JP2006163507A - Reference potential generating circuit and display device having the same - Google Patents
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Abstract
【課題】回路規模の増大を抑えると共に十分な精度を確保しつつ基準電位を調整できる基準電位発生回路を提供する。
【解決手段】基準電位発生回路は、互いに直列に接続されたn+1個の抵抗素子からなる分圧用抵抗列10と、互いに直列に接続された2m+1個の抵抗素子からなる調整用抵抗列10aと、調整用抵抗列10aにおける抵抗素子間の2m個の接続点にそれぞれ接続された2m個のスイッチング素子としての薄膜トランジスタTFT(1)〜TFT(2m)とを備え、第1の電位Vaを与えるべき第1の端子T1と、第2の電位Vssを与えるべき第2の端子T2とを有している(Va>Vb)。分圧用抵抗列10はその一端が調整用抵抗列10aの一端に接続されると共にその他端が第2の端子T2に接続され、調整用抵抗列10aの他端は第1の端子T1に接続され、薄膜トランジスタTFT(1)〜TFT(2m)のソース端子は電源ラインLvddに接続されている。
【選択図】図1A reference potential generation circuit capable of adjusting a reference potential while suppressing an increase in circuit scale and ensuring sufficient accuracy is provided.
A reference potential generating circuit includes a voltage dividing resistor array 10 composed of n + 1 resistor elements connected in series with each other and an adjustment resistor array 10a composed of 2 m +1 resistor elements connected in series with each other. Thin film transistors TFT (1) to TFT (2 m ) as 2 m switching elements respectively connected to 2 m connection points between the resistance elements in the adjustment resistor array 10a, and the first potential It has a first terminal T1 to which Va is applied and a second terminal T2 to which a second potential Vss is applied (Va> Vb). The voltage dividing resistor array 10 has one end connected to one end of the adjusting resistor array 10a and the other end connected to the second terminal T2, and the other end of the adjusting resistor array 10a connected to the first terminal T1. The source terminals of the thin film transistors TFT (1) to TFT (2 m ) are connected to the power supply line Lvdd.
[Selection] Figure 1
Description
本発明は、互いに直列に接続された複数個の抵抗素子からなる分圧用抵抗列により基準電位を発生する基準電位発生回路に関し、更に詳しくは、発生すべき基準電位を調整するための回路を備えた基準電位発生回路に関する。 The present invention relates to a reference potential generation circuit that generates a reference potential by a voltage dividing resistor string composed of a plurality of resistance elements connected in series with each other, and more particularly, includes a circuit for adjusting a reference potential to be generated. The present invention relates to a reference potential generating circuit.
従来より、互いに直列に接続された複数個の抵抗素子からなる分圧回路としての抵抗列(分圧抵抗列)により所望の基準電位を発生する基準電位発生回路が種々の装置で使用されている。この基準電位発生回路において発生すべき基準電位は、それが使用される装置に特有の事情等により調整を必要とする場合がある。 Conventionally, a reference potential generating circuit that generates a desired reference potential by using a resistor string (voltage dividing resistor string) as a voltage dividing circuit composed of a plurality of resistance elements connected in series with each other has been used in various devices. . The reference potential to be generated in this reference potential generating circuit may need to be adjusted depending on circumstances peculiar to the device in which it is used.
例えば、半導体集積回路において電源の立ち上がり時にのみリセット信号を生成するリセット回路を実現する際に、当該電源電圧と比較すべき基準電位を生成するために上記のような分圧抵抗列を備えた基準電位発生回路が使用される。この場合、半導体集積回路の製造プロセス上でのばらつき等に起因する素子のばらつきを補正するために、分圧抵抗列によって発生すべき基準電位を調整することが必要となる。これに対し、特開平5−346827号公報では、このような基準電位を調整するための電圧調整回路装置として、図23に示すように、5つの直列に接続された抵抗R1,R2,R3,R4,R5と、これらに直列的もしくは並列的に接続されたスイッチング素子であるトランジスタTr1,Tr2,Tr3,Tr4とからなる電圧調整手段を含む装置(以下「第1の従来例」という)が開示されている。この装置では、EEPROM(Electrically Erasable and Programmable Read Only Memory)1に記憶されている補正データが制御回路2によって読み出され、制御回路2から出力される補正データとしての信号がレジスタ3を経てトランジスタTr1〜Tr4のゲートに印加される。これにより、トランジスタTr1〜Tr4のオン/オフが制御されることで、分圧抵抗列の抵抗値が調整され、それに応じて、コンパレータ4で電源電圧Vと比較すべき基準電位(抵抗R4とR5との接続点の電位)も調整される。
For example, when realizing a reset circuit that generates a reset signal only at the rise of a power supply in a semiconductor integrated circuit, a reference having a voltage dividing resistor array as described above to generate a reference potential to be compared with the power supply voltage. A potential generation circuit is used. In this case, it is necessary to adjust the reference potential to be generated by the voltage dividing resistor string in order to correct the element variation caused by the variation in the manufacturing process of the semiconductor integrated circuit. On the other hand, in Japanese Patent Laid-Open No. 5-346827, as a voltage adjustment circuit device for adjusting such a reference potential, as shown in FIG. 23, five resistors R1, R2, R3 connected in series are connected. An apparatus (hereinafter referred to as “first conventional example”) including voltage adjusting means comprising R4, R5 and transistors Tr1, Tr2, Tr3, Tr4 which are switching elements connected in series or in parallel to these transistors is disclosed. Has been. In this apparatus, correction data stored in an EEPROM (Electrically Erasable and Programmable Read Only Memory) 1 is read out by the
