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TW200901175A - Magneto-resistive sensor - Google Patents

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TW200901175A
TW200901175A TW097110983A TW97110983A TW200901175A TW 200901175 A TW200901175 A TW 200901175A TW 097110983 A TW097110983 A TW 097110983A TW 97110983 A TW97110983 A TW 97110983A TW 200901175 A TW200901175 A TW 200901175A
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TW
Taiwan
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coil
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circuit
Prior art date
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TW097110983A
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Hans Marc Bert Boeve
Stephan Jansen
Teunis Jan Ikkink
Haris Duric
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Nxp Bv
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Description

200901175 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域;j 發明領域 本發明與有磁電阻感測器的一電路有關。 5 【先前技術】 發明背景 磁電阻(MR)是整個鐵磁性合金家族的材料性質,其曰 指電阻與一角度之間的依賴關係,該角是流經材料的電漭 方向與相對於該電流方向的外部磁場方向之間的夹角。這 10個效應疋由於電子在磁場方向上的一個較大s-d散射機率而 引起的。當電流方向與外施磁場平行時,淨效應是電阻最 大值。這種材料的一個例子是被稱為“高導磁合金,,的鐵磁 性材料(19%鐵,81%鎳)。 MR材料可被用來產生也被稱為磁強計的磁場感測 15器。這種感測器的操作和例子在飛利浦(Philips)半導體的應 用注解AN 00022”Electronic Compass Design using KMZ51 and KMZ52”(作者Thomas Stork,2000年3月 3〇 日)中被描 述。KMZ52是由Philips製造的一種在商業上可獲得的電子 裝置,其在一封裝中包含羅盤感測器系統的元件:有9〇。位 20移的兩個弱場感測器,每一個具有一置位/復位(反位)線圈 和一補償線圈。補償線圈的典型電流位準是10mA,反位線 圈是1A。大約2mA足夠平衡地磁場。因此,反位線圏的電 阻較佳地相當低’例如在幾歐姆數量級上。這種感測器被 使用例如一薄膜技術或一積體電路技術製造。 200901175 磁場感測器可被用在’例如,固態羅盤定位 (compassing)、金屬檢測、位置檢測等中。 首先,考慮由單條MR材料製成的—感·。