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JPH06139783A - Nonvolatile semiconductor memory device - Google Patents

Nonvolatile semiconductor memory device

Info

Publication number
JPH06139783A
JPH06139783A JP28744892A JP28744892A JPH06139783A JP H06139783 A JPH06139783 A JP H06139783A JP 28744892 A JP28744892 A JP 28744892A JP 28744892 A JP28744892 A JP 28744892A JP H06139783 A JPH06139783 A JP H06139783A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mtr
bit line
source
memory
rtr
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP28744892A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoshikazu Miyawaki
好和 宮脇
Yasushi Terada
康 寺田
Takeshi Nakayama
武志 中山
Tomoshi Futatsuya
知士 二ッ谷
Shinichi Kobayashi
真一 小林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP28744892A priority Critical patent/JPH06139783A/en
Publication of JPH06139783A publication Critical patent/JPH06139783A/en
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 配線領域を拡張することなくソースに寄生す
る抵抗を実質的に低減してソース線の電位上昇を抑制
し、読出し,書込み効率を向上させる。 【構成】 各ビット線BL1 〜BLn を接地電位に接続する
接地用トランジスタRTr1〜 RTrn と、奇数番目のビット
線BL1 ,BL3 〜BLn-1 に設けられた接地用トランジスタ
RTr1,RTr3〜RTr n-1 のゲートには奇数番目の列のビッ
ト線BL1 ,BL3〜BLn-1 を選択するアドレス信号の反転
信号を入力する手段と、偶数番目のビット線BL2 ,BL4
〜BLn に設けられた接地用トランジスタRTr2,RTr4〜 R
Trn のゲートには偶数番目の列のビット線BL2 , BL4
BLn を選択するアドレス信号の反転信号を入力する手段
とを備える。
(57) [Abstract] [Purpose] The resistance parasitic on the source is substantially reduced without expanding the wiring region to suppress the rise in the potential of the source line and improve the read / write efficiency. [Structure] Grounding transistors RTr 1 to RTr n connecting each bit line BL 1 to BL n to the ground potential, and grounding transistors provided on odd-numbered bit lines BL 1 and BL 3 to BL n-1
Gates of RTr 1 and RTr 3 to RTr n-1 have means for inputting an inverted signal of an address signal for selecting bit lines BL 1 and BL 3 to BL n-1 of odd-numbered columns and an even-numbered bit line. BL 2 , BL 4
~ Grounding transistors RTr 2 , RTr 4 ~ R provided in BL n
The gate of Tr n has bit lines BL 2 and BL 4 of even-numbered columns
Means for inputting an inverted signal of an address signal for selecting BL n .

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は情報を不揮発的に記憶す
るフローティングゲート型電界効果トランジスタのソー
ス抵抗を低減して、情報の読出し時におけるソース電位
の浮き上がりを防止し、確実な情報の読出し,書込みを
行えるようにした不揮発性半導体記憶装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention reduces the source resistance of a floating gate field effect transistor that stores information in a nonvolatile manner, prevents the source potential from rising when reading information, and ensures reliable reading of information. The present invention relates to a nonvolatile semiconductor memory device capable of writing.

【0002】[0002]

【従来の技術】情報を不揮発的に記憶する記憶素子とし
ては情報に応じた電荷を保持するフローティングゲート
を備えた電界効果トランジスタが一般に用いられてい
る。
2. Description of the Related Art As a storage element for storing information in a non-volatile manner, a field effect transistor having a floating gate for holding a charge according to the information is generally used.

【0003】図1は特願平1-137496号公報に開示された
従来のメモリセルアレイ部1及びこれに対する書込み,
読出しを行う回路の構成を示す回路図である。図1にお
いてメモリセルアレイ部1は情報を不揮発に記憶するた
めのフローティングゲートを有する電界効果トランジス
タからなる複数のメモリトランジスタMTr11〜 MTr1n
…,MTrm1〜 MTrmnをm行n列にマトリックス状に配列し
て構成されている。各行のメモリトランジスタ MTr11
MTr1n,…,MTrm1〜 MTrmnのコントロールゲートにはワ
ード線WL1 〜WLm を通じてXデコーダ3から対応するコ
ントロールゲート選択信号G1 〜Gm が与えられる。
FIG. 1 shows a conventional memory cell array portion 1 disclosed in Japanese Patent Application No. 1-137496 and writing to it.
It is a circuit diagram which shows the structure of the circuit which reads. In FIG. 1, a memory cell array unit 1 includes a plurality of memory transistors MTr 11 to MTr 1n , each of which is a field effect transistor having a floating gate for storing information in a nonvolatile manner.
..., MTr m1 to MTr mn are arranged in a matrix in m rows and n columns. Memory transistor MTr 11 ~ in each row
The control gates of MTr 1n , ..., MTr m1 to MTr mn are supplied with corresponding control gate selection signals G 1 to G m from the X decoder 3 through word lines WL 1 to WL m .

【0004】一方各列のメモリトランジスタ MTr11〜 M
Trm1、 MTr12〜 MTrm2、 MTr1n〜 MTrmnのドレインは夫
々列毎に夫々のビット線BL1 〜BLn に接続され、各メモ
リトランジスタ MTr11〜 MTrmnのソースは夫々行毎に共
通に接続して両端部で夫々ソース線S1 、S2 に接続さ
れている。
On the other hand, the memory transistors MTr 11 to M in each column
The drains of Tr m1 , MTr 12 to MTr m2 , MTr 1n to MTr mn are connected to the respective bit lines BL 1 to BL n in each column, and the source of each memory transistor MTr 11 to MTr mn is common to each row. To the source lines S 1 and S 2 at both ends.

【0005】各ビット線BL1 〜BLn 夫々の一端はYゲー
ト部2のYゲートトランジスタTr1〜Trn の各一つを介
在させてセンスアンプ,I/O バッファ等の回路6に接続
され、また他端は接地用トランジスタTr1 ′, Tr2 ′…
Trn ′を介在させて接地されている。Yゲートトランジ
スタTr1 〜Trn の各々のゲートにはYデコーダ4からY
ゲート選択信号Y1 〜Yn が夫々与えられ、また接地用
トランジスタTr1 ′,Tr2 ′, …, Trn ′の各ゲートに
は相補信号発生器7,Yデコーダ4からYゲート選択信
号Y1 〜Yn の相補信号である反転信号/Y1 ,/Y2
〜/Yn が夫々与えられるようになっている。
One end of each of the bit lines BL 1 to BL n is connected to a circuit 6 such as a sense amplifier and an I / O buffer via one of the Y gate transistors Tr 1 to Tr n of the Y gate section 2. , And the other end is a grounding transistor Tr 1 ′, Tr 2 ′ ...
It is grounded with a Tr n ′ interposed. The Y decoders 4 to Y are provided to the gates of the Y gate transistors Tr 1 to Tr n , respectively.
The gate selection signals Y 1 to Y n are applied to the respective gates of the transistors for grounding Tr 1 ′, Tr 2 ′, ..., Tr n ′ from the complementary signal generator 7 and the Y decoder 4 to the Y gate selection signal Y. 1 inverted signal / Y 1 which is a complementary signal of ~Y n, / Y 2
~ / Y n are given respectively.

