JP5708565B2 - タッチパネル部材 - Google Patents

Description

本発明は、タッチパネル部材に関する。

従来、光透過性基材上に導電層として直接ＩＴＯなどの金属酸化物層を積層した光学積層体を用いて製造されたタッチパネル部材が広く知られている。このタッチパネル部材を用いたタッチパネルは、液晶表示パネル等の表示パネル上に配置され、例えば、ＰＤＡ（Ｐｅｒｓｏｎａｌ Ｄｉｇｉｔａｌ Ａｓｓｉｓｔａｎｔｓ）、携帯情報端末、カーナビゲーションシステム等における入力手段として用いられている。

ここで、タッチパネル部材は、例えば、液晶表示パネル上に配置されることで、光透過性基材が液晶表示パネルを構成する偏光板の保護フィルムの役割も兼ねている。
このようなタッチパネル部材の光透過性基材としては、従来、トリアセチルセルロースに代表されるセルロースエステルからなるフィルムが用いられていた。これは、セルロースエステルはリタデーション値が低いため、液晶表示パネルの表示品質への影響が少ないことや、適度な透水性を有することから、偏光板製造時に、偏光子に残留した水分を、光透過性基材を通して乾燥させることができる等の利点に基づくものである。
しかしながら、セルロースエステルフィルムは、コスト的には不利な素材であり、また、耐湿、耐熱性が充分でなく、高温多湿の環境下で使用すると、液晶表示パネルの偏光機能や色相等の偏光板機能を低下させるという欠点があった。

このようなセルロースエステルフィルムの問題点から、透明性、耐熱性、機械強度に優れ、かつ、セルロースエステルフィルムに比べて安価で市場において入手が容易な、あるいは簡易な方法で製造することが可能な汎用性フィルムを偏光板保護フィルムに用いることが望まれており、例えば、セルロースエステル代替フィルムとして、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステルフィルムを利用する試みがなされている（例えば、特許文献１、２参照）。

特開２００３−３２０６０９号公報 特開２００５−７１９０１号公報

ところが、本発明者らの研究によると、セルロースエステルフィルム代替フィルムとしてポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等のポリエステルフィルムを用いた場合、偏光サングラス越しに観察したときに、表示画面に色の異なるムラ（以下、「ニジムラ」ともいう）が、特に表示画面を斜めから観察したときに生じ、表示品質が損なわれてしまうという問題点があることが判明した。

このようなポリエステルフィルムを用いた場合の問題に対して、更に検討したところ、偏光板保護フィルムとして、ある程度高いリタデーション値を有するポリエステルフィルムを用いることで、従来のポリエステルフィルムからなる偏光板保護フィルムを用いた場合と比較して、ニジムラの問題を改善できることを見出した。
ここで、ある程度高いリタデーション値を有するポリエステルフィルムを偏光板保護フィルムとして用いた液晶表示装置として、例えば、特開２０１１−１０７１９８号公報に記載の液晶表示装置が知られている。この液晶表示装置は、液晶セルの視認側に偏光板が設けられ、該偏光板の視認側に３０００〜３００００ｎｍのリタデーションを有する高分子フィルムを配置し、該高分子フィルムの遅相軸と偏光板の吸収軸とのなす角を凡そ４５度とした液晶表示装置であって、高分子フィルムとして、配向ポリエステルフィルムを用いるものである。この液晶表示装置によればサングラス等の偏光板を介して表示画像を見た場合であっても、従来のポリエステルフィルムを偏光板保護フィルムとして用いた場合と比較して、ニジムラの発生はある程度改善できるものと考えられる。

ところで、このような高リタデーションのポリエステルフィルムを得るには、ポリエステルフィルムの面内の複屈折率を大きくするか、厚みを厚くする必要がある。しかしながら、ポリエステルフィルムの厚みを厚くする方法は、昨今のフラットパネルの流れから反しているため、結果として、ポリエステルフィルムの面内の複屈折率を大きくする方法が採られる。面内の複屈折率の大きなポリエステルフィルムは、該ポリエステルフィルムの製造時における延伸処理において、縦方向と横方向の延伸倍率差を大きくすることで得ることができる。
しかしながら、面内の複屈折率の大きなポリエステルフィルムは、特定の方向に裂けやすいといった特性があり、特に、表面を指等で擦られる上述したタッチパネル部材の光透過性基材としては不向きであった。

本発明は、上記現状に鑑みて、表示画像にニジムラが生じることを抑制できるとともに、優れた強度を有するため、特定の方向で容易に裂けが生じることのないタッチパネル部材を提供することを目的とする。

本発明は、少なくとも、面内に複屈折率を有する第１の光透過性基材と、面内に複屈折率を有する第２の光透過性基材とを有するタッチパネル部材であって、上記第１の光透過性基材と上記第２の光透過性基材とは、上記第１の光透過性基材の光軸と上記第２の光透過性基材の光軸とが、垂直に交わるように配置されており、上記第１の光透過性基材及び上記第２の光透過性基材は、いずれもポリエステル基材であり、上記ポリエステル基材のリタデーションが３０００ｎｍ以上であり、かつ、面内において最も屈折率が大きい方向である遅相軸方向の屈折率（ｎｘ）と、上記遅相軸方向と直交する方向である進相軸方向の屈折率（ｎｙ）との差（ｎｘ−ｎｙ）が、０．０５以上であることを特徴とするタッチパネル部材である。