在製造期 間,-強外部磁場被平行於該·材料條的主轴施加。因 5此’-較佳磁化方向在該材料條中被限定。在不存在磁場 的情況下,磁化強度通常指向那個方向。該感測器的操作 取決於兩個效應。第-個效應是該遣材料條的電阻取決於 流經該MR材料條的電流方向與磁化方向之間的失角。第二 個效應是該磁化方向’從而該角度可能受平行於該歐材料 10 條並垂直於該較佳方向的外部磁場影塑。 該單條感測器對小量值的外部磁場具有一低靈敏度。 此外,該簡單的感測器不能鐘別量值相同但方向相反的外 部磁場。因此,該感測器較佳地具有—所謂的“斜條型 (barber P〇le)”組態。這透過在與該MR材料條的主軸成45。 15角的方向上在MR材料條上沉積例如銘條(稱為“斜條柱,,)來 實現。因為純之MR材料大體上有較高的導電率,所以斜 條柱的作用是將電流方向旋轉45。,有效地將隱材料磁化 方向與電流之間的夾角從一角度值“α”變化到一角度值 “α-45。”。對於諸如地場的弱磁場,靈敏度顯著較高。此外, 20該特性被線性化,並且允許檢測外部磁場正負號。 實際上’將感測器組配為由四個磁電阻條構成的惠斯 登(WheatSt〇ne)電橋是有利的。對於例如羅盤感測器 ,斜條 里、,、。構被使用’其中一對角對被定向為與該隱材料條主軸 成+45,另一對角對被定向為與該MR材料條的主軸成-45。。 200901175 因此,由於磁場引起的電阻變化被線性地轉換成差動輸出 電壓的變化。此外,四個橋電阻器的固有溫度係數相互補 償。 MR感測器本質上是雙穩態的。也就是說,其内部磁化 5方向可被反向或“翻轉”。這可透過具有足夠強度的磁場實 現,如果那個磁場平行於磁化方向被施加但具有相反方向 的居。翻轉引起感測器特性的倒轉,因此感測器輸出電壓 改變極性。MR感測器可被穩定下來避免不想要的翻轉,透 過平行於該翻轉軸施加一辅助磁場。該輔助磁場應該是脈 1〇衝式的,因為永久磁場將減小磁強計的靈敏度。當測量弱 磁場時,甚至慰在連續磁料讀數之間重複地反向或“翻 轉”感測雜性。這允許以與在小電錢放大巾使狀斬波 技術(chopping technique)相媲美的一種方法補償感測器的 漂移。在該感測器元件附近也被稱為“反位”線圈的“置位/ 15復位”線岐用以為翻轉施加輔助場的|置。在例如高精度 羅盤系統中,感測器必須也允許補償隨著溫度變化而出現 的靈敏度漂移,以及補償干涉場。這兩者可透過在垂直於 該等MR條的場敏感方向中的一辅助磁場實現。這可由該感 測器元件附近的一“補償,,線圈產生。 2〇 已公開的歐洲專利申請案第EP 0 544 479號揭露使用 一半導體製造技術產生的-MR感測器。為了實施以上討論 的輔助線圈功能,已知的感測器使用電流帶。在一實施例 中,這些電流帶在被植入晶粒中的—或更多金屬層中形 成,並且斜條型結構被形成。在另—實施例中,晶粒被安 200901175 裝在一陶瓷載體上,其具有用於電連接該晶粒到載體上的 墊片的導線墊片(wire pad)。一獨立導電帶位於該晶粒上。 從一端到另一端流經該導電帶的電流產生磁場。 【發明内容】 5 發明概要 發明者提出MR感測器的一備選組配,其較之已知裝置 的組態具有附加優點。 為此,發明者提出包含一磁電阻感測器的一電子電 路。該感測器具有一磁電阻層,其在例如一半導體裝置的 10 一第一基板上被形成。該第一基板被安裝在一不同的第二 基板上(例如,一層狀基板(laminated substrate))。該感測器 具有用於在該磁電阻層產生一磁場的一導電元件,用來透 過流經該元件的電流控制該感測器。該元件具有例如如以 上所述的一補償線圈和/或一反位線圈的功能。該元件在該 15 第二基板上被形成。 該磁電阻層形成一磁電阻感測器的核心。磁電阻感測 器可以在諸如半導體的各種各樣的基材上被製造,例如矽 或皿-V材料、玻璃或諸如聚醯亞胺的彈性材料。