【0006】Yデコーダ4は相補信号発生器7から入力
される内部列アドレス信号に応答して、Yゲート選択信
号Y1 〜Yn 及びその反転信号/Y1 〜/Yn を作成し
て、Yゲート選択信号Y1 , Y2 〜Yn はYゲートトラ
ンジスタTr1 〜Trn 夫々の、また反転信号/Y1 〜/Y
n は接地用トランジスタTr1 ′〜Trn ′夫々のゲートへ
印加するようになっている。その他図中Rはいずれもソ
ース拡散領域が有する抵抗を示している。
The Y decoder 4 responds to the internal column address signal input from the complementary signal generator 7 to generate Y gate selection signals Y 1 to Y n and their inverted signals / Y 1 to / Y n , The Y gate selection signals Y 1 and Y 2 to Y n are the inverted signals / Y 1 to / Y of the Y gate transistors Tr 1 to Tr n , respectively.
n is applied to the gates of the grounding transistors Tr 1 ′ to Tr n ′. In the other figures, R indicates the resistance of the source diffusion region.

【0007】与えられたYゲート選択信号Y1 〜Yn
一つがハイ(H)レベルである場合には、Yゲートトラ
ンジスタTr1 〜Trn のいずれか一つが導通状態となり、
1本のビット線BL1 〜BLn がYゲート部2を介してセン
スアンプ,I/O バッファ6 に接続され、また与えられた
反転信号/Y1 〜/Yn の一つがハイレベルである場合
には、接地用トランジスタTr1 ′〜Trn ′の一つが導通
状態となり、各1本のビット線BL1 〜BLn が接地される
こととなる。
When one of the applied Y gate selection signals Y 1 to Y n is at a high (H) level, one of the Y gate transistors Tr 1 to Tr n becomes conductive,
One bit line BL 1 to BL n is connected to the sense amplifier and I / O buffer 6 via the Y gate unit 2, and one of the applied inverted signals / Y 1 to / Y n is at high level. In this case, one of the grounding transistors Tr 1 ′ to Tr n ′ becomes conductive, and each one bit line BL 1 to BL n is grounded.

【0008】図2はYデコーダ4,相補信号発生器7の
詳細を示すブロック図であり、Yデコーダ4は各ビット
線BL1 〜BLn の数を対応する数の3入力のアンドゲート
4a〜4nを備えており、各入力端には相補信号発生器7を
通じてアドレス信号A0 ,A1 ,A2 及びインバータ7
a,7b,7cを介してその反転信号/A0 ,/A1 ,/A2
いずれかが入力され、また各出力端はYゲート部2のY
ゲートトランジスタTr1 〜Trn の各一つのゲートと接続
されている。各アンドゲート4a〜4nは入力されたアドレ
ス信号A0 ,A1 ,A2 及びその反転信号/A0 ,/A
1 ,/A2 に基づきYゲートトランジスタTr1 〜Trn
オンオフ制御するスイッチ機能を司るようになってい
る。
FIG. 2 is a block diagram showing the details of the Y decoder 4 and the complementary signal generator 7. The Y decoder 4 has a 3-input AND gate corresponding to the number of each bit line BL 1 to BL n.
4a to 4n, each of which has an address signal A 0 , A 1 , A 2 and an inverter 7 at its input end through a complementary signal generator 7.
One of the inverted signals / A 0 , / A 1 and / A 2 is input via a, 7b and 7c, and each output terminal is connected to the Y gate section 2 of Y
Each of the gate transistors Tr 1 to Tr n is connected to one gate. Each AND gate 4a~4n input address signals A 0, A 1, A 2 and its inverted signal / A 0, / A
1, so that the charge of the switch function for turning on and off the Y-gate transistors Tr 1 to Tr n based on the / A 2.

【0009】次にこのような従来の不揮発性半導体記憶
装置の動作を説明する。先ずメモリトランジスタ MTr11
に情報を書込む場合、即ちメモリトランジスタMTr11
フローティングゲートに電荷を注入する場合の動作につ
いて説明する。Xデコーダ3は外部アドレス信号に応答
してワード線WL1 を選択し、選択したワード線WL1 に書
込み高電圧VPPレベルのコントロールゲート選択信号G
1 を与える。これによって選択されたワード線WL1 に接
続されるメモリトランジスタ MTr11〜 MTr1nは全てオン
状態となる。
The operation of such a conventional nonvolatile semiconductor memory device will be described below. First, memory transistor MTr 11
The operation of writing information into the memory transistor, that is, the case of injecting charges into the floating gate of the memory transistor MTr 11 will be described. The X decoder 3 selects the word line WL 1 in response to the external address signal, and writes the selected word line WL 1 to the control gate selection signal G of the high voltage V PP level.
Provide one. As a result, all the memory transistors MTr 11 to MTr 1n connected to the selected word line WL 1 are turned on.

【0010】一方、Yデコーダ4は選択されたメモリト
ランジスタMTr11 と接続されるビット線BL1 を選択する
ために、内部列アドレス信号に応答してYゲート選択信
号Y1 を書込み高電圧VPP′レベルにする。これにより
YゲートトランジスタTr1 がオン状態となり、書込み回
路からの書込み高電圧VPP′が選択されたビット線BL1
に与えられる。ちなみにYゲートトランジスタTr1 はア
ドレス信号A0 がローレベル、即ち反転アドレス信号/
0 がハイレベルの時に選択され、逆の場合には選択さ
れない。
On the other hand, Y decoder 4 for selecting the bit lines BL 1 to is connected to the memory transistor MTr 11 selected, in response to the internal column address signals Y gate select signals Y 1 to write high voltage V PP 'Set to level. As a result, the Y gate transistor Tr 1 is turned on, and the write high voltage V PP ′ from the write circuit is selected to the selected bit line BL 1
Given to. Incidentally, the address signal A 0 of the Y gate transistor Tr 1 is low level, that is, the inverted address signal /
It is selected when A 0 is high level, and is not selected in the opposite case.

【0011】一方、これと同時的にYデコーダ4からY
ゲート選択信号の反転信号/Y1 〜/Yn が夫々接地用
トランジスタTr1 ′〜Trn ′の各々のゲートに印加され
る。例えばYゲート選択信号Y1 が高レベル、他のYゲ
ート選択信号Y2 〜Yn は低レベルにあるとすると、こ
れらの反転信号/Y1 〜/Yn のうち反転信号/Y1
みが低レベルになり、他の反転信号/Y2 〜/Yn は高
レベルになる。従って接地用トランジスタTr1 ′のみが
オフ状態、他の接地用トランジスタTr2 ′〜Trn ′はオ
ン状態となり、選択されたビット線BL1 を除く非選択の
ビット線BL2〜BLn は全て接地電位となる。
On the other hand, simultaneously with this, the Y decoders 4 to Y
The inverted signals / Y 1 to / Y n of the gate selection signal are applied to the gates of the grounding transistors Tr 1 ′ to Tr n ′, respectively. For example, assuming that the Y gate selection signal Y 1 is at a high level and the other Y gate selection signals Y 2 to Y n are at a low level, only the inversion signal / Y 1 among these inversion signals / Y 1 to / Y n. It goes low and the other inversion signals / Y 2 to / Y n go high. Therefore, only the grounding transistor Tr 1 ′ is turned off, the other grounding transistors Tr 2 ′ to Tr n ′ are turned on, and all the non-selected bit lines BL 2 to BL n except the selected bit line BL 1 are turned on. It becomes the ground potential.

【0012】この状態において例えばメモリトランジス
タ MTr12についてみると、メモリトランジスタ MTr12
コントロールゲート、即ちワード線WL1 には書込み高電
圧VPPレベルのコントロールゲート選択信号G1 が印加
され、メモリトランジスタ MTr12はオン状態となってお
り、ビット線BL2 はメモリトランジスタ MTr12のオン抵
抗を介してそのソースと接続された状態となっている。
[0012] As for the memory transistor MTr 12 for example in this state, the control gate of the memory transistor MTr 12, that is, the word line WL 1 control gate select signals G 1 of the write high voltage V PP level is applied, the memory transistors MTr 12 is in the ON state, and the bit line BL 2 is in the state of being connected to the source of the memory transistor MTr 12 via the ON resistance.