本発明のタッチパネル部材は、透明基材の一方の面上に透明導電性膜が積層された構成を有する一対の光学積層体が、上記透明導電性膜同士が向き合うように対向配置されており、一方の上記光学積層体における透明基材が、上記第１の光透過性基材と上記第２の光透過性基材とを有することが好ましい。
本発明はまた、透明基材の一方の面上に透明導電性膜が積層された構成を有する一対の光学積層体が、上記透明導電性膜同士が向き合うように対向配置されており、一方の上記光学積層体における透明基材が、上記第１の光透過性基材を有し、他方の上記光学積層体における透明基材が、上記第２の光透過性基材を有することが好ましい。

以下に、本発明を詳細に説明する。
なお、本発明では、特別な記載がない限り、モノマー、オリゴマー、プレポリマー等の硬化性樹脂前駆体も“樹脂”と記載する。

本発明者らは、上述した従来の問題に鑑みて鋭意検討した結果、タッチパネル部材として、少なくとも、面内に複屈折率を有する第１の光透過性基材と、面内に複屈折率を有する第２の光透過性基材とを有し、かつ、上記第１の光透過性基材の光軸と上記第２の光透過性基材の光軸とが垂直に交わるように上記第１の光透過性基材と第２の光透過性基材とを配置することで、表示画面におけるニジムラの発生と、特定の方向に容易に裂けが生じるといった問題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。

本発明は、少なくとも、面内に複屈折率を有する第１の光透過性基材と、面内に複屈折率を有する第２の光透過性基材とを有するタッチパネル部材である。
本発明のタッチパネル部材において、上記第１の光透過性基材と第２の光透過性基材とは、第１の光透過性基材の光軸と第２の光透過性基材の光軸とが、垂直に交わるように配置されている。このように、上記第１の光透過性基材と第２の光透過性基材とが特定の状態で配置されていることで、本発明のタッチパネル部材は、極めて強度に優れたものとなり、特定の方向から容易に裂けが生じてしまうことがない。
ここで、上記「光軸」とは、上記光透過性基材の面内で屈折率が最大となる方向であり、後述する遅相軸方向である。
また、上記「第１の光透過性基材の光軸と第２の光透過性基材の光軸とが垂直に交わるように配置されている」とは、本発明のタッチパネル部材を表示画面側から観察したときに、上記第１の光透過性基材と第２の光透過性基材とが、それぞれの光軸がなす角度が９０°±１５°の範囲で配置されている場合を意味する。上記第１の光透過性基材の光軸と第２の光透過性基材の光軸とが９０°±１５°を超えて交わるように配置されていると、本発明のタッチパネル部材が特定の方向で容易に裂けてしまい、偏光サングラス越しに観察したときに、ニジムラが観察されやすくなる。
なお、本発明において、上記光透過性基材は、「光軸ばらつき」が抑制されたものである。このような光透過性基材は、ＭＯＲ（Ｍａｘｉｍｕｍ Ｏｒｉｅｎｔｅｄ Ｒａｔｉｏ）値が１．６〜２．３であることが好ましく、より好ましくは１．８〜２．１である。なお、上記ＭＯＲ値とは、透過型分子配向計で測定された透過マイクロ波強度の最大値と最小値の比（最大値／最小値）であり、異方性フィルムの光軸ばらつきの度合い指標として一般的に用いられる。

上記第１の光透過性基材及び第２の光透過性基材としては特に限定されず、例えば、ポリカーボネート、アクリル、ポリエステル等を原料として用いられた基材が挙げられるが、なかでも、コスト及び機械的強度において有利なポリエステル基材であることが好適である。
なお、以下の説明において、上記第１の光透過性基材と第２の光透過性基材とを特に区別しないときは「光透過性基材」として説明する。

上記光透過性基材は、面内に複屈折率を有するものであり、リタデーションが３０００ｎｍ以上であることが好ましい。３０００ｎｍ未満であると、本発明のタッチパネル部材を液晶表示装置（ＬＣＤ）で使用した場合、ニジムラが発生し、表示品位が低下することがある。一方、上記光透過性基材のリタデーションの上限としては特に限定されないが、３万ｎｍ程度であることが好ましい。３万ｎｍを超えると、膜厚が相当に厚くなるため好ましくない。
上記光透過性基材のリタデーションは、薄膜化の観点から、５０００〜２５０００ｎｍであることが好ましい。より好ましい範囲は、７０００〜２万ｎｍである。