また、特開平3−247120号公報には、基準電圧発生回路を逐次比較型A/Dコンバータと抵抗分圧型D/Aコンバータとで共用するために、図24に示すように第1のスイッチング素子としてのPチャネルMOS(Metal Oxide Semiconductor)トランジスタ11と、第2のスイッチング素子としてのNチャネルMOSトランジスタ12と、抵抗値がRの7個の抵抗素子3と、抵抗値がR/2の抵抗素子4および5とを備えて構成された基準電圧発生回路(以下「第2の従来例」という)が開示されている。この基準電位発生回路は、PチャネルMOSトランジスタ11およびNチャネルMOSトランジスタ12のゲートへの制御信号13をハイレベルまたはローレベルとすることにより、各端子52〜59に得られる基準電圧出力を切り替えることで、逐次比較型A/Dコンバータと抵抗分圧型D/Aコンバータとの間で共用可能となる。
上記第1および第2の従来例からわかるように、従来の基準電位発生回路では、基準電圧を発生するための分圧抵抗列における抵抗素子の接続関係や調整用に導入される抵抗素子と分圧抵抗列との接続関係をMOSトランジスタ等のスイッチング素子のオン/オフによって変更することにより当該基準電位が調整される。したがって、基準電位を調整するために使用されるスイッチング素子のオン抵抗(導通抵抗)の値を、当該基準電位を発生するための分圧抵抗列を構成する抵抗素子や調整用に導入される抵抗素子の抵抗値よりも十分に小さくする必要がある。 As can be seen from the first and second conventional examples, in the conventional reference potential generating circuit, the connection relationship of the resistive elements in the voltage dividing resistor array for generating the reference voltage and the resistive elements introduced for adjustment are divided. The reference potential is adjusted by changing the connection relationship with the piezoresistive string by turning on / off a switching element such as a MOS transistor. Therefore, the value of the on-resistance (conducting resistance) of the switching element used for adjusting the reference potential is set as the resistance element constituting the voltage dividing resistor string for generating the reference potential or the resistance introduced for adjustment. It is necessary to make it sufficiently smaller than the resistance value of the element.
スイッチング素子としてMOSトランジスタを使用した場合、そのオン抵抗を低減する方法として、チャネル幅の増大や、チャネル長の縮小、駆動電圧の上昇などが考えられる。ここで、チャネル長および駆動電圧は、当該MOSトランジスタの製造プロセスおよび当該基準電位発生回路が使用されるシステムの観点から一意に決定されるものである。したがって、当該MOSトランジスタのオン抵抗を低減するには、実際にはチャネル幅を増大させることになり、これは素子面積の増大を招く結果となる。 When a MOS transistor is used as a switching element, as a method for reducing the on-resistance, an increase in channel width, a reduction in channel length, an increase in drive voltage, and the like are conceivable. Here, the channel length and the driving voltage are uniquely determined from the viewpoint of the manufacturing process of the MOS transistor and the system in which the reference potential generating circuit is used. Therefore, in order to reduce the on-resistance of the MOS transistor, the channel width is actually increased, which results in an increase in the element area.
また、従来の基準電位発生回路において上記のようにスイッチング素子を使用して基準電位を調整する場合、基準電位を精度よく生成するためには、当該スイッチング素子のオン抵抗のばらつきをできるだけ小さくする必要がある。しかし、例えば液晶パネル等を構成する基板上に表示部と一体的に基準電位発生回路としての階調電圧発生回路等を薄膜トランジスタにより形成する場合には、調整用のスイッチング素子としての当該薄膜トランジスタのオン抵抗のばらつきにより、基準電位の生成において十分な精度を確保することができない。 In addition, when the reference potential is adjusted using the switching element as described above in the conventional reference potential generation circuit, in order to generate the reference potential with high accuracy, it is necessary to minimize the variation in the on-resistance of the switching element. There is. However, for example, when a gradation voltage generation circuit or the like as a reference potential generation circuit is formed on a substrate constituting a liquid crystal panel or the like as a reference potential generation circuit by a thin film transistor, the thin film transistor as an adjustment switching element is turned on. Due to the variation in resistance, sufficient accuracy cannot be ensured in the generation of the reference potential.
そこで本発明は、回路規模の増大を抑えると共に十分な精度を確保しつつ基準電位を調整することができる基準電位発生回路を提供することを目的とする。 Therefore, an object of the present invention is to provide a reference potential generation circuit capable of adjusting a reference potential while suppressing an increase in circuit scale and ensuring sufficient accuracy.
