JPS61185363A - 着色被覆金属線の製造法 - Google Patents
着色被覆金属線の製造法Info
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- JPS61185363A JPS61185363A JP2567085A JP2567085A JPS61185363A JP S61185363 A JPS61185363 A JP S61185363A JP 2567085 A JP2567085 A JP 2567085A JP 2567085 A JP2567085 A JP 2567085A JP S61185363 A JPS61185363 A JP S61185363A
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- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、着色された被覆金属線を効率良く製造する方
法に関するものである。
法に関するものである。
従来の技術
エナメル線などの被覆金属線は、連続走行下にある金属
線に着色エナメル塗料を塗布した後、焼き付は炉を通過
させて焼き付ける工程を多数回繰り返し、最後にパラフ
ィンなどで表面処理することにより製造される。エナメ
ル線は完璧な絶縁性が要求されるため、被覆層の膜厚が
厳格に均一に形成されるように管理されねばならない、
そこで、エナメル塗料の均一塗布を図るために、塗料槽
とストックタンクとの間を配管で連絡して、常時塗料を
オーバーフローさせることにより塗料の濃度と粘度を一
定に保ち、また塗布具についても金属線の全周にわたっ
て塗布厚が一定となるように微細な工夫をこらしており
、塗装郡全体が複雑な構成となっている。
線に着色エナメル塗料を塗布した後、焼き付は炉を通過
させて焼き付ける工程を多数回繰り返し、最後にパラフ
ィンなどで表面処理することにより製造される。エナメ
ル線は完璧な絶縁性が要求されるため、被覆層の膜厚が
厳格に均一に形成されるように管理されねばならない、
そこで、エナメル塗料の均一塗布を図るために、塗料槽
とストックタンクとの間を配管で連絡して、常時塗料を
オーバーフローさせることにより塗料の濃度と粘度を一
定に保ち、また塗布具についても金属線の全周にわたっ
て塗布厚が一定となるように微細な工夫をこらしており
、塗装郡全体が複雑な構成となっている。
エナメル塗料の塗布およびそれに続く焼き付けを1サイ
クルで行わずに多数回繰り返すのは、被覆層の厚みの均
一化、焼き付けの均一化、密着を確実にするためであり
、また最後にパラフィンなどで表面処理するのは、爾後
の巻き取り工程以降の工程を円滑にするためである。
クルで行わずに多数回繰り返すのは、被覆層の厚みの均
一化、焼き付けの均一化、密着を確実にするためであり
、また最後にパラフィンなどで表面処理するのは、爾後
の巻き取り工程以降の工程を円滑にするためである。
発明が解決しようとする問題点
通常1被覆金属線は自然色のほかに、赤、緑、青、若葉
色などに着色されたものが要求されるので1色変えを行
うときは、前の着色塗料を次の着色塗料と交換すると共
に、塗装郡全体の洗浄を十分に行わなければならないが
、塗料槽、ストックタンク、それらの間をつなぐ配管、
塗布具、塗布補助具の全てを多量の溶剤を用いて洗浄し
なけらばならないため、洗浄作業には多大の労力と時間
を要する上、これらの機器類に付着した塗料および洗浄
に要する溶剤のロスも相当の量になり(洗浄排液は高粘
度で他の目的に使えないため、通常は焼却処理する)、
それにも増して約6時間程度はかかるその切り換え作業
中は生産がストップすることの負担は大きく、さらには
再開後定常状態に至る間は被覆金属線がロス己なるとい
う問題があった。
色などに着色されたものが要求されるので1色変えを行
うときは、前の着色塗料を次の着色塗料と交換すると共
に、塗装郡全体の洗浄を十分に行わなければならないが
、塗料槽、ストックタンク、それらの間をつなぐ配管、
塗布具、塗布補助具の全てを多量の溶剤を用いて洗浄し
なけらばならないため、洗浄作業には多大の労力と時間