【0013】これによりメモリトランジスタ MTr12のソ
ースにはビット線BL2 の接地電位が伝達され、メモリト
ランジスタ MTr11についてみればソース線S1 とビット
線BL2 からなる2本のソース線がそのソース領域に対し
て設けられているのと略同一の状態となり、メモリトラ
ンジスタ MTr11のソース抵抗は約 0.5Rとなる。
As a result, the ground potential of the bit line BL 2 is transmitted to the source of the memory transistor MTr 12 , and regarding the memory transistor MTr 11 , the two source lines consisting of the source line S 1 and the bit line BL 2 are the source. The state is almost the same as that provided for the region, and the source resistance of the memory transistor MTr 11 is about 0.5R.

【0014】同様に、他のメモリトランジスタ MTr13
MTr1nのソース抵抗もすべて約 0.5Rとなり、同一のワ
ード線WL1 に接続される全てのメモリトランジスタ MTr
11〜MTr1nのソース抵抗は略同一となり、且つ各ソース
線S1 ,S2 は接地されているため、各メモリトランジ
スタ MTr12〜 MTr1nにおけるソース電位の浮き上がりが
大幅に低減されることとなる。
Similarly, the other memory transistors MTr 13 ...
Source resistances of MTr 1n are all about 0.5R, and all memory transistors MTr connected to the same word line WL 1
Since the source resistances of 11 to MTr 1n are substantially the same and the source lines S 1 and S 2 are grounded, the floating of the source potential in each of the memory transistors MTr 12 to MTr 1n is significantly reduced. .

【0015】これによって、今仮にメモリトランジスタ
8個おきにソース線S1 ,S2 が設けられている場合に
もソース線S1 ,S2 から離れて設けられたメモリトラ
ンジスタほどそのソース抵抗が高くなり、そのソース電
位が浮き上がるという現象が生じなくなり、各メモリト
ランジスタ MTr12〜 MTr1nのソース抵抗の値そのものも
従来の値よりも低い値に低減され、且つ均一化すること
ができ、各メモリトランジスタ MTr11〜 MTr1nにおける
閾値電圧の見かけ上の変化を防止することができ、各メ
モリトランジスタ MTr11〜 MTr1nに対し正確な書込みを
行うことが可能となる。
As a result, even if the source lines S 1 and S 2 are provided every eight memory transistors, the source resistance of the memory transistors provided farther from the source lines S 1 and S 2 is higher. The phenomenon that the source potential floats does not occur, and the source resistance value of each memory transistor MTr 12 to MTr 1n itself is reduced to a value lower than the conventional value and can be made uniform. MTr 11 can be prevented variation in apparent threshold voltage of ~ MTr 1n, it is possible to perform accurate writing to each memory transistors MTr 11 ~ MTr 1n.

【0016】次にメモリトランジスタからデータを読出
す場合について説明する。この場合においてもメモリト
ランジスタ MTr11に対して読出し動作を行う場合を一例
として説明する。読出し動作は従来と同様であり、Xデ
コーダ3から選択されたワード線WL1 に電源電位VCC
ベルのコントロールゲート選択信号G1 が伝達される。
また同様にしてYデコーダ4からのYゲート選択信号Y
1 も電源電位VCCレベルとなり、Yゲートトランジスタ
Tr1 がオン状態となる。
Next, the case of reading data from the memory transistor will be described. Even in this case, a case where the read operation is performed on the memory transistor MTr 11 will be described as an example. The read operation is the same as the conventional one, and the control gate selection signal G 1 at the power supply potential V CC level is transmitted from the X decoder 3 to the selected word line WL 1 .
Similarly, the Y gate selection signal Y from the Y decoder 4
1 also becomes power supply potential V CC level, and Y gate transistor
Tr 1 turns on.

【0017】また接地用トランジスタTr2 ′〜Trn ′が
反転信号/Y2 〜/Yn に応答してオン状態となり、非
選択のビット線BL2 〜BLn が接地電位に接続される。更
にセンスアンプ,入出力バッファI/O の回路から読出し
電位が選択されたビット線BL1 に伝達される。
The grounding transistors Tr 2 ′ to Tr n ′ are turned on in response to the inverted signals / Y 2 to / Y n , and the unselected bit lines BL 2 to BL n are connected to the ground potential. Further, the read potential is transmitted from the circuit of the sense amplifier and the input / output buffer I / O to the selected bit line BL 1 .

【0018】今ワード線WL1 に接続されるメモリトラン
ジスタ MTr11〜 MTr1nのうち、メモリトランジスタ MTr
11と同一のソース金属配線間に設けられたメモリトラン
ジスタのうちメモリトランジスタ MTr13が情報を書込ま
れていない、即ちフローティングゲートに電荷が蓄積さ
れておらず、情報“1”を記憶している場合を考える。
Of the memory transistors MTr 11 to MTr 1n connected to the word line WL 1 , the memory transistor MTr
Information is not written to the memory transistor MTr 13 among the memory transistors provided between the same source metal wirings as 11 ; that is, no electric charge is accumulated in the floating gate and information “1” is stored. Consider the case.

【0019】メモリトランジスタ MTr13はワード線WL1
に対するコントロールゲート選択信号G1 (電源電位V
CCレベル) に読出し電位が印加されているためオン状態
となり、このメモリトランジスタ MTr13と接続されるビ
ット線BL3 の接地電位がメモリトランジスタ MTr13のオ
ン抵抗を介してそのソースに伝達される。
The memory transistor MTr 13 is a word line WL 1
Control gate selection signal G 1 (power supply potential V
Since the read potential is applied to ( CC level), it is turned on, and the ground potential of the bit line BL 3 connected to this memory transistor MTr 13 is transmitted to its source via the on resistance of the memory transistor MTr 13 .

【0020】メモリトランジスタ MTr12がオフ状態、即
ち情報“1”を記憶している場合、メモリトランジスタ
MTr11のソース抵抗は約0.67R(1/R+1/2Rの逆
数) となり、今仮にメモリトランジスタ8個おきにソー
ス金属配線(ソース線S1 ,S2 )が設けられている場
合においてもそのソース抵抗の値は大幅に低減し得る。
これによりソース電位の浮き上がりを低減することがで
き、正確な情報の読出しが可能となる。
When the memory transistor MTr 12 is in the off state, that is, stores the information “1”, the memory transistor MTr 12
The source resistance of MTr 11 is about 0.67R (the reciprocal of 1 / R + 1 / 2R), and even if source metal wirings (source lines S 1 and S 2 ) are provided every 8 memory transistors, the source will be the same. The resistance value can be significantly reduced.
As a result, floating of the source potential can be reduced, and accurate information can be read.

【0021】通常メモリトランジスタ8個おきにソース
金属配線が設けられている構成において、8個連続して
すべてのメモリトランジスタがオフ状態、即ち情報
“0”を記憶する確率は殆どないと考えてよく、全ての
メモリトランジスタブロックにおいて、非選択のメモリ
トランジスタのうち少なくとも1つ、情報が書込まれて
いない状態、即ち情報“0”を記憶しているメモリトラ
ンジスタが存在すれば、そこにソース線が付加的に設け
られたことにより、ソース抵抗は低減し、各メモリトラ
ンジスタのソース電位の浮き上がりが低減される。
In the structure in which the source metal wiring is provided every eight memory transistors in general, it can be considered that there is almost no probability that all eight memory transistors are in the OFF state, that is, information "0" is stored. , In all memory transistor blocks, if at least one of the non-selected memory transistors is in a state where no information is written, that is, if there is a memory transistor storing information “0”, the source line is By being additionally provided, the source resistance is reduced and floating of the source potential of each memory transistor is reduced.