第1の発明は、互いに直列に接続された複数個の抵抗素子からなる抵抗列を有し、当該抵抗列の一端に第1の所定電位が与えられ他端に第2の所定電位が与えられ、抵抗分圧により基準電位を生成する基準電位発生回路であって、
前記抵抗列を構成する抵抗素子間の少なくとも1つの接続点に対応して設けられたスイッチング素子を備え、
前記少なくとも1つの接続点は、対応する前記スイッチング素子を介して電源ラインに接続され、
前記基準電位は、前記スイッチング素子のオン/オフによって調整されることを特徴とする。
The first invention has a resistor string composed of a plurality of resistor elements connected in series with each other, and a first predetermined potential is applied to one end of the resistor array and a second predetermined potential is applied to the other end. A reference potential generating circuit for generating a reference potential by resistance voltage division,
A switching element provided corresponding to at least one connection point between the resistance elements constituting the resistance string;
The at least one connection point is connected to a power line via the corresponding switching element;
The reference potential is adjusted by turning on / off the switching element.
第2の発明は、互いに直列に接続された複数個の抵抗素子からなる抵抗列を有し、当該抵抗列の一端に第1の所定電位が与えられ他端に第2の所定電位が与えられる基準電位発生回路であって、
前記抵抗列は、
基準電位を生成するための分圧用抵抗列と、
前記基準電位を調整するための調整用抵抗列とを含み、
前記調整用抵抗列を構成する抵抗素子間の少なくとも1つの接続点に対応してスイッチング素子が設けられ、
前記少なくとも1つの接続点は、対応する前記スイッチング素子を介して電源ラインに接続され、
前記分圧用抵抗列の一端は、前記調整用抵抗列の一端に接続され、
前記分圧用抵抗列は、前記第1および第2の所定電位ならびに前記スイッチング素子のオン/オフに基づき前記基準電位を生成することを特徴とする。
The second invention has a resistor string composed of a plurality of resistor elements connected in series to each other, and a first predetermined potential is applied to one end of the resistor array and a second predetermined potential is applied to the other end. A reference potential generating circuit,
The resistor string is
A voltage dividing resistor string for generating a reference potential;
An adjustment resistor string for adjusting the reference potential,
A switching element is provided corresponding to at least one connection point between the resistance elements constituting the adjustment resistor string,
The at least one connection point is connected to a power line via the corresponding switching element;
One end of the voltage dividing resistor string is connected to one end of the adjusting resistor string,
The voltage dividing resistor string generates the reference potential based on the first and second predetermined potentials and on / off of the switching element.
第3の発明は、第2の発明において、
前記調整用抵抗列を構成する抵抗素子間の接続点と前記電源ラインとの間に、当該接続点に対応する前記スイッチング素子と直列に接続されるように挿入された抵抗素子を更に備えることを特徴とする。
According to a third invention, in the second invention,
A resistor element inserted between the connection point between the resistor elements constituting the adjustment resistor string and the power supply line so as to be connected in series with the switching element corresponding to the connection point; Features.
第4の発明は、第2または第3の発明において、
前記第1の所定電位は前記第2の所定電位よりも高く、
前記電源ラインの電位は前記第1の所定電位よりも高いことを特徴とする。
4th invention is 2nd or 3rd invention,
The first predetermined potential is higher than the second predetermined potential;
A potential of the power supply line is higher than the first predetermined potential.
第5の発明は、第2または第3の発明において、
前記第1の所定電位は前記第2の所定電位よりも低く、
前記電源ラインの電位は前記第1の所定電位よりも低いことを特徴とする。
A fifth invention is the second or third invention, wherein
The first predetermined potential is lower than the second predetermined potential;
A potential of the power supply line is lower than the first predetermined potential.
第6の発明は、互いに直列に接続された複数個の抵抗素子からなる抵抗列を有し、当該抵抗列の一端に第1の所定電位が与えられ他端に第2の所定電位が与えられる基準電位発生回路であって、
前記抵抗列は、
基準電位を生成するための分圧用抵抗列と、
前記基準電位を調整するための第1および第2の調整用抵抗列とを含み、
前記第1の調整用抵抗列を構成する抵抗素子間の少なくとも1つの接続点に対応して第1のスイッチング素子が設けられ、
前記第2の調整用抵抗列を構成する抵抗素子間の少なくとも1つの接続点に対応して第2のスイッチング素子が設けられ、
前記分圧用抵抗列の一端は、前記第1の調整用抵抗列の一端に接続され、
前記分圧用抵抗列の他端は、前記第2の調整用抵抗列の一端に接続され、
前記第1の調整用抵抗列の他端は、前記第1の所定電位を与えられ、
前記第2の調整用抵抗列の他端は、前記第2の所定電位を与えられ、
前記第1の調整用抵抗列を構成する抵抗素子間の接続点は、対応する前記第1のスイッチング素子を介して第1の電源ラインに接続され、
前記第2の調整用抵抗列を構成する抵抗素子間の接続点は、対応する前記第2のスイッチング素子を介して第2の電源ラインに接続され、
前記分圧用抵抗列は、前記第1および第2の所定電位ならびに前記第1および第2のスイッチング素子のオン/オフに基づき前記基準電位を生成することを特徴とする。
The sixth invention has a resistor string composed of a plurality of resistance elements connected in series to each other, and a first predetermined potential is applied to one end of the resistor array and a second predetermined potential is applied to the other end. A reference potential generating circuit,
The resistor string is
A voltage dividing resistor string for generating a reference potential;
And first and second adjustment resistor strings for adjusting the reference potential,
A first switching element is provided corresponding to at least one connection point between the resistance elements constituting the first adjustment resistor string;
A second switching element is provided corresponding to at least one connection point between the resistance elements constituting the second adjustment resistor string;
One end of the voltage dividing resistor string is connected to one end of the first adjusting resistor string,
The other end of the voltage dividing resistor string is connected to one end of the second adjusting resistor string,
The other end of the first adjustment resistor string is given the first predetermined potential,
The other end of the second adjustment resistor string is given the second predetermined potential,
A connection point between the resistance elements constituting the first adjustment resistor string is connected to the first power supply line via the corresponding first switching element,
The connection point between the resistance elements constituting the second adjustment resistor string is connected to the second power supply line via the corresponding second switching element,
The voltage dividing resistor string generates the reference potential based on the first and second predetermined potentials and the on / off states of the first and second switching elements.
