JPH10188587A - アナログメモリ用のプログラム可能な基準電圧源 - Google Patents
アナログメモリ用のプログラム可能な基準電圧源Info
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- JPH10188587A JPH10188587A JP26697097A JP26697097A JPH10188587A JP H10188587 A JPH10188587 A JP H10188587A JP 26697097 A JP26697097 A JP 26697097A JP 26697097 A JP26697097 A JP 26697097A JP H10188587 A JPH10188587 A JP H10188587A
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- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 210000000746 body region Anatomy 0.000 description 1
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C27/00—Electric analogue stores, e.g. for storing instantaneous values
- G11C27/005—Electric analogue stores, e.g. for storing instantaneous values with non-volatile charge storage, e.g. on floating gate or MNOS
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- Read Only Memory (AREA)
- Continuous-Control Power Sources That Use Transistors (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 高精度で短いアクセス時間でプログラム可能
な基準電圧を供給することができる基準電圧源を提供す
る。 【解決手段】 プログラム可能な基準電圧源の回路1
は、不揮発性のメモリセル2を有し、そのフローティン
グゲート領域3は、記憶されたしきい値を決定する電荷
を格納する。メモリセルのドレイン端子4は、定電圧で
バイアスされ、ソース端子14は、定電流の電源22
と、基準電位ライン6に接続される非反転入力端とメモ
リセル2のゲート端子8に接続される出力10とを有す
る第一の演算増幅器21の反転入力端とに接続される。
電源22により設定される電流をメモリセル2に流すこ
とができるゲート電圧として、メモリセルのしきい値を
規定することにより、第一の演算増幅器21の出力電圧
は、しきい値に等しくなり、アナログメモリにおいてプ
ログラム可能な基準として使用可能である。
な基準電圧を供給することができる基準電圧源を提供す
る。 【解決手段】 プログラム可能な基準電圧源の回路1
は、不揮発性のメモリセル2を有し、そのフローティン
グゲート領域3は、記憶されたしきい値を決定する電荷
を格納する。メモリセルのドレイン端子4は、定電圧で
バイアスされ、ソース端子14は、定電流の電源22
と、基準電位ライン6に接続される非反転入力端とメモ
リセル2のゲート端子8に接続される出力10とを有す
る第一の演算増幅器21の反転入力端とに接続される。
電源22により設定される電流をメモリセル2に流すこ
とができるゲート電圧として、メモリセルのしきい値を
規定することにより、第一の演算増幅器21の出力電圧
は、しきい値に等しくなり、アナログメモリにおいてプ
ログラム可能な基準として使用可能である。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、特にアナログメモ
リ用のプログラム可能な基準電圧源に関する。
リ用のプログラム可能な基準電圧源に関する。
【0002】
【従来の技術】公知のように、複雑な処理機能を行うた
めに、不揮発性のフローティングゲートセル、特に、記
憶される値がメモリセルのしきい値電圧に関連づけられ
ているフラッシュEEPROMセルに有利に使用可能で
あるため、複数ビットのアナログ値またはディジタル値
を記憶できるメモリセルを備えたアナログメモリが、最
近研究されている。メモリセルを読み出すためおよび/
または演算処理を行うために、多数の基準電圧が必要と
される。基準電圧は、メモリの使用に関して高度な柔軟
性を実現し、様々な用途、特に格納される様々なアナロ
グ値のために使用するメモリの設計の均一化を可能に
し、メモリの処理中でさえも実行される機能に応じて基
準電圧を変更することを可能にするために、プログラム
可能でなければならない。
めに、不揮発性のフローティングゲートセル、特に、記
憶される値がメモリセルのしきい値電圧に関連づけられ
ているフラッシュEEPROMセルに有利に使用可能で
あるため、複数ビットのアナログ値またはディジタル値
を記憶できるメモリセルを備えたアナログメモリが、最
近研究されている。メモリセルを読み出すためおよび/
または演算処理を行うために、多数の基準電圧が必要と
される。基準電圧は、メモリの使用に関して高度な柔軟
性を実現し、様々な用途、特に格納される様々なアナロ