【0022】[0022]

【発明が解決しようとする課題】ところでこのような従
来装置にあってはYデコーダのYゲート選択信号Y1
n に加えてその反転信号である/Y1 〜/Yn を用い
るため、それによる配線領域が大きくなり、高集積化を
図る上で難点があった。本発明はかかる事情に鑑みなさ
れたものであって、その目的とするところはソース電位
の浮き上がりを防止して全てのメモリトランジスタに対
し均一な読出し、又は書込みを行うことが出来、しかも
配線領域の低減を図れるようにした不揮発性半導体記憶
装置を提供するにある。
By the way, in such a conventional device, the Y gate selection signals Y 1 to
Since the inverted signals / Y 1 to / Y n are used in addition to Y n , the wiring area is increased due to this and there is a difficulty in achieving high integration. The present invention has been made in view of such circumstances, and an object of the present invention is to prevent floating of the source potential and perform uniform reading or writing in all memory transistors, and further It is an object of the present invention to provide a nonvolatile semiconductor memory device that can be reduced.

【0023】[0023]

【課題を解決するための手段】第1の発明に係る不揮発
性半導体記憶装置は、複数のメモリセルが行方向,列方
向にアレイ配置され、各メモリセルはドレインがビット
線に、コントロールゲートがワード線に接続された構造
であって、前記複数のメモリセルの各々はデータ書込み
及びデータ消去の両方を電気的に行うことが可能な電界
効果半導体素子を含む不揮発性半導体装置において、前
記ビット線を各々接地電位に接続する手段と、前記奇数
番目の列のビット線に設けられた前記接続手段に奇数番
目の列を選択するアドレス信号の反転信号を入力する手
段と、前記偶数番目の列のビット線に設けられた前記接
続手段に偶数番目の列を選択するアドレス信号の反転信
号を入力する手段とを具備することを特徴とする。
According to a first aspect of the present invention, a nonvolatile semiconductor memory device has a plurality of memory cells arranged in an array in a row direction and a column direction, and each memory cell has a drain in a bit line and a control gate in a memory cell. A non-volatile semiconductor device having a structure connected to a word line, wherein each of the plurality of memory cells includes a field effect semiconductor element capable of electrically performing both data writing and data erasing, wherein the bit line Means for connecting each to a ground potential, means for inputting an inverted signal of an address signal for selecting an odd-numbered column to the connection means provided in the bit lines of the odd-numbered column, and a means for inputting the even-numbered column Means for inputting an inverted signal of an address signal for selecting an even-numbered column to the connection means provided in the bit line.

【0024】第2の発明に係る不揮発性半導体記憶装置
は、複数のメモリセルが行方向,列方向にアレイ配置さ
れ、各メモリセルはドレインがビット線に、コントロー
ルゲートがワード線に接続された構造であって、前記複
数のメモリセルの各々はデータ書込み及びデータ消去の
両方を電気的に行うことが可能な電界効果半導体素子を
含む不揮発性半導体装置において、前記ビット線を各々
ソース線に接続する手段と、前記奇数番目の列のビット
線に設けられた前記接続手段に奇数番目の列を選択する
アドレス信号の反転信号を入力する手段と、前記偶数番
目の列のビット線に設けられた前記接続手段に偶数番目
の列を選択するアドレス信号の反転信号を入力する手段
とを具備することを特徴とする。
In the non-volatile semiconductor memory device according to the second invention, a plurality of memory cells are arranged in an array in the row direction and the column direction, and in each memory cell, the drain is connected to a bit line and the control gate is connected to a word line. In the nonvolatile semiconductor device having a structure, each of the plurality of memory cells includes a field effect semiconductor element capable of electrically performing both data writing and data erasing, and connecting the bit line to each source line. Means for inputting an inverted signal of an address signal for selecting an odd-numbered column to the connection means provided on the bit line of the odd-numbered column, and means provided for the bit line of the even-numbered column Means for inputting an inverted signal of an address signal for selecting an even-numbered column to the connecting means.

【0025】[0025]

【作用】第1の本発明にあっては、ビット線を夫々接地
電位に接続する手段と、奇数番目の列のビット線に設け
られた前記接続手段に奇数番目の列を選択するアドレス
信号の反転信号を入力する手段と、偶数番目の列のビッ
ト線に設けられた前記接続手段に偶数番目の列を選択す
るアドレス信号の反転信号を入力する手段とを具備する
から、非選択のビット線であって、且つ接続手段が動作
状態にあるビット線は接地レベルとなり、ソース線の寄
生抵抗が実質的に低減されることとなる。
In the first aspect of the present invention, means for connecting the bit lines to the ground potential and means for connecting the address signals for selecting the odd-numbered columns to the connection means provided for the bit lines in the odd-numbered columns are provided. Since it has means for inputting an inverted signal and means for inputting an inverted signal of an address signal for selecting an even-numbered column to the connection means provided on the bit lines of an even-numbered column, a non-selected bit line The bit line in which the connecting means is in the operating state is at the ground level, and the parasitic resistance of the source line is substantially reduced.

【0026】第2の本発明にあっては、ビット線を夫々
ソース線に接続する手段と、奇数番目の列のビット線に
設けられた前記接続手段に奇数番目の列を選択するアド
レス信号の反転信号を入力する手段と、偶数番目の列の
ビット線に設けられた前記接続手段に偶数番目の列を選
択するアドレス信号の反転信号を入力する手段とを具備
するから、選択されたワード線に接続されている非選択
のメモリセルは勿論、接続手段もこれが動作することで
ビット線とソース線とを同電位とするよう機能し、ソー
ス線の寄生抵抗が一層低減され選択されたメモリセルの
ソース電位の電位上昇が抑制されることとなる。
In the second aspect of the present invention, means for connecting the bit lines to the source lines respectively and address signals for selecting the odd-numbered columns are connected to the connection means provided on the bit lines in the odd-numbered columns. The selected word line includes means for inputting an inverted signal and means for inputting an inverted signal of an address signal for selecting an even-numbered column to the connection means provided on the bit lines of the even-numbered column. In addition to the non-selected memory cell connected to the memory cell, the connection means also operates so that the bit line and the source line have the same potential by the operation thereof, and the parasitic resistance of the source line is further reduced to select the selected memory cell. Therefore, the rise in the source potential of is suppressed.

【0027】[0027]

【実施例】以下本発明をその実施例を示す図面に基づき
具体的に説明する。 (実施例1)図3は本発明に係る不揮発性半導体記憶装
置を示すブロック図であり、図中1はメモリセルアレ
イ、2はYゲート部、3はデコーダ、4はYデコーダ、
6はセンスアンプ,I/O バッファ等を含む回路を示して
いる。メモリセルアレイ1、Yゲート部2の構成は図1
に示す従来装置のそれと実質的に同じであり、対応する
部分には同じ番号を付してある。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be specifically described below with reference to the drawings showing the embodiments. (Embodiment 1) FIG. 3 is a block diagram showing a nonvolatile semiconductor memory device according to the present invention, in which 1 is a memory cell array, 2 is a Y gate section, 3 is a decoder, 4 is a Y decoder,
Reference numeral 6 indicates a circuit including a sense amplifier, an I / O buffer and the like. The configurations of the memory cell array 1 and the Y gate portion 2 are shown in FIG.
Substantially the same as that of the conventional device shown in FIG.