第7の発明は、第6の発明において、
前記第1の調整用抵抗列を構成する抵抗素子間の接続点と前記第1の電源ラインとの間に、当該接続点に対応する前記第1のスイッチング素子と直列に接続されるように挿入された抵抗素子を更に備えることを特徴とする。
A seventh invention is the sixth invention, wherein
Inserted between a connection point between the resistance elements constituting the first adjustment resistor string and the first power supply line so as to be connected in series with the first switching element corresponding to the connection point. It is further characterized by further comprising a resistance element.
第8の発明は、第6の発明において、
前記第2の調整用抵抗列を構成する抵抗素子間の接続点と前記第2の電源ラインとの間に、当該接続点に対応する前記第2のスイッチング素子と直列に接続されるように挿入された抵抗素子を更に備えることを特徴とする。
In an eighth aspect based on the sixth aspect,
Inserted between the connection point between the resistance elements constituting the second adjustment resistor string and the second power supply line so as to be connected in series with the second switching element corresponding to the connection point It is further characterized by further comprising a resistance element.
第9の発明は、第6から第8の発明のいずれかにおいて、
前記第2の所定電位は前記第2の電源ラインの電位よりも高く、
前記第1の所定電位は前記第2の所定電位よりも高く、
前記第1の電源ラインの電位は前記第1の所定電位よりも高いことを特徴とする。
According to a ninth invention, in any of the sixth to eighth inventions,
The second predetermined potential is higher than the potential of the second power supply line,
The first predetermined potential is higher than the second predetermined potential;
A potential of the first power supply line is higher than the first predetermined potential.
第10の発明は、第1から第9の発明のいずれかにおいて、
前記第1の所定電位を生成する第1の電源と、
前記第2の所定電位を生成する第2の電源とを更に備えることを特徴とする。
According to a tenth invention, in any one of the first to ninth inventions,
A first power source for generating the first predetermined potential;
And a second power source for generating the second predetermined potential.
第11の発明は、第1から第9の発明のいずれかにおいて、
前記第1の所定電位に応じた降伏電圧を有するツェナーダイオードを含み、当該降伏電圧に基づき前記第1の所定電位を生成する定電圧回路と、
前記第2の所定電位を生成する第2の電源とを更に備えることを特徴とする。
An eleventh aspect of the invention is any one of the first to ninth aspects of the invention,
A constant voltage circuit including a Zener diode having a breakdown voltage corresponding to the first predetermined potential, and generating the first predetermined potential based on the breakdown voltage;
And a second power source for generating the second predetermined potential.
第12の発明は、第1から第9の発明のいずれかにおいて、
前記第1の所定電位を生成する第1の電源と、
前記第2の所定電位に応じた降伏電圧を有するツェナーダイオードを含み、当該降伏電圧に基づき前記第2の所定電位を生成する定電圧回路とを更に備えることを特徴とする。
In a twelfth aspect of the invention, any one of the first to ninth aspects of the invention,
A first power source for generating the first predetermined potential;
A zener diode having a breakdown voltage corresponding to the second predetermined potential, and further comprising a constant voltage circuit for generating the second predetermined potential based on the breakdown voltage.
第13の発明は、第1から第9の発明のいずれかにおいて、
前記第1の所定電位に応じた降伏電圧を有するツェナーダイオードを含み、当該降伏電圧に基づき前記第1の所定電位を生成する第1の定電圧回路と、
前記第2の所定電位に応じた降伏電圧を有するツェナーダイオードを含み、当該降伏電圧に基づき前記第2の所定電位を生成する第2の定電圧回路とを更に備えることを特徴とする。
In a thirteenth invention according to any one of the first to ninth inventions,
A first constant voltage circuit including a Zener diode having a breakdown voltage corresponding to the first predetermined potential, and generating the first predetermined potential based on the breakdown voltage;
And a second constant voltage circuit including a Zener diode having a breakdown voltage corresponding to the second predetermined potential, and generating the second predetermined potential based on the breakdown voltage.
第14の発明は、表示装置であって、
第1から第13の発明のいずれかの発明に係る基準電位発生回路を備えたことを特徴とする。
A fourteenth invention is a display device,
A reference potential generating circuit according to any one of the first to thirteenth inventions is provided.
