JP2016064378A - Light irradiation apparatus and light irradiation method - Google Patents
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Abstract
Description
本発明の実施形態は、発光素子を備えた光照射装置及び光照射方法に関する。 Embodiments described herein relate generally to a light irradiation apparatus and a light irradiation method including a light emitting element.
現在、液晶パネルの硬化や重合、貼り合わせで用いられる光照射装置で、管内に封入した金属を励起することによって光を放出する、放電ランプ(例えば低圧蛍光ランプ、高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ)が用いられている。 Currently, there are discharge lamps (for example, low-pressure fluorescent lamps, high-pressure mercury lamps, metal halide lamps) that emit light by exciting the metal enclosed in the tube with a light irradiation device used for curing, polymerization and bonding of liquid crystal panels. It is used.
ところで、従来技術においては、例えば、光を照射して被照射物の光硬化型の樹脂を硬化させる際に、不十分な硬化を抑制することが求められる。 By the way, in the prior art, for example, when light is cured to cure the photocurable resin of the irradiated object, it is required to suppress insufficient curing.
本発明は、被照射物の光化学反応の不均一を抑制する光照射装置及び光照射方法を提供することを目的とする。 An object of this invention is to provide the light irradiation apparatus and light irradiation method which suppress the nonuniformity of the photochemical reaction of a to-be-irradiated object.
実施形態の光照射装置は、紫外光を放出する発光素子を少なくとも一つ有する光放出部と、光放出部から複数の被照射物に順に紫外光を照射させる制御手段と、を具備する。制御手段は、各被照射物に対する所定時間内の発光素子が放出する紫外光の相対照度を時間の経過とともに弱くすることを、各被照射物毎に繰り返す。 The light irradiation apparatus according to the embodiment includes a light emitting unit having at least one light emitting element that emits ultraviolet light, and a control unit that sequentially irradiates a plurality of objects to be irradiated with ultraviolet light from the light emitting unit. The control means repeats, for each object to be irradiated, the relative illuminance of the ultraviolet light emitted by the light emitting element within a predetermined time with respect to each object to be irradiated is decreased with time.
実施形態の光照射方法は、発光素子から放出した紫外光を複数の被照射物に順に照射する。光照射方法は、各被照射物に対する所定時間内の発光素子が放出する紫外光の相対照度を時間の経過とともに弱くすることを、各被照射物毎に繰り返す。 In the light irradiation method of the embodiment, ultraviolet light emitted from a light emitting element is sequentially irradiated onto a plurality of irradiated objects. In the light irradiation method, the relative illuminance of the ultraviolet light emitted from the light emitting element within a predetermined time with respect to each object to be irradiated is decreased for each object to be irradiated with time.
本発明によれば、被照射物の光化学反応の不均一を抑制する光照射装置及び光照射方法を提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the light irradiation apparatus and light irradiation method which suppress the nonuniformity of the photochemical reaction of a to-be-irradiated object can be provided.
以下で説明する実施形態及び変形例1〜7に係る光照射装置1,1−1,1−2,1−3,1−4,1−5,1−6,1−7は、紫外光を放出する発光素子12を少なくとも一つ有する光放出部10と、光放出部10から複数の被照射物Wに順に紫外光を照射させる制御手段40と、を具備する。制御手段40は、各被照射物Wに対する所定時間T内の発光素子12が放出する紫外光の相対照度を時間の経過とともに弱くすることを、各被照射物W毎に繰り返す。
The light irradiation devices 1,1-1,1-2,1-3,1-4,1-5,1-6,1-7 according to the embodiments and modifications 1 to 7 described below are ultraviolet light. A
また、実施形態及び変形例1〜7に係る光照射装置1,1−1,1−2,1−3,1−4,1−5,1−6,1−7において、前記発光素子12は、ピーク波長が240nm〜450nmの紫外光を放出する。
In the light irradiation devices 1,1-1,1-2,1-3,1-4,1-5,1-6,1-7 according to the embodiment and the first to seventh modifications, the
また、実施形態及び変形例1〜7に係る光照射装置1,1−1,1−2,1−3,1−4,1−5,1−6,1−7において、制御手段40は、所定時間T内の発光素子12が放出する紫外光の相対照度を、放出直後を最強とし、時間の経過とともに弱くする。
Moreover, in the light irradiation apparatus 1,1-1,1-2,1-3,1-4,1-5,1-6,1-7 which concerns on embodiment and the modifications 1-7, the control means 40 is The relative illuminance of the ultraviolet light emitted by the
また、実施形態及び変形例1〜7に係る光照射装置1,1−1,1−2,1−3,1−4,1−5,1−6,1−7は、被照射物Wが樹脂を含む。 In addition, the light irradiation devices 1,1-1,1-2,1-3,1-4,1-5,1-6,1-7 according to the embodiment and the modifications 1 to 7 are irradiated objects W. Contains resin.