一磁電阻 感測器通常包含該磁電阻層和用於互連的一些金屬層,以 20 及用於產生附加磁場的裝置。一磁電阻感測器可進一步與 使用CMOS或雙極型半導體製程的一積體電路(1C)整合,例 如,以達到信號調節的目的。這通常透過後處理實現,從 該等感測器層在該製程的後端金屬喷敷步驟的最後被加入 的意義上來說。 200901175 層狀基板被廣泛地使用在高密度整合的系統級封裝技 術(或多晶片模組)中’其可為剛性的或彈性的,並且由有機 或無機基材形成。層狀基板包括例如基於CU-FR4的(多層) 層板,以及無機低溫或高溫共燒陶瓷基板(LTCC-HTCC)。 5從系統角度來看,層狀基板功能如同多層印刷電路板(pcb) 技術。在晶片尺度封裝(CSP)中,代表多層pcb的層板可被 用來透過將半導體裝置倒裝晶片在板上而形成元件。在後 一種情況下,從一半導體裝置可被提供給一客戶,該客戶 在製程的後期階段整合該裝置於一板中的意義上來 10说,物流官理可以不同。在系統級封裝中,層狀基板和半 導體裝置通常被共同開發並整合為一個單一產品。 整合该元件於該第二基板(例如,該層板)中的其中一個 優點是該元件(例如,補償線圈和/或反位線圈)*需要影響 該第一基板的有效大小,例如該Μϋ的晶粒大小。EP 〇 15 544 479中腿感測器的已知實施之一具有在晶粒本身中實 施的輔助線圈,從而需要感測器晶粒足夠大 可被容納下,這導致額外的費用。ΕΡ 0 544 479中的另:圈 個已知實施使用1流帶。有電流帶的幾何組態可能是不 可再生的,並且具有根據本發明的在層狀基板中被實現的
20線圈’因為後者的平垣度使磁場行為和所需電流位準更呈 可預測性。 A 。。因此,本發明的—實施例與一高性能、整合缝感測 益相關,其具有用於感測器輸出之信號調節的補償和反位 線圈。該等線圈中的至少一個在層板中被形成,該層板在 9 200901175 一單一封裝中連接AMR感測器與其1C。因此,該AMR感測 器的晶粒面積的大小和封裝尺寸可保持很小。 該感測的導電元件在該基板中被形成,用以透過流 經該元件的電流產生一磁場。該元件包含多條傳送相同電 5 流的平行電流線,因此磁場可在形成該磁電阻感測器的空 間散佈的磁性元件上在同一方向上產生。一個設計多條傳 送一相同電流之平行電流線的優美的拓撲結構是一個二維 螺旋線,其中該二維螺旋線有到一電流驅動器電路的兩個 接頭。承載該元件的第二基板作為用於在其上安裝磁電阻 10 感測器的一標準元件和用以控制作業使用時之感測器的控 制電路特別有用。 圖式簡單說明 本發明透過舉例和參考所附圖式被進一步詳細地解 釋,其中: 15 第1、2和3圖是說明本發明的一電路之空間組配的圖 式; 第4圖給出磁場強度與各個代表一空間組配之幾何層 面的參數之間的一個數學關係;以及 第5、6和7圖是說明本發明的一電路的進一步空間組配 20 的圖式。 I:實施方式3 較佳實施例之詳細說明 本發明與一高性能、整合MR感測器有關,其透過增加 致能感測器輸出之信號調節的補償和/或反位線圈實現。補 10 200901175 償和反位線圈在一積體電路技術中通常被增加在形成該 MR感測器之敏感層上面的金屬層中。然而’在本發明中, 該等線圈中的至少一個在一單一封裝中被放置在連接該 MR感測器與其1C的層板中。因此,該MR感測器的晶粒面 5 積,從而封裝尺度可被保持在最小尺寸,因此產生低成本 和具有競爭性的優點。 一補償線圈能夠設定一磁強計於一零位模式中,並中 外部磁場在内部透過流經該補償線圈的電流被補償。本質 上’補償線圈能在該感測器的敏感方向上產生磁場。因此, 〇該補償線圈允許該磁強計的一完全電氣測試組。如果不存 在補偵線圈,則例如使用一 Helmholtz線圈組態的一專用 剩試裝置被需要用於磁場中的測試。 