрама, оксиды цинка, оксиды цинка/олова, титанат стронция и их смеси. Оксид может включать оксиды, супероксиды или суб-оксиды элемента. Оксид может быть кристаллическим или, по меньшей мере, частично кристаллическим. В одном типичном покрытии изобретения светочувствительный материал покрытия является диоксидом титана. Диоксид титана существует в аморфной форме и трех кристаллических формах, то есть в кристаллических формах анатаза, рутила и брукита. Фаза диоксида титана анатаз особенно полезна, потому что она обладает высокой фотоактивностью, также превосходной химической стойкостью и превосходной физической долговечностью. Однако фаза рутила или комбинации анатаза и/или фазы рутила с брукитом и/или аморфных фаз также являются приемлемыми для настоящего изобретения.
Примеры допантов для светочувствительного покрытия, полезного для изобретения, включают, но не ограничены, одним или большим числом из хрома (Cr), ванадия (V), марганца (Mn), меди (Cu), железа (Fe), магния (Mg), скандия (Sc), иттрия (Y), ниобия (Nb), молибдена (Мо), рутения (Ru), вольфрама (W), серебра (Ag), свинца (Pb), никеля (Ni), рения (Re), олова (Sn) и/или их любые смеси или комбинации в элементарном или в ионном состоянии.
В одном неограничивающем осуществлении второе покрытие 16 включает диоксид титана толщиной более 10 нм, например, более 20 нм, например, более 30 нм, например, более 40 нм, например, более 50 нм, например, более 60 нм, например, более 70 нм, например, более 80 нм, например, более 90 нм, например, более 100 нм, например, в диапазоне 10-150 нм.
В одном неограничивающем осуществлении первое покрытие 14 изобретения может обеспечить изделие 10 со вторым покрытием диоксида титана 16 с коэффициентом отражения в видимой области менее 23%, например, менее 20%, например, менее 19%, например, менее 18%, например, менее 17%, например, менее 16%, например, менее 15%, например, менее 14%, например, менее 12%, например, менее 11%, например, менее 10%.
Первое покрытие 14 и/или второе покрытие 16 могут быть сформированы, по меньшей мере, на части подложки 12 любым обычным способом, таким как, но не ограниченным пиролизом пульверизованного вещества, химическим осаждением из паровой фазы (CVD) или вакуумным осаждением при магнетронном напылении (MSVD). В способе пиролиза пульверизованного вещества, органическая или металлсодержащая композиция предшественника с одним или большим числом предшественников оксидных материалов, например, материалы предшественника диоксида титана и/или диоксида кремния и/или оксида алюминия и/или оксида фосфора и/или диоксида циркония, вводят в суспензию, например водный или неводный раствор, и направляют к поверхности подложки, в то время как температура подложки достаточно высокая, чтобы вызвать разложение композиции предшественника и формирование покрытия на подложке. Композиция может включать один или более материалов допанта. В способе CVD композицию предшественника вводят в газ-носитель, например газообразный азот, и направляют на нагретую подложку. В способе MSVD на один или более металлсодержащих катодов-мишеней напыляют при пониженном давлении в инертной или кислородсодержащей атмосфере для напыления покрытия на подложку. Подложка может быть нагрета во время или после нанесения, чтобы вызвать кристаллизацию напыленного покрытия для формирования покрытия.
В одном неограничивающем осуществлении изобретения одно или более устройств для нанесения покрытия CVD могут быть использованы в одном или более положениях в обычном процессе производства полосы флоат-стекла. Например, устройство для нанесения покрытия CVD может быть использовано при прохождении полосы флоат-стекла через ванну с оловом, после ее выхода из ванны с оловом, до ее входа в лер, при ее прохождения лера или после ее выхода из лера. Поскольку способом CVD можно наносить покрытие на движущуюся полосу флоат-стекла, при этом противостоять жестким условиям, связанным с производством полосы флоат-стекла, способ CVD особенно хорошо подходит для нанесения покрытия на полосу флоат-стекла в ванне с расплавленным оловом. US 4,853,257; 4,971,843; 5,536,718; 5,464,657; 5,714,199; и 5,599,387 описывают устройство для нанесения покрытия CVD и способы, которые могут быть использованы при осуществлении изобретения для нанесения покрытия на полосу флоат-стекла в ванне с расплавленным оловом.
В одном неограничивающем осуществлении одно или более устройств для нанесения покрытия CVD могут быть расположены в ванне с оловом над ванной с расплавленным оловом. При движении полосы флоат-стекла через ванну с оловом, испаренная композиция предшественника может быть добавлена к газу-носителю и направлена на верхнюю поверхность ленты. Композиция предшественника разлагается, чтобы сформировать покрытие (например, первое покрытие 14 и/или второе покрытие 16) на полосе. В одном неограничивающем осуществлении композицию покрытия наносят на полосу в положении, в котором температура полосы составляет менее 1300°F (704°C), например, менее 1250°F (677°C), например, менее 1200°F (649°С), например, менее 1190°F (643°С), например, менее 1150°F (621°С), например, менее 1130°F (610°C), например, в диапазоне 1190-1200°F (643-649°С). Это особенно полезно при нанесении второго покрытия 16 (например, оксида олова, допированного фтором), с пониженным удельным поверхностным сопротивлением, поскольку чем ниже температура нанесения, тем ниже будет получаемое удельное поверхностное сопротивление.
Например, для формирования первого покрытия 14, содержащего диоксид кремния и диоксид титана, композиция включает и предшественник диоксида кремния, и предшественник диоксида титана. Одним неограничивающим примером предшественника диоксида кремния является тетраэтилортосиликат (TEOS).