を要する上、これらの機器類に付着した塗料および洗浄
に要する溶剤のロスも相当の量になり(洗浄排液は高粘
度で他の目的に使えないため、通常は焼却処理する)、
それにも増して約6時間程度はかかるその切り換え作業
中は生産がストップすることの負担は大きく、さらには
再開後定常状態に至る間は被覆金属線がロス己なるとい
う問題があった。
色変えはこのように種々の不利を有するため、予め生産
計画を立てて色別の生産順序および生産量を最も効率的
に行えるように留意しているが、状況の変更などからあ
る色については生産過剰になったり、ある色については
不足が生じたりすることを免かれなかった。
計画を立てて色別の生産順序および生産量を最も効率的
に行えるように留意しているが、状況の変更などからあ
る色については生産過剰になったり、ある色については
不足が生じたりすることを免かれなかった。
また、上記のような焼き付は法により金属線に被覆を行
う場合に限らず、押し出し法やカバリング法により金属
線に被覆を行うときにも、同様の問題点があった。
う場合に限らず、押し出し法やカバリング法により金属
線に被覆を行うときにも、同様の問題点があった。
本発明は、このような従来の問題点を解決することを目
的になされたものである。
的になされたものである。
問題点を解決するための手段
本発明は、
「金属線を連続的に走行させながら被覆材により被覆を
施して被覆金属線を製造する方法であって、予め非着色
の被覆材により被覆を行った被覆金属線に、少量のフッ
素系化合物を含む着色紫外線硬化性樹脂液を塗布し、つ
いで紫外線を照射することを特徴とする着色被覆金属線
の製造法、」をその要旨とするものであり、これにより
、上記のような従来の問題点を一挙に解決するに至った
。
施して被覆金属線を製造する方法であって、予め非着色
の被覆材により被覆を行った被覆金属線に、少量のフッ
素系化合物を含む着色紫外線硬化性樹脂液を塗布し、つ
いで紫外線を照射することを特徴とする着色被覆金属線
の製造法、」をその要旨とするものであり、これにより
、上記のような従来の問題点を一挙に解決するに至った
。
衣発明において金属線としては、銅、銅合金(銀入り銅
、クロム銅、ジルコニウム銅、スズ入り5−5銅被鋼等
)、アルミニウム、アルミニウム合金(イ号アルミ合金
、耐熱アルミ合金等)、アルミ覆鋼線、各種メッキ線な
どがあげられる。
、クロム銅、ジルコニウム銅、スズ入り5−5銅被鋼等
)、アルミニウム、アルミニウム合金(イ号アルミ合金
、耐熱アルミ合金等)、アルミ覆鋼線、各種メッキ線な
どがあげられる。
これらの金属線には、絶縁または保護のために被覆材に
よる被覆がなされる。被覆方法としては、焼き付は法、
押し出し法、カバリング法などがあげられ、特に焼き付
は法が重要である。
よる被覆がなされる。被覆方法としては、焼き付は法、
押し出し法、カバリング法などがあげられ、特に焼き付
は法が重要である。
本発明においては、これらの金属線を予め非着色の被覆
材で被覆したものを準備する。非着色の被覆材とは、顔
料や染料を事実上配合しない被覆材を言い、たとえば次
のようなものが用いられる。
材で被覆したものを準備する。非着色の被覆材とは、顔
料や染料を事実上配合しない被覆材を言い、たとえば次
のようなものが用いられる。
まず焼き付は法に使用される被覆材としては、エナメル
塗料、すなわち、植物油変性アルキッド樹脂に熱硬化性
樹脂を配合した油性エナメル、ポリビニルホルマール樹
脂にフェノール樹脂、ポリイソシアネート樹脂、エポキ
シ樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹脂あるいはこれら
の変性物などを配合したホルマール、66ナイロンなど
のナイロンエナメル、ポリエステルエナメル、ポリエス
テルイミドエナメル、ポリウレタンエナメル、ポリアミ
ドイミドエナメル、ポリイミドエナメルなどが例示でき
る。
塗料、すなわち、植物油変性アルキッド樹脂に熱硬化性
樹脂を配合した油性エナメル、ポリビニルホルマール樹
脂にフェノール樹脂、ポリイソシアネート樹脂、エポキ
シ樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹脂あるいはこれら