該設計中的一個重要參數是磁場產生效率,以補償線 15圈中lmA電流所產生的A/m來表示。各種佈局可被實施來產 生高歐姆(幾百_)或低歐姆⑽歐姆)補償線圈設計。 在磁場感測器中,補償線圈可以以多種方式被使 用於在令位拉式十的操作;ADC上感測器讀數之最佳 、射的(磁)背景消除;用於感測器靈敏度的測量,例如為了 〇 ^肖溫度效應;對於晶圓和封裝級上較簡單料件測試, 於電子模式下的功能測試中;自我測試模式,例如存活 亡(life-death)感測器測試(最終測試起動時,服務時 k常地相償線圈破整合在整合感寵元件上的金 社足中攸感心兀件開始,—第—金屬層用作斜條型 、-構。該補償線圈通常被提供在—第二金屬層中。最後, 200901175 一反位(或置位/復位)線圈可被增加在一第三金屬層中。這 種方法的缺點是多種多樣的。一個更加昂貴的製造製程被 需要,如果一補償線圈被增加,因為其需要額外的金屬層, 而這導致了晶粒尺寸每單位面積具有更高的成本。如果一 5 補償線圈被增加,則一更大的感測器晶粒尺寸將被需要, 而由於所有感測器元件都必須受到產生磁場的同一方向制 約的事實,補償線圈的佈局效率受到限制。 在給定層板上磁感測器幾何結構的條件下可計算在該 感測器中產生的近似磁場。在一好的近似中,磁場強度如 10 第4圖的公式(100)中所給定。參見備註符號說明。注意到最 大磁場出現在電流線的中部。一種更加複雜的方法以自中 間部分導出的函數給出下降。只要該距離小於電流導體寬 度,下降就很小。然而,到電流線的距離越大,下降將越 迅速。 15 磁強計晶粒可被細化到大約200微米的厚度。因此層板 中電流線與磁強計之間的最小距離相對應於晶粒厚度加上 某個附加的黏著劑厚度。層板上的最小電流線寬度在數十 微米的數量級。因此,從磁場產生的角度來看,較大的電 流線厚度是較佳的。然而,這導致較低的歐姆電阻,從而 20 導致較高的功率消耗。 例如,對於大約200微米的距離,10mA的電流和25到 250微米的電流線寬度在感測器中分別產生8和7A/m之間的 一最大磁場。如前所述,較寬電流線的下降更少。為了部 分地利用其低電阻性,較寬的電流線可被再分成一些較小 12 200901175 , 電流線的平行連接,他們彼此靠近放置,以在一特定距離 形成一均勻場。較小電流線的平行連接較佳地分別與感測 器設計中的電阻元件對準。 對於測量地磁場(典型地,50A/m)的一電子羅盤而言, 5 具有等級為地磁場的五分之一到三分之一的量值的輔助磁 場將被產生,用於控制適當的操作(例如,補償線圈功能和 /或反位線圈功能)。換句話說,對於以上例子,20mA的電 流將是充足的。值得注意的是,這種方法對於作為一依賴 調零的應用的磁強計來說將具有較小的價值,因為對於手 10 持裝置中的實際用途來說,電流位準將變得太高。 根據最後實施的領域(參見上述關於使用補償線圈的 各種方式),一備選實施可以使用較不均勻或甚至非均勻的 激勵場。對於例如自測應用,足以具有感測器對激勵的簡 ' 單存活消亡響應。因此,只覆蓋部分感測器的補償線圈也 15 可用於這種自測試目的。補償線圈越簡單,這種特徵到一 電子羅盤的整合就越容易。不利結果將是受限的測試特徵 ^ (生產測試)。因此,可能需要某種的校準,以便能夠微調自 測。對於存活消亡自測,預計補償電流和磁電阻感測器回 應(藉由磁場)之間轉換因數的可預測性高,因此對每批感測 20 器的校準即滿足需要,而不需要對每一單個感測器的校 準。較佳地,生產測試期間的臨限設定考慮偏差容限 (tolerance)。特別地,感測器晶粒在層板上的安裝是關鍵 的。在感測器和層板的設計以及佈局期間,偏差容限必須 被考慮。上述方法可對感測器在層板上的佈置強加更加嚴 13 200901175 格的容限。 可能為整合磁強計-部分的積體電路將產 用標準焊接(例如,倒裝日日日片或巩 A 4 \咔接)’積體電路具有到声 板的元件内連接,藉此電流 曰 .