なお、上記リタデーションとは、光透過性基材の面内において最も屈折率が大きい方向（遅相軸方向）の屈折率（ｎｘ）と、遅相軸方向と直交する方向（進相軸方向）の屈折率（ｎｙ）と、光透過性基材の厚み（ｄ）とにより、以下の式によって表わされるものである。
リタデーション（Ｒｅ）＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
また、上記リタデーションは、例えば、王子計測機器社製ＫＯＢＲＡ−ＷＲによって測定（測定角０°、測定波長５８９．３ｎｍ）することができる。
また、二枚の偏光板を用いて、光透過性基材の配向軸方向（主軸の方向）を求め、配向軸方向に対して直交する二つの軸の屈折率（ｎｘ、ｎｙ）を、アッベ屈折率計（アタゴ社製 ＮＡＲ−４Ｔ）によって求める。ここで、より大きい屈折率を示す軸を遅相軸と定義する。光透過性基材の厚みｄ（ｎｍ）は、電気マイクロメータ（アンリツ社製）を用いて測定し、単位をｎｍに換算する。屈折率差（ｎｘ−ｎｙ）と、フィルムの厚みｄ（ｎｍ）との積より、リタデーションを計算することもできる。
なお、屈折率は、アッベ屈折率計や、エリプソメーターを用いて測定することもできるし、分光光度計（島津製作所社製のＵＶ−３１００ＰＣ）を用いて、本発明のタッチパネル部材における透明導電性膜の波長３８０〜７８０ｎｍの平均反射率（Ｒ）を測定し、得られた平均反射率（Ｒ）から、以下の式を用い、屈折率（ｎ）の値を求めてもよい。
透明導電性膜の平均反射率（Ｒ）は、易接着処理のない５０μｍＰＥＴ上にそれぞれの原料組成物を塗布し、１〜３μｍの厚さの硬化膜にし、ＰＥＴの塗布しなかった面（裏面）に、裏面反射を防止するために測定スポット面積よりも大きな幅の黒ビニールテープ（例えば、ヤマトビニールテープＮｏ２００−３８−２１ ３８ｍｍ幅）を貼ってから各硬化膜の平均反射率を測定した。光透過性基材の屈折率は、測定面とは反対面に同様に黒ビニールテープを貼ってから測定を行った。
Ｒ（％）＝（１−ｎ）^２／（１＋ｎ）^２
また、タッチパネル部材となった後に透明導電性膜の屈折率を測定する方法としては、各層の硬化膜をカッターなどで削り取り、粉状態のサンプルを作製し、ＪＩＳ Ｋ７１４２（２００８）Ｂ法（粉体又は粒状の透明材料用）に従ったベッケ法を用いることができる。なお、上記ベッケ法とは、屈折率が既知のカーギル試薬を用い、上記粉状態のサンプルをスライドガラスなどに置き、そのサンプル上に試薬を滴下し、試薬でサンプルを浸漬する。その様子を顕微鏡観察によって観察し、サンプルと試薬の屈折率が異なることによってサンプル輪郭に生じる輝線；ベッケ線が目視で観察できなくなる試薬の屈折率を、サンプルの屈折率とする方法である。
上記光透過性基材は、方向によって屈折率が異なるので、ベッケ法ではなく、透明導電性膜の処理面に上記黒ビニールテープを貼ることで、平均反射率を測定し求めることができる。

なお、本発明では、上記ｎｘ−ｎｙ（以下、Δｎとも表記する）は、０．０５以上であることが好ましい。上記Δｎが０．０５未満であると、進相軸の屈折率が大きいため、表示画像のコントラストの向上が図れないことがある。更に、上述したリタデーション値を得るために必要な膜厚が厚くなってしまうことがある。一方、上記Δｎは、０．２５以下であることが好ましい。０．２５を超えると、光透過性基材を過度に延伸する必要が生じるため、光透過性基材が裂け、破れ等を生じやすくなり、工業材料としての実用性が著しく低下することがある。
以上の観点から、上記Δｎのより好ましい下限は０．０７、より好ましい上限は０．２０である。なお、上記Δｎが０．２０を超えると、耐湿熱性試験での光透過性基材の耐久性が劣ることがある。耐湿熱性試験での耐久性が優れることから、上記Δｎの更に好ましい上限は０．１５である。
なお、上記（ｎｘ）としては、１．６６〜１．７８であることが好ましく、より好ましい下限は１．６８、より好ましい上限は１．７３である。また、上記（ｎｙ）としては、１．５５〜１．６５であることが好ましく、より好ましい下限は１．５７、より好ましい上限は１．６２である。
上記ｎｘ及びｎｙが上記範囲にあり、かつ、上述したΔｎの関係を満たすことで、好適な反射防止性能及び明所コントラストの向上を図ることができる。

上記光透過性基材がポリエステル基材である場合、該ポリエステル基材を構成する材料としては、上述したリタデーションを充足するものであれば特に限定されないが、芳香族二塩基酸又はそのエステル形成性誘導体とジオール又はそのエステル形成性誘導体とから合成される線状飽和ポリエステルが挙げられる。かかるポリエステルの具体例として、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンイソフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ（１，４−シクロヘキシレンジメチレンテレフタレート）、ポリエチレン−２，６−ナフタレートを例示することができる。
また、上記ポリエステル基材に用いられるポリエステルは、これらのポリエステルの共重合体であってもよく、上記ポリエステルを主体（例えば８０モル％以上の成分）とし、少割合（例えば２０モル％以下）の他の種類の樹脂とブレンドしたものであってもよい。上記ポリエステルとしてポリエチレンテレフタレート又はポリエチレン−２，６−ナフタレートが力学的物性や光学物性等のバランスが良いので特に好ましい。特に、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）からなることが好ましい。ポリエチレンテレフタレートは汎用性が高く、入手が容易であるからである。本発明においてはＰＥＴのような、汎用性が極めて高いフィルムであっても、表示品質の高いタッチパネルを作製することが可能な、タッチパネル部材を得ることができる。更に、ＰＥＴは、透明性、熱又は機械的特性に優れ、延伸加工によりリタデーションの制御が可能であり、固有複屈折が大きく、膜厚が薄くても比較的容易に大きなリタデーションが得られる。