の変性物などを配合したホルマール、66ナイロンなど
のナイロンエナメル、ポリエステルエナメル、ポリエス
テルイミドエナメル、ポリウレタンエナメル、ポリアミ
ドイミドエナメル、ポリイミドエナメルなどが例示でき
る。
押し出し法に使用される被覆材としては、天然ゴム、合
成ゴム(スチレンブタジェンゴム、ブチルゴム、EPゴ
ム、クロロスルホン化ポリエチレン、クロロプレンゴム
、ケイ素ゴム等)、合成樹脂(ポリ塩化ビニル、架橋ビ
ニル、ポリエチレン、架橋ポリエチレン、発泡ポリエチ
レン、ポリプロピレン、ナイロン等)などが例示できる
。
成ゴム(スチレンブタジェンゴム、ブチルゴム、EPゴ
ム、クロロスルホン化ポリエチレン、クロロプレンゴム
、ケイ素ゴム等)、合成樹脂(ポリ塩化ビニル、架橋ビ
ニル、ポリエチレン、架橋ポリエチレン、発泡ポリエチ
レン、ポリプロピレン、ナイロン等)などが例示できる
。
カバリング法に使用される被覆材としては、天然ゴム、
合成ゴムなどが例示できる。
合成ゴムなどが例示できる。
本発明においては、上記で準備された非着色被覆金属線
に、少量のフッ素系化合物を含む着色紫外線硬化性樹脂
液を塗布する。
に、少量のフッ素系化合物を含む着色紫外線硬化性樹脂
液を塗布する。
着色紫外線硬化性樹脂液としては、不飽和ポリエステル
、ポリエステルアクリレート、ポリオールアクリレート
、ウレタンアクリレート、エボキジアクリレート、シリ
コーンアクリレート、ポリブタジェンアクリレート、メ
ラミンアクリレート、ポリエン・ポリチオール系、スピ
ラン樹脂、エポキシΦルイス酸、アミノアルキッドなど
重合可能なオリゴマーを主剤とし、これに顔料または染
料および必要に応じて反応性希釈剤、光重合開始剤、レ
ベリング剤などの添加剤を配合したものが用いられる。
、ポリエステルアクリレート、ポリオールアクリレート
、ウレタンアクリレート、エボキジアクリレート、シリ
コーンアクリレート、ポリブタジェンアクリレート、メ
ラミンアクリレート、ポリエン・ポリチオール系、スピ
ラン樹脂、エポキシΦルイス酸、アミノアルキッドなど
重合可能なオリゴマーを主剤とし、これに顔料または染
料および必要に応じて反応性希釈剤、光重合開始剤、レ
ベリング剤などの添加剤を配合したものが用いられる。
ここで、顔料または染料としては、樹脂硬化の方法が紫
外線照射であるため、一般的な着色剤の中から耐紫外線
性の良好なものを選択し、また、樹脂液のもつ反応性二
重結合にラジカル発生をさせるおそれのあるフリーのア
ミン化合物や金属イオン類を含まない純度の高いものが
用いられ、そのいくつかを例示すれば、顔料として、フ
タロシアニン系、インダスロン系、アゾ系、カーボンブ
ラック、酸化チタン、炭酸カルシウム、タルクなと、染
料として、金属錯塩染料、アゾ系、アントラキノン系、
カーポニウム系の1=1または1:2クロム錯塩などが
あげられる。なお、このうち顔料は紫外線照射に際し硬
化不足を招くおそれがあるので、多量に配合することは
避けるべきである。
外線照射であるため、一般的な着色剤の中から耐紫外線
性の良好なものを選択し、また、樹脂液のもつ反応性二
重結合にラジカル発生をさせるおそれのあるフリーのア
ミン化合物や金属イオン類を含まない純度の高いものが
用いられ、そのいくつかを例示すれば、顔料として、フ
タロシアニン系、インダスロン系、アゾ系、カーボンブ
ラック、酸化チタン、炭酸カルシウム、タルクなと、染
料として、金属錯塩染料、アゾ系、アントラキノン系、
カーポニウム系の1=1または1:2クロム錯塩などが
あげられる。なお、このうち顔料は紫外線照射に際し硬
化不足を招くおそれがあるので、多量に配合することは
避けるべきである。
また、上記着色紫外線硬化性樹脂液には少量のフッ素系
化合物を配合する。フッ素系化合物の典型例としては、
テトラフルオロエチレンのホモポリマーまたはコポリマ
ー、フッ化ビニリデンのホモポリマーまたはコポリマー
、クロロトリフルオロエチレンのホモポリマーまたはコ
ポリマーなどのフッ素系樹脂があげられ、特にテトラフ
ルオロエチレンのホモポリマーとコポリマーとを適当な