【0028】メモリセルアレイ1は、情報を不揮発に記
憶するためのフローティングゲートを有する電界効果ト
ランジスタからなるメモリトランジスタ MTr11〜 MT
r1n,…,MTrm1〜 MTrmnをm行及びn列のマトリックス
状に配列して構成されている。各行毎のメモリトランジ
スタ MTr11〜 MTr1n,…, MTrm1〜 MTrmnのコントロー
ルゲートにはワード線 WL1〜WLm を介してXデコーダ3
から対応するコントロールゲート選択信号G1 〜Gm
与えられる。
The memory cell array 1 includes memory transistors MTr 11 to MTr which are field effect transistors having a floating gate for storing information in a nonvolatile manner.
r 1n, ..., which are arranged to MTr m1 ~ MTr mn in a matrix of m rows and n columns. The memory transistors MTr 11 to MTr 1n , ..., MTr m1 to MTr mn in each row are connected to the control gates of the X decoder 3 via word lines WL 1 to WL m.
From the corresponding control gate selection signals G 1 to G m .

【0029】一方、各列毎のメモリトランジスタ MTr11
〜 MTrm1、… MTr12〜 MTrm2、 MTr1n〜 MTrmnのドレイ
ンは夫々列毎にビット線BL1 〜BLn に共通に接続され、
各メモリトランジスタMTr11 〜 MTrmnの各行毎のソース
は夫々n個ずつ共通に接続され、共通線の両端部をソー
ス線S1 ,S2 に接続されている。
On the other hand, the memory transistor MTr 11 for each column
~ MTr m1 , ... MTr 12 ~ MTr m2 , MTr 1n ~ MTr mn drains are commonly connected to bit lines BL 1 ~ BL n for each column,
The sources of the memory transistors MTr 11 to MTr mn in each row are commonly connected to n sources, and both ends of the common line are connected to the source lines S 1 and S 2 .

【0030】各ビット線BL1 〜BLn 夫々の一端はYゲー
ト部2のYゲートトランジスタTr1〜Trn の各一つを介
在させてセンスアンプ,I/O バッファ等の回路6を経て
図示しない回路に接続され、また他端はビット線リセッ
ト用トランジスタ RTr1 ,RTr2 … RTrn 群9を構成する
各一つのビット線リセット用トランジスタ RTr1 〜 RTr
n を介在させて接地されている。Yゲートトランジスタ
Tr1 〜Trn の各々のゲートには図2に示すのと同様のY
デコーダ4及び相補信号発生器7を通じてYゲート選択
信号Y1 〜Yn が夫々与えられる。
One end of each of the bit lines BL 1 to BL n is shown via a circuit 6 such as a sense amplifier and an I / O buffer with one of the Y gate transistors Tr 1 to Tr n of the Y gate section 2 interposed. Not connected to the circuit, and the other end is a bit line reset transistor RTr 1 , RTr 2 ... RTr n each one constituting a bit line reset transistor RTr 1 to RTr
It is grounded with n interposed. Y gate transistor
Each of the gates of Tr 1 to Tr n has the same Y as shown in FIG.
The Y gate selection signals Y 1 to Y n are applied through the decoder 4 and the complementary signal generator 7, respectively.

【0031】一方、ビット線リセット用トランジスタ R
Tr1 ,RTr2 … RTrn の各ゲートには奇数列のビット線BL
1 , BL3 …BLn-1 に接続されているビット線リセット用
トランジスタ RTr1 ,RTr3 …のゲートには直接アドレス
信号A0 が、また偶数列のビット線BL2 , BL4 …BLn
接続されているビット線リセット用トランジスタ RT
r2 ,RTr4 …にはインバータ8を介してアドレス信号A
0 の相補信号(反転信号)/A0 が夫々印加されるよう
になっている。
On the other hand, a bit line resetting transistor R
Tr 1 , RTr 2 ... RTr n each gate has an odd number of bit lines BL
The address signal A 0 is directly applied to the gates of the bit line reset transistors RTr 1 , RTr 3 ... Connected to 1 , BL 3 ... BL n-1 and the bit lines BL 2 , BL 4 ... BL n of even columns. Bit line reset transistor RT connected to
The address signal A is supplied to r 2 , RTr 4 ...
Complementary signal (inverted signal) / A 0 0 is adapted to be respectively applied.

【0032】次にこのような本発明に係る不揮発性半導
体記憶装置の動作を説明する。いま例えばメモリトラン
ジスタ MTr11に情報を書込む場合、即ちメモリトランジ
スタ MTr11のフローティングゲートに電荷を注入する場
合の動作について説明する。
Next, the operation of such a nonvolatile semiconductor memory device according to the present invention will be described. If now writing information, for example, in the memory transistor MTr 11, i.e. the operation for injecting charges into the floating gate of the memory transistor MTr 11 will be described.

【0033】Xデコーダ3は外部アドレス信号に応答し
てワード線WL1 を選択し、選択したワード線WL1 に書込
み高電圧VPPレベルのコントロールゲート選択信号G1
を与える。これによって選択されたワード線WL1 に接続
されるメモリトランジスタ MTr11〜 MTr1nは全てオン状
態となる。
The X-decoder 3 selects the word line WL 1 in response to the external address signal, and writes the selected word line WL 1 to the control gate selection signal G 1 of the high voltage V PP level.
give. As a result, all the memory transistors MTr 11 to MTr 1n connected to the selected word line WL 1 are turned on.

【0034】一方、Yデコーダ4は選択されたメモリト
ランジスタ MTr11に接続されるビット線BL1 を選択する
ために、内部列アドレス信号に応答してYゲート選択信
号Y1 を書込み高電圧VPP′レベルにする。これにより
YゲートトランジスタTr1 がオン状態となり、書込み回
路からの書込み高電圧VPP′が選択されたビット線BL1
に与えられる。
On the other hand, Y decoder 4 for selecting the bit lines BL 1 connected to the memory transistor MTr 11 selected, in response to the internal column address signals Y gate select signals Y 1 to write high voltage V PP 'Set to level. As a result, the Y gate transistor Tr 1 is turned on, and the write high voltage V PP ′ from the write circuit is selected to the selected bit line BL 1
Given to.

【0035】Yゲート部2でメモリセルアレイ1におけ
るビット線BL1 に接続されているYゲートトランジスタ
Tr1 がオン状態となるのは、図2から明らかな如く相補
信号(反転信号)/A0 ,/A1 ,/A2 が夫々高レベ
ルに設定された場合であるから、ビット線BL1 を含む奇
数列のビット線BL1 , BL3 …に接続されている各ビット
線リセット用トランジスタ RTr1 ,RTr3 …には低レベル
のアドレス信号A0 が与えられ、偶数列のビット線BL
2 , BL4 …に連なるビット線リセット用トランジスタ R
Tr2 ,RTr4 …の各ゲートには高レベルの相補信号(反転
信号)/A0 が印加される。
A Y gate transistor connected to the bit line BL 1 in the memory cell array 1 in the Y gate section 2
Since it is clear from FIG. 2 that the Tr 1 is turned on when the complementary signals (inverted signals) / A 0 , / A 1 and / A 2 are set to the high level, the bit line BL 1 odd column of the bit lines BL 1, BL 3 ... each bit line reset transistor is connected to RTr 1 containing, RTr 3 ... address signal a 0 of the low level is applied to the even rows of the bit lines BL
Bit line reset transistor R connected to 2, BL 4
A high-level complementary signal (inverted signal) / A 0 is applied to each gate of Tr 2 , RTr 4, ...