また、実施形態及び変形例1〜7に係る光照射装置1,1−1,1−2,1−3,1−4,1−5,1−6,1−7は、光放出部10と前記被照射物Wとの間に、前記光放出部10から放出された紫外光の偏光成分を取り出す偏光素子70を有する。
In addition, the light irradiation devices 1, 1-1, 1-2, 1-3, 1-4, 1-5, 1-6, and 1-7 according to the embodiment and the modified examples 1 to 7 And a
また、以下で説明する実施形態及び変形例1〜7に係る光照射方法は、発光素子12から放出した紫外光を複数の被照射物Wに順に照射する。光照射方法は、各被照射物Wに対する所定時間T内の発光素子12が放出する紫外光の相対照度を時間の経過とともに弱くすることを、各被照射物W毎に繰り返す。
Moreover, the light irradiation method which concerns on embodiment and the modifications 1-7 demonstrated below irradiates the some to-be-irradiated object W in order with the ultraviolet light discharge | released from the
[実施形態]
次に、本発明の実施形態に係る光照射装置1及び光照射方法を図面に基づいて説明する。図1は、実施形態に係る光照射装置の概略の構成を示す斜視図、図2は、図1に示す光照射装置のX軸方向視の断面図、図3は、図1に示す光照射装置の光放出部の平面図、図4は、図3に示された光放出部のX軸方向視の断面図、図5は、図1に示す光照射装置の光放出部の相対照度の変化を示す図である。
[Embodiment]
Next, the light irradiation apparatus 1 and the light irradiation method which concern on embodiment of this invention are demonstrated based on drawing. 1 is a perspective view illustrating a schematic configuration of a light irradiation apparatus according to the embodiment, FIG. 2 is a cross-sectional view of the light irradiation apparatus shown in FIG. 1 as viewed in the X-axis direction, and FIG. 3 is a light irradiation illustrated in FIG. 4 is a cross-sectional view of the light emitting unit shown in FIG. 3 as viewed in the X-axis direction, and FIG. 5 is a graph showing the relative illuminance of the light emitting unit of the light emitting device shown in FIG. It is a figure which shows a change.
実施形態に係る光照射装置1(以下、単に光照射装置と記す)は、紫外線硬化樹脂(光硬化型の樹脂に相当)を有する被照射物W(図1に示す)に少なくとも紫外線を含む光(紫外光)を照射して、被照射物Wの紫外線硬化樹脂を硬化する装置である。光照射装置1は、一つずつ順に被照射物Wに紫外光を照射して、複数の被照射物Wに照射する装置である。以下、被照射物Wの幅方向をX軸方向といい、X軸方向に直交し、且つ、被照射物Wの長手方向(搬送方向ともいう)をY軸方向といい、Y軸方向及びX軸方向に直交する方向をZ軸方向と呼ぶ。 The light irradiation device 1 according to the embodiment (hereinafter simply referred to as a light irradiation device) is a light containing at least ultraviolet rays in an irradiated object W (shown in FIG. 1) having an ultraviolet curable resin (corresponding to a photocurable resin). It is an apparatus that irradiates (ultraviolet light) to cure the ultraviolet curable resin of the irradiated object W. The light irradiation device 1 is a device that irradiates a plurality of irradiated objects W by irradiating the irradiated objects W with ultraviolet light one by one. Hereinafter, the width direction of the irradiation object W is referred to as the X-axis direction, and the longitudinal direction of the irradiation object W (also referred to as the conveyance direction) is referred to as the Y-axis direction. A direction orthogonal to the axial direction is referred to as a Z-axis direction.
光照射装置1は、図1に示すように、紫外光を放出する光放出部10と、光放出部10から放出される紫外光の配光を制御する反射板20と、反射板20に対して、反射板20で配光が制御された紫外光の進行方向側に配設されると共に、被照射物Wを搬送する搬送手段30(図2に示す)と、制御手段40などを具備する。
As shown in FIG. 1, the light irradiation device 1 includes a
光放出部10は、棒状、或いは線状の光源になっている。また、光放出部10は、例えば、図3及び図4に示すように、外観が円柱状の本体部材11の外表面に発光素子12が複数取り付けられて、発光素子12を少なくとも一つ有した直線状の発光部を有している。光放出部10の発光部の長手方向は、X軸方向と平行であり、光放出部10の発光部の長さは、被照射物Wの幅よりも長くなっている。
The
発光素子12は、少なくとも紫外光を放出するものであって、LED(Light Emitting Diode)や、LD(Laser Diode)などの半導体で構成される。発光素子12は、本体部材11の外表面に周方向に間隔をあけて取り付けられているとともに、本体部材11の長手方向即ちX軸方向に間隔をあけて取り付けられている。
The