比率で混合して用いることが好ましい。ここでコモノマ
ーとしては、オレフィン、含フツ素オレフィン、パーフ
ルオロオレフィン、フルオロアルキルビニルエーテルな
どが例示される。また、フッ素系樹脂と共にまたはフッ
素系樹脂に代えて、フッ素系化合物の訓導体やフッ素系
界面活性剤を用いることもできる。
化合物を配合する。フッ素系化合物の典型例としては、
テトラフルオロエチレンのホモポリマーまたはコポリマ
ー、フッ化ビニリデンのホモポリマーまたはコポリマー
、クロロトリフルオロエチレンのホモポリマーまたはコ
ポリマーなどのフッ素系樹脂があげられ、特にテトラフ
ルオロエチレンのホモポリマーとコポリマーとを適当な
比率で混合して用いることが好ましい。ここでコモノマ
ーとしては、オレフィン、含フツ素オレフィン、パーフ
ルオロオレフィン、フルオロアルキルビニルエーテルな
どが例示される。また、フッ素系樹脂と共にまたはフッ
素系樹脂に代えて、フッ素系化合物の訓導体やフッ素系
界面活性剤を用いることもできる。
これらのフッ素系化合物はそのままで、あるいは溶液ま
たは分散液などの形態で上記紫外線硬化性樹脂液に配合
される。フッ素斉化合物の配合量は、それが余りに少な
いと添加の効果が不足し、一方余りに多いと非着色被覆
金属線の被覆層に対する着色紫外線硬化性樹脂液の密着
性を損なうおそれがあるので、着色紫外線硬化性樹脂液
全体に対し0.001〜5重量%、特に0.01〜3重
量%の範囲から選択することが多い。
たは分散液などの形態で上記紫外線硬化性樹脂液に配合
される。フッ素斉化合物の配合量は、それが余りに少な
いと添加の効果が不足し、一方余りに多いと非着色被覆
金属線の被覆層に対する着色紫外線硬化性樹脂液の密着
性を損なうおそれがあるので、着色紫外線硬化性樹脂液
全体に対し0.001〜5重量%、特に0.01〜3重
量%の範囲から選択することが多い。
非着色被覆金属線に少量のフッ素系化合物を含む着色紫
外線硬化性樹脂液を塗布した後は、塗布層硬化のために
これに紫外線を照射する。紫外線光源としては、高圧水
銀灯、メタルハライドランプ、無電極放電管などが用い
られる。
外線硬化性樹脂液を塗布した後は、塗布層硬化のために
これに紫外線を照射する。紫外線光源としては、高圧水
銀灯、メタルハライドランプ、無電極放電管などが用い
られる。
紫外線照射により着色被覆金属線が取得されるが、より
完全な硬化を図るため、必要に応じ紫外線擲射工程の後
に加熱硬化工程を設けることも好、ましい。
完全な硬化を図るため、必要に応じ紫外線擲射工程の後
に加熱硬化工程を設けることも好、ましい。
そして本発明においては、もし必要なら、上記で得られ
た着色被覆金属線をさらにフッ素系化合物の液と接触さ
せて、着色被覆層にフッ素系化合物の含浸層を設けるこ
とが好ましい。フッ素系化合物としては一ヒ述のような
化合物があげられ、この化合物を溶液または分散液の状
態で使用する。
た着色被覆金属線をさらにフッ素系化合物の液と接触さ
せて、着色被覆層にフッ素系化合物の含浸層を設けるこ
とが好ましい。フッ素系化合物としては一ヒ述のような
化合物があげられ、この化合物を溶液または分散液の状
態で使用する。
このようにフッ素系化合物の含浸層を設けると、着色被
覆金属線の滑り性、耐熱性、防汚性が一段と向上し、巻
き取り工程、巻き直し工程など爾後の工程操作が容易と
なり、使用時の耐久性も向上する。
覆金属線の滑り性、耐熱性、防汚性が一段と向上し、巻
き取り工程、巻き直し工程など爾後の工程操作が容易と
なり、使用時の耐久性も向上する。
作 用
本発明において、紫外線硬化性樹脂液による被覆は、非
着色被覆金属線に着色を施す役割を果たし、この紫外線
硬化性樹脂液に添加したフッ素系化合物は、得られる着
色被覆金属線に主として滑り性を付与する作用を示す。
着色被覆金属線に着色を施す役割を果たし、この紫外線
硬化性樹脂液に添加したフッ素系化合物は、得られる着
色被覆金属線に主として滑り性を付与する作用を示す。
実 施 例
次に実施例をあげて、本発明をさらに詳細に説明する。
この実施例は1本発明の方法を着色エナメル線の製造に
適用した場合を示したものである。以下「部」とあるの
は重量部である。