グ値のために使用するメモリの設計の均一化を可能に
し、メモリの処理中でさえも実行される機能に応じて基
準電圧を変更することを可能にするために、プログラム
可能でなければならない。
【0003】米国特許第5,126,967号に開示さ
れている一つの公知な解決方法によれば、基準(および
データ)メモリセルは、サンプルホールド回路を介して
読み出される。しかし、この解決方法は、多数の電圧レ
ベルを記憶する時の読み出し時間を早くすることができ
ない。
れている一つの公知な解決方法によれば、基準(および
データ)メモリセルは、サンプルホールド回路を介して
読み出される。しかし、この解決方法は、多数の電圧レ
ベルを記憶する時の読み出し時間を早くすることができ
ない。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明の目的
は、高精度で短いアクセス時間でプログラム可能な基準
電圧を供給することができる基準電圧源を提供すること
にある。
は、高精度で短いアクセス時間でプログラム可能な基準
電圧を供給することができる基準電圧源を提供すること
にある。
【0005】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。
【0006】
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
下記の通りである。
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
下記の通りである。
【0007】すなわち、本発明は、請求項1に記載され
ているように、特にアナログメモリ用のプログラム可能
な基準電圧源を提供するものである。
ているように、特にアナログメモリ用のプログラム可能
な基準電圧源を提供するものである。
【0008】
【発明の実施の形態】以下、本発明の好適なこれらに限
定されない実施形態を添付図面を参照して例示的に説明
する。
定されない実施形態を添付図面を参照して例示的に説明
する。
【0009】全体を参照符号1で示す図1の回路におい
て、不揮発性のメモリセル2、すなわちフラッシュEE
PROMセルは、メモリセルのしきい値電圧Vthを規定
する電荷を格納する(概略的に図示する)フローティン
グゲート領域3と、第一の位置でドレイン端子4を電圧
Dr の基準電位ライン6に接続し、第二の位置で電圧V
PDの第一のプログラムライン7に接続するスイッチ5に
接続されているドレイン端子4と、第一の位置でゲート
端子8をノード10に接続し、第二の位置で電圧VPGの
第二のプログラムライン11に接続するスイッチ9に接
続されているゲート端子8と、第一の位置でソース端子
14をノード16に接続し、第二の位置でプログラムの
場合には0V(接地ライン)に等しい電圧VPSに接続す
るスイッチ15に接続されているソース端子14とで構
成されている。(図1に概略的にのみ図示されている)
スイッチ5,9,15の制御端子は、制御論理回路20
により制御されている。
て、不揮発性のメモリセル2、すなわちフラッシュEE
PROMセルは、メモリセルのしきい値電圧Vthを規定
する電荷を格納する(概略的に図示する)フローティン
グゲート領域3と、第一の位置でドレイン端子4を電圧
Dr の基準電位ライン6に接続し、第二の位置で電圧V
PDの第一のプログラムライン7に接続するスイッチ5に
接続されているドレイン端子4と、第一の位置でゲート
端子8をノード10に接続し、第二の位置で電圧VPGの
第二のプログラムライン11に接続するスイッチ9に接
続されているゲート端子8と、第一の位置でソース端子
14をノード16に接続し、第二の位置でプログラムの
場合には0V(接地ライン)に等しい電圧VPSに接続す
るスイッチ15に接続されているソース端子14とで構
成されている。(図1に概略的にのみ図示されている)
スイッチ5,9,15の制御端子は、制御論理回路20
により制御されている。
【0010】ノード16は、第一の演算増幅器21の反
転入力端と、電源22の端子の一つに接続されている。
第一の演算増幅器21は、(例えば接地)電圧Vr の基
準ライン24に接続されている非反転入力端と、電圧V
o のノード10に接続されている出力を有している。第
一の演算増幅器21の出力は、バッファとして作用する
(反転入力端は出力27に接続されている)第二の全帰
還演算増幅器26の非反転入力端に接続されている。電
流Is を発生させる電源22は、電圧Vr よりも低い電
圧Sr の基準ライン28に接続されている第二の端子を
有している。さらに、電圧Vr が0V(接地ライン)で
ある場合には、電圧Sr はマイナス、例えば−250m
Vである。
転入力端と、電源22の端子の一つに接続されている。
第一の演算増幅器21は、(例えば接地)電圧Vr の基
準ライン24に接続されている非反転入力端と、電圧V
o のノード10に接続されている出力を有している。第
一の演算増幅器21の出力は、バッファとして作用する
(反転入力端は出力27に接続されている)第二の全帰
還演算増幅器26の非反転入力端に接続されている。電
流Is を発生させる電源22は、電圧Vr よりも低い電
圧Sr の基準ライン28に接続されている第二の端子を
有している。さらに、電圧Vr が0V(接地ライン)で
ある場合には、電圧Sr はマイナス、例えば−250m
Vである。
【0011】図1の回路は、次のように作動する。ま