発光素子12は、ピーク波長が254nm、313nm、365nm、385nm、405nmのうちいずれかである紫外線を放出するものが用いられる。即ち、本発明で、光放出部10を構成する複数の発光素子12は、ピーク波長が254nmである発光素子12と、ピーク波長が313nmである発光素子12と、ピーク波長が365nmである発光素子12と、ピーク波長が385nmである発光素子12と、ピーク波長が405nmである発光素子12のうち一つ以上のものが用いられる。即ち、発光素子12は、ピーク波長が240nm〜450nmの紫外光を放出する。これらのピーク波長を有する発光素子12は、被照射物Wに応じて適宜選択される。なお、本明細書でいうピーク波長とは、発光素子12が放出する紫外光のうちの相対照度が最も強い紫外光の波長をいう。
The
また、本発明でいう相対照度とは、光放出部10、すなわち、発光素子12から放出される紫外線の相対照度を表す指標である。相対照度は、例えばウシオ電機製の紫外線積算光量計UIT−250、受光器UVD−S365などのいわゆる照度計を用いて測定した照度を規格化し相対照度として用いることができる。なお、照度計は上記に限定されず、例えばオーク製作所製のUV−MO3A、受光器UV−SN35を用いてもよい。また、相対照度は、例えば被照射物が置かれる位置に、紫外光を受光して電気信号を出力する受光素子を用いて相対的に紫外光の強度の変化を検出するものでもよい。
In addition, the relative illuminance referred to in the present invention is an index representing the relative illuminance of ultraviolet rays emitted from the
光放出部10は、線状の発光部から、例えば波長が240nmから450nmの紫外光を放出することが可能になっており、光放出部10が放出する紫外光は、さまざまな偏光軸成分を有する、いわゆる非偏光の紫外光になっている。光放出部10の直径Rは、例えば、15.5mmであり、光放出部10の長さLは、例えば、1149mmである。
The
反射板20は、光放出部10に対向する面に、光放出部10から放出される紫外光を反射する反射面21を有している。反射面21は、棒状に形成される光放出部10の軸心に沿った方向に見た場合における形状である軸心方向視の形状、即ち、X軸方向視における形状が、楕円の一部が開口した形状になっている。反射板20は、光放出部10から放出された紫外光を反射面21により被照射物Wに向かって反射させる。また、反射板20は、Z軸方向に開口する向きで配設されている。
The reflecting
反射板20は、棒状に形成される光放出部10に沿って、これらの形状で光放出部10に対して平行に延びている。さらに、反射板20は、反射面21の楕円が開口している側の反対側の部分で、楕円の曲率が最大になる部分付近に、楕円の周方向、或いはY軸方向にあいた空隙である空隙部22が形成されている。即ち、空隙部22は、光放出部10から見て、Z軸方向において反射面21の楕円が開口している側の反対側に形成されている。反射板20は、この空隙部22で、楕円の内側と外側との空間が連通している。また、反射板20は、基材がアルミニウム合金からなり、多層膜によって反射面21が構成されている。なお、反射板20は、アルミニウム合金から構成されるものに限定されず、光放出部10から放出される熱を透過するコールドミラーであってもよい。
The
搬送手段30は、光放出部10から放出されかつ反射板20によって反射された紫外光が照射される照射位置(図2に示す)と、照射位置から離間した離間位置とに亘って、被照射物Wを搬送するものである。搬送手段30は、複数の被照射物Wのうち、一つずつ順に照射位置に搬送することとなる。
The conveying means 30 is irradiated between an irradiation position (shown in FIG. 2) where the ultraviolet light emitted from the
制御手段40は、光放出部10から複数の被照射物Wに一つずつ順に紫外光を放出(即ち照射)させて、光照射装置1による紫外光の照射動作を制御するものである。制御手段40は、例えばCPU等で構成された演算処理装置やROM、RAM等を備える図示しないマイクロプロセッサを主体として構成されており、処理動作の状態を表示する表示手段や、オペレータが照射内容情報などを登録する際に用いる操作手段と接続されている。
The control means 40 controls the irradiation operation of the ultraviolet light by the light irradiation apparatus 1 by sequentially emitting (i.e., irradiating) ultraviolet light from the
次に、光照射装置1の被照射物Wの照射動作即ち光照射方法を説明する。光照射方法は、発光素子12から放出した紫外光を複数の被照射物Wに順に照射する方法である。図6は、図1に示す光照射装置の制御手段のフローチャートの一例である。まず、オペレータが照射内容情報を制御手段40に登録し、照射動作の開始指示があった場合に、照射動作を開始する。まず、照射動作で、制御手段40は、搬送手段30に最初に紫外光を照射する一つの被照射物Wを照射位置に停止させ、光放出部10から紫外光を時間t0(図5に示す)からt1(図5に示す)までの所定時間T放出させる(ステップST1)。そして、制御手段40は、一つの被照射物Wに所定時間T紫外光を照射する。
Next, the irradiation operation of the irradiation object W of the light irradiation apparatus 1, that is, the light irradiation method will be described. The light irradiation method is a method of sequentially irradiating a plurality of irradiated objects W with ultraviolet light emitted from the
このとき、制御手段40は、図5に示すように、各被照射物Wに対する所定時間T内の光放出部10の発光素子12が放出する紫外光の相対照度を、時間t0即ち放出直後を最強とし、時間t0から時間t1に向かって時間の経過とともに徐々に弱くさせる。なお、図5の横軸は、照射動作を開始してからの経過時間を示し、縦軸は、光放出部10が放出した最も強い紫外光の相対照度を100%として光放出部10が放出する紫外光の相対照度を示している。なおここでいう「紫外光の放出直後」とは、現に「紫外光の放出直後」から「紫外光の放出後1秒」までの期間を含む。また、所定時間T、すなわち、時間t0から時間t1までの時間は、例えば2秒から2時間、好ましくは2秒から900秒の範囲の任意の値で設定される。
At this time, as shown in FIG. 5, the control means 40 sets the relative illuminance of the ultraviolet light emitted from the