【0036】つまりビット線BL1 〜BLn のうち奇数番目
の列に接続される各リセット用トランジスタ RTr1 ,RTr
3 …のゲートには奇数番目のビット線BL1 , BL3 を選択
しない列選択信号である低レベルのアドレス信号A0
入力される。従って奇数列のビット線BL1 , BL3 …に接
続されている各リセット用トランジスタRTr1,RTr3 …が
オフ状態、偶数列のビット線BL2 , BL4 …に接続されて
いる各リセット用トランジスタ RTr2 ,RTr4 …はオン状
態となり、偶数列のビット線BL2,BL4 …は全て接地電位
となる。
That is, the reset transistors RTr 1 and RTr connected to the odd-numbered columns of the bit lines BL 1 to BL n.
A low-level address signal A 0, which is a column selection signal that does not select the odd-numbered bit lines BL 1 and BL 3 , is input to the gates of 3 ... Therefore, the reset transistors RTr 1 , RTr 3 ... Connected to the odd-numbered bit lines BL 1 , BL 3 ... Are turned off, and the reset transistors RTr 1 , RTr 3 ... For the even-numbered bit lines BL 2 , BL 4 ... The transistors RTr 2 , RTr 4 ... Are turned on, and the bit lines BL 2 , BL 4 ... In even columns are all set to the ground potential.

【0037】この状態においてメモリトランジスタ MTr
12についてみると、メモリトランジスタ MTr12のコント
ロールゲートにはワード線WL1 を介して書込み高電圧V
PPレベルのコントロールゲート選択信号G1 が印加さ
れ、メモリトランジスタ MTr12はオン状態となってお
り、ビット線BL2 はメモリトランジスタ MTr12のオン抵
抗を介してそのソースに接続された状態となっている。
In this state, the memory transistor MTr
12 , the control gate of the memory transistor MTr 12 is programmed with high voltage V via the word line WL 1.
The PP level control gate selection signal G 1 is applied, the memory transistor MTr 12 is turned on, and the bit line BL 2 is connected to its source via the on resistance of the memory transistor MTr 12. There is.

【0038】これによりメモリトランジスタ MTr12のソ
ースにはビット線BL2 の接地電位が伝達され、メモリト
ランジスタ MTr11についてみればソース線S1,ビット線
BL2の2本のソース線がそのソース領域に対して設けら
れているのと略同一の状態となり、メモリトランジスタ
MTr11のソース抵抗が低下する。
As a result, the ground potential of the bit line BL 2 is transmitted to the source of the memory transistor MTr 12 , and regarding the memory transistor MTr 11 , the source line S 1 and the bit line BL 2 are transmitted.
The two source lines of BL 2 are almost the same as those provided for the source region, and the memory transistor
Source resistance of MTr 11 drops.

【0039】同様に、ワード線WL1 に接続された他の偶
数番目のメモリトランジスタ MTr12,MTr14…のソース抵
抗もすべて低減され、同一のワード線WL1 に接続される
メモリトランジスタ MTr11,MTr13…のソース抵抗は同一
となり、且つ各ソース線S1, S2 は接地されているた
め、各メモリトランジスタ MTr11,MTr13…におけるソー
ス電位の浮き上がりが大幅に低減されることとなる。
[0039] Similarly, reduced all the word lines WL 1 other even-numbered memory transistor connected to MTr 12, MTr 14 ... also source resistance, the memory transistor MTr 11 connected to the same word line WL 1, Since the source resistances of MTr 13 ... Are the same and the source lines S 1 and S 2 are grounded, floating of the source potential in each of the memory transistors MTr 11 , MTr 13 ... Is significantly reduced.

【0040】逆にメモリトランジスタ MTr12等が選択さ
れているときはビット線BL1 〜BLnのうち偶数番目の列
に接続されているビット線リセット用トランジスタ RTr
2 ,RTr4 …のゲートには偶数番目を選択しない列選択信
号である低レベルのアドレス信号/A0 が入力されるこ
ととなる。
On the contrary, when the memory transistor MTr 12 or the like is selected, the bit line reset transistor RTr connected to the even-numbered column of the bit lines BL 1 to BL n.
The low-level address signal / A 0 , which is a column selection signal that does not select an even number, is input to the gates of 2 , RTr 4, ...

【0041】次にデータを読出す場合について説明す
る。この場合においてもメモリトランジスタ MTr11に対
して読出し動作を行う場合を一例として説明する。読出
し動作自体は従来と同様であり、Xデコーダ3からの出
力によりワード線WL1 が選択され、選択されたワード線
WL1 上に電源電位VCCレベルのコントロールゲート選択
信号G1 が与えられ、更にセンスアンプ, I/O バッファ
等の回路6からの読出電位が選択されたビット線BL1
伝達される。
Next, the case of reading data will be described. Even in this case, a case where the read operation is performed on the memory transistor MTr 11 will be described as an example. The read operation itself is the same as the conventional one, the word line WL 1 is selected by the output from the X decoder 3, and the selected word line WL 1 is selected.
A control gate selection signal G 1 of power supply potential V CC level is applied onto WL 1 , and the read potential from circuit 6 such as a sense amplifier and an I / O buffer is transmitted to selected bit line BL 1 .

【0042】同様にしてYデコーダ4からのYゲート選
択信号Y1 が電源電位VCCレベル、他のYゲート選択信
号Y2 〜Yn が低レベルとなり、Yゲートトランジスタ
Tr1がオン状態となる。またビット線リセット用トラン
ジスタ RTr1 〜 RTrn のうち、選択されたビット線リセ
ット用トランジスタRTr1を含む奇数列のビット線BL1, B
L3 …に接続されたビット線リセット用トランジスタ RT
r1 ,RTr3 …には低レベルの、また偶数列のビット線BL
2 , BL4 …に繋がるビット線リセット用トランジスタ R
Tr2 ,RTr4 …のゲートには高レベルの相補信号/A0
印加され、ビット線BL2 , BL4 …が接地電位に接続され
る。
Similarly, the Y gate selection signal Y 1 from the Y decoder 4 becomes the power supply potential V CC level and the other Y gate selection signals Y 2 to Y n become the low level, so that the Y gate transistor
Tr 1 turns on. Further, among the bit line reset transistors RTr 1 to RTr n , the bit lines BL 1 and B of the odd-numbered columns including the selected bit line reset transistor RTr 1
Bit line reset transistor RT connected to L 3
r 1 , RTr 3 ... are low-level and even column bit lines BL
Bit line reset transistor R connected to 2, BL 4 ...
A high level complementary signal / A 0 is applied to the gates of Tr 2 , RTr 4 ... And the bit lines BL 2 , BL 4 ... Are connected to the ground potential.

【0043】これによってメモリトランジスタ MTr11
ソース抵抗は大幅に低減し、ソース電位の浮き上がりを
低減することができ、正確な情報の読出しが可能とな
る。
As a result, the source resistance of the memory transistor MTr 11 is greatly reduced, the floating of the source potential can be reduced, and accurate information reading can be performed.

【0044】(実施例2)図4は本発明の他の実施例を
示すブロック図であり、図中1はメモリセルアレイ、2
はYゲート部、9は接地用トランジスタ群を示してい
る。メモリセルアレイ1は各2個のメモリトランジスタ
MTr11,MTr11′〜 MTr1n,MTr1n′及び図示しないコント
ロールゲートトランジスタを一組として1個のメモリセ
ルを構成した2トランジスタ1セル構造の多数のメモリ
セル (図面にはメモリセルMS11〜MS1nのみを示す)をm
行,n列のマトリックス状に配設すると共に、各ビット
線BL1〜BLn とソース線Sとを短絡させるための短絡用
トランジスタ群11を設けて構成されており、同じ行のメ
モリセルを構成する各2個のトランジスタはそのコント
ロールゲートを図示しないコントロールゲートトランジ
スタを介してワード線WLに、またドレインをビット線BL
1 〜BLn に、またソースをソース線Sに接続されてい
る。各ワード線WLにはXデコーダ3を通じてコントロー
ルゲート選択信号G1 〜Gm が与えられる。
(Embodiment 2) FIG. 4 is a block diagram showing another embodiment of the present invention, in which 1 is a memory cell array and 2 is a block diagram.
Indicates a Y gate portion, and 9 indicates a grounding transistor group. Memory cell array 1 has two memory transistors each
MTr 11, MTr 11 '~ MTr 1n, MTr 1n' and the number of memory cells (drawing 2 transistor 1 cell structure control gate transistor (not shown) which constitute one memory cell as a set memory cell MS 11 ~ MS 1n only)
The memory cells are arranged in a matrix of rows and n columns, and are provided with a short circuit transistor group 11 for short-circuiting the bit lines BL 1 to BL n and the source line S. Each of the two transistors that make up the control gate is connected to the word line WL via a control gate transistor (not shown), and the drain is connected to the bit line BL.
1 to BL n , and the source is connected to the source line S. Control gate selection signals G 1 to G m are applied to each word line WL through the X decoder 3.

