KR20040045404A - 전기 회로 기판의 가공을 위한 레이저 머신상의 광학시스템을 교정하기 위한 방법 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (4)
- 전기 회로 기판의 가공을 위한 레이저 머신상의 광학 시스템을 교정하기 위한 방법으로서, 레이저원(1)의 레이저빔(2)이 편향 유닛(4) 및 이미징 유닛(5)에 의해서 가공면의 목표 지점을 지향하고, 상기 가공면 상의 표시 위치가 카메라(6)에 의해 기록되고 측정되며, 상기 방법은 하기의 단계:- 미리 주어진 가공면을 갖는 제 1 샘플 플레이트를 제 1 교정 평면 내 이미징 유닛의 초점면(Z1) 내에 배치시키고,- 그리고 나서 가공면을 커버하는 그리드 내에 있는 상기 샘플 플레이트 상의\ 미리 주어진 목표 지점에 레이저빔(2)을 지향하고 표시를 하는 단계,- 상기 제 1 샘플 플레이트 상의 표시의 위치를 카메라(6)를 이용하여 측정하고 미리 주어진 목표 지점의 위치와 비교하여, 그 편차로부터 나온 각각의 제 1 보정값을 제 1 보정 테이블(KT1)에 저장시키는 단계,- 미리 주어진 가공면을 갖는 제 2 샘플 플레이트를 제 2 교정 평면(Z2) 내에서 초점면(Z1)으로부터 미리 정해진 거리를 두고 평행하게 배치시키고, 그 뒤에 제 1 샘플 플레이트의 경우와 동일한 그리드 내에 있는 상기 제 2 샘플 플레이트 상의 목표 지점에 레이저빔(2)을 지향하고 표시를 하는 단계,- 상기 제 2 샘플 플레이트 상의 표시 위치를 마찬가지로 측정하고 미리 주어진 목표 지점의 위치와 비교하여, 그 편차로부터 나온 각각의 제 2 보정값을 제 2 보정 테이블(KT2)에 저장시키는 단계, 및- 상기 제 1 보정 테이블 및 제 2 보정 테이블(KT1, KT2)로부터 나온 보정값들을 제어 유닛(9)으로 공급하고, 상기 제어 유닛(9)이 필요에 따라 초점면(Z1)과 제 2 교정 평면(Z2) 사이에 임의로 놓인 각각의 가공면(Z3) 내에 있는 각각의 목표 지점에 대해서 제 1 보정값과 제 2 보정값으로부터 내삽법에 의해서 각각 실제 보정값들을 결정하고 상기 보정값들을 편향 유닛(4)의 작동을 위해 이용가능하게 하는 단계를 포함하는,전기 회로 기판의 가공을 위한 레이저 머신상의 광학 시스템을 교정하기 위한 방법.
- 제 1항에 있어서,카메라(6)의 빔이 레이저빔(2)과 동일한 광학적 경로를 가지며, 하기의 추가 단계:제 1 샘플 플레이트를 조사하기 전에 미리 정해진 목표 지점에 상응하는 매우 정확하게 표시된 그리드 지점을 갖는 매핑 플레이트를 초점면(Z1) 내에 배치시키고, 그 뒤에 상기 그리드 지점의 위치를 카메라(6)를 이용하여 측정하며, 측정된 위치와 그리드 지점의 미리 정해진 위치 간의 편차를 카메라 보정 테이블에 저장시켜서, 편향 유닛의 작동을 위한 보정값의 결정시에 이용하는 단계를 포함하는,전기 회로 기판의 가공을 위한 레이저 머신상의 광학 시스템을 교정하기 위한 방법.
- 제 1항 또는 제 2항에 있어서, 하기의 추가 단계:- 미리 주어진 가공면을 갖는 제 3 샘플 플레이트를 초점면(Z1)에 평행한 제 3 교정 평면 내에서 초점면(Z1)으로부터 미리 정해진 거리를 두고 배치시키는데, 이때 제 2 교정 평면(Z2)은 상기 초점면(Z1)의 맞은편에 놓이게 되는 단계,- 그 뒤에 제 1 샘플 플레이트 및 제 2 샘플 플레이트의 경우와 동일한 그리드 내에 있는 상기 제 3 샘플 플레이트 상의 목표 지점에 레이저빔을 지향하고 표시를 하는 단계,- 상기 제 3 샘플 플레이트의 표시 위치를 카메라를 이용하여 측정하고 상기 위치를 미리 주어진 목표 지점의 위치와 비교하여, 그 편차로부터 얻어진 각각의 제 3 보정값을 제 3 보정 테이블에 저장하는 단계, 및- 상기 제 1 보정 테이블 및 제 3 보정 테이블로부터 나온 보정값들을 제어 유닛(9)으로 공급하고, 상기 제어 유닛(9)이 필요에 따라 초점면과 제 3 교정 평면 사이에 임의로 놓인 각각의 가공면 내에 있는 각각의 목표 지점에 대해서 제 1 보정값과 제 3 보정값의 내삽법에 의해서 보정값들을 결정하고 상기 보정값들을 편향 유닛(4)의 작동을 위해 이용가능하게 하는 단계를 포함하는,전기 회로 기판의 가공을 위한 레이저 머신상의 광학 시스템을 교정하기 위한 방법.
- 제 1항 내지 제 3항 중 어느 한 항에 있어서,하기의 추가 단계:- 초점면 및 제 2 교정 평면 및 제 2 교정 평면 및/또는 제 3 교정 평면에 의해 주어지는 영역의 외부에 놓인 목표 지점에 대하여 외삽법에 의해서 보정값들을 결정하기 위해서 상기 제 1 보정 테이블 및 제 2 보정 테이블 및/또는 제 3 보정 테이블의 보정값들이 사용되는 단계를 포함하는,전기 회로 기판의 가공을 위한 레이저 머신상의 광학 시스템을 교정하기 위한 방법.
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