^ 汉正σ在该層板中的電流 \ 。t於電流線可以被料成-螺旋式線圈和/或彎 曲部分的事實,多層層板可能被需要用於達到互連目的。 然而,積體電路與磁強計之間的附加信號線以及其他互連 線可以與補償線圈(組)處在同一個平面。 10 在一備選實施例中,多層層板相對應於一多層PCB, 藉此CSP倒裝晶片技術被使用。電流線和磁電阻層之間的相 對距離由倒裴晶片技術的焊球大小設定。對於c S P倒裝晶片 技術來說’焊球大小在100微米數量級。 黎於補償線圈較佳地在整個感測器中提供同一方向磁 场的事實’實際上不是所有被補償線圈覆蓋的區域可以被 15使用。假定補償線圈被設計為一方形、螺旋式線圈。對於 維(1D)磁強計而言,僅線圈周長的四分之一可用作此感 ’則益的補償線圈。對於二維(2D)磁強計而言,可能為周長 的半。當然,人們可使用多個1D磁強計並安裝它們,以 對各個方向敏感 ,從而使用至少一半線圈面積。 整合補償線圈於層板中的一個突出優點是,感測器的 有效晶粒大小不需要增加以使之能夠容納該線圈。該線圈 可合易地延伸到層板中磁強計晶粒的外部,以部分地被放 置在積體電路下面。因此,昂貴的磁強計晶粒面積被換成 τ濟的層板面積,被積體電路佔用的面積不是一個限制因 14 200901175 ^ 素。 &原理上’對於反位線圈而言,與補償線圈類似的論 丑可被遵循値得注意的事,反位線圈產生垂直於磁強計 4量方向的㉟場。由於所需要的電流位準高,反位線圈 5而要低電阻性線圈設計。通常情況下,線圈是感測器元件 上相對排列的彎曲部分。 使用一多層層板’整合補償和反位線圈於一層板中將 m⑽H鑒於需用於電子羅盤感測器翻轉的磁場 i貞似於現存磁強計的事實’整合反位線圈於層板中可能不 10疋最佳的選擇,因為電流位準可能變得不切合實際地高。 第1、2和3圖是顯示本發明中裝置1〇〇、2〇〇和3〇〇之一 部分的組配的圖式。裝置1〇〇、2〇〇和3〇〇是,例如電子羅盤 或用於其他作業用途的磁強計。 第1圖的裝置100包含被安裝在層狀基板1〇4上的一感 15勒晶粒1〇2 ’例如系統級封裝組配的一有機多層層板。基 板挺彳’、對晶粒102的機械支撑,以及提供到另外一電路 (圖未不)的電流連接,該電路被安裝在基板104上或被納入 在裝置100中的其他位置。基板104包含一層狀組態。在這 個例子中’該層狀組態包含多個層體,例如交替堆疊的一 20或更多導電層以及一或更多絕緣層。每一導電層然後可被 用於該分層組態中一特定層級上的電流互連。在本發明 中’該層板中的一特定層106被用來實施輔助線圈功能。 第2圖中的裝置200在某種程度上類似於裝置100,但差 異之處在於該層狀基板104也被用來支撐另外一個感測器 15 200901175 晶粒202 ’因此特定層106被疊放在它們中間,用於經由輔 助線圈功能進行組合控制。 第3圖令的裝置3〇〇類似於装置2〇〇,但是差異之處在於 該層狀基板104包含多個導電層1〇6和302。在這種情況下, 5辅助線圈功能透過連接最靠近晶粒102的導電層的一部分 (這裡的層體106),以及最靠近晶粒202的另一層體的一部分 (這裡的層體302)被形成,以在一方面最小化晶粒1〇2和晶粒 202之間的距離,在另一方面最小化由層體1〇6和3〇2形成的 輔助線圈。 10 若干其他空間組態可被考慮,例如其中多個感測器晶 粒被安裝在基板104之同一側,並且其中該等多個感測器的 辅助線圈功能被組合在一相同導電層1〇6中的一組配(圖未 示),其中該導電層106至少部分地延伸到該等多個晶粒下 面0 15 第5圖是用俯視平面圖顯示裝置1〇〇的空間組配的圖 式。感測器晶粒102容納一 lD感測器,其形狀是被定向為同 -方向的-或更多MR條。