適用した場合を示したものである。以下「部」とあるの
は重量部である。
第1図は、エナメル線製造工程の一例を示したフローシ
ートである。
ートである。
(1)はボビンで、硬銅線(A)が巻かれている。この
硬銅線(A)は焼鈍炉(2)を通過した後、軟銅1 (
B)となって、エナメル線塗装装置(3)に送られる。
硬銅線(A)は焼鈍炉(2)を通過した後、軟銅1 (
B)となって、エナメル線塗装装置(3)に送られる。
エナメルM塗装装置(3)は、塗装部(4)と焼き付は
炉(5)よりなり、軟銅線(B)は塗装部(4)でエナ
メル塗料を塗布された後、焼き付は炉(5)で焼き付け
られる。
炉(5)よりなり、軟銅線(B)は塗装部(4)でエナ
メル塗料を塗布された後、焼き付は炉(5)で焼き付け
られる。
(4a)は溝のついた塗布ロール、(4b)は塗布品の
均一化を図るためのフェルト、 (4c)は塗料槽、
(4d)はスト・ンクタンクであり、塗料槽(4c)と
ストックタンク(4d)との間は配管(4e)で連絡し
て、常時塗料をオーバーフローさせて塗料濃度を一定に
保っている。
均一化を図るためのフェルト、 (4c)は塗料槽、
(4d)はスト・ンクタンクであり、塗料槽(4c)と
ストックタンク(4d)との間は配管(4e)で連絡し
て、常時塗料をオーバーフローさせて塗料濃度を一定に
保っている。
(6)は駆動ロールであり、この駆動ロール(6)の駆
動により、ボビン(1)からの線条の繰り出し、焼鈍炉
(2)通過、塗布部(4)および焼き付は炉(5)間の
循環走行がなされる。
動により、ボビン(1)からの線条の繰り出し、焼鈍炉
(2)通過、塗布部(4)および焼き付は炉(5)間の
循環走行がなされる。
焼き付は炉(5)は通常パイプの形状をしており、酸化
防1トのため蒸気または不活性ガス(窒素など)を通す
。焼き付は温度は400〜450℃程度に設定すること
が多い。
防1トのため蒸気または不活性ガス(窒素など)を通す
。焼き付は温度は400〜450℃程度に設定すること
が多い。
このエナメル塗料塗布および焼き付けの工程を所定回数
繰り返した後、目的の厚みまで被覆された非着色エナメ
ル線(C)が巻取機(7)に巻き取られる。
繰り返した後、目的の厚みまで被覆された非着色エナメ
ル線(C)が巻取機(7)に巻き取られる。
ついで非着色エナメル線(C)は、巻取機(7)から繰
り出されて塗装部(8)に送られ、ここで着色紫外線硬
化性樹脂液を塗布される。なお、巻取機(7)を省略し
て、焼き付は工程終了後の非着色エナメル線(C)を直
接塗装部(8)に供給してもよい。
り出されて塗装部(8)に送られ、ここで着色紫外線硬
化性樹脂液を塗布される。なお、巻取機(7)を省略し
て、焼き付は工程終了後の非着色エナメル線(C)を直
接塗装部(8)に供給してもよい。
着色紫外線硬化性樹脂液塗布後は紫外線照射装置(9)
にて紫外線照射され、着色エナメル線(D)が製造され
る。この際エナメル線全体に紫外線が照射されるように
、紫外線照射装置(9)には2組の放物線状の反射鏡を
設置し、その第1焦点に紫外線ランプを位置させると共
に、その第2焦点を上記非着色エナメル線(C)が通過
するようにすることが望ましい。また、紫外線ランプ冷
却のためにブロワを付設することが望ましい。
にて紫外線照射され、着色エナメル線(D)が製造され
る。この際エナメル線全体に紫外線が照射されるように
、紫外線照射装置(9)には2組の放物線状の反射鏡を
設置し、その第1焦点に紫外線ランプを位置させると共
に、その第2焦点を上記非着色エナメル線(C)が通過
するようにすることが望ましい。また、紫外線ランプ冷
却のためにブロワを付設することが望ましい。
(10)は必要に応じて設ける加熱装置で、紫外線閤射
による硬化が不十分な場合に、硬化の完全を図る。
による硬化が不十分な場合に、硬化の完全を図る。
(11)は必要に応じて設けるフッ素系化合物含浸装置
であり、ここで着色エナメル線(D)にフッ素系化合物
を含浸、付着させる。(12)はこの含浸を行った場合
の乾燥装置であるが、自然乾燥でも差支えないので、フ
ッ素系化合物の含浸を行った場合でもこの乾燥装置(1
2)による乾燥工程を省略することができる。