ず、スイッチ5,9,15が図示する位置にあると仮定
すると、メモリセル2に電源22により設定される電流
Is を流すことができる(接地電圧に対して測定され
る)ゲート電圧は、メモリセル2のしきい値VTHとして
規定される。
ず、スイッチ5,9,15が図示する位置にあると仮定
すると、メモリセル2に電源22により設定される電流
Is を流すことができる(接地電圧に対して測定され
る)ゲート電圧は、メモリセル2のしきい値VTHとして
規定される。
【0012】メモリセル2に流れる電流ID は、方程
式: ID = K(Vgs―Vth)2 ・・・(1) でほぼ表される。ここで、Kは、製造方法に応じた定数
であり、Vgsは、ゲートソース間電圧降下であり、Vth
は、メモリセルが(論理上ゼロ電流で)作動し始めるし
きい値電圧である。
式: ID = K(Vgs―Vth)2 ・・・(1) でほぼ表される。ここで、Kは、製造方法に応じた定数
であり、Vgsは、ゲートソース間電圧降下であり、Vth
は、メモリセルが(論理上ゼロ電流で)作動し始めるし
きい値電圧である。
【0013】図示する回路において、メモリセルの電流
ID は、電源22により設定される電流Is に等しくな
ければならないため(ID =Is )、メモリセルのオー
バードライブ電圧Vov=Vgs―Vthが固定される。さら
に、Vr =0Vで平衡である場合には、第一の演算増幅
器21のクローズドループ接続により設定される、メモ
リセルのソース端子14の電圧Vsもまたゼロであり、
接地電圧に対して測定されるメモリセル2のゲート電圧
に等しい第一の演算増幅器21の出力電圧Voは、メモ
リセルの電圧降下Vgsに等しくなる。すなわち、メモリ
セルのしきい値電圧Vthプラス(1)で決定されるオー
バードライブ電圧Vov、すなわち、 Vo =Vov+Vth であり、その結果、しきい値VTHの上述の定義により、
Vo =VTHとなる。
ID は、電源22により設定される電流Is に等しくな
ければならないため(ID =Is )、メモリセルのオー
バードライブ電圧Vov=Vgs―Vthが固定される。さら
に、Vr =0Vで平衡である場合には、第一の演算増幅
器21のクローズドループ接続により設定される、メモ
リセルのソース端子14の電圧Vsもまたゼロであり、
接地電圧に対して測定されるメモリセル2のゲート電圧
に等しい第一の演算増幅器21の出力電圧Voは、メモ
リセルの電圧降下Vgsに等しくなる。すなわち、メモリ
セルのしきい値電圧Vthプラス(1)で決定されるオー
バードライブ電圧Vov、すなわち、 Vo =Vov+Vth であり、その結果、しきい値VTHの上述の定義により、
Vo =VTHとなる。
【0014】第二の全帰還演算増幅器26は、出力27
に電圧Vo を供給し、早い抵抗型負荷/容量性負荷でさ
え駆動することでき、出力27は、メモリセル2のフロ
ーティングゲート領域3で格納される電荷量を変えるこ
とにより設定および修正可能である、メモリセルのプロ
グラムされたしきい値VTHに等しい値のアナログ電圧を
示す。
に電圧Vo を供給し、早い抵抗型負荷/容量性負荷でさ
え駆動することでき、出力27は、メモリセル2のフロ
ーティングゲート領域3で格納される電荷量を変えるこ
とにより設定および修正可能である、メモリセルのプロ
グラムされたしきい値VTHに等しい値のアナログ電圧を
示す。
【0015】メモリセル2のプログラムは、スイッチ
5,9,15の位置を制御することによりプログラムパ
ルス期間を決定し、プログラムがいつ中断されるべきか
を決定する制御論理回路20により制御される。さら
に、メモリセル2をプログラムするために、制御論理回
路20は、ドレイン端子と、ゲート端子と、ソース端
子、5,8,14をそれぞれプログラムライン7と、プ
ログラムライン11と、(接地)電圧VPSに所定の時間
間隔で接続する。それから、スイッチ5,9,15を図
1に示す位置に切り替え、(図1に図示するように)ノ
ード10または出力27でメモリセル2に格納されたV
o を読み出し、プログラム処理を終了すべきかどうか、
またはスイッチ5,9,15を再び切り替えることによ
り、さらに次のプログラム工程を行うべきかをどうかを
決定するために、所定のプログラム値と比較する。
5,9,15の位置を制御することによりプログラムパ
ルス期間を決定し、プログラムがいつ中断されるべきか
を決定する制御論理回路20により制御される。さら
に、メモリセル2をプログラムするために、制御論理回
路20は、ドレイン端子と、ゲート端子と、ソース端
子、5,8,14をそれぞれプログラムライン7と、プ
ログラムライン11と、(接地)電圧VPSに所定の時間
間隔で接続する。それから、スイッチ5,9,15を図
1に示す位置に切り替え、(図1に図示するように)ノ
ード10または出力27でメモリセル2に格納されたV
o を読み出し、プログラム処理を終了すべきかどうか、
またはスイッチ5,9,15を再び切り替えることによ
り、さらに次のプログラム工程を行うべきかをどうかを
決定するために、所定のプログラム値と比較する。
【0016】図2において、多数の入力値を有するベク
トルと多数の記憶値を有するベクトルとの間の距離を計
算するためのアナログメモリにおいて、本発明による基
準電圧源が使用されている実施形態が図示されており、
その全体的な構造は、当業者にとって公知のものである
(例えば、A.Kramer、R.Canegall
o、M.Chinosi、D.Doise、G.Goz