上記ポリエステル基材を得る方法としては、上述したリタデーションを充足する方法であれば特に限定されないが、例えば、材料の上記ＰＥＴ等のポリエステルを溶融し、シート状に押出し成形された未延伸ポリエステルをガラス転移温度以上の温度においてテンター等を用いて横延伸後、熱処理を施す方法が挙げられる。
上記横延伸温度としては、８０〜１３０℃が好ましく、より好ましくは９０〜１２０℃である。また、横延伸倍率は２．５〜６．０倍が好ましく、より好ましくは３．０〜５．５倍である。上記横延伸倍率が６．０倍を超えると、得られるポリエステル基材の透明性が低下しやすくなり、横延伸倍率が２．５倍未満であると、延伸張力も小さくなるため、得られるポリエステル基材の複屈折が小さくなり、リタデーションを３０００ｎｍ以上とできないことがある。
また、本発明においては、二軸延伸試験装置を用いて、上記未延伸ポリエステルの横延伸を上記条件で行った後、該横延伸に対する流れ方向の延伸（以下、縦延伸ともいう）を行ってもよい。この場合、上記縦延伸は、延伸倍率が２倍以下であることが好ましい。上記縦延伸の延伸倍率が２倍を超えると、Δｎの値を上述した好ましい範囲にできないことがある。
また、上記熱処理時の処理温度はしては、１００〜２５０℃が好ましく、より好ましくは１８０〜２４５℃である。

上述した方法で作製したポリエステル基材のリタデーションを３０００ｎｍ以上に制御する方法としては、延伸倍率や延伸温度、作製するポリエステル基材の膜厚を適宜設定する方法が挙げられる。具体的には、例えば、延伸倍率が高いほど、延伸温度が低いほど、また、膜厚が厚いほど、高いリタデーションを得やすくなり、延伸倍率が低いほど、延伸温度が高いほど、また、膜厚が薄いほど、低いリタデーションを得やすくなる。

上記ポリエステル基材の厚みとしては、４０〜５００μｍの範囲内であることが好ましい。４０μｍ未満であると、上記ポリエステル基材のリタデーションを３０００ｎｍ以上にできず、また、力学特性の異方性が顕著となり、裂け、破れ等を生じやすくなり、工業材料としての実用性が著しく低下することがある。一方、５００μｍを超えると、ポリエステル基材が非常に剛直であり、高分子フィルム特有のしなやかさが低下し、やはり工業材料としての実用性が低下するので好ましくない。上記ポリエステル基材の厚さのより好ましい下限は５０μｍ、より好ましい上限は４００μｍであり、更により好ましい上限は３００μｍである。

なお、本発明のタッチパネル部材は、上述したように上記ポリエステル基材である第１の光透過性基材と第２の光透過性基材とが互いの光軸が垂直に交わるように積層されている。このため、本発明のタッチパネル部材では、上記光透過性基材（ポリエステル基材）のリタデーションが３０００ｎｍ以上であることに加え、第１の光透過性基材のリタデーションと第２の光透過性基材のリタデーションとの差が３０００ｎｍを超えることが好ましい。上記第１の光透過性基材のリタデーションと第２の光透過性基材のリタデーションとの差が３０００ｎｍ以下であると、本発明のタッチパネル部材を液晶表示装置（ＬＣＤ）で使用した場合、ニジムラが発生し、表示品位が低下することがある。一方、上記第１の光透過性基材のリタデーションと第２の光透過性基材のリタデーションとの差の上限としては特に限定されないが、３万ｎｍ程度であることが好ましい。３万ｎｍを超えると、本発明のタッチパネル部材の膜厚が相当に厚くなるため好ましくない。
上記第１の光透過性基材のリタデーションと第２の光透過性基材のリタデーションとの差は、薄膜化の観点から、５０００〜２５０００ｎｍであることが好ましい。より好ましい範囲は、７０００〜２万ｎｍである。

また、上記光透過性基材は、可視光領域における透過率が８０％以上であることが好ましく、８４％以上であるものがより好ましい。なお、上記透過率は、ＪＩＳ Ｋ７３６１−１（プラスチック−透明材料の全光透過率の試験方法）により測定することができる。

また、本発明において、上記光透過性基材には本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、けん化処理、グロー放電処理、コロナ放電処理、紫外線（ＵＶ）処理、及び火炎処理等の表面処理を行ってもよい。