であり、ここで着色エナメル線(D)にフッ素系化合物
を含浸、付着させる。(12)はこの含浸を行った場合
の乾燥装置であるが、自然乾燥でも差支えないので、フ
ッ素系化合物の含浸を行った場合でもこの乾燥装置(1
2)による乾燥工程を省略することができる。
上記各工程を経て製造された着色エナメル線(D)は、
最終的に巻取機(13)に巻き取られる。
最終的に巻取機(13)に巻き取られる。
」ユ記フローシートに従って、次の条件で着色エナメル
線の製造を行った。
線の製造を行った。
塗装部(4)におけるエナメル塗料
ウレタン系エナメル塗料、粘度0.5ボイズ/40”C
焼き付は炉(5)における焼き付は温度420 ℃
エナメル塗布−焼き付は工程繰り返し回数8回
塗装部(8)における紫外線硬化性樹脂液組成ウレタン
アクリレートオリゴマー 52部ベンゾフェノン (
光重合開始剤) 5部フェノキシエチルアクリレート (反応性希釈剤) 40部 バリファースカラーレッド$3304 1部(染料
) オルガノシランオリゴウレタンアクリレート
(レベリング剤) 1部ポリテトラフルオ
ロエチレン 0.5部テトラフルオロエチレンー
ヘキサフルオロプロピレンコボリマ−0,5部 紫外線ランプ種類 高圧水銀灯 加熱装置(10)における加熱条件 180℃、20秒 着色エナメル線(D)の線径 0.03 am フッ素系化合物含浸装置(11)による含浸工程および
乾燥装置(12)による乾燥工程省略 この結果、赤色に鮮明に着色されたエナメル線が得られ
た。この着色エナメル線の静摩擦係数は0.083と小
さく、従来のパラフィン処理エナメル線の静摩擦係数0
.075〜0.095に比しすぐれていた。
アクリレートオリゴマー 52部ベンゾフェノン (
光重合開始剤) 5部フェノキシエチルアクリレート (反応性希釈剤) 40部 バリファースカラーレッド$3304 1部(染料
) オルガノシランオリゴウレタンアクリレート
(レベリング剤) 1部ポリテトラフルオ
ロエチレン 0.5部テトラフルオロエチレンー
ヘキサフルオロプロピレンコボリマ−0,5部 紫外線ランプ種類 高圧水銀灯 加熱装置(10)における加熱条件 180℃、20秒 着色エナメル線(D)の線径 0.03 am フッ素系化合物含浸装置(11)による含浸工程および
乾燥装置(12)による乾燥工程省略 この結果、赤色に鮮明に着色されたエナメル線が得られ
た。この着色エナメル線の静摩擦係数は0.083と小
さく、従来のパラフィン処理エナメル線の静摩擦係数0
.075〜0.095に比しすぐれていた。
なお、加熱装置(10)による加熱工程後の着色エナメ
ル線(D)を、含浸装置(11)において、ポリテトラ
フルオロエチレンとツー2素系誘導体とを溶剤中に乳化
分散した処理液で含浸処理し、ついで乾燥装置(12)
で熱風乾燥したところ、着色エナメル線の静摩擦係数は
0.058となった。
ル線(D)を、含浸装置(11)において、ポリテトラ
フルオロエチレンとツー2素系誘導体とを溶剤中に乳化
分散した処理液で含浸処理し、ついで乾燥装置(12)
で熱風乾燥したところ、着色エナメル線の静摩擦係数は
0.058となった。
発明の効果
本発明においては、厳密な膜厚管理が要求されるために
構造が複雑なエナメル線塗装部については、非着色の被
覆金属線を製造するだけでよいので、色変えに要する作
業が一切省略される。代りに紫外線硬化性樹脂液塗布工
程で色変えを行うので、この段階での色変え作業が付加
されるが、着色紫外線硬化性樹脂液の塗布は単に着色を
図るためのものであるので、先のエナメル線塗装部のよ
うな厳密な膜厚調整は要せず、塗布部の構成が大幅に簡
略化でき、色変え時の生産ストップ時間はたとえば1時
間程度で済み、洗浄溶剤の使用量や作業工数も著減し、
従来色変えに6時間程度要していたことと比較すると、
著しく有利である。
構造が複雑なエナメル線塗装部については、非着色の被
覆金属線を製造するだけでよいので、色変えに要する作
業が一切省略される。代りに紫外線硬化性樹脂液塗布工
程で色変えを行うので、この段階での色変え作業が付加
されるが、着色紫外線硬化性樹脂液の塗布は単に着色を
図るためのものであるので、先のエナメル線塗装部のよ