zini、P.L.Rolandi、M.Sabati
ni、P.Zabberoniによる“フラッシュEE
PROMベースのプログラム可能なコンデンサを使用す
る超低電力アナログ連想メモリコア”、ISLPD‘9
5 シンポジウム会報、第203〜208頁を参照せ
よ)。
トルと多数の記憶値を有するベクトルとの間の距離を計
算するためのアナログメモリにおいて、本発明による基
準電圧源が使用されている実施形態が図示されており、
その全体的な構造は、当業者にとって公知のものである
(例えば、A.Kramer、R.Canegall
o、M.Chinosi、D.Doise、G.Goz
zini、P.L.Rolandi、M.Sabati
ni、P.Zabberoniによる“フラッシュEE
PROMベースのプログラム可能なコンデンサを使用す
る超低電力アナログ連想メモリコア”、ISLPD‘9
5 シンポジウム会報、第203〜208頁を参照せ
よ)。
【0017】ユークリッド距離を計算するために設けら
れている図2の配置において、多数の回路1を有する基
準配列30が示されている。回路1はそれぞれ、異なる
しきい値をそれぞれが記憶するメモリセル2を有してお
り、好ましくないソフトライティング現象を防止するた
めに、メモリセル2のゲート端子に接続されている(こ
こでは9’で示す)スイッチが、(一度にプログラムさ
れるひとつのメモリセルだけを)プログラムのためでは
なくメモリセルのゲート端子を接地するための第三の位
置を有していること以外は、図1に図示するように形成
されている。
れている図2の配置において、多数の回路1を有する基
準配列30が示されている。回路1はそれぞれ、異なる
しきい値をそれぞれが記憶するメモリセル2を有してお
り、好ましくないソフトライティング現象を防止するた
めに、メモリセル2のゲート端子に接続されている(こ
こでは9’で示す)スイッチが、(一度にプログラムさ
れるひとつのメモリセルだけを)プログラムのためでは
なくメモリセルのゲート端子を接地するための第三の位
置を有していること以外は、図1に図示するように形成
されている。
【0018】(例えば、同時に出願され、“アナログま
たはディジタル連想メモリ用の入力構造”なる名称の同
時係属特許出願に開示されているように)記憶された異
なるしきい値VTHに等しい電圧V1 ,V2 ,…,Vn を
供給する回路1の出力は、いずれの型のスイッチ配列3
1にも供給される。(図2には図示していない)制御論
理回路20により発生される制御信号Tに基づいて、ス
イッチ配列31は、一つ以上のノード27をメモリセル
2と同じ型のフラッシュメモリセル35を有するメモリ
配列34の一つ以上のワード線33に接続する。
たはディジタル連想メモリ用の入力構造”なる名称の同
時係属特許出願に開示されているように)記憶された異
なるしきい値VTHに等しい電圧V1 ,V2 ,…,Vn を
供給する回路1の出力は、いずれの型のスイッチ配列3
1にも供給される。(図2には図示していない)制御論
理回路20により発生される制御信号Tに基づいて、ス
イッチ配列31は、一つ以上のノード27をメモリセル
2と同じ型のフラッシュメモリセル35を有するメモリ
配列34の一つ以上のワード線33に接続する。
【0019】さらに、メモリセル35は、行および列に
配置されており、同じ列のメモリセルは、同じワード線
33に接続されているゲート端子を有しており、加算ノ
ード36に共に接続されているすべてのドレイン端子
と、共に接地されているすべてのソース端子と、(図示
していない公知な方法、例えば抵抗体を介してフィード
バックされる演算増幅器により形成される)加算ノード
36は、公知の“Winner−take−all”回
路38に接続され、次に出力のデコーダ回路39に接続
されている。
配置されており、同じ列のメモリセルは、同じワード線
33に接続されているゲート端子を有しており、加算ノ
ード36に共に接続されているすべてのドレイン端子
と、共に接地されているすべてのソース端子と、(図示
していない公知な方法、例えば抵抗体を介してフィード
バックされる演算増幅器により形成される)加算ノード
36は、公知の“Winner−take−all”回
路38に接続され、次に出力のデコーダ回路39に接続
されている。
【0020】図2の装置において、ノード27の出力電
圧V1 〜Vn は、スイッチ配列31によりメモリセル3
5のゲート端子に選択的に供給され、ワード線33上に
供給されるベクトル値とメモリセル35に格納されてい
るベクトルとの差を決定し、加算ノード36は、同じ列
のすべてのメモリセル35に流れる電流を加算し、“W
inner−take−all”回路38は、加算ノー
ド36で最小値に対応する列を選択し、デコーダ回路3
9は、選択された列のディジタルデコーダを出力する。
圧V1 〜Vn は、スイッチ配列31によりメモリセル3
5のゲート端子に選択的に供給され、ワード線33上に
供給されるベクトル値とメモリセル35に格納されてい
るベクトルとの差を決定し、加算ノード36は、同じ列
のすべてのメモリセル35に流れる電流を加算し、“W
inner−take−all”回路38は、加算ノー
ド36で最小値に対応する列を選択し、デコーダ回路3
9は、選択された列のディジタルデコーダを出力する。
【0021】上述した回路の有利点は、次のとおりであ
る。特に、基準電圧源を使用するアナログ回路と同じテ
クノロジーを使用して形成される簡単な一体構造を用い