本発明のタッチパネル部材は、薄膜抵抗式のタッチパネルとして用いることができる。
ここで、上記薄膜抵抗式のタッチパネルとしては、例えば、透明基材の一方の面上に透明導電性膜が積層された構成を有する一対の光学積層体が、上記透明導電性膜同士が向き合うように対向配置された構成が挙げられる。なお、以下、上記一対の光学積層体の一方の光学積層体を第１の光学積層体ともいい、他方の光学積層体を第２の光学積層体ともいう。

本発明のタッチパネル部材が薄膜抵抗式のタッチパネルとして用いられる場合、好ましい構成としては、上述した第１の光学積層体における透明基材が、上記第１の光透過性基材と第２の光透過性基材とを有する構成（以下、第１の構成ともいう）や、上述した第１の光学積層体における透明基材が、上記第１の光透過性基材を有し、上述した第２の光学積層体における透明基材が、第２の光透過性基材を有する構成等が挙げられる（以下、第２の構成ともいう）。

上記第１の構成において、上記第１の光透過性基材と第２の光透過性基材を有する第１の光学積層体の透明基材がタッチパネルのタッチ画面を構成することが好ましい。また、上記第１の光学積層体における透明基材は、薄膜化の観点より、上記第１の光透過性基材と第２の光透過性基材との２層から構成されていることが好ましい。
また、上記第１の構成において、上記一対の光学積層体を構成する第２の光学積層体の透明基材としては特に限定されず、従来から薄膜抵抗式のタッチパネルにおける透明基材として用いられている基材を用いることができ、具体的には、例えば、ガラス基材等が好適に用いられる。

上記第２の構成において、上記第１の光学積層体における透明基材、及び、上記第２の光学積層体における透明基材は、薄膜化の観点より、それぞれ、上記第１の光透過性基材、及び、第２の光透過性基材により構成されていることが好ましい。
なお、上記第２の構成の場合、タッチパネルのタッチ画面は、上記第１の光学積層体における透明基材、及び、上記第１の光学積層体における透明基材のいずれで構成されていてもよい。

なお、上記第１の構成及び第２の構成のいずれの場合も、第１の光学積層体と第１の光学積層体とは、通常、スペーサを介して所定の間隔を空けて対向配置される。上記スペーサとしては特に限定されず、薄膜抵抗式のタッチパネルで用いられるスペーサとして公知のものを用いることができる。

上記透明導電性膜としては特に限定されず、例えば、金属酸化物からなる透明導電性膜が挙げられる。
上記金属酸化物からなる透明導電性膜としては、例えば、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、アルミニウムドープ酸化亜鉛（ＡＺＯ）、ガリウムドープ酸化亜鉛（ＧＺＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ_２）、酸化インジウム（Ｉｎ_２Ｏ_３）、酸化タングステン（ＷＯ_３）等からなる膜を挙げることができる。
また、上記透明導電性膜は、公知のタッチパネル電極と同様のパターンが形成されていてもよい。

上記透明導電性膜の製膜方法としては、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の公知の方法を挙げることができる。
また、上記透明導電性膜の膜厚は、例えば、１００〜４００Åであることが好ましい。
また、上述したパターンが形成された透明導電性膜は、上記方法で製膜した透明導電性膜に公知のエッチング処理を施すことで形成することができる。

本発明のタッチパネル部材は、上記透明基材と透明導電膜との間に絶縁膜を有することが好ましい。
上記絶縁膜としては、例えば、ケイ素酸化物からなる絶縁膜が挙げられ、具体的にはＳｉＯｘからなる膜が挙げられる。このような絶縁膜は、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の公知の方法により形成することができる。
上記絶縁膜の膜厚は、１００〜５００Åであることが好ましい。

本発明のタッチパネル部材は、画像表示装置の表示画面側に配置してタッチパネルとして用いられる。
上記画像表示装置は、ＬＣＤ、ＰＤＰ、ＦＥＤ、ＥＬＤ（有機ＥＬ、無機ＥＬ）、ＣＲＴ、タブレットＰＣ、タッチパネル、電子ペーパー等の画像表示装置であってもよい。

上記の代表的な例であるＬＣＤは、透過性表示体と、上記透過性表示体を背面から照射する光源装置とを備えてなるものである。上記画像表示装置がＬＣＤである場合、この透過性表示体の表面に、本発明のタッチパネル部材が形成されてなるものである。

上記画像表示装置が液晶表示装置の場合、光源装置の光源は本発明のタッチパネル部材の下側から照射される。なお、液晶表示素子と偏光板との間に、位相差板が挿入されてよい。この液晶表示装置の各層間には必要に応じて接着剤層が設けられてよい。

上記画像表示装置であるＰＤＰは、表面に電極を形成した表面ガラス基板と、当該表面ガラス基板に対向して間に放電ガスが封入されて配置され、電極及び、微小な溝を表面に形成し、溝内に赤、緑、青の蛍光体層を形成した背面ガラス基板とを備えてなるものである。上記画像表示装置がＰＤＰである場合、上記表面ガラス基板の表面、又はその前面板（ガラス基板又はフィルム基板）に本発明のタッチパネル部材を備えるものでもある。