晶粒1G2對應於實施補償線圈功 能的導電層⑽被安裝在基板1〇4上,因此補償線圈1〇6產生 -磁場·-健均勻練不均勻的磁場,即在該频定向在 箭頭108之方向上的感測器晶粒1〇2之嫌條内在同一方向 上指向每個地方。如所看到的那樣,大約線圈舰表面的四 分之-被用於m感測器。其中每一個有_1D感測器的多個 晶粒可被安裝在基板104上,其等相對於線圈1〇6,因此, 相對應於線圈106產生的磁場被適當地定位。如從該等圖式 16 200901175 中清楚地看出的,線圈106在功能上被定形為一螺旋線,這 從佈局角度和整合角度來看是容易的。鑒於由多層層板提 供的三維選擇,人們可選擇線圈106的其他設計佈局,利用 垂直於層板長度和寬度的維度。在這樣一個設計中,許多 5 平行電流線位於磁電阻感測器之磁性元件位置處的準則必 須被滿足。一個例子是一緊密三維螺旋線圈,其中返迴路 徑位在一不同金屬層中。 第6圖是用俯視平面圖顯示裝置100之空間組配的圖 式,其中感測器晶粒102容納一2D感測器。同樣地,晶粒1〇2 10相對應於補償線圈106被安裝,因此後者分別在這兩個1£) MR條的每一個中產生沿箭頭1〇8和11〇的一均勻磁場。這種 情況下’大約線圈106所佔面積的一半可被使用。 第7圖是第6圖的組態圖,現在另外顯示一積體電路 112,其被安裝在基板104上並且藉由一導電連接114被連接 15到感測器晶粒1〇2。連接被實施,例如使用多層基板1〇4中 的一導電層,或者例如一金屬帶(strap)或—焊接線的另外一 電流連接。電路112可操作以,例如控制晶粒中感測器 的操作和線圈106的操作,以及/或者處理感測器晶粒1〇2提 供給裝置100中其他電路(圖未示)使用的信號。 2〇 【圖式簡單說明】 第1、2和3圖是說明本發明的一電路之空間組配的圖 式; 第4圖給出磁場強度與各個代表一空間組配之幾何層 面的參數之間的一個數學關係;以及 17 200901175 第5、6和7圖是說明本發明的一電路的進一步空間組配 的圖式。 【主要元件符號說明】 112.. .積體電路 114…導電連接 200.. .裝置 202.. .感測器晶粒 300.. .裝置 302.··導電層 100.. .裝置 102…感測裔晶粒 104."層狀基板 106.. .特定層體/導電層/補償 線圈 108.··箭頭 110...箭頭 18

Claims (1)

  1. 200901175 十、申請專利範圍: 1. 一種電子電路,其包含一磁電阻感測器,其中: 該感測器具有在一第一基板中被形成的一磁電阻 層; 5 該第一基板被安裝在一第二基板上; 該感測器具有一導電元件,其用於在該磁電阻層產 生一磁場,來透過流經該元件的一電流控制該感測器; 以及 該元件被形成在該第二基板中。 10 2.如申請專利範圍第1項所述之電路,其中: 該元件在功能上被定形為一螺旋線; 該電路包含一第二感測器,其中該第二感測器具有 在該第一基板中被形成的一第二磁電阻層;以及 該第一基板相對於該元件被安裝在該第二基板 15 上,以覆蓋該螺旋線的一面積的一部分,該部分實質上 是該面積的四分之一。 3. 如申請專利範圍第1項所述之電路,其中該元件延伸到 被該安裝基板覆蓋的一面積之外。 4. 如申請專利範圍第1項所述之電路,其包含一第二感測 20 器,該第二感測器具有在一第三基板中形成的一第二磁 電阻層,並且其中: 該第一基板和該第三基板相對於該元件被安裝在 該第二基板的相對面上,以使該元件可操作以在該磁電 阻層和該第二磁電阻層產生該磁場來控制該感測器和 19 200901175 該第二感測器。 5.如申請專利範圍第1項所述之電路,其中該元件在該電 路作業使用中起一補償線圈或一反位線圈的作用。 20
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