第15の発明は、表示すべき画像を形成するための複数の画素形成部と、当該表示すべき画像を表すアナログ電圧信号である複数のデータ信号を当該複数の画素形成部に伝達するための複数のデータ信号線とを備えた表示装置のデータ信号線駆動回路であって、
第1から第13の発明のいずれかの発明に係る基準電位発生回路により複数の階調電圧を生成する階調電圧発生回路を備え、当該複数の階調電圧に基づき前記複数のデータ信号を生成することを特徴とする。
According to a fifteenth aspect, a plurality of pixel forming portions for forming an image to be displayed and a plurality of data signals that are analog voltage signals representing the image to be displayed are transmitted to the plurality of pixel forming portions. A data signal line driving circuit of a display device including a plurality of data signal lines,
A reference voltage generation circuit according to any one of the first to thirteenth aspects includes a gradation voltage generation circuit that generates a plurality of gradation voltages, and generates the plurality of data signals based on the plurality of gradation voltages. It is characterized by doing.
第16の発明は、表示すべき画像を形成するための複数の画素形成部と、当該表示すべき画像を表すアナログ電圧信号であるビデオ信号を当該複数の画素形成部に伝達するための複数のデータ信号線と、前記ビデオ信号を前記複数のデータ信号線に順次に印加するデータ信号線駆動回路とを備えた表示装置において、前記表示すべき画像を表す信号として外部から入力されるデジタル映像信号に基づき前記ビデオ信号を生成するビデオ回路であって、
第1から第13の発明のいずれかの発明に係る基準電位発生回路により複数の階調電圧を生成する階調電圧発生回路を備え、当該複数の階調電圧に基づき前記デジタル映像信号をアナログ電圧信号に変換することにより前記ビデオ信号を生成することを特徴とする。
In a sixteenth aspect of the invention, a plurality of pixel forming portions for forming an image to be displayed and a plurality of video signals that are analog voltage signals representing the image to be displayed are transmitted to the plurality of pixel forming portions. In a display device comprising a data signal line and a data signal line driving circuit for sequentially applying the video signal to the plurality of data signal lines, a digital video signal input from the outside as a signal representing the image to be displayed A video circuit for generating the video signal based on:
A reference voltage generation circuit according to any one of the first to thirteenth aspects includes a gradation voltage generation circuit that generates a plurality of gradation voltages, and the digital video signal is converted into an analog voltage based on the plurality of gradation voltages. The video signal is generated by converting into a signal.
第17の発明は、低振幅のクロック信号から高振幅のクロック信号を生成するクロック信号生成回路であって、
請求項1から請求項13までのいずれか1項に記載の基準電位発生回路と、
前記低振幅のクロック信号の電位を前記基準電位発生回路によって生成される基準電位と比較することにより前記高振幅のクロック信号を生成する比較器とを備えることを特徴とする。
A seventeenth aspect of the invention is a clock signal generation circuit for generating a high amplitude clock signal from a low amplitude clock signal,
A reference potential generation circuit according to any one of
And a comparator for generating the high-amplitude clock signal by comparing the potential of the low-amplitude clock signal with the reference potential generated by the reference potential generation circuit.
上記第1の発明によれば、抵抗列を構成する抵抗素子間の接続点のうちスイッチング素子を介して電源ラインに接続される接続点から当該抵抗列の一端または他端までの抵抗値に比べ、当該スイッチング素子のオン抵抗が十分に大きくなるように設定することができる。また、当該スイッチング素子のオン抵抗が十分に大きくなるように設定すれば、当該オン抵抗のばらつきによる基準電位への影響が小さくなる。したがって、基準電位の精度低下を抑えつつスイッチング素子のオン/オフの設定によって基準電位を調整することも可能となる。また、当該スイッチング素子のオン抵抗を十分に大きく設定できるので、基準電位発生回路の回路規模を小さくすることも可能となる。 According to the first aspect of the invention, compared to the resistance value from the connection point connected to the power supply line through the switching element among the connection points between the resistance elements constituting the resistance string to one end or the other end of the resistance string. The on-resistance of the switching element can be set to be sufficiently large. Further, if the on-resistance of the switching element is set to be sufficiently large, the influence on the reference potential due to the variation of the on-resistance is reduced. Accordingly, it is possible to adjust the reference potential by setting the switching element on / off while suppressing a decrease in accuracy of the reference potential. In addition, since the on-resistance of the switching element can be set sufficiently high, the circuit scale of the reference potential generating circuit can be reduced.