上記画像表示装置は、電圧をかけると発光する硫化亜鉛、ジアミン類物質：発光体をガラス基板に蒸着し、基板にかける電圧を制御して表示を行うＥＬＤ装置、又は、電気信号を光に変換し、人間の目に見える像を発生させるＣＲＴなどの画像表示装置であってもよい。この場合、上記のような各表示装置の最表面又はその前面板の表面に本発明のタッチパネル部材を備えるものである。

ここで、上記画像表示装置が液晶表示装置の場合、該液晶表示装置において、バックライト光源としては特に限定されないが、白色発光ダイオード（白色ＬＥＤ）であることが好ましい。
上記白色ＬＥＤとは、蛍光体方式、すなわち化合物半導体を使用した青色光又は紫外光を発する発光ダイオードと蛍光体を組み合わせることにより白色を発する素子のことである。なかでも、化合物半導体を使用した青色発光ダイオードとイットリウム・アルミニウム・ガーネット系黄色蛍光体とを組み合わせた発光素子からなる白色発光ダイオードは、連続的で幅広い発光スペクトルを有していることから反射防止性能及び明所コントラストの改善に有効であるとともに、発光効率にも優れるため、上記バックライト光源として好適である。また、消費電力の小さい白色ＬＥＤを広汎に利用可能になるので、省エネルギー化の効果も奏することが可能となる。

本発明のタッチパネル部材は、いずれの場合も、テレビジョン、コンピュータ、電子ペーパー、タッチパネル、タブレットＰＣなどのディスプレイ表示に使用することができる。特に、ＣＲＴ、液晶パネル、ＰＤＰ、ＥＬＤ、ＦＥＤなどの高精細画像用ディスプレイの表面に好適に使用することができる。

本発明は、上述した構成からなるものであるため、表示画像にニジムラが生じることを極めて高度に抑制することができ、また、光透過性基材が特定の方向で容易に裂けることもないタッチパネル部材を提供できる。

本発明の内容を下記の実施例により説明するが、本発明の内容はこれらの実施態様に限定して解釈されるものではない。また、特別に断りの無い限り、「部」及び「％」は質量基準である。

（実施例１）
ポリエチレンテレフタレート材料を２９０℃で溶融して、フィルム形成ダイを通して、シート状に押出し、水冷冷却した回転急冷ドラム上に密着させて冷却し、未延伸フィルムを作製した。この未延伸フィルムを二軸延伸試験装置（東洋精機製）にて、１２０℃にて１分間予熱した後、１２０℃にて、延伸倍率４．５倍に延伸した後、その延伸方向とは９０度の方向に延伸倍率１．５倍にて延伸を行い、ｎｘ＝１．７０、ｎｙ＝１．６０、膜厚１２０μｍ、リタデーション＝１２０００ｎｍの第１の光透過性基材を得た。

次いで、上記第１の光透過性基材の片面に、アルゴンガス８０％と酸素ガス２０％とからなる０．５Ｐａの雰囲気中で、インジウム−スズ合金を用いた反応性スパッタリング法により、厚さ３０ｎｍの酸化インジウムと酸化スズとの複合酸化物（光の屈折率ｎ＝２．００）からなる透明導電性膜（以下、ＩＴＯ薄膜ともいう）を形成し、第１の光学積層体を作製した。

膜厚を以下の通りとなるように調整した以外は第１の光学積層体と同様に延伸処理をして、ｎｘ＝１．７０、ｎｙ＝１．６０、膜厚５０μｍ、リタデーション＝５０００ｎｍの第２の光透過性基材を作製し、厚さ３０ｎｍのＩＴＯ薄膜を上記透明導電性膜と同様の方法で形成し、第２の光学積層体を作製した。
これらの光学積層体を、ＩＴＯ薄膜同士が対向するように、厚さ１００μｍのスペーサを介して対向配置して、スイッチ構体としてのタッチパネル部材を作製した。なお、第１及び第２の光学積層体の各ＩＴＯ薄膜は、上記の対向配置に先立って、予め互いに直交するように形成した。この際、第１の光透過性基材の光軸と第２の光透過性基材の光軸とは、垂直になるように配置した。

（実施例２）
ポリエチレンテレフタレート材料を２９０℃で溶融して、フィルム形成ダイを通して、シート状に押出し、水冷冷却した回転急冷ドラム上に密着させて冷却し、未延伸フィルムを作製した。この未延伸フィルムを二軸延伸試験装置（東洋精機製）にて、１２０℃にて１分間予熱した後、１２０℃にて、延伸倍率４．５倍に延伸した後、その延伸方向とは９０度の方向に延伸倍率１．５倍にて延伸を行い、ｎｘ＝１．７０、ｎｙ＝１．６０、膜厚１２０μｍ、リタデーション＝１２０００ｎｍの第１の光透過性基材を作製した。

次いで、上記第１の光透過性基材の片面に、アルゴンガス８０％と酸素ガス２０％とからなる０．５Ｐａの雰囲気中で、インジウム−スズ合金を用いた反応性スパッタリング法により、厚さ３０ｎｍの酸化インジウムと酸化スズとの複合酸化物（光の屈折率ｎ＝２．００）からなる透明導電性膜（以下、ＩＴＯ薄膜ともいう）を形成した。