【0045】ビット線BL1 〜BLn の各一端は図3に示す
実施例1と同様にYゲート部2のYゲートトランジスタ
(図示せず)に、また他端は短絡用トランジスタ STr1
〜 STrn 群11を構成する各一の短絡用トランジスタ STr
1 〜 STrn と、図3に示すのと同様のビット線リセット
用トランジスタ(図示せず)に接続されている。Yゲー
ト部2の各Yゲートトランジスタには図2に示す従来装
置と同様に相補信号発生器7,Yデコーダ4を通じてY
ゲート選択信号Y1 〜Yn が与えられる。
One end of each of the bit lines BL 1 to BL n is a Y gate transistor (not shown) of the Y gate section 2 as in the first embodiment shown in FIG. 3, and the other end is a short-circuit transistor STr 1
~ STr One short circuit transistor STr that constitutes n group 11
1 to STr n and a bit line reset transistor (not shown) similar to that shown in FIG. As in the conventional device shown in FIG. 2, each Y gate transistor of the Y gate unit 2 is supplied with a Y signal through a complementary signal generator 7 and a Y decoder 4.
The gate selection signals Y 1 to Y n are supplied.

【0046】短絡用トランジスタ STr1 〜 STrn のドレ
インは夫々ビット線BL1 〜BLn に、またソースは共通線
を介してソース線Sに接続されている。そして短絡用ト
ランジスタ STr1 〜 STrn のうち奇数番目のビット線BL
1 , BL3 …BLn-1 に接続されている短絡用トランジスタ
STr1 ,STr3 … STrn-1 のゲートにはアドレス信号A0
が、また偶数番目のビット線BL2 , BL4 …BLn に接続さ
れている短絡用トランジスタ STr2 ,STr4 … STrn のゲ
ートにはインバータ10を介在させてアドレス信号A0
相補信号/A0 が入力されるようになっている。
The drains of the short-circuiting transistors STr 1 to STr n are connected to the bit lines BL 1 to BL n , respectively, and the sources are connected to the source line S via a common line. Then, among the short-circuit transistors STr 1 to STr n , the odd-numbered bit line BL
1 , BL 3 … BL n-1 shorting transistor
Address signal A 0 is applied to the gate of STr 1 , STr 3 ... STr n-1.
However, the gate of the shorting transistors STr 2 , STr 4 ... STr n connected to the even-numbered bit lines BL 2 , BL 4 ... BL n has an inverter 10 interposed at the gate of the complementary signal / A of the address signal A 0. A 0 is input.

【0047】次にこのような本発明装置の動作を説明す
る。いまビット線BL1 に接続されているメモリトランジ
スタMS11に書込みを行う場合について説明する。ワード
線WLに書込み高電圧を印加し、ワード線WLにゲートが接
続されているメモリトランジスタ MTr11,MTr11′〜 MTr
1n,MTr1n′をオン状態とし、またビット線BL1 を選択す
べくYデコーダ4から出力されるYゲート選択信号Y1
を高レベル、他のYゲート選択信号Y2 〜Yn を低レベ
ルとするが、Yゲート選択信号Y1 が高レベルとなるの
は図2から明らかなように相補信号/A0 ,/A1 ,/
2 がいずれも高レベルとなった場合であり、これによ
って短絡用トランジスタ STr1 〜 STrn のうち奇数番目
のビット線BL1 , BL3 …に接続されている短絡用トラン
ジスタ STr1 ,STr3 …には低レベルのアドレス信号A0
が、また偶数番目のビット線BL2 , BL4 …に接続されて
いる短絡用トランジスタSTr2 ,STr4 …には高レベルの
相補信号/A0 が印加され、短絡用トランジスタSTr1 ,
STr3 …はオフ状態、短絡用トランジスタ STr2 ,STr4
…はオン状態となる。
Next, the operation of such a device of the present invention will be described. A case of writing to the memory transistor MS 11 which is now connected to the bit line BL 1 will be described. Memory transistors MTr 11 , MTr 11 ′ to MTr whose write high voltage is applied to the word line WL and whose gate is connected to the word line WL.
1n, it is turned on to MTr 1n ', also Y gate select signals Y 1 output from the Y decoder 4 so as to select the the bit lines BL 1
Is set to a high level and the other Y gate selection signals Y 2 to Y n are set to a low level, but the Y gate selection signal Y 1 is set to a high level, as is apparent from FIG. 2, which are complementary signals / A 0 and / A. 1 , /
This is the case where A 2 is at a high level, which causes the short-circuit transistors STr 1 , STr 3 connected to the odd-numbered bit lines BL 1 , BL 3 ... Of the short-circuit transistors STr 1 to STr n. Is a low-level address signal A 0
But also to an even-numbered bit lines BL 2, BL 4 for short ... in connected transistors STr 2, STr 4 ... complementary signal / A 0 high level is applied, shorting transistor STr 1,
STr 3 … is in OFF state, short circuit transistor STr 2 , STr 4
... is turned on.

【0048】同様にビット線リセット信号トランジスタ
群においても奇数番目のビット線BL1 , BL3 …に接続さ
れているビット線リセット用のトランジスタはオフ状
態、偶数番目のビット線BL2 , BL4 …に接続されている
ビット線リセット用トランジスタはオン状態となる。従
って偶数番目のビット線リセット用トランジスタは短絡
用トランジスタ STr2 ,STr4 …を介してソース線Sと短
絡されると共に、ビット線リセット用トランジスタを介
して夫々接地電位に接続されることとなる。これによっ
て各奇数番目のビット線BL1 , BL3 …とソース線Sとの
間のコンダクタンスが低下し、メモリセルのソースと接
地レベルとの間の寄生抵抗も低下する。
Similarly, in the bit line reset signal transistor group, the bit line reset transistors connected to the odd-numbered bit lines BL 1 , BL 3 ... Are in the off state, and the even-numbered bit lines BL 2 , BL 4 ... The bit line reset transistor connected to is turned on. Therefore, the even-numbered bit line reset transistors are short-circuited to the source line S via the short-circuit transistors STr 2 , STr 4, ... And are respectively connected to the ground potential via the bit line reset transistors. As a result, the conductance between each odd-numbered bit line BL 1 , BL 3 ... And the source line S is reduced, and the parasitic resistance between the source of the memory cell and the ground level is also reduced.

【0049】なお読出し過程については実施例1の動作
と実質的に同じであり、説明を省略する。この実施例2
にあっては選択されたワード線WLに接続されている非選
択ビット線に接続されているメモリセル及び短絡用トラ
ンジスタが夫々ビット線とソース線とを同電位とするよ
う動作し、ソース線Sの寄生抵抗が実質的に低減され、
選択メモリセルのソース電位の上昇が低減されることと
なる。
The reading process is substantially the same as that of the first embodiment, and the description thereof is omitted. This Example 2
In this case, the memory cell and the short-circuit transistor connected to the non-selected bit line connected to the selected word line WL operate so that the bit line and the source line have the same potential, and the source line S The parasitic resistance of
The increase in the source potential of the selected memory cell will be reduced.