そして、光照射装置1は、前述した一つの被照射物Wへの紫外光の照射を終了すると、オペレータから登録された照射内容情報を参照して、登録された所定数の被照射物Wへの紫外光の照射が完了したか否かを判定する(ステップST2)。制御手段40は、登録された所定数の被照射物Wへの紫外光の照射が完了していないと判定する(ステップST2:No)と、前述した一つの被照射物Wへの紫外光の照射を終了してから第2の所定時間T2(図5に示す)経過したか否かを判定するとともに、搬送手段30が光照射が完了した被照射物Wを離間位置に搬送し光照射前の被照射物Wを照射位置に搬送する(ステップST3)。なおここでいう所定時間T2、すなわち、時間t1から時間t2までの時間は、例えば1秒から15分、好ましくは1秒から10分の範囲の任意の値で設定される。
And the light irradiation apparatus 1 will complete | finish the irradiation of the ultraviolet light to the one to-be-irradiated object W mentioned above, will refer to the irradiation content information registered from the operator, and will be registered to the predetermined number of to-be-irradiated objects W It is determined whether or not the irradiation of the ultraviolet light is completed (step ST2). When the control means 40 determines that the irradiation of ultraviolet light to the predetermined number of registered objects W has not been completed (step ST2: No), the
制御手段40は、前述した一つの被照射物Wへの紫外光の照射を終了してから第2の所定時間T2経過していないと判定する(ステップST3:No)と、ステップST3を繰り返す。制御手段40は、前述した一つの被照射物Wへの紫外光の照射を終了してから第2の所定時間T2経過したと判定する(ステップST3:Yes)と、ステップST1に戻り、制御手段40は、光放出部10から紫外光を時間t2(図5に示す)即ち放出直後を最強とし、時間t2からt3(図5に示す)までの所定時間T放出させ(ステップST1)、登録された所定数の被照射物Wへの紫外光の照射が完了した否かを判定(ステップST2:No)し、紫外光の照射を終了してから第2の所定時間T2(図5に示す)経過したか否かを判定する(ステップST3)。このように、制御手段40は、図5に示すように、各被照射物Wに対する所定時間T内の発光素子12が放出する紫外光の相対照度を時間の経過とともに弱くすることを、各被照射物W毎に繰り返して実行する。
When the control means 40 determines that the second predetermined time T2 has not elapsed since the irradiation of the ultraviolet light to the one irradiation object W described above has been completed (step ST3: No), step ST3 is repeated. When it is determined that the second predetermined time T2 has elapsed since the irradiation of the ultraviolet light to the one irradiation object W described above is completed (step ST3: Yes), the
制御手段40は、登録された所定数の被照射物Wへの紫外光の照射が完了したと判定する(ステップST2:Yes)と、照射動作を終了する。このように、光照射装置1を用いた被照射物Wへの光照射方法は、各被照射物Wに対する所定時間T内の発光素子12が放出する紫外光の相対照度を時間の経過とともに弱くする。光照射方法は、所定時間T内の発光素子12が放出する紫外光の相対照度を時間の経過とともに弱くすることを、第2の所定時間T2おきに各被照射物W毎に繰り返して、発光素子12から放出した紫外光を複数の被照射物Wに一つずつ順に照射する。
When the control means 40 determines that the irradiation of ultraviolet light to the predetermined number of registered objects W has been completed (step ST2: Yes), the irradiation operation is terminated. As described above, the light irradiation method to the irradiation object W using the light irradiation apparatus 1 weakens the relative illuminance of the ultraviolet light emitted from the
次に、本発明の発明者は、実施形態の光照射装置1の効果を確認した。結果を図7に示す。図7は、本発明品と比較例1〜3を作動させてからの相対照度の変化を示す図である。図7の横軸は、紫外光の放出を開始してからの経過時間を示し、縦軸は、被照射物Wに照射される最も強い紫外光の相対照度を100%として、被照射物Wに照射される紫外光の相対照度を示している。 Next, the inventor of this invention confirmed the effect of the light irradiation apparatus 1 of embodiment. The results are shown in FIG. FIG. 7 is a diagram showing a change in relative illuminance after the product of the present invention and Comparative Examples 1 to 3 are operated. The horizontal axis of FIG. 7 shows the elapsed time since the start of the emission of ultraviolet light, and the vertical axis shows the relative illuminance of the strongest ultraviolet light irradiated to the irradiation object W as 100%, and the irradiation object W Shows the relative illuminance of the ultraviolet light irradiated to.