また、膜厚を以下の通りとなるように調整した以外は一方の光学積層体と同様に延伸処理をして、ｎｘ＝１．７０、ｎｙ＝１．６０、膜厚５０μｍ、リタデーション＝５０００ｎｍの第２の光透過性基材を作製した。

第２の光学積層体として、ガラス板上に厚さ３０ｎｍのＩＴＯ薄膜を上記と同様の方法で形成したものを用意した。この第２の光学積層体と上記ＩＴＯ薄膜を形成した第１の光透過性基材とを、ＩＴＯ薄膜同士が対向するように、厚さ１００μｍのスペーサを介して対向配置し、さらに、上記第１の光透過性基材のＩＴＯ薄膜側と反対側の面上に第２の光透過性基材を、第１の光透過性基材の光軸と第２の光透過性基材の光軸とが垂直となるように配置して第１の光学積層体とし、スイッチ構体としてのタッチパネルを作製した。
なお、引き裂き強度測定用に、第１の光透過性基材と第２の光透過性基材とを、各光軸が垂直となるよう配置した積層体も準備した。

（比較例１）
第１の光透過性基材の光軸と第２の光透過性基材の光軸とが平行になるように一対の光学積層体を配置した以外は、実施例１と同様にしてタッチパネル部材を作製した。

（参考例１）
ポリエチレンテレフタレート材料を２９０℃で溶融して、フィルム形成ダイを通して、シート状に押出し、水冷冷却した回転急冷ドラム上に密着させて冷却し、未延伸フィルムを作製した。この未延伸フィルムを二軸延伸試験装置（東洋精機製）にて、１２０℃にて１分間予熱した後、１２０℃にて、延伸倍率４．５倍に延伸した後、その延伸方向とは９０度の方向に延伸倍率１．５倍にて延伸を行い、ｎｘ＝１．７０、ｎｙ＝１．６０、膜厚１００μｍ、リタデーション＝１００００ｎｍの第１の光透過性基材を得た。

次いで、上記第１の光透過性基材の片面に、アルゴンガス８０％と酸素ガス２０％とからなる０．５Ｐａの雰囲気中で、インジウム−スズ合金を用いた反応性スパッタリング法により、厚さ３０ｎｍの酸化インジウムと酸化スズとの複合酸化物（光の屈折率ｎ４＝２．００）からなる透明な導電性薄膜（以下、ＩＴＯ薄膜ともいう）を形成し、第１の光学積層体を作製した。

膜厚を以下の通りとなるように調整した以外は上記第１の光学積層体と同様に延伸処理をして、ｎｘ＝１．７０、ｎｙ＝１．６０、膜厚７０μｍ、リタデーション＝７０００ｎｍの第２の光透過性基材を作製し、厚さ３０ｎｍのＩＴＯ薄膜を第１透明導電性膜と同様の方法で形成し、第２の光学積層体を作製した。
これら第１の光学積層体と第２の光学積層体とを、ＩＴＯ薄膜同士が対向するように、厚さ１００μｍのスペーサを介して対向配置して、スイッチ構体としてのタッチパネル部材を作製した。なお、第１の光学積層体と第２の光学積層体の各ＩＴＯ薄膜は、上記の対向配置に先立って、予め互いに直交するように形成した。この際、第１の光透過性基材の光軸と第２の光透過性基材の光軸とは、垂直になるように配置した。

（参考例２）
ポリエチレンテレフタレート材料を２９０℃で溶融して、フィルム形成ダイを通して、シート状に押出し、水冷冷却した回転急冷ドラム上に密着させて冷却し、未延伸フィルムを作製した。この未延伸フィルムを二軸延伸試験装置（東洋精機製）にて、１２０℃にて１分間予熱した後、１２０℃にて、延伸倍率４．５倍に延伸した後、その延伸方向とは９０度の方向に延伸倍率１．５倍にて延伸を行い、ｎｘ＝１．７０、ｎｙ＝１．６０、膜厚２７μｍ、リタデーション＝２７００ｎｍの第１の光透過性基材を得た。

次いで、上記第１の光透過性基材の片面に、アルゴンガス８０％と酸素ガス２０％とからなる０．５Ｐａの雰囲気中で、インジウム−スズ合金を用いた反応性スパッタリング法により、厚さ３０ｎｍの酸化インジウムと酸化スズとの複合酸化物（光の屈折率ｎ＝２．００）からなる透明導電性膜（以下、ＩＴＯ薄膜ともいう）を形成し、第１の光学積層体を作製した。

膜厚を以下の通りとなるように調整した以外は第１の光学積層体と同様に延伸処理をして、ｎｘ＝１．７０、ｎｙ＝１．６０、膜厚２５μｍ、リタデーション＝２５００ｎｍの第２の光透過性基材を作製し、厚さ３０ｎｍのＩＴＯ薄膜を第１の透明導電性膜と同様の方法で形成し、第２の光学積層体を作製した。
これら第１の光学積層体と第２の光学積層体とを、ＩＴＯ薄膜同士が対向するように、厚さ１００μｍのスペーサを介して対向配置して、スイッチ構体としてのタッチパネル部材を作製した。なお、第１の光学積層体と第２の光学積層体の各ＩＴＯ薄膜は、上記の対向配置に先立って、予め互いに直交するように形成した。この際、第１の光透過性基材の光軸と第２の光透過性基材の光軸とは、垂直になるように配置した。