【0050】[0050]

【発明の効果】以上の如く第1の発明にあっては、各ビ
ット線を夫々接地電位に接続する手段と、奇数番目の列
のビット線に設けられた接続手段に奇数番目の列を選択
するアドレス信号の反転信号を入力する手段と、偶数番
目の列のビット線に設けられた接続手段に偶数番目の列
を選択するアドレス信号の反転信号を入力する手段とを
具備するから、非選択のビット線であって、接続手段が
動作しているビット線は接地レベルとなり、ソース線の
寄生抵抗が実質的に低減され、書込み・読出し機能が向
上する。
As described above, in the first aspect of the present invention, the odd-numbered columns are selected as the means for connecting each bit line to the ground potential and the connecting means provided for the odd-numbered column bit lines. Means for inputting the inverted signal of the address signal for inputting the inverted signal of the address signal for selecting the even-numbered column to the connection means provided in the bit lines of the even-numbered column The bit line of which the connecting means is operating is at the ground level, the parasitic resistance of the source line is substantially reduced, and the write / read function is improved.

【0051】また第2の発明にあっては、各ビット線を
夫々ソース線に接続する手段と、奇数番目の列のビット
線に設けられた接続手段に奇数番目の列を選択するアド
レス信号の反転信号を入力する手段と、偶数番目の列の
ビット線に設けられた接続手段に偶数番目の列を選択す
るアドレス信号の反転信号を入力する手段とを具備する
から、選択されたワード線に接続されている非選択のメ
モリセルは勿論、各接続手段もビット線とソース線とを
同電位とするよう機能し、ソース線の寄生抵抗が低減さ
れ、書込み・読出し機能が向上する。
In the second aspect of the invention, the means for connecting each bit line to the source line and the connection means provided for the bit lines in the odd-numbered columns are connected to the address signals for selecting the odd-numbered columns. Since a means for inputting an inverted signal and a means for inputting an inverted signal of an address signal for selecting an even-numbered column to a connection means provided in the bit lines of an even-numbered column are provided, Not only the non-selected memory cells connected but also each connecting means functions so that the bit line and the source line have the same potential, the parasitic resistance of the source line is reduced, and the write / read function is improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】従来装置の模式図を示すフローチャートであ
る。
FIG. 1 is a flowchart showing a schematic view of a conventional device.

【図2】従来装置の要部拡大平面図である。FIG. 2 is an enlarged plan view of a main part of a conventional device.

【図3】本発明に係る不揮発性半導体記憶装置の模式図
である。
FIG. 3 is a schematic diagram of a nonvolatile semiconductor memory device according to the present invention.

【図4】本発明の他の実施例を示す模式図である。FIG. 4 is a schematic view showing another embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 メモリセルアレイ 2 Yゲート部 3 Xデコーダ 4 Yデコーダ 6 センスアンプ,I/O バッファ等の回路 7 相補信号発生器 8 インバータ 9 ビット線リセット用トランジスタ群 10 インバータ 1 memory cell array 2 Y gate section 3 X decoder 4 Y decoder 6 circuits such as sense amplifier and I / O buffer 7 complementary signal generator 8 inverter 9 bit line reset transistor group 10 inverter

─────────────────────────────────────────────────────
─────────────────────────────────────────────────── ───

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成5年2月8日[Submission date] February 8, 1993

【手続補正1】[Procedure Amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0021[Correction target item name] 0021

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0021】通常メモリトランジスタ8個おきにソース
金属配線が設けられている構成において、非選択のメモ
リトランジスタのうち少なくとも1つ、情報が書込まれ
ていない状態、即ち情報“0”を記憶しているメモリト
ランジスタが存在すれば、そこにソース線が付加的に設
けられたことにより、ソース抵抗は低減し、各メモリト
ランジスタのソース電位の浮き上がりが低減される。
[0021] Oite to the configuration source metal wiring in the normal memory transistor 8 every other are provided, at least one of the non-selected note <br/> Li transistor, a state in which information is not written, i.e. information If there is a memory transistor that stores "0", the source line is additionally provided to reduce the source resistance and the floating of the source potential of each memory transistor.

フロントページの続き (72)発明者 二ッ谷 知士 兵庫県伊丹市瑞原4丁目1番地 三菱電機 株式会社エル・エス・アイ研究所内 (72)発明者 小林 真一 兵庫県伊丹市瑞原4丁目1番地 三菱電機 株式会社エル・エス・アイ研究所内Front Page Continuation (72) Inventor Tomoji Futani 4-chome, Mizuhara, Itami City, Hyogo Prefecture LS Electric Co., Ltd. LSE Research Laboratory (72) Shinichi Kobayashi 4-chome, Mizuhara Itami City, Hyogo Prefecture Mitsubishi Electric Corporation LSI Research Center

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 複数のメモリセルが行方向,列方向にア
レイ配置され、各メモリセルはドレインがビット線に、
コントロールゲートがワード線に接続された構造であっ
て、前記複数のメモリセルの各々はデータ書込み及びデ
ータ消去の両方を電気的に行うことが可能な電界効果半
導体素子を含む不揮発性半導体装置において、 前記ビット線を各々接地電位に接続する手段と、 前記奇数番目の列のビット線に設けられた前記接続手段
に奇数番目の列を選択するアドレス信号の反転信号を入
力する手段と、 前記偶数番目の列のビット線に設けられた前記接続手段
に偶数番目の列を選択するアドレス信号の反転信号を入
力する手段とを具備することを特徴とする不揮発性半導
体記憶装置。
1. A plurality of memory cells are arranged in an array in a row direction and a column direction, and the drain of each memory cell is a bit line,
In a nonvolatile semiconductor device having a structure in which a control gate is connected to a word line, each of the plurality of memory cells includes a field effect semiconductor element capable of electrically performing both data writing and data erasing, Means for connecting each of the bit lines to a ground potential; means for inputting an inversion signal of an address signal for selecting an odd-numbered column to the connection means provided in the bit line of the odd-numbered column; Means for inputting an inverted signal of an address signal for selecting an even-numbered column to the connection means provided in the bit line of the column.
【請求項2】 複数のメモリセルが行方向,列方向にア
レイ配置され、各メモリセルはドレインがビット線に、
コントロールゲートがワード線に接続された構造であっ
て、前記複数のメモリセルの各々はデータ書込み及びデ
ータ消去の両方を電気的に行うことが可能な電界効果半
導体素子を含む不揮発性半導体装置において、 前記ビット線を各々ソース線に接続する手段と、 前記奇数番目の列のビット線に設けられた前記接続手段
に奇数番目の列を選択するアドレス信号の反転信号を入
力する手段と、 前記偶数番目の列のビット線に設けられた前記接続手段
に偶数番目の列を選択するアドレス信号の反転信号を入
力する手段とを具備することを特徴とする不揮発性半導
体記憶装置。
2. A plurality of memory cells are arranged in an array in a row direction and a column direction, and the drain of each memory cell is a bit line,
In a nonvolatile semiconductor device having a structure in which a control gate is connected to a word line, each of the plurality of memory cells includes a field effect semiconductor element capable of electrically performing both data writing and data erasing, Means for connecting each of the bit lines to a source line; means for inputting an inversion signal of an address signal for selecting an odd-numbered column to the connection means provided in the bit line of the odd-numbered column; Means for inputting an inverted signal of an address signal for selecting an even-numbered column to the connection means provided in the bit line of the column.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004253089A (en) * 2003-02-21 2004-09-09 Matsushita Electric Ind Co Ltd Nonvolatile semiconductor memory device and writing method thereof

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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