図7に実線で示す本発明品は、実施形態に記載された発光素子12を備えた光放出部10から紫外光を放出した。図7に点線で示す比較例1は、低圧水銀灯の発光管内面に蛍光物質を塗布した低圧蛍光ランプから紫外光を放出した。図7に一点鎖線で示す比較例2は、紫外線透過性のガラス管内に水銀、アルゴン、キセノンなどの希ガスが封入された高圧水銀ランプから紫外光を放出した。図7に二点鎖線で示す比較例3は、直管状の気密容器に水銀や希ガスを封入した高圧水銀ランプや、直管状の気密容器に水銀と鉄やヨウ素などのメタルハライドが更に封入されたメタルハライドランプから紫外光を放出した。
The product of the present invention indicated by a solid line in FIG. 7 emits ultraviolet light from the
図7によれば、比較例1〜3は、作動させても所望の相対照度が得られるまで100sec〜500sec程度かかるのに対し、本発明品は、作動させると直ちに所望の相対照度が得られることが明らかとなった。このように、発光素子12を有する光放出部10を用いることで、被照射物Wに適切な相対照度の紫外光を照射でき、各被照射物Wに対する所定時間T内の紫外光の相対照度を時間の経過とともに弱くすることを、各被照射物W毎に繰り返すことができることが明らかとなった。
According to FIG. 7, it takes about 100 sec to 500 sec until the desired relative illuminance is obtained even when operated in Comparative Examples 1 to 3, whereas the product according to the present invention can obtain the desired relative illuminance immediately when operated. It became clear. As described above, by using the
前述した構成の実施形態に係る光照射装置1は、光放出部10が発光素子12を有しているので、光放出部10を作動させると直ちに所望の相対照度の紫外光を被照射物Wに照射することができ、被照射物Wに照射する紫外光の相対照度も被照射物Wに応じて適切に変更することができる。また、光照射装置1は、各被照射物Wに紫外光を照射する際に、光放出部10が放出する紫外光の相対照度を時間の経過とともに弱くする。このために、被照射物Wの紫外線硬化樹脂の奥まで紫外光を照射することができ、被照射物Wの光化学反応の不均一を抑制させることができる。また、光照射装置1は、複数の被照射物Wに一つずつ紫外光を照射する際に、光放出部10が放出する紫外光の相対照度を時間の経過とともに弱くすることを第2の所定時間T2おきに各被照射物W毎に繰り返すので、複数の被照射物Wの光化学反応の不均一を抑制させることができる。
In the light irradiation apparatus 1 according to the embodiment having the above-described configuration, since the
また、実施形態に係る光照射装置1は、発光素子12のピーク波長が240nm〜450nmの紫外光を放出するので、被照射物Wに対してよりエネルギーが高い光である短波長の紫外光を照射することができるため、被照射物Wの光化学反応の不均一を抑制することができる。
Moreover, since the light irradiation apparatus 1 which concerns on embodiment discharge | releases the ultraviolet light whose peak wavelength of the
また、実施形態に係る光照射装置1は、制御手段40が、所定時間内の発光素子12が放出する紫外光の相対照度を、放出直後を最強とし、時間の経過とともに弱くすることで、例えば紫外光が当たると瞬時に硬化するような被照射物Wを用いても、被照射物Wの深さ方向の深い位置から逐次深さ方向の浅い位置へと硬化させる処理ができるため、被照射物Wの光化学反応の不均一を抑制することができる。
Further, in the light irradiation apparatus 1 according to the embodiment, the
また、実施形態に係る光照射装置1は、被照射物Wが樹脂を含むことで、被照射物Wの深さ方向の深い位置から逐次深さ方向の浅い位置へと硬化させる処理ができるため、被照射物Wの光化学反応の不均一を抑制することができる。 Moreover, since the light irradiation apparatus 1 which concerns on embodiment can perform the process hardened from the deep position of the depth direction of the to-be-irradiated object W to the shallow position of the depth direction sequentially, because the to-be-irradiated object W contains resin. , Non-uniformity of the photochemical reaction of the irradiated object W can be suppressed.
[変形例1]
次に、本発明の実施形態の変形例1に係る光照射装置1−1を図面に基づいて説明する。図8は、実施形態の変形例1に係る光照射装置の概略の構成を示すX軸方向視の断面図である。図8において、前述した実施形態と同一部分には、同一符号を付して説明を省略する。
[Modification 1]
Next, the light irradiation apparatus 1-1 which concerns on the modification 1 of embodiment of this invention is demonstrated based on drawing. FIG. 8 is a cross-sectional view in the X-axis direction showing a schematic configuration of the light irradiation apparatus according to the first modification of the embodiment. In FIG. 8, the same parts as those of the above-described embodiment are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.