実施例、比較例及び参考例で作製したタッチパネル部材について、以下の評価を行った。それぞれの結果を表１に示した。なお、表１には、第１の光透過性基材の光軸と第２の光透過性基材の光軸とがなす角度についても示した。

（ニジムラ評価）
実施例、比較例、参考例にて作製したタッチパネル部材を、液晶モニター（ＦＬＡＴＯＲＯＮ ＩＰＳ２２６Ｖ（ＬＧ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ Ｊａｐａｎ社製））の観察者側の偏光素子上に配置し、液晶表示装置を作製した。このとき、観察者側の偏光子上に配置されるタッチパネル部材のポリエステル基材の遅相軸と、液晶モニターの観察者側の偏光素子の吸収軸とのなす角度が４５°となるように配置した。
そして、暗所及び明所（液晶モニター周辺照度４００ルクス）にて、正面及び斜め方向（約５０度）から目視及び偏光サングラス越しに表示画像の観察を行い、ニジムラの有無を以下の基準に従い評価した。偏光サングラス越しの観察は、目視よりも非常に厳しい評価法である。観察は１０人で行い、最多数の評価を観察結果としている。
○：ニジムラが観測されるが、実使用上問題ないレベル
△：ニジムラが薄く観測される
×：ニジムラが強く観測される

（引き裂き強度）
引き裂き強度は、タッチパネル部材の縦方向及び横方向における破断強度比によって、評価した。基材は、ＪＩＳ Ｋ６２５１に準拠し、破断強度試験方法によって、実施例、比較例、参考例にて作製したタッチパネル部材の破断強度（Ｎ）を初期値及び下記の各耐久試験実施後の値を測定することにより行った。各試料測定には、剥離試験装置（エー・アンド・デイ社製、商品名「ＴＥＮＳＩＬＯＮ ＲＴＡ−１１５０−Ｈ」）を用いて、試験片幅１０ｍｍ、剥離条件１００ｍｍ／ｍｉｎで２３℃にて測定を行い、３回の測定の平均値を採用した。なお、実施例２については、別途用意した引き裂き強度測定用の積層体を用いた。
ここで、「引き裂き強度」は、タッチパネル部材の縦方向と 横方向の 破断強度比で表す。縦方向、横方向の破断強度のうち、大きい方を分母として求められた比が、０．４〜１．０の範囲内であることが好ましい。上記範囲内であれば、引き裂き強度は良好である。一方、強度比が ０．４未満である場合、タッチパネル部材の光透過性基材は一方向へ引き裂かれてしまい、好ましくない。

表１に示したように、第１の光透過性基材の光軸と第２の光透過性基材の光軸とを垂直に配置した実施例では、ニジムラ、引き裂き性ともに良好であった。
一方、第１の光透過性基材の光軸と第２の光透過性基材の光軸とを平行に配置した比較例１では、ニジムラは良好だが、引き裂き性に劣っていた。
一方、第１の光透過性基材のリタデーション値と第２の光透過性基材のリタデーション値との差が３０００ｎｍとなる参考例１では、ニジムラの評価にやや劣っていた。
また、第１の光透過性基材のリタデーション値と第２の光透過性基材のリタデーション値がいずれも３０００ｎｍ未満で、これらの値の差も２００ｎｍと小さな参考例２では、ニジムラの評価に劣っていた。

本発明のタッチパネル部材は、表示画像にニジムラが生じることを抑制できるとともに、優れた強度を有するため、特定の方向で容易に裂けることがない。

Claims (3)

1. 少なくとも、面内に複屈折率を有する第１の光透過性基材と、面内に複屈折率を有する第２の光透過性基材とを有するタッチパネル部材であって、
   前記第１の光透過性基材と前記第２の光透過性基材とは、前記第１の光透過性基材の光軸と前記第２の光透過性基材の光軸とが、垂直に交わるように配置されており、
   前記第１の光透過性基材及び前記第２の光透過性基材は、いずれもポリエステル基材であり、
   前記ポリエステル基材のリタデーションが３０００ｎｍ以上であり、かつ、面内において最も屈折率が大きい方向である遅相軸方向の屈折率（ｎｘ）と、前記遅相軸方向と直交する方向である進相軸方向の屈折率（ｎｙ）との差（ｎｘ−ｎｙ）が、０．０５以上である
   ことを特徴とするタッチパネル部材。
2. 透明基材の一方の面上に透明導電性膜が積層された構成を有する一対の光学積層体が、前記透明導電性膜同士が向き合うように対向配置されており、
   一方の前記光学積層体における前記透明基材が、第１の光透過性基材と第２の光透過性基材とを有する請求項１記載のタッチパネル部材。
3. 透明基材の一方の面上に透明導電性膜が積層された構成を有する一対の光学積層体が、前記透明導電性膜同士が向き合うように対向配置されており、
   一方の前記光学積層体における前記透明基材が、第１の光透過性基材を有し、他方の前記光学積層体における前記透明基材が、第２の光透過性基材を有する請求項１記載のタッチパネル部材。