Примеры предшественников диоксида титана включают, но не ограничены, оксидами, суб-оксидами или супероксидами титана. В одном осуществлении материал предшественника диоксида титана может включать один или более алкоксидов титана, таких как, но не ограниченных метоксидом, этоксидом, пропоксидом, бутоксидом титана, и т.п.; или их изомерами, например изопропоксид титана, тетраэтоксид, и т.п. Типичные материалы предшественника, подходящие для осуществления изобретения, включают, но не ограничены, тетраизопропилтитанатом (ТРТ). Альтернативно материал предшественника диоксида титана может быть тетрахлоридом титана. Примеры предшественников оксида алюминия включают, но не ограничены, диметилалюминийизопропоксидом (DMAP) и три-втор-бутоксидом алюминия (ATSB). В одном неограничивающем осуществлении диметилалюминийизопропоксид может быть получен смешиванием триметилалюминия и изопропоксида алюминия в мольном отношении 2:1 в инертной атмосфере при комнатной температуре. Примеры предшественников оксида фосфора включают, но не ограничены тирэтилфосфитом. Примеры предшественников диоксида циркония включают, но не ограничены алкоксидами циркония.
Первое покрытие 14 с комбинацией диоксида кремния и диоксида титана обеспечивает преимущества перед предшествующими комбинациями. Например, комбинация материала с низким коэффициентом преломления, такого как диоксид кремния (коэффициент преломления 1,5 при 550 нм) с материалом с высоким коэффициентом преломления, таким как диоксид титана (коэффициент преломления 2,4 при 550 нм) позволяет коэффициенту преломления первого покрытия 14 варьироваться между этими двумя экстремумами, изменением количества диоксида кремния и диоксида титана. Это особенно полезно для придания первому покрытию 14 свойств подавления цветного фона и радужности.
Однако обычно скорость осаждения диоксида титана намного быстрее, чем диоксида кремния. При обычных условиях осаждения это ограничивает количество диоксида кремния до не более около 50% масс., что в свою очередь ограничивает более низкий диапазон коэффициента преломления получаемого покрытия диоксид кремния/диоксид титана. Поэтому материал допанта может быть добавлен к композиции предшественника диоксида кремния и диоксида титана для ускорения скорости осаждения диоксида кремния. Допант является частью получаемой оксидной смеси и, поэтому, может быть выбран, чтобы обеспечить улучшение эксплуатационных характеристик получаемого покрытия. Примеры допантов, полезных для осуществления изобретения, включают, но не ограничены, материалами, содержащими один или более элементов из фосфора, алюминия и циркония для формирования оксидов этих материалов в получаемом покрытии. Примеры материалов предшественника оксида фосфора включают триэтилфосфит. Примеры материалов предшественника оксида алюминия включают три-втор-бутоксид алюминия (ATSB) и диметилалюминийизопропоксид (DMAP). Примеры предшественника диоксида циркония включают алкоксид циркония.
ПРИМЕРЫ
Пример 1
Этот пример иллюстрирует использование промежуточного слоя изобретения в качестве слоя подавления цветового фона для верхнего слоя диоксида титана. Промежуточный слой является комбинацией диоксида кремния, диоксида титана и оксида фосфора.
Промежуточный слой наносят на стеклянную подложку химическим осаждением из паровой фазы с использованием лабораторного устройства для нанесения покрытий. Затем наносят покрытие диоксида титана на промежуточный слой. Таблица 1 представляет конфигурации покрытия (состав и толщина) образцов 1-4. Промежуточный слой наносят в виде многослойной пленки с тремя промежуточными пленками; первую промежуточную пленку на стеклянную подложку, вторую промежуточную пленку на первую промежуточную пленку и третью промежуточную пленку на вторую промежуточную пленку. Многослойная конфигурация моделирует промежуточный слой с градиентом.
Таблица 1 | ||||
Образец 1 | Образец 2 | Образец 3 | Образец 4 | |
Толщина первого промежуточного слоя [нм] | 13 | 11 | 29 | 13 |
Об.% оксида фосфора в первом промежуточном слое | 5 | 10 | 5 | 5 |
Об.% диоксида кремния в первом промежуточном слое | 75 | 80 | 70 | 75 |
Об.% диоксида титана в первом промежуточном слое | 20 | 10 | 25 | 20 |
Толщина второго промежуточного слоя [нм] | 23 | 33 | 21 | 27 |
Об.% оксида фосфора во втором промежуточном слое | 2 | 2 | 2 | 2 |
Об.% диоксида кремния во втором промежуточном слое | 49 | 58 | 48 | 62 |
Об.% диоксида титана во втором промежуточном слое | 49 | 40 | 50 | 36 |
Толщина третьего промежуточного слоя [нм] | 21 | 18 | 15 | 23 |
Об.% оксида фосфора в третьем промежуточном слое | 5 | 11 | 5 | 5 |
Об.% диоксида кремния в третьем промежуточном слое | 75 | 80 | 70 | 70 |
Об.% диоксида титана в третьем промежуточном слое | 20 | 9 | 25 | 25 |
Толщина верхнего покрытия диоксида титана [нм] | 115 | 121 | 113 | 118 |
Таблица 2 представляет характеристики отражения цвета для образцов 1-4 и сравнительных образцов (стеклянные листы, покрытые диоксидом титана без промежуточного слоя). Данные отражения цвета моделируют с использованием обычного программного обеспечения TFCalc® для покрытой стороны подложки при D65, наблюдение под 10°.