実施形態の変形例1に係る光照射装置1−1は、図8に示すように、搬送手段30の代わりに、複数の被照射物WをY軸方向に連続的に移動させて、被照射物Wを一つずつ順に照射位置に移動させる移動搬送手段50を備えている。移動搬送手段50は、モータなどにより回転駆動される駆動ローラ51と、回転自在に設けられた従動ローラ52と、駆動ローラ51と従動ローラ52とに亘って掛け渡されて駆動ローラ51と従動ローラ52との間を循環走行する搬送ベルト53などを備えている。
As illustrated in FIG. 8, the light irradiation device 1-1 according to the first modification of the embodiment continuously moves a plurality of irradiated objects W in the Y-axis direction instead of the
光照射装置1−1は、搬送ベルト53上に複数の被照射物Wを載置し、駆動ローラ51が搬送ベルト53をY軸方向に移動させることで、被照射物WをY軸方向に移動させながら光放出部10が放出した紫外光を被照射物Wの一つずつに照射する。
The light irradiation device 1-1 places a plurality of irradiated objects W on the
変形例1に係る光照射装置1−1は、実施形態と同様に、光放出部10を作動させると直ちに所望の相対照度の紫外光を被照射物Wに照射することができ、被照射物Wの紫外線硬化樹脂の奥まで紫外光を照射することができ、被照射物Wの光化学反応の不均一を抑制することができる。
Similarly to the embodiment, the light irradiation device 1-1 according to the modification 1 can immediately irradiate the irradiation object W with ultraviolet light having a desired relative illuminance when the
[変形例2]
次に、本発明の実施形態の変形例2に係る光照射装置1−2を図面に基づいて説明する。図9は、実施形態の変形例2に係る光照射装置の概略の構成を示すX軸方向視の断面図である。図9において、前述した実施形態と同一部分には、同一符号を付して説明を省略する。
[Modification 2]
Next, the light irradiation apparatus 1-2 which concerns on the
実施形態の変形例2に係る光照射装置1−2は、図9に示すように、搬送手段30の代わりに、光放出部10をY軸方向に連続的に移動させて、Y軸方向に並べられた複数の被照射物Wを光放出部10に対して一つずつ順に照射位置に移動させる光源移動手段60を備えている。
As illustrated in FIG. 9, the light irradiation device 1-2 according to the second modification of the embodiment moves the
光源移動手段60は、光放出部10、反射板20などが取り付けられたスライダ61と、スライダ61をY軸方向に移動自在にするレール62と、スライダ61をレール62に対してスライド移動させる図示しない駆動源などを備えている。光照射装置1−2は、Y軸方向に複数の被照射物Wを並べ、光源移動手段60が光放出部10などをY軸方向に移動させることで、光放出部10などをY軸方向に移動させながら光放出部10が放出した紫外光を被照射物Wの一つずつに照射する。
The light source moving means 60 includes a
変形例2に係る光照射装置1−2は、実施形態及び変形例1と同様に、光放出部10を作動させると直ちに所望の相対照度の紫外光を被照射物Wに照射することができ、被照射物Wの紫外線硬化樹脂の奥まで紫外光を照射することができ、被照射物Wの光化学反応の不均一を抑制することができる。また、光放出部10が発熱の少ない発光素子12を備えているので、水冷ジャケットなどで光放出部10を冷却する必要がない。したがって、光放出部10を移動させても、水冷ジャケットの破損を抑制することができる。
As in the embodiment and the first modification, the light irradiation device 1-2 according to the second modification can immediately irradiate the irradiated object W with ultraviolet light having a desired relative illuminance when the
[変形例3]
次に、本発明の実施形態の変形例3に係る光照射装置1−3を図面に基づいて説明する。図10は、実施形態の変形例3に係る光照射装置の概略の構成を示すX軸方向視の断面図である。図10において、前述した実施形態、変形例1、変形例2と同一部分には、同一符号を付して説明を省略する。
[Modification 3]
Next, the light irradiation apparatus 1-3 which concerns on the
実施形態の変形例3に係る光照射装置1−3は、図10に示すように、搬送手段30の代わりに、複数の被照射物WをY軸方向に連続的に移動させて、被照射物Wを一つずつ順に照射位置に移動させる移動搬送手段50を備えている。さらに、光照射装置1−3は、光放出部10をY軸方向に連続的に移動させて、Y軸方向に並べられた複数の被照射物Wを光放出部10に対して一つずつ順に照射位置に移動させる光源移動手段60を備えている。
As illustrated in FIG. 10, the light irradiation device 1-3 according to the third modification of the embodiment continuously moves a plurality of irradiated objects W in the Y-axis direction instead of the
光照射装置1−3は、被照射物WをY軸方向に移動させ、かつ光放出部10をY軸方向に移動させながら光放出部10が放出した紫外光を被照射物Wの一つずつに照射する。
The light irradiation device 1-3 moves the irradiated object W in the Y-axis direction and moves the
変形例3に係る光照射装置1−3は、実施形態、変形例1、変形例2と同様に、光放出部10を作動させると直ちに所望の相対照度の紫外光を被照射物Wに照射することができ、被照射物Wの紫外線硬化樹脂の奥まで紫外光を照射することができ、被照射物Wの光化学反応の不均一を抑制することができる。
Similar to the embodiment, the first modification, and the second modification, the light irradiation device 1-3 according to the third modification irradiates the irradiated object W with ultraviolet light having a desired relative illuminance immediately when the
また、変形例3に係る光照射装置1−3は、光放出部10が発熱の少ない発光素子12を備えているので、水冷ジャケットなどで光放出部10を冷却する必要がない。したがって、光放出部10を移動させても、水冷ジャケットを設ける必要がないので、水冷ジャケットの破損を抑制することができる。
Further, in the light irradiation device 1-3 according to the modified example 3, since the
また、光照射装置1,1−2,1−3の制御手段40は、光放出部10から紫外光を所定時間T放出する際の相対照度を図11に示すようにしてもよい。なお、図11は、図5に示された光照射装置の光放出部の相対照度の変化の変形例を示す図である。制御手段40は、図11(a)の実線に示すように、所定時間T内の光放出部10が放出する紫外光の相対照度を、放出直後を最強とし、時間の経過とともに所謂のこぎり波状に複数段階で徐々に弱くさせてもよい。制御手段40は、図11(b)の実線に示すように、所定時間T内の光放出部10が放出する紫外光の相対照度を、放出直後を最強とし、時間の経過に比例させて徐々に弱くさせてもよい。制御手段40は、図11(c)の実線に示すように、所定時間T内の光放出部10が放出する紫外光の相対照度を、放出直後を最強とし、時間の経過にとともに段階的(図11(c)には2段階である場合を示す)に徐々に弱くさせてもよい。なお、図11(a)から図11(c)には、図5に示された光照射装置1の光放出部10の相対照度の変化を点線で示している。
Moreover, the control means 40 of the light irradiation devices 1, 1-2, and 1-3 may be configured so that the relative illuminance when the ultraviolet light is emitted from the
[変形例4]
次に、本発明の実施形態の変形例4に係る光照射装置を図面に基づいて説明する。図12は、実施形態の変形例4に係る光照射装置の概略の構成を示す斜視図である。なお、図12において、前述した実施形態等と同一部分には、同一符号を付して説明を省略する。
[Modification 4]
Next, the light irradiation apparatus which concerns on the
実施形態の変形例4に係る光照射装置1−4は、光放出部10と被照射物Wとの間に、光放出部10から放出された紫外光の偏光成分を取り出す偏光素子70を有する。即ち、光照射装置1−4は、光放出部10の発光素子12と被照射物Wとの間に偏光素子70を設けている。
The light irradiation device 1-4 according to the
偏光素子70は、光放出部10が放出した紫外光のうち予め決められた基準方向と平行な偏光軸(振動方向ともいう)の紫外光を透過させて被照射物Wに照射させ、基準方向と交差する偏光軸の紫外光の透過を規制するものである。偏光素子70は、X軸方向に複数並べられ、これら複数の偏光素子70は、X軸方向とY軸方向とにおける周囲をフレーム71によって囲まれている。これにより複数の偏光素子70は、フレーム71によって支持されている。
The
なお、偏光素子70として、ワイヤーグリッドを用いて、基準方向と交差する偏光軸の紫外光を反射する所謂反射型偏光素子や、ガラス板に含まれる一定方向に揃った金属ナノ粒子を形成したものであって、基準方向と交差する偏光軸の紫外光を吸収する所謂吸収型偏光素子を用いることができる。吸収型偏光素子として、例えば、CODIXX社製のcolorpol(登録商標)UV375BC5を用いることができる。
As the
変形例4に係る光照射装置1−4は、実施形態、変形例1、変形例2、変形例3と同様に、光放出部10を作動させると直ちに所望の相対照度の紫外光を被照射物Wに照射することができ、被照射物Wの紫外線硬化樹脂の奥まで紫外光を照射することができ、被照射物Wの光化学反応の不均一を抑制することができる。
Similarly to the embodiment, the first modification, the second modification, and the third modification, the light irradiation device 1-4 according to the fourth modification is irradiated with ultraviolet light having a desired relative illuminance immediately when the
また、光照射装置1−4は、偏光素子70を備えているので、被照射物Wの表面に配向処理を施すために用いることができる。
Moreover, since the light irradiation apparatus 1-4 is provided with the
[変形例5]
次に、本発明の実施形態の変形例5に係る光照射装置を図面に基づいて説明する。図13は、実施形態の変形例5に係る光照射装置の光放出部の側面図、図14は、図13に示された光放出部を下からみた平面図である。図13、図14において、前述した実施形態等と同一部分には、同一符号を付して説明を省略する。
[Modification 5]
Next, the light irradiation apparatus which concerns on the modification 5 of embodiment of this invention is demonstrated based on drawing. FIG. 13 is a side view of the light emitting unit of the light irradiation apparatus according to Modification 5 of the embodiment, and FIG. 14 is a plan view of the light emitting unit shown in FIG. 13 as viewed from below. In FIG. 13 and FIG. 14, the same reference numerals are given to the same portions as those in the above-described embodiment and the description thereof is omitted.
実施形態の変形例5に係る光照射装置1−5の光放出部10は、図13及び図14に示すように、内側に冷却水が循環されるとともに紫外光の放出を許容する水冷ジャケット80が取り付けられている。水冷ジャケット80は、光放出部10を冷却するためのものであり、内側に窒素ガスなどの不活性ガスが循環されるとともに紫外光の放出を許容する不活性ガス収容チャンバー90内に収容されている。光照射装置1−5の光放出部10は、図14に示すように、ピーク波長が254nm、313nm、365nm、385nm、405nmのうちいずれかである紫外光を放出する発光素子12を基板上にX軸方向に間隔をあけて並べている。
As shown in FIGS. 13 and 14, the
実施形態の変形例5に係る光照射装置1−5は、実施形態などと同様に、光放出部10を作動させると直ちに所望の相対照度の紫外光を被照射物Wに照射することができ、被照射物Wの紫外線硬化樹脂の奥まで紫外光を照射することができ、被照射物Wの光化学反応の不均一を抑制することができる。
The light irradiation device 1-5 according to the fifth modification of the embodiment can irradiate the irradiated object W with ultraviolet light having a desired relative illuminance immediately when the
また、光照射装置1−5は、光放出部10を冷却する水冷ジャケット80の周りに窒素ガスなどの不活性ガスが充填されるので、光放出部10を冷却しても、光放出部10が結露により不具合を生じることを抑制できる。
Moreover, since the light irradiation apparatus 1-5 is filled with inert gas, such as nitrogen gas, around the
[変形例6]
次に、本発明の実施形態の変形例6に係る光照射装置を図面に基づいて説明する。図15は、実施形態の変形例6に係る光照射装置の光放出部を下からみた平面図である。図15において、前述した実施形態等と同一部分には、同一符号を付して説明を省略する。
[Modification 6]
Next, the light irradiation apparatus which concerns on the modification 6 of embodiment of this invention is demonstrated based on drawing. FIG. 15 is a plan view of the light emitting unit of the light irradiation apparatus according to the sixth modification of the embodiment as viewed from below. In FIG. 15, the same parts as those of the above-described embodiment and the like are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.
実施形態の変形例6に係る光照射装置1−6の光放出部10は、図15に示すように、ピーク波長が254nm、313nm、365nm、385nm、405nmのうちいずれかである紫外光を放出する発光素子12を、基板上にX軸方向とY軸方向とに間隔をあけて並べている。
As shown in FIG. 15, the
実施形態の変形例6に係る光照射装置1−6は、実施形態などと同様に、光放出部10を作動させると直ちに所望の相対照度の紫外光を被照射物Wに照射することができ、被照射物Wの紫外線硬化樹脂の奥まで紫外光を照射することができ、被照射物Wの光化学反応の不均一を抑制することができる。
The light irradiation apparatus 1-6 according to the modification 6 of the embodiment can irradiate the irradiated object W with ultraviolet light having a desired relative illuminance immediately when the
[変形例7]
次に、本発明の実施形態の変形例7に係る光照射装置を図面に基づいて説明する。図16は、実施形態の変形例7に係る光照射装置の概略の構成を示す図である。図16において、前述した実施形態等と同一部分には、同一符号を付して説明を省略する。
[Modification 7]
Next, the light irradiation apparatus which concerns on the modification 7 of embodiment of this invention is demonstrated based on drawing. FIG. 16 is a diagram illustrating a schematic configuration of a light irradiation apparatus according to Modification 7 of the embodiment. In FIG. 16, the same parts as those of the above-described embodiment and the like are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.
実施形態の変形例7に係る光照射装置1−7の光放出部10は、図16に示すように、ピーク波長が254nm、313nm、365nm、385nm、405nmのうちいずれかである紫外光を放出する図示しない発光素子12が放出した紫外光を光ファイバ13を介して、被照射物Wに照射する。
The
実施形態の変形例7に係る光照射装置1−7は、実施形態などと同様に、光放出部10を作動させると直ちに所望の相対照度の紫外光を被照射物Wに照射することができ、被照射物Wの紫外線硬化樹脂の奥まで紫外光を照射することができ、被照射物Wの光化学反応の不均一を抑制することができる。
The light irradiation device 1-7 according to the modified example 7 of the embodiment can irradiate the irradiated object W with ultraviolet light having a desired relative illuminance immediately when the
本発明のいくつかの実施形態、変形例を説明したが、これらの実施形態、変形例は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これらの実施形態、変形例は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これらの実施形態、変形例は、発明の範囲や要旨に含まれると同様に、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれるものである。 Although some embodiments and modifications of the present invention have been described, these embodiments and modifications are presented as examples, and are not intended to limit the scope of the invention. These embodiments and modifications can be implemented in various other forms, and various omissions, replacements, and changes can be made without departing from the spirit of the invention. These embodiments and modifications are included in the scope of the invention and the gist thereof, and are also included in the invention described in the claims and the equivalents thereof.
1,1−1,1−2,1−3,1−4,1−5,1−6,1−7 光照射装置
10 光放出部
12 発光素子
40 制御手段
W 被照射物
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1,1-1,1-2,1-3,1-4,1-5,1-6,1-7
Claims (6)
前記光放出部から複数の被照射物に順に紫外光を照射させる制御手段と;
を具備し、
前記制御手段は、各被照射物に対する所定時間内の前記発光素子が放出する紫外光の相対照度を時間の経過とともに弱くすることを、各被照射物毎に繰り返す光照射装置。 A light emitting portion having at least one light emitting element that emits ultraviolet light;
Control means for sequentially irradiating a plurality of irradiated objects with ultraviolet light from the light emitting portion;
Comprising
The said control means is a light irradiation apparatus which repeats for every to-be-irradiated object to weaken the relative illumination intensity of the ultraviolet light which the said light emitting element discharge | releases within a predetermined time with respect to each to-be-irradiated object with progress of time.
請求項1記載の光照射装置。 The light irradiation apparatus according to claim 1, wherein the light emitting element emits ultraviolet light having a peak wavelength of 240 nm to 450 nm.
請求項1または2に記載の光照射装置。 The light irradiation apparatus according to claim 1, wherein the control unit makes the relative illuminance of the ultraviolet light emitted by the light emitting element within the predetermined time the strongest immediately after the emission and weakens as time elapses.
請求項1〜4のうちいずれか一項に記載の光照射装置。 The light irradiation apparatus according to claim 1, further comprising: a polarizing element that extracts a polarization component of ultraviolet light emitted from the light emitting unit between the light emitting unit and the irradiation object. .
各被照射物に対する所定時間内の発光素子が放出する紫外光の相対照度を時間の経過とともに弱くすることを、各被照射物毎に繰り返す光照射方法。 A method of sequentially irradiating a plurality of irradiated objects with ultraviolet light emitted from a light emitting element,
A light irradiation method in which the relative illuminance of ultraviolet light emitted from a light emitting element within a predetermined time with respect to each irradiated object is weakened with time, for each irradiated object.
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