て、特別な用途によりプログラム可能なアナログ基準が
設けられ、メモリセルのしきい値電圧がプログラム可能
なことにより、出力基準を自由に繰り返し修正すること
ができる。
る。特に、基準電圧源を使用するアナログ回路と同じテ
クノロジーを使用して形成される簡単な一体構造を用い
て、特別な用途によりプログラム可能なアナログ基準が
設けられ、メモリセルのしきい値電圧がプログラム可能
なことにより、出力基準を自由に繰り返し修正すること
ができる。
【0022】さらに、出力電圧が、回路メモリセルと同
じ型のメモリセルのための基準として使用される場合、
供給される電圧は、温度補償されている。すなわち、温
度により変化したメモリセル2のしきい値電圧Vthは、
第一の演算増幅器21および第二の全帰還演算増幅器2
6を介して、読み出されるメモリセル(図2の35)に
与えられる。しかしながら、これらは、しきい値電圧に
おいても同じ変化を示すため、オーバードライブは略一
定のままである。さらに、Vt がしきい値電圧であり、
Vi がi番目のメモリセル35のゲートソース間電圧で
あるとすると、そのオーバードライブ電圧はVov=Vi
―Vt となる。メモリセル35のしきい値Vt が、温度
の変化によりΔV増加すると(Vt'=Vt +ΔV)、メ
モリセル2のしきい値VthもまたΔV増加する。メモリ
セル2のオーバードライブ電圧は、電流Is により固定
されているため、メモリセル35のゲート端子に付与さ
れる回路1への出力電圧は、同じ量だけ増大し、すなわ
ち、Vi ’=Vi +ΔV、メモリセル35のオーバード
ライブ電圧Vov’は、 Vov’=Vi'―Vt'=Vi +ΔV―(Vt +ΔV) =Vi ―Vt =Vov のように表される。
じ型のメモリセルのための基準として使用される場合、
供給される電圧は、温度補償されている。すなわち、温
度により変化したメモリセル2のしきい値電圧Vthは、
第一の演算増幅器21および第二の全帰還演算増幅器2
6を介して、読み出されるメモリセル(図2の35)に
与えられる。しかしながら、これらは、しきい値電圧に
おいても同じ変化を示すため、オーバードライブは略一
定のままである。さらに、Vt がしきい値電圧であり、
Vi がi番目のメモリセル35のゲートソース間電圧で
あるとすると、そのオーバードライブ電圧はVov=Vi
―Vt となる。メモリセル35のしきい値Vt が、温度
の変化によりΔV増加すると(Vt'=Vt +ΔV)、メ
モリセル2のしきい値VthもまたΔV増加する。メモリ
セル2のオーバードライブ電圧は、電流Is により固定
されているため、メモリセル35のゲート端子に付与さ
れる回路1への出力電圧は、同じ量だけ増大し、すなわ
ち、Vi ’=Vi +ΔV、メモリセル35のオーバード
ライブ電圧Vov’は、 Vov’=Vi'―Vt'=Vi +ΔV―(Vt +ΔV) =Vi ―Vt =Vov のように表される。
【0023】上述した回路は、高精度であり、偏流によ
り精度が損なわれると、所定レベルの精度を維持するた
めに容易にプログラムは作り直される。さらに、消耗
は、(ほぼμA程度で)低く、回路はまた低電力(例え
ば携帯用の)電子装置に使用される構成とすることもで
きる。
り精度が損なわれると、所定レベルの精度を維持するた
めに容易にプログラムは作り直される。さらに、消耗
は、(ほぼμA程度で)低く、回路はまた低電力(例え
ば携帯用の)電子装置に使用される構成とすることもで
きる。
【0024】メモリセル2は、適切に端子をバイアスす
ることにより、図1に図示するのと同じ形状を使用して
プログラムおよび消去される構成とすることもできる。
ることにより、図1に図示するのと同じ形状を使用して
プログラムおよび消去される構成とすることもできる。
【0025】以上、本発明者によってなされた発明を実
施形態に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施
形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない
範囲で種々変更可能であることは言うまでもない。
施形態に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施
形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない
範囲で種々変更可能であることは言うまでもない。
【0026】例えば、メモリセルのドレイン端子のバイ
アス値は、必要に応じて選択可能であり、第一の演算増
幅器21の不揮発性端子は、一定の電圧でバイアス可能
であり、一方、接地接続により(公知のように、メモリ
セルのしきい値がメモリセルのソースとボディー領域間
の電圧によっても決められる)ボディー効果を防止でき
る。本発明の要部を形成しているわけではないが、プロ
グラム処理およびプログラム回路を変更することは可能
である。電源は、いかなる公知の方法(例えば、MOS
トランジスタまたはカレントミラによって)でも形成可
能であり、回路は、オンチップのプログラム可能な基準
電圧を必要とするいかなる用途にも使用することができ
る。基準配列に関しては、一度に一つの基準電圧だけが
必要とされる場合には、多数の別体の回路1を形成する
のとは対照的に、一つの演算増幅器21と適切なスイッ
チ装置を備えたそのバッファ26を使用して、メモリセ
ル2を2倍にする必要があるだけである。