うな厳密な膜厚調整は要せず、塗布部の構成が大幅に簡
略化でき、色変え時の生産ストップ時間はたとえば1時
間程度で済み、洗浄溶剤の使用量や作業工数も著減し、
従来色変えに6時間程度要していたことと比較すると、
著しく有利である。
また、予め非着色被覆金属線を多量に製造しておき、必
要な時点でそれを通出な色に着色することができるので
、生産計画の変更に即応できる。
要な時点でそれを通出な色に着色することができるので
、生産計画の変更に即応できる。
さらに、フッ素系化合物を含んでいるので5着色層の表
面は摩擦係数が小さく滑り性が良好で、従来必須であっ
たパラフィン処理工程も不要となり、得られる着色被覆
金属線の耐摩耗性、耐熱性、表面平滑性、防汚性も向上
する。また、フッ素系化合物を含むことにより、塗布機
器に付着した塗料の洗浄、除去が容易となる。
面は摩擦係数が小さく滑り性が良好で、従来必須であっ
たパラフィン処理工程も不要となり、得られる着色被覆
金属線の耐摩耗性、耐熱性、表面平滑性、防汚性も向上
する。また、フッ素系化合物を含むことにより、塗布機
器に付着した塗料の洗浄、除去が容易となる。
第1図は、エナメル線製造工程の一例を示したフローシ
ートである。
ートである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、金属線を連続的に走行させながら被覆材により被覆
を施して被覆金属線を製造する方法であって、予め非着
色の被覆材により被覆を行った被覆金属線に、少量のフ
ッ素系化合物を含む着色紫外線硬化性樹脂液を塗布し、
ついで紫外線を照射することを特徴とする着色被覆金属
線の製造法。 2、フッ素系化合物がフッ素系樹脂である特許請求の範
囲第1項記載の方法。 3、紫外線照射後の着色被覆金属線を、さらにフッ素系
化合物の液と接触させることを特徴とする特許請求の範
囲第1項記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2567085A JPS61185363A (ja) | 1985-02-12 | 1985-02-12 | 着色被覆金属線の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2567085A JPS61185363A (ja) | 1985-02-12 | 1985-02-12 | 着色被覆金属線の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61185363A true JPS61185363A (ja) | 1986-08-19 |
| JPH0238271B2 JPH0238271B2 (ja) | 1990-08-29 |
Family
ID=12172218
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2567085A Granted JPS61185363A (ja) | 1985-02-12 | 1985-02-12 | 着色被覆金属線の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61185363A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5904518A (en) * | 1988-11-09 | 1999-05-18 | Hitachi, Ltd. | Method of manufacturing a semiconductor IC device having single transistor type nonvolatile memory cells |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4935881A (ja) * | 1972-08-03 | 1974-04-03 | ||
| JPS55115474A (en) * | 1979-02-28 | 1980-09-05 | Nitto Electric Ind Co Ltd | Paint for protecting metal plate |