上記第2の発明では、調整用抵抗列の一端が分圧用抵抗列に接続されると共に他端に第1の所定電位が与えられる。これにより、スイッチング素子のオン抵抗を調整用抵抗列の抵抗値よりも十分に大きく設定することで、調整用抵抗列における抵抗素子間の接続点のうちオンされるスイッチング素子を介して電源ラインに接続される接続点の電位を、第1の所定電位にほぼ等しくすることができる。このような設定によれば、基準電位は、主として、分圧用抵抗列および調整用抵抗列の抵抗値によって決まり、スイッチング素子のオン抵抗が直接的には関係しなくなるので、当該オン抵抗のばらつきによる基準電位への影響も小さくなる。したがって、回路規模の増大を抑えると共に十分な精度を確保しつつ基準電位を調整できる基準電位発生回路を提供することができる。 In the second aspect of the invention, one end of the adjustment resistor string is connected to the voltage dividing resistor string, and the first predetermined potential is applied to the other end. Thus, by setting the on-resistance of the switching element to be sufficiently larger than the resistance value of the adjustment resistor string, it is connected to the power supply line via the switching element that is turned on among the connection points between the resistance elements in the adjustment resistor string. The potential of the connection point to be connected can be made approximately equal to the first predetermined potential. According to such setting, the reference potential is mainly determined by the resistance values of the voltage dividing resistor string and the adjusting resistor string, and the on-resistance of the switching element is not directly related. The influence on the reference potential is also reduced. Therefore, it is possible to provide a reference potential generation circuit capable of adjusting the reference potential while suppressing an increase in circuit scale and ensuring sufficient accuracy.
上記第3の発明によれば、調整用抵抗列を構成する抵抗素子間の接続点と電源ラインとの間に、当該接続点に対応するスイッチング素子と直列に接続されるように抵抗素子が挿入されるので、スイッチング素子のオン抵抗が十分に大きくない場合であっても、第2の発明と同様の効果を得ることができる。 According to the third aspect of the invention, the resistance element is inserted between the connection point between the resistance elements constituting the adjustment resistor string and the power supply line so as to be connected in series with the switching element corresponding to the connection point. Therefore, even if the on-resistance of the switching element is not sufficiently high, the same effect as that of the second invention can be obtained.
上記第4の発明では、主として第1の所定電位と第2の所定電位との差に応じて基準電位が生成され、電源ラインに接続されたスイッチング素子のオン/オフによって基準電位が調整される。この電源ラインの電位は第1の所定電位よりも高く、これは、スイッチ素子として例えばPチャネルトランジスタを使用した場合にスイッチング動作上有利に働くので、スイッチング素子のオン/オフにより基準電位の調整を良好に行うことができる。 In the fourth aspect, the reference potential is generated mainly according to the difference between the first predetermined potential and the second predetermined potential, and the reference potential is adjusted by turning on / off the switching element connected to the power supply line. . The potential of the power supply line is higher than the first predetermined potential. This is advantageous for switching operation when, for example, a P-channel transistor is used as a switching element. Therefore, the reference potential is adjusted by turning on / off the switching element. It can be done well.
上記第5の発明においても、主として第1の所定電位と第2の所定電位との差に応じて基準電位が生成され、電源ラインに接続されたスイッチング素子のオン/オフによって基準電位が調整される。この電源ラインの電位は第1の所定電位よりも低く、これは、スイッチ素子として例えばNチャネルトランジスタを使用した場合にスイッチング動作上有利に働くので、スイッチング素子のオン/オフにより基準電位の調整を良好に行うことができる。 Also in the fifth aspect, the reference potential is generated mainly in accordance with the difference between the first predetermined potential and the second predetermined potential, and the reference potential is adjusted by turning on / off the switching element connected to the power supply line. The The potential of the power supply line is lower than the first predetermined potential. This is advantageous for switching operation when, for example, an N-channel transistor is used as a switching element. Therefore, the reference potential is adjusted by turning on / off the switching element. It can be done well.
上記第6の発明によれば、第1および第2の調整用抵抗列とそれらに対応する第1および第2のスイッチング素子に関して上記第2の発明と同様の作用を奏し、回路規模の増大を抑えると共に十分な精度を確保しつつ基準電位を調整できる基準電位発生回路を提供することができる。しかも、第1および第2のスイッチング素子の双方のオン/オフを制御することで、より広い範囲で基準電位の調整が可能となる。 According to the sixth invention, the first and second adjustment resistor strings and the first and second switching elements corresponding to the first and second adjustment resistor strings have the same effect as the second invention, and the circuit scale is increased. It is possible to provide a reference potential generation circuit that can suppress the reference potential and adjust the reference potential while ensuring sufficient accuracy. In addition, the reference potential can be adjusted in a wider range by controlling on / off of both the first and second switching elements.
上記第7の発明によれば、第1の調整用抵抗列を構成する抵抗素子間の接続点と第1の電源ラインとの間に、当該接続点に対応するスイッチング素子と直列に接続されるように抵抗素子が挿入されるので、第1のスイッチング素子のオン抵抗が十分に大きくない場合であっても、第6の発明と同様の効果を得ることができる。 According to the seventh aspect, the switching element corresponding to the connection point is connected in series between the connection point between the resistance elements constituting the first adjustment resistor string and the first power supply line. Thus, even if the on-resistance of the first switching element is not sufficiently high, the same effect as in the sixth invention can be obtained.
上記第8の発明によれば、第2の調整用抵抗列を構成する抵抗素子間の接続点と第2の電源ラインとの間に、当該接続点に対応するスイッチング素子と直列に接続されるように抵抗素子が挿入されるので、第2のスイッチング素子のオン抵抗が十分に大きくない場合であっても、第6の発明と同様の効果を得ることができる。 According to the eighth aspect, the switching element corresponding to the connection point is connected in series between the connection point between the resistance elements constituting the second adjustment resistor string and the second power supply line. Thus, even if the on-resistance of the second switching element is not sufficiently high, the same effect as that of the sixth invention can be obtained.