アス値は、必要に応じて選択可能であり、第一の演算増
幅器21の不揮発性端子は、一定の電圧でバイアス可能
であり、一方、接地接続により(公知のように、メモリ
セルのしきい値がメモリセルのソースとボディー領域間
の電圧によっても決められる)ボディー効果を防止でき
る。本発明の要部を形成しているわけではないが、プロ
グラム処理およびプログラム回路を変更することは可能
である。電源は、いかなる公知の方法(例えば、MOS
トランジスタまたはカレントミラによって)でも形成可
能であり、回路は、オンチップのプログラム可能な基準
電圧を必要とするいかなる用途にも使用することができ
る。基準配列に関しては、一度に一つの基準電圧だけが
必要とされる場合には、多数の別体の回路1を形成する
のとは対照的に、一つの演算増幅器21と適切なスイッ
チ装置を備えたそのバッファ26を使用して、メモリセ
ル2を2倍にする必要があるだけである。
【0027】
【発明の効果】本願において開示される発明のうち、代
表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、
下記の通りである。
表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、
下記の通りである。
【0028】すなわち、本発明のアナログメモリ用のプ
ログラム可能な基準電圧源は、メモリセルで記憶された
しきい値を決定する電荷を格納するフローティングゲー
ト領域と、ドレイン端子と、ゲート端子と、ソース端子
とを有する不揮発性のメモリセルと、前記メモリセルの
前記ドレイン端子および前記ソース端子をバイアスする
第一および第二のバイアス手段と、前記メモリセルの前
記ゲート端子および前記ソース端子に接続される、前記
しきい値を読み出すための読出し手段とで構成されるの
で、高精度で短いアクセス時間でプログラム可能な基準
電圧を供給することができる。
ログラム可能な基準電圧源は、メモリセルで記憶された
しきい値を決定する電荷を格納するフローティングゲー
ト領域と、ドレイン端子と、ゲート端子と、ソース端子
とを有する不揮発性のメモリセルと、前記メモリセルの
前記ドレイン端子および前記ソース端子をバイアスする
第一および第二のバイアス手段と、前記メモリセルの前
記ゲート端子および前記ソース端子に接続される、前記
しきい値を読み出すための読出し手段とで構成されるの
で、高精度で短いアクセス時間でプログラム可能な基準
電圧を供給することができる。
【図1】本発明による基準電圧源の簡略化した電気回路
図である。
図である。
【図2】本発明による基準電圧源のアナログメモリにお
ける可能な応用の一つを示す図である。
ける可能な応用の一つを示す図である。
1 回路 2 メモリセル 3 フローティングゲート領域 4 ドレイン端子 6 基準電位ライン 8 ゲート端子 10 出力 14 ソース端子 21 第一の演算増幅器 22 電源 26 第二の全帰還演算増幅器
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ロベルト・カネガルロ イタリア国、15057 トルトーナ、コル ソ・ドン・オリオーネ、11 (72)発明者 カウロ・キノスィ イタリア国、20090 コロジーノ・モンツ ェーゼ、ヴィア・チロ・メノッティ、8 (72)発明者 ジョバンニ・ゴッヅィーニ イタリア国、25036 パラツォーロ・スロ グリオ、ヴィア・ベドゥラ、11/D (72)発明者 ピェール・ルイジ・ローランディ イタリア国、15059 ヴォルペドゥ、ヴィ ア・ポッツォール・グロッポ、5b (72)発明者 マルコ・サバティーニ イタリア国、25100 ブレスチア、ヴィ ア・カレッペ、7
Claims (8)
- 【請求項1】 アナログメモリ用のプログラム可能な基
準電圧源(1)であって、 メモリセルで記憶されたしきい値を決定する電荷を格納
するフローティングゲート領域(3)と、ドレイン端子
(4)と、ゲート端子(8)と、ソース端子(14)と
を有する不揮発性のメモリセル(2)と、 前記メモリセル(2)の前記ドレイン端子(4)および
前記ソース端子(14)をバイアスする第一のバイアス
手段(6)および第二のバイアス手段(22)と、 前記メモリセル(2)の前記ゲート端子(8)および前
記ソース端子(14)に接続される、前記しきい値を読
み出すための読出し手段(21,26)とから構成され
ることを特徴とするプログラム可能な基準電圧源。 - 【請求項2】 請求項1に記載のプログラム可能な基準
電圧源であって、 前記読出し手段は、第一および第二の入力と出力(1
0)とを有する第一の演算増幅器(21)で構成され、 前記第一のバイアス手段は、第一の定電圧ライン(6)
で構成され、 前記第 二のバイアス手段は、前記メモリセル(2)に
流れる電流(Is )を決定する定電流電源(22)で構
成され、そして、 前記第一の演算増幅器(21)の前記第一の入力は、ノ
ード(16)に接続され、そして前記メモリセル(2)
の前記ソース端子(14)に接続され、 前記第一の演算増幅器(21)の前記第二の入力は、第
二の定電圧ライン(24)に接続され、 前記第一の演算増幅器(21)の前記出力(10)は、
前記メモリセル(2)の前記ゲート端子(8)に接続さ
れていることを特徴とするプログラム可能な基準電圧
源。 - 【請求項3】 請求項1または2に記載のプログラム可
能な基準電圧源であって、前記メモリセル(2)が、フ
ラッシュEEPROMセルであることを特徴とするプロ
グラム可能な基準電圧源。 - 【請求項4】 請求項2または3に記載のプログラム可
能な基準電圧源であって、前記第一の演算増幅器(2
1)の前記第二の入力が、接地されていることを特徴と
するプログラム可能な基準電圧源。 - 【請求項5】 請求項2〜4のいずれか1項に記載のプ
ログラム可能な基準電圧源であって、前記定電流電源
(22)は、前記ノード(16)に接続される第一の端
子と、前記第二の定電圧ライン(24)に対して負電位
に設定される第三の定電圧ライン(28)に接続される
第二の端子とを有していることを特徴とするプログラム
可能な基準電圧源。 - 【請求項6】 請求項2〜5のいずれか1項に記載のプ
ログラム可能な基準電圧源であって、前記第一の演算増
幅器(21)の前記出力(10)に接続されるバッファ
要素(26)を特徴とするプログラム可能な基準電圧
源。 - 【請求項7】 請求項6に記載のプログラム可能な基準
電圧源であって、前記バッファ要素が、第二の全帰還演
算増幅器(26)を有していることを特徴とするプログ
ラム可能な基準電圧源。 - 【請求項8】 請求項2〜7のいずれか1項に記載のプ
ログラム可能な基準電圧源であって、 前記ドレイン端子(4)を前記第一の定電圧ライン
(6)または第一のプログラム電圧ライン(7)に選択
的に接続するための第一のスイッチ手段(5)と、 前記ゲート端子(8)を前記第一の演算増幅器(21)
の前記出力(10)または第二のプログラム電圧ライン
(11)に選択的に接続するための第二のスイッチ手段
(9;9’)と、 前記ソース端子(14)を前記ノード(16)または基
準電位ライン(Vps)に選択的に接続するための第三の
スイッチ手段(15)と、 前記第一、第二および第三のスイッチ手段の制御信号を
発生させる制御論理回路(20)とから構成されること
を特徴とするプログラム可能な基準電圧源。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP96830498A EP0833347B1 (en) | 1996-09-30 | 1996-09-30 | Programmable reference voltage source, particulary for analog memories |
| IT96830498.0 | 1996-09-30 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10188587A true JPH10188587A (ja) | 1998-07-21 |
Family
ID=8226019
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26697097A Pending JPH10188587A (ja) | 1996-09-30 | 1997-09-30 | アナログメモリ用のプログラム可能な基準電圧源 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5901085A (ja) |
| EP (1) | EP0833347B1 (ja) |
| JP (1) | JPH10188587A (ja) |
| DE (1) | DE69635660D1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6208198B1 (en) | 1998-10-27 | 2001-03-27 | Hyundai Electronics Industries Co., Ltd. | Drain voltage pumping circuit |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE60138432D1 (de) * | 2000-01-07 | 2009-06-04 | Nippon Telegraph & Telephone | Funktionsrekonfigurierbare Halbleitervorrichtung und integrierte Schaltung zum Konfigurieren der Halbleitervorrichtung |
| US6512685B1 (en) * | 2002-06-06 | 2003-01-28 | Integrated Device Technology, Inc. | CAM circuit with separate memory and logic operating voltages |
| US6970037B2 (en) * | 2003-09-05 | 2005-11-29 | Catalyst Semiconductor, Inc. | Programmable analog bias circuits using floating gate CMOS technology |
| US7149123B2 (en) * | 2004-04-06 | 2006-12-12 | Catalyst Semiconductor, Inc. | Non-volatile CMOS reference circuit |
| US8878511B2 (en) * | 2010-02-04 | 2014-11-04 | Semiconductor Components Industries, Llc | Current-mode programmable reference circuits and methods therefor |
| US8188785B2 (en) | 2010-02-04 | 2012-05-29 | Semiconductor Components Industries, Llc | Mixed-mode circuits and methods of producing a reference current and a reference voltage |
| US8680840B2 (en) * | 2010-02-11 | 2014-03-25 | Semiconductor Components Industries, Llc | Circuits and methods of producing a reference current or voltage |
| US8289784B2 (en) | 2010-06-15 | 2012-10-16 | International Business Machines Corporation | Setting a reference voltage in a memory controller trained to a memory device |
| US10006249B2 (en) | 2014-07-24 | 2018-06-26 | Schlumberger Technology Corporation | Inverted wellbore drilling motor |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4181980A (en) * | 1978-05-15 | 1980-01-01 | Electronic Arrays, Inc. | Acquisition and storage of analog signals |
| US4627027A (en) * | 1982-09-01 | 1986-12-02 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Analog storing and reproducing apparatus utilizing non-volatile memory elements |
| JPH0453096A (ja) * | 1990-06-19 | 1992-02-20 | Toshiba Corp | アナログ記憶装置 |
| US5039941A (en) * | 1990-07-27 | 1991-08-13 | Intel Corporation | Voltage threshold measuring circuit |
| US5126967A (en) | 1990-09-26 | 1992-06-30 | Information Storage Devices, Inc. | Writable distributed non-volatile analog reference system and method for analog signal recording and playback |
| US5388064A (en) * | 1991-11-26 | 1995-02-07 | Information Storage Devices, Inc. | Programmable non-volatile analog voltage source devices and methods |
| US5495453A (en) * | 1994-10-19 | 1996-02-27 | Intel Corporation | Low power voltage detector circuit including a flash memory cell |
-
1996
- 1996-09-30 EP EP96830498A patent/EP0833347B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1996-09-30 DE DE69635660T patent/DE69635660D1/de not_active Expired - Lifetime
-
1997
- 1997-09-30 US US08/941,880 patent/US5901085A/en not_active Expired - Lifetime
- 1997-09-30 JP JP26697097A patent/JPH10188587A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6208198B1 (en) | 1998-10-27 | 2001-03-27 | Hyundai Electronics Industries Co., Ltd. | Drain voltage pumping circuit |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5901085A (en) | 1999-05-04 |
| DE69635660D1 (de) | 2006-02-02 |
| EP0833347B1 (en) | 2005-12-28 |
| EP0833347A1 (en) | 1998-04-01 |
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