-
1985
- 1985-02-12 JP JP2567085A patent/JPS61185363A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4935881A (ja) * | 1972-08-03 | 1974-04-03 | ||
| JPS55115474A (en) * | 1979-02-28 | 1980-09-05 | Nitto Electric Ind Co Ltd | Paint for protecting metal plate |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5904518A (en) * | 1988-11-09 | 1999-05-18 | Hitachi, Ltd. | Method of manufacturing a semiconductor IC device having single transistor type nonvolatile memory cells |
| US6255690B1 (en) | 1988-11-09 | 2001-07-03 | Hitachi, Ltd. | Non-volatile semiconductor memory device |
| US6451643B2 (en) | 1988-11-09 | 2002-09-17 | Hitachi, Ltd. | Method of manufacturing a semiconductor device having non-volatile memory cell portion with single transistor type memory cells and peripheral portion with MISFETs |
| US6777282B2 (en) | 1988-11-09 | 2004-08-17 | Renesas Technology Corp. | Method of manufacturing a semiconductor memory device having a memory cell portion including MISFETs with a floating gate and a peripheral circuit portion with MISFETs |
| US6960501B2 (en) | 1988-11-09 | 2005-11-01 | Renesas Technology Corp. | Method of manufacturing a semiconductor memory device having a non-volatile memory cell portion with single misfet transistor type memory cells and a peripheral circuit portion with misfets |
| US7071050B2 (en) | 1988-11-09 | 2006-07-04 | Hitachi, Ltd. | Semiconductor integrated circuit device having single-element type non-volatile memory elements |
| US7399667B2 (en) | 1988-11-09 | 2008-07-15 | Renesas Technology Corp. | Method of manufacturing a semiconductor integrated circuit device having single-element type non-volatile memory elements |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0238271B2 (ja) | 1990-08-29 |
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