上記第9の発明によれば、主として第1の所定電位と第2の所定電位との差に応じて基準電位が生成され、第1および第2の電源ラインにそれぞれ接続された第1および第2のスイッチング素子のオン/オフによって基準電位が調整される。ここで、第1の電源ラインの電位は第1の所定電位よりも高く、第2の電源ラインの電位は第2の所定電位よりも低く、上記第4および第5の発明と同様、これらは、スイッチング動作上有利に働くので、スイッチング素子のオン/オフにより基準電位の調整を良好に行うことができる。 According to the ninth aspect, the reference potential is generated mainly in accordance with the difference between the first predetermined potential and the second predetermined potential, and the first and second power sources connected to the first and second power supply lines, respectively. The reference potential is adjusted by turning on / off the two switching elements. Here, the potential of the first power supply line is higher than the first predetermined potential, and the potential of the second power supply line is lower than the second predetermined potential. As in the fourth and fifth inventions, Since it works advantageously in the switching operation, the reference potential can be adjusted well by turning on / off the switching element.
上記第10の発明によれば、第1の電源により第1の所定電位が与えられ、第2の電源により第2の所定電位が与えられることで、第1から第9の発明と同様の効果を奏する。 According to the tenth aspect of the invention, the first predetermined potential is applied by the first power supply, and the second predetermined potential is applied by the second power supply. Play.
第11の発明によれば、ツェナーダイオードを使用した定電圧回路により第1の所定電位が与えられるので、電源の数を減らしつつ第1から第9の発明と同様の効果を得ることができる。 According to the eleventh invention, since the first predetermined potential is applied by the constant voltage circuit using the Zener diode, the same effects as those of the first to ninth inventions can be obtained while reducing the number of power supplies.
第12の発明によれば、ツェナーダイオードを使用した第2の定電圧回路により第2の所定電位が与えられるので、電源の数を減らしつつ第1から第9の発明と同様の効果を得ることができる。 According to the twelfth invention, since the second predetermined potential is applied by the second constant voltage circuit using a Zener diode, the same effects as those of the first to ninth inventions can be obtained while reducing the number of power supplies. Can do.
第13の発明によれば、ツェナーダイオードを使用した第1および第2の定電圧回路により第1および第2の所定電位が与えられるので、更に電源の数を減らしつつ第1から第9の発明と同様の効果を得ることができる。 According to the thirteenth invention, since the first and second predetermined potentials are given by the first and second constant voltage circuits using a Zener diode, the first to ninth inventions are further reduced while further reducing the number of power supplies. The same effect can be obtained.
第14の発明によれば、表示装置で必要とされる階調電圧の発生等のために使用される基準電位発生回路において、回路規模の増大を抑えると共に、スイッチング素子のオン抵抗のばらつきにかかわらず十分な精度を確保しつつ基準電位を調整することできる。したがって、当該発明は、液晶パネル等を構成する基板上に表示部と一体的に階調電圧発生回路としての基準電位発生回路を薄膜トランジスタにより形成する場合に有効である。 According to the fourteenth aspect of the present invention, in the reference potential generating circuit used for generating the gradation voltage required for the display device, an increase in circuit scale is suppressed and the on-resistance of the switching element is varied. Therefore, it is possible to adjust the reference potential while ensuring sufficient accuracy. Therefore, the present invention is effective when a reference potential generation circuit as a gradation voltage generation circuit is formed by a thin film transistor integrally with a display portion on a substrate constituting a liquid crystal panel or the like.
第15の発明によれば、表示装置のデータ信号線駆動回路で必要とされる階調電圧の発生のために使用される基準電位発生回路において、回路規模の増大を抑えると共に、スイッチング素子のオン抵抗のばらつきにかかわらず十分な精度を確保しつつ基準電位を調整することできる。したがって、当該発明は、液晶パネル等を構成する基板上に表示部と一体的にデータ信号線駆動回路を薄膜トランジスタにより形成する場合に有効である。 According to the fifteenth aspect of the present invention, in the reference potential generating circuit used for generating the gradation voltage required in the data signal line driving circuit of the display device, an increase in circuit scale is suppressed and the switching element is turned on. Regardless of the variation in resistance, the reference potential can be adjusted while ensuring sufficient accuracy. Therefore, the present invention is effective when a data signal line driving circuit is formed of a thin film transistor integrally with a display portion on a substrate constituting a liquid crystal panel or the like.
第16の発明によれば、表示装置のビデオ回路で必要とされる階調電圧の発生のために使用される基準電位発生回路において、回路規模の増大を抑えると共に、スイッチング素子のオン抵抗のばらつきにかかわらず十分な精度を確保しつつ基準電位を調整することできる。したがって、当該発明は、液晶パネル等を構成する基板上に表示部と一体的にビデオ回路を薄膜トランジスタにより形成する場合に有効である。 According to the sixteenth aspect of the present invention, in the reference potential generating circuit used for generating the gradation voltage required in the video circuit of the display device, an increase in circuit scale is suppressed and the on-resistance variation of the switching element is varied. Regardless of this, the reference potential can be adjusted while ensuring sufficient accuracy. Therefore, the present invention is effective when a video circuit is formed of a thin film transistor integrally with a display portion on a substrate constituting a liquid crystal panel or the like.