Таблица 2 | ||||||||
Образец 1 | 115 нм TiO2 | Образец 2 | 121 нм TiO2 | Образец 3 | 113 нм TiO2 | Образец 4 | 118 нм TiO2 | |
а* | -6,6 | 17,17 | -4,1 | -3,5 | -6,6 | 21,3 | -4,2 | 10,4 |
b* | -9,2 | -41,4 | -12,5 | -38,7 | -7,7 | -40,9 | -12,8 | -40,7 |
L* | 50,8 | 42,4 | 50,8 | 46,2 | 51,3 | 41,5 | 50,6 | 44,1 |
Для этого образца присутствие промежуточного слоя обеспечивает в целом более низкое (более отрицательное) а* и более высокое (более положительное) b* по сравнению с изделием без промежуточного слоя.
Пример 2
Этот пример иллюстрирует использование промежуточного слоя изобретения, чтобы обеспечить повышенную фотоактивность верхнему слою диоксида титана. Промежуточный слой включает диоксид кремния, диоксид титана и оксид фосфора.
И промежуточный слой, и верхний слой (диоксид титана) формируют химическим осаждением из паровой фазы. Предшественником оксида фосфора является триэтилфосфит (ТЕР). Предшественником диоксида кремния является тетраэтилортосиликат (TEOS). Предшественником диоксида титана и в промежуточном слое и в верхнем слое является тетраизопропилтитанат (ТРТ). Таблица 3 представляет параметры осаждения для образцов 5-9.
Таблица 3
Образец 5 | Образец 6 | Образец 7 | Образец 8 | Образец 9 | |
Мольное отношение TEP/TEOS | 1,25 | 1,25 | 0,5 | 0,5 | N/A |
Мольное отношение TPT/TEOS | 0,25 | 0,5 | 0,25 | 0,5 | N/A |
Об.% TEOS от полного расхода для промежуточного слоя | 0,11 | 0,12 | 0,18 | 0,12 | N/A |
Об.% ТЕР от полного расхода для промежуточного слоя | 0,14 | 0,15 | 0,09 | 0,06 | N/A |
Об.% ТРТ от полного расхода для промежуточного слоя | 0,03 | 0,06 | 0,05 | 0,06 | N/A |
Об.% ТРТ от полного расхода для функционального покрытия | 0,257 | 0,257 | 0,257 | 0,257 | 0,257 |
Таблица 4 представляет толщину слоя для образцов 5-9.
Таблица 4 | |||||
Образец 5 | Образец 6 | Образец 7 | Образец 8 | Образец 9 | |
Оксид фосфора [микрограмм/см2] | 1,5 | 2,1 | 1,5 | 1,2 | N/A |
Диоксид титана [микрограмм/см2] | 34,4 | 38,4 | 36,0 | 37,0 | 30,2 |
Толщина промежуточного слоя [нм] | 37,4 | 98,9 | 52,5 | 83,3 | 0 |
Толщина функционального покрытия из диоксида титана [нм] | 132 | 132 | 129 | 121 | 129 |
Таблица 5 представляет результаты обычного теста со стеариновой кислотой для образцов 5-9. Тест со стеариновой кислотой описан в US 6,027,766, включенном в описание ссылкой. Как можно видеть, изделия с промежуточным слоем изобретения обладают более высокой фотокаталитической активностью, чем изделия без промежуточного слоя (пример 9).
Таблица 5 | |
РСА(×10-3см-1мин-1) | |
Образец 5 | 121 |
Образец 6 | 121 |
Образец 7 | 112 |
Образец 8 | 92 |
Образец 9 | 61 |
Пример 3
Этот пример иллюстрирует использование промежуточного слоя изобретения для снижения удельного поверхностного сопротивления верхнего слоя оксида олова, допированного фтором.
Промежуточным слоем является диоксид кремния, диоксид титана, оксид фосфора, нанесенный CVD. Используемыми предшественниками являются TEOS (диоксид кремния), ТРТ (диоксид титана) и ТЕР (оксид фосфора). Верхние слои оксида олова, допированного фтором, различной толщины наносят на промежуточный слой и также на стекло без покрытия (как сравнительные образцы). Оба покрытия сравнивают измерением удельного поверхностного сопротивления R-Chek + 4-точечным измерительным прибором, коммерчески поставляемым Electronic Design To Market, Inc. Количество [Sn], которое соответствует толщине покрытия оксида олова, допированного фтором, определяют рентгено-флуоресцентным методом. Фиг.2 показывает, что удельное поверхностное сопротивление покрытий оксида олова, допированного фтором, на промежуточном слое изобретения, в среднем на 1-3 Ом/кв. ниже, чем покрытий той же толщины оксида олова, допированного фтором на стекле. На фиг.2 открытые квадраты и пунктирная линия представляют оксид олова, допированный фтором, на стекле. Закрашенные круги и сплошная линия представляют оксид олова, допированный фтором, на промежуточном слое изобретения. Промежуточный слой (состав и толщина) является одинаковым для каждого образца.
Пример 4
Часть прозрачного стекла (12 дюймов на 24 дюйма; 30 см на 61 см) покрывают с использованием процесса CVD предшественниками, описанными выше. Половину стекла покрывают оксидом олова, допированного фтором, непосредственно на стекле и другую половину стекла покрывают промежуточным слоем диоксида кремния, диоксида титана, оксида фосфора и верхним слоем оксида олова, допированного фтором. Образцы отрезают от каждой части стеклянного листа и анализируют, как описано далее.
(1) Данные рентгено-флюоресцентного анализа (XRF)
Данные XRF в таблице 6 показывают близкое количество [Sn] для обоих покрытий (немного выше в случае многослойного покрытия FTO/UL (слой оксид олова, допированный фтором/промежуточный слой)).
Таблица 6 | |||
FTO только | FTO/UL | Холостой опыт | |
[Р] | 0,09 | 0,56 | 0,09 |
[Til | 0 | 1,87 | 0 |
[Sn] | 145,8 | 147 | 0,2 |
(2) Матовость и пропускание
Образцы также проверяют на матовость и пропускание. Результаты представлены в таблице 7. Спектры пропускания представлены на фиг.4. Матовость выше и пропускание также выше для оксида олова, допированного фтором, (РТО)/промежуточный слой (UL) многослойного покрытия по сравнению с оксидом олова, допированного фтором, (FTO) покрытия непосредственно на стекле. Таким образом, промежуточный слой изобретения также обеспечивает способ увеличения матовости и пропускания изделия с покрытием. Это может быть полезным в области солнечных элементов, где увеличение матовости повышает длину поглощения электромагнитной энергии, которая, в свою очередь, обеспечивает повышенную возможность поглощения электромагнитной энергии.
Таблица 7 | ||
FTO только | FTO/UL | |
Матовость | 0,89% | 1,77% |
Пропускание | 80,78% | 81,37% |
(3) Удельное поверхностное сопротивление
Данные по удельному поверхностному сопротивлению представлены в таблице 8. Удельное поверхностное сопротивление покрытия FTO/UL составляет 1,5 Ом/кв. ниже, чем у покрытия FTO на стекле.
Таблица 8 | |
FTO только | FTO/UL |
13,55 Ом/кв. | 12,05 Ом/кв. |
(4) Толщина покрытия
Толщина покрытия FTO немного выше в случае покрытия FTO на стекле (356 нм) по сравнению с FTO на LJL (верхний слой FTO 334 нм) при определении методом травления.
(5) Пористость покрытия
Покрытия анализируют с использованием сканирующей электронной микроскопии (SEM). Многочисленные маленькие отверстия отмечаются в покрытии FTO непосредственно на стекле. Никаких отверстий не наблюдается в многослойном покрытии FTO/UL.
(6) Шероховатость поверхности
Шероховатость поверхности анализируют с использованием атомно-силовой микроскопии (AFM) на площади 10 микрометров (мкм) на 10 мкм; 5 мкм на 5 мкм; и 1 мкм на 1 мкм. Результаты представлены в таблице 9. Шероховатость поверхности выше в случае многослойного покрытия FTO/UL, чем для FTO непосредственно на стекле. Повышенная шероховатость поверхности увеличивает матовость покрытия и поэтому увеличивает длину поглощения любой падающей электромагнитной энергии.
Таблица 9 | ||
Образец | RMS Шероховатость (нм) | Ra Шероховатость (нм) |
FTO только 10 мкм × 10 мкм | 13,39 | 10,69 |
FTO/UL 10 мкм × 10 мкм | 17,45 | 13,74 |
FTO только 5 мкм × 5 мкм | 12,53 | 9,99 |
FTO/UL 5 мкм × 5 мкм | 18,03 | 14,09 |
FTO только 1 мкм × 1 мкм | 8,99 | 7,18 |
FTO/UL 1 мкм × 1 мкм | 9,96 | 8,03 |
Пример 5
Этот пример иллюстрирует эффект промежуточного слоя изобретения на отражение изделия с покрытием.
Фиг.4 показывает изменение отражения для 10-120 нм TiO2 на прозрачном стекле (открытые ромбы с пунктирной линией) и того же для слоя TiO2 на промежуточном слое изобретения на прозрачном стекле. Промежуточный слой составляет 13 нм 75% SiO2 - 20% TiO2 - 5% P2O5 /23 нм 49% SiO2 - 49% TiO2 - 2% P2O5/21 нм 75% SiO2 - 20% TiO2 - 5% P2O5 (закрытые кружки и сплошная линия). Изменение толщины TiO2 составляет 10-120 нм с интервалами в 5 нм.
Фиг.4 показывает что, когда толщина функционального покрытия TiO2 на стекле увеличивается, отражение изменяется в широком интервале (то есть в пределах 11,7%<R<38,8%). Однако когда функциональное покрытие TiO2 нанесено на промежуточный слой, изменения отражения намного ниже (то есть в пределах 17,2-27,4%). Это показывает, что изменение толщины верхнего покрытия, отражение многослойного покрытия в целом с промежуточным покрытием менее чувствительно, чем без промежуточного покрытия.
В некоторых областях отражение может быть значительно снижено промежуточным слоем изобретения. Таблица 10 показывает различие отражения на диоксиде титана в 55 нм и 165 нм.
Таблица 10 | ||
Отражение без промежуточного слоя | Отражение с промежуточным слоем | |
55 нм TiO2 | 38.8% | 26.4% |
165 нм TiO2 | 35.6% | 25.5% |
Пример 6
Этот пример иллюстрирует влияние промежуточного слоя изобретения на цвет (например, а* и b *) изделия.
Фиг.5 показывает изменение а* и b* для 10-120 нм TiO2 на прозрачном стекле (открытые ромбы с пунктирной линией) и для того же покрытия на промежуточном слое (13 нм 75% SiO2 - 20% TiO2 - 5% P2O5/23 нм 49% SiO2 - 49% TiO2 - 2% P2O5/21 нм 75% SiO2 - 20% TiO2 - 5% P2O5) на прозрачном стекле (закрытые кружки и сплошная линия). Изменение толщины TiO2 составляет 10-120 нм с интервалами 5 нм.
Фиг.5 показывает что, когда толщина функционального покрытия TiO2 увеличивается, цвет (а* и b*) TiO2 покрытия без промежуточного слоя меняется в широких пределах (в пределе -24<а*<+37 и -42<b*<+34). Однако когда функциональное покрытие TiO2 нанесено на промежуточный слой, как описано выше, а* и b* изменяются меньше (в пределах -8<а*<+12 и -10<b*<+7). Это означает, что с изменением толщины верхнего покрытия, цвет всего многослойного покрытия с промежуточным слоем покрытия изобретения менее чувствителен, чем покрытие без промежуточного слоя.
Пример 7
Этот пример иллюстрирует влияние градиента промежуточного слоя диоксида кремния и диоксида титана на фотокаталитическую активность диоксида титана верхнего слоя (120 нм толщиной).
Таблица 11 представляет составы двух связующих слоев с градиентом.
Таблица 11 | |||||||
Среднее TiO2(%) | Среднее SiO2 (%) | Оценка толщины (нм) | Результат XRD | а* | b* | R(%) | |
Образец 10 | 68,9 | 31,1 | 23 | Аморфный | -0,937 | -8,174 | 14,51 |
Образец 11 | 68,1 | 31,9 | 32 | Аморфный | -1,129 | -7,904 | 15,81 |
Таблица 12 показывает влияние двух промежуточных слоев таблицы 11 на фотокаталитическую активность верхнего слоя диоксида титана 120 нм толщиной по сравнению с активностью диоксида титана без промежуточных слоев. Единицей [Ti] является микрограмм/см2.
Таблица 12 | |||||
[Ti] определенное XRF (мкм/см2) | |||||
РСА(×10-3 см-1мин-1) | [Ti] промежуточный слой | [Ti]промежуточный слой + верхний слой | [Ti] верхний слой | ||
Образец 12 | Покрытие TiO2 на образце 10 | 56,5 | 4,10 | 34,60 | 30,50 |
Образец 13 | Покрытие TiO2 на образце 11 | 57,7 | 4,60 | 35,40 | 30,80 |
Образец 14 | Покрытие TiO2 на прозрачном стекле | 51,6 | N/A | 32,70 | 32,70 |
Специалисты в данной области техники с готовностью признают, что могут быть сделаны модификации изобретения, не отступая от принципов, раскрытых в предшествующем описании. Соответственно, определенные осуществления, подробно описанные в заявке, являются только иллюстративными и не ограничивают объем притязаний изобретения, который во всей полноте приведен в прилагаемой формуле и любых ее эквивалентах.
Claims (14)
1. Изделие с покрытием, включающее:
подложку;
первое покрытие, сформированное, по меньшей мере, на части подложки, которое включает оксиды, по меньшей мере, двух элементов, выбранных из Р, Si, Ti, Al и Zr; и
функциональное покрытие, сформированное, по меньшей мере, на части первого покрытия,
при этом первое покрытие представляет собой многослойное покрытие, содержащее:
первый слой, включающий оксид фосфора, диоксид кремния и диоксид титана, в котором содержание диоксида титана находится в диапазоне от 10 до 25 об.%;
второй слой, включающий оксид фосфора, диоксид кремния и диоксид титана, в котором содержание диоксида титана находится в диапазоне от 36 до 50 об.%;
третий слой, включающий оксид фосфора, диоксид кремния и диоксид титана, в котором содержание диоксида титана находится в диапазоне от 9 до 25 об.%.
подложку;
первое покрытие, сформированное, по меньшей мере, на части подложки, которое включает оксиды, по меньшей мере, двух элементов, выбранных из Р, Si, Ti, Al и Zr; и
функциональное покрытие, сформированное, по меньшей мере, на части первого покрытия,
при этом первое покрытие представляет собой многослойное покрытие, содержащее:
первый слой, включающий оксид фосфора, диоксид кремния и диоксид титана, в котором содержание диоксида титана находится в диапазоне от 10 до 25 об.%;
второй слой, включающий оксид фосфора, диоксид кремния и диоксид титана, в котором содержание диоксида титана находится в диапазоне от 36 до 50 об.%;
третий слой, включающий оксид фосфора, диоксид кремния и диоксид титана, в котором содержание диоксида титана находится в диапазоне от 9 до 25 об.%.
2. Изделие по п.1, в котором первое покрытие дополнительно включает, по меньшей мере, оксиды Al.
3. Изделие по п.1, в котором функциональное покрытие содержит оксиды одного или большего числа элементов, выбранных из Zn, Fe, Mn, Al, Ce, Sn, Sb, Hf, Zr, Ni, Bi, Ti, Co, Cr, Si и In или сплав из двух или большего числа этих материалов.
4. Изделие по п.3, в котором функциональное покрытие включает, по меньшей мере, один допант, выбранный из F, In, Al и Sb.
5. Изделие по п.4, в котором функциональное покрытие включает, оксид олова, допированный фтором.
6. Изделие по п.4, в котором функциональное покрытие содержит диоксид титана.
7. Изделие по п.6, в котором толщина диоксида титана составляет от 113 до 121 нм.
8. Изделие по п.1, в котором цвет изделия находится в диапазоне -10≤а*≤2 и -15≤b*≤0.
9. Изделие по п.8, в котором а* находится в диапазоне от -8 до -4,4, b* в диапазоне от -12,6 до -5,2 и L* в диапазоне от 50,5 до 52,3.
10. Изделие с покрытием, включающее:
подложку;
первое покрытие, сформированное, по меньшей мере, на части подложки, которое включает оксиды, по меньшей мере, двух элементов, выбранных из Р, Si, Ti, Al и Zr; и
функциональное покрытие, сформированное, по меньшей мере, на части первого покрытия,
при этом первое покрытие представляет собой многослойное покрытие, содержащее:
первый слой, включающий от 5 до 10 об.% оксида фосфора, от 70 до 80 об.% диоксида кремния и от 10 до 25 об.% диоксида титана, имеющий толщину в диапазоне от 11 до 29 нм:
второй слой, включающий 2 об.% оксида фосфора, от 48 до 62 об.% диоксида кремния и от 36 до 50 об.% диоксида титана, имеющий толщину в диапазоне от 21 до 22 нм; и
третий слой, включающий от 5 до 11 об.% оксида фосфора, от 70 до 80 об.% диоксида кремния и от 9 до 25 об.% диоксида титана, имеющий толщину в диапазоне от 15 до 23 нм.
подложку;
первое покрытие, сформированное, по меньшей мере, на части подложки, которое включает оксиды, по меньшей мере, двух элементов, выбранных из Р, Si, Ti, Al и Zr; и
функциональное покрытие, сформированное, по меньшей мере, на части первого покрытия,
при этом первое покрытие представляет собой многослойное покрытие, содержащее:
первый слой, включающий от 5 до 10 об.% оксида фосфора, от 70 до 80 об.% диоксида кремния и от 10 до 25 об.% диоксида титана, имеющий толщину в диапазоне от 11 до 29 нм:
второй слой, включающий 2 об.% оксида фосфора, от 48 до 62 об.% диоксида кремния и от 36 до 50 об.% диоксида титана, имеющий толщину в диапазоне от 21 до 22 нм; и
третий слой, включающий от 5 до 11 об.% оксида фосфора, от 70 до 80 об.% диоксида кремния и от 9 до 25 об.% диоксида титана, имеющий толщину в диапазоне от 15 до 23 нм.
11. Изделие с покрытием, включающее:
стеклянную подложку;
первое покрытие, сформированное, по меньшей мере, на части подложки, которое включает оксиды, по меньшей мере, двух элементов, выбранных из Р, Si, Ti, Al и Zr; и
функциональное покрытие, сформированное, по меньшей мере, на части первого покрытия, которое содержит оксид, выбранный из группы, состоящей из диоксида титана и оксида олова, допированного фтором;
при этом первое покрытие представляет собой многослойное покрытие, содержащее:
первый слой, включающий оксид фосфора, диоксид кремния и диоксид титана, в котором содержание диоксида кремния находится в диапазоне от 70 до 80 об.%;
второй слой, включающий оксид фосфора, диоксид кремния и диоксид титана, в котором содержание диоксида кремния находится в диапазоне от 48 до 62 об.%; и
третий слой, включающий оксид фосфора, диоксид кремния и диоксид титана, в котором содержание диоксида кремния находится в диапазоне от 70 до 80 об.%.
стеклянную подложку;
первое покрытие, сформированное, по меньшей мере, на части подложки, которое включает оксиды, по меньшей мере, двух элементов, выбранных из Р, Si, Ti, Al и Zr; и
функциональное покрытие, сформированное, по меньшей мере, на части первого покрытия, которое содержит оксид, выбранный из группы, состоящей из диоксида титана и оксида олова, допированного фтором;
при этом первое покрытие представляет собой многослойное покрытие, содержащее:
первый слой, включающий оксид фосфора, диоксид кремния и диоксид титана, в котором содержание диоксида кремния находится в диапазоне от 70 до 80 об.%;
второй слой, включающий оксид фосфора, диоксид кремния и диоксид титана, в котором содержание диоксида кремния находится в диапазоне от 48 до 62 об.%; и
третий слой, включающий оксид фосфора, диоксид кремния и диоксид титана, в котором содержание диоксида кремния находится в диапазоне от 70 до 80 об.%.
12. Способ изготовления изделия с покрытием, включающий:
получение стеклянной подложки;
формирование первого покрытия, по меньшей мере, на части стеклянной подложки химическим осаждением из паровой фазы (CVD) направлением первой композиции покрытия на стеклянную подложку, причем первая композиция покрытия содержит оксиды, по меньшей мере, двух элементов, выбранных из P, Si, Ti, Al и Zr; и
формирование функционального покрытия, по меньшей мере, на части первого покрытия, в котором первое покрытие представляет собой многослойное покрытие, содержащее:
первый слой, включающий оксид фосфора, диоксид кремния и диоксид титана, в котором содержание диоксида титана находится в диапазоне от 10 до 25 об.%;
второй слой, включающий оксид фосфора, диоксид кремния и диоксид титана, в котором содержание диоксида титана находится в диапазоне от 36 до 50 об.%; и
третий слой, включающий оксид фосфора, диоксид кремния и диоксид титана, в котором содержание диоксида титана находится в диапазоне от 9 до 25 об.%.
получение стеклянной подложки;
формирование первого покрытия, по меньшей мере, на части стеклянной подложки химическим осаждением из паровой фазы (CVD) направлением первой композиции покрытия на стеклянную подложку, причем первая композиция покрытия содержит оксиды, по меньшей мере, двух элементов, выбранных из P, Si, Ti, Al и Zr; и
формирование функционального покрытия, по меньшей мере, на части первого покрытия, в котором первое покрытие представляет собой многослойное покрытие, содержащее:
первый слой, включающий оксид фосфора, диоксид кремния и диоксид титана, в котором содержание диоксида титана находится в диапазоне от 10 до 25 об.%;
второй слой, включающий оксид фосфора, диоксид кремния и диоксид титана, в котором содержание диоксида титана находится в диапазоне от 36 до 50 об.%; и
третий слой, включающий оксид фосфора, диоксид кремния и диоксид титана, в котором содержание диоксида титана находится в диапазоне от 9 до 25 об.%.
13. Способ по п.12, в котором первое покрытие наносят в виде покрытия с градиентом.
14. Способ по п.12, в котором первое покрытие наносят в виде многослойного покрытия.
Applications Claiming Priority (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US12/273,641 US8133599B2 (en) | 2008-11-19 | 2008-11-19 | Undercoating layers providing improved photoactive topcoat functionality |
US12/273,617 US7998586B2 (en) | 2008-11-19 | 2008-11-19 | Undercoating layers providing improved topcoat functionality |
US12/273,617 | 2008-11-19 | ||
US12/273,623 US20100124642A1 (en) | 2008-11-19 | 2008-11-19 | Undercoating layers providing improved conductive topcoat functionality |
US12/273,623 | 2008-11-19 | ||
US12/273,641 | 2008-11-19 | ||
PCT/US2009/064292 WO2010059507A1 (en) | 2008-11-19 | 2009-11-13 | Undercoating layers providing improved topcoat functionality |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2011124950A RU2011124950A (ru) | 2012-12-27 |
RU2481364C2 true RU2481364C2 (ru) | 2013-05-10 |
Family
ID=41572951
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2011124950/05A RU2481364C2 (ru) | 2008-11-19 | 2009-11-13 | Промежуточные слои, обеспечивающие улучшенную функциональность верхнего слоя |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5343133B2 (ru) |
CN (1) | CN102239221B (ru) |
CA (1) | CA2743845A1 (ru) |
DE (1) | DE112009003493T5 (ru) |
RU (1) | RU2481364C2 (ru) |
WO (1) | WO2010059507A1 (ru) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2408022A1 (en) * | 2010-07-16 | 2012-01-18 | Applied Materials, Inc. | Thin Film Solar Cell Fabrication Process, Deposition method for TCO layer, and Solar cell precursor layer stack |
JP5566334B2 (ja) * | 2010-12-28 | 2014-08-06 | 麒麟麦酒株式会社 | ガスバリア性プラスチック成形体及びその製造方法 |
CN104039731B (zh) * | 2012-01-10 | 2017-06-06 | Vitro可变资本股份有限公司 | 具有低薄膜电阻、光滑表面和/或低热发射率的涂覆的玻璃 |
US20140311573A1 (en) * | 2013-03-12 | 2014-10-23 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Solar Cell With Selectively Doped Conductive Oxide Layer And Method Of Making The Same |
JP6030796B1 (ja) * | 2016-05-26 | 2016-11-24 | イビデン株式会社 | 抗ウィルス性の化粧板 |
CN106655995B (zh) * | 2017-02-09 | 2019-03-12 | 河南弘大新材科技有限公司 | 自洁式光电转换太阳能瓦 |
CN107458052B (zh) * | 2017-07-18 | 2019-07-02 | 南京工业职业技术学院 | 一种自清洁聚乙烯薄膜及其制备方法 |
US11542194B2 (en) | 2017-08-31 | 2023-01-03 | Pilkington Group Limited | Coated glass article, method of making the same, and photovoltaic cell made therewith |
JP7376470B2 (ja) | 2017-08-31 | 2023-11-08 | ピルキントン グループ リミテッド | 酸化ケイ素コーティングを形成するための化学気相堆積プロセス |
JP7085081B1 (ja) * | 2021-04-02 | 2022-06-15 | ポリプラスチックス株式会社 | 複合部材およびその製造方法 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5599387A (en) * | 1993-02-16 | 1997-02-04 | Ppg Industries, Inc. | Compounds and compositions for coating glass with silicon oxide |
RU2118302C1 (ru) * | 1991-12-26 | 1998-08-27 | ЕЛФ Атокем Норт Америка, Инк. | Способ получения покрытия на стеклянной подложке (варианты) |
EP0927706A2 (en) * | 1991-12-26 | 1999-07-07 | Elf Atochem North America, Inc. | Coating composition for glass |
WO2006067102A2 (fr) * | 2004-12-21 | 2006-06-29 | Glaverbel | Feuille de verre portant un empilage multi-couches |
US20070184291A1 (en) * | 2006-02-08 | 2007-08-09 | Harris Caroline S | Coated substrates having undercoating layers that exhibit improved photocatalytic activity |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4971843A (en) | 1983-07-29 | 1990-11-20 | Ppg Industries, Inc. | Non-iridescent infrared-reflecting coated glass |
US4746347A (en) | 1987-01-02 | 1988-05-24 | Ppg Industries, Inc. | Patterned float glass method |
US4792536A (en) | 1987-06-29 | 1988-12-20 | Ppg Industries, Inc. | Transparent infrared absorbing glass and method of making |
US4853257A (en) | 1987-09-30 | 1989-08-01 | Ppg Industries, Inc. | Chemical vapor deposition of tin oxide on float glass in the tin bath |
US5030594A (en) | 1990-06-29 | 1991-07-09 | Ppg Industries, Inc. | Highly transparent, edge colored glass |
US5030593A (en) | 1990-06-29 | 1991-07-09 | Ppg Industries, Inc. | Lightly tinted glass compatible with wood tones |
US5240886A (en) | 1990-07-30 | 1993-08-31 | Ppg Industries, Inc. | Ultraviolet absorbing, green tinted glass |
US5393593A (en) | 1990-10-25 | 1995-02-28 | Ppg Industries, Inc. | Dark gray, infrared absorbing glass composition and coated glass for privacy glazing |
US5356718A (en) | 1993-02-16 | 1994-10-18 | Ppg Industries, Inc. | Coating apparatus, method of coating glass, compounds and compositions for coating glasss and coated glass substrates |
US5536718A (en) | 1995-01-17 | 1996-07-16 | American Cyanamid Company | Tricyclic benzazepine vasopressin antagonists |
US5714199A (en) | 1995-06-07 | 1998-02-03 | Libbey-Owens-Ford Co. | Method for applying a polymer powder onto a pre-heated glass substrate and the resulting article |
US6027766A (en) | 1997-03-14 | 2000-02-22 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Photocatalytically-activated self-cleaning article and method of making same |
JP3227449B2 (ja) * | 1999-05-28 | 2001-11-12 | 日本板硝子株式会社 | 光電変換装置用基板とその製造方法、およびこれを用いた光電変換装置 |
JP2002080830A (ja) * | 2000-09-08 | 2002-03-22 | Toto Ltd | 親水性部材およびその製造方法 |
FI116297B (fi) * | 2004-01-07 | 2005-10-31 | Kemira Pigments Oy | Menetelmä pintojen käsittelemiseksi |
US7431992B2 (en) * | 2004-08-09 | 2008-10-07 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Coated substrates that include an undercoating |
KR101297443B1 (ko) * | 2005-02-07 | 2013-08-30 | 데이진 듀폰 필름 가부시키가이샤 | 도전성 적층 필름 |
-
2009
- 2009-11-13 WO PCT/US2009/064292 patent/WO2010059507A1/en active Application Filing
- 2009-11-13 DE DE112009003493T patent/DE112009003493T5/de not_active Withdrawn
- 2009-11-13 CA CA2743845A patent/CA2743845A1/en not_active Abandoned
- 2009-11-13 JP JP2011537513A patent/JP5343133B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2009-11-13 CN CN200980148470.XA patent/CN102239221B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2009-11-13 RU RU2011124950/05A patent/RU2481364C2/ru not_active IP Right Cessation
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2118302C1 (ru) * | 1991-12-26 | 1998-08-27 | ЕЛФ Атокем Норт Америка, Инк. | Способ получения покрытия на стеклянной подложке (варианты) |
EP0927706A2 (en) * | 1991-12-26 | 1999-07-07 | Elf Atochem North America, Inc. | Coating composition for glass |
US5599387A (en) * | 1993-02-16 | 1997-02-04 | Ppg Industries, Inc. | Compounds and compositions for coating glass with silicon oxide |
WO2006067102A2 (fr) * | 2004-12-21 | 2006-06-29 | Glaverbel | Feuille de verre portant un empilage multi-couches |
WO2006067102A3 (fr) * | 2004-12-21 | 2006-08-24 | Glaverbel | Feuille de verre portant un empilage multi-couches |
US20070184291A1 (en) * | 2006-02-08 | 2007-08-09 | Harris Caroline S | Coated substrates having undercoating layers that exhibit improved photocatalytic activity |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CA2743845A1 (en) | 2010-05-27 |
JP5343133B2 (ja) | 2013-11-13 |
WO2010059507A1 (en) | 2010-05-27 |
RU2011124950A (ru) | 2012-12-27 |
JP2012509214A (ja) | 2012-04-19 |
CN102239221A (zh) | 2011-11-09 |
DE112009003493T5 (de) | 2012-09-06 |
CN102239221B (zh) | 2013-12-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
RU2481364C2 (ru) | Промежуточные слои, обеспечивающие улучшенную функциональность верхнего слоя | |
US8685490B2 (en) | Undercoating layers providing improved photoactive topcoat functionality | |
US7998586B2 (en) | Undercoating layers providing improved topcoat functionality | |
CA2452637C (en) | Visible-light-responsive photoactive coating, coated article, and method of making same | |
JP6247141B2 (ja) | 光誘導親水性物品及びその製造法 | |
US20100124642A1 (en) | Undercoating layers providing improved conductive topcoat functionality | |
RU2531752C2 (ru) | Кремниевый тонкопленочный солнечный элемент, имеющий усовершенствованное подстилающее покрытие | |
AU2002318321A1 (en) | Visible-light responsive photoactive coating, coated article, and method of making same | |
JP2005507974A6 (ja) | 可視光応答性の光活性の被膜、被覆物品およびその製法 | |
JP2004535922A (ja) | 光活性の被膜、被覆物品およびその製法 | |
AU2002320488A1 (en) | Photoactive coating, coated article, and method of making same | |
RU2526298C2 (ru) | Кремниевый тонкопленочный солнечный элемент, обладающий усовершенствованной дымчатостью, и способы его изготовления | |
TW201141805A (en) | Photocatalytic material and glazing or photovoltaic cell comprising this material | |
JP5991794B2 (ja) | 光誘導親水性物品及びその製造法 | |
CN103370441A (zh) | 用于获得光催化材料的方法 | |
JP2025036359A (ja) | 光触媒部材及び光触媒部材の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20141114 |