第17の発明によれば、レベルシフタとして動作する比較器を構成するトランジスタのばらつきに起因するオフセット電圧や低振幅のクロック信号のレベルのばらつき等に応じて、生成される基準電位を調整することができる。しかも、基準電位発生回路において回路規模の増大を抑えると共にスイッチング素子のオン抵抗のばらつきにかかわらず十分な精度を確保しつつ、基準電位を調整することできる。 According to the seventeenth aspect, the generated reference potential can be adjusted in accordance with the offset voltage caused by the variation in the transistors constituting the comparator operating as the level shifter, the variation in the level of the low-amplitude clock signal, and the like. it can. In addition, it is possible to adjust the reference potential while suppressing an increase in circuit scale in the reference potential generation circuit and ensuring sufficient accuracy regardless of variations in the on-resistance of the switching elements.
以下、添付図面を参照しつつ本発明の実施形態について説明する。
<1.第1の実施形態>
<1.1 構成および動作>
図1は、本発明の第1の実施形態に係る基準電位発生回路の構成を示す回路図である。この基準電位発生回路は、後述のように、液晶パネル等を構成する基板上において例えば階調電圧を生成するためにスイッチング素子として薄膜トランジスタを用いて実現されるが、このような用途や実現方法に限定されるものではなく、例えばIC(Integrated Circuit)チップ内でスイッチング素子としてMOSトランジスタ等を用いて実現してもよい。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.
<1. First Embodiment>
<1.1 Configuration and operation>
FIG. 1 is a circuit diagram showing a configuration of a reference potential generating circuit according to the first embodiment of the present invention. As will be described later, this reference potential generation circuit is realized by using a thin film transistor as a switching element, for example, for generating a gradation voltage on a substrate constituting a liquid crystal panel or the like. However, the present invention is not limited to this. For example, it may be realized by using a MOS transistor or the like as a switching element in an IC (Integrated Circuit) chip.
図1に示すように、この基準電位発生回路は、互いに直列に接続されたn+1個の抵抗素子R(1),R(2),…,R(n)、R(n+1)からなる分圧用抵抗列10と、互いに直列に接続された2m+1個の抵抗素子Ra(1),Ra(2),……,Ra(2m),Ra(2m+1)からなる調整用抵抗列10aと、当該調整用抵抗列10aを構成する抵抗素子間の2m個の接続点にそれぞれ接続された2m個のスイッチング素子(以下「調整用スイッチング素子」という)としてのPチャネル薄膜トランジスタTFT(1),TFT(2),…,TFT(2m)とを備えており、外部から所定電位を与えるべき端子として、第1の電位Vaを与えるべき第1の端子T1と、第2の電位Vssを与えるべき第2の端子T2とを有し、発生すべき基準電位を調整するための制御信号を与えるべき端子として2m個の制御端子Tc(1),Tc(2),…,Tc(2m)を有している(ここで、mおよびnは自然数である。以下においても同様。)。そして、分圧用抵抗列10は、その一端が調整用抵抗列10aの一端に接続され、その他端が第2の端子T2に接続されている。調整用抵抗列10aの他端は、第1の端子T1に接続されている。また、調整用スイッチング素子群を構成する2m個のトランジスタTFT(1)〜TFT(2m)は、それらのドレイン端子が調整用抵抗列10aにおける抵抗素子間の2m個の接続点にそれぞれ接続され、それらのソース端子が電源ラインLvddに接続され、それらのゲート端子が上記制御端子Tc(1)〜Tc(2m)にそれぞれ接続されている。
As shown in FIG. 1, this reference potential generating circuit is for voltage division comprising n + 1 resistance elements R (1), R (2),..., R (n), R (n + 1) connected in series with each other.
上記のように構成された基準電位発生回路を動作させる際には、第1の端子T1に第1の電位Vaが所定電源から与えられ、第2の端子T2に第2の電位Vssが所定電源から与えられまたは第2の端子T2が接地される(図2参照)。本実施形態では、第1の電位Vaは第2の電位Vssよりも高く、調整用スイッチ素子群が接続される電源ラインLvddの電位Vddは、第1の電位Vaよりも高い(電源ラインLvddの電位Vddは、第1の電位Vaよりも低くてもよいが、調整用スイッチ素子群を構成するPチャネルトランジスタの動作上は電位Vddが第1の電位Vaよりも高いことが好ましい)。また、第1の端子T1に第1の電位Vaを与えるために、電源に代えて、図3に示すようにツェナーダイオードDzを利用して第1の電位Vaを生成する定電圧回路を用いてもよい。この定電圧回路は、アノードが接地されたツェナーダイオードDzと、一端が電源ラインLvddに接続され他端がツェナーダイオードDzのカソードに接続された抵抗素子Rcvとからなり、ツェナーダイオードDzと抵抗素子Rcvとの接続点が上記基準電位発生回路における第1の端子T1に接続される。このような構成によれば、降伏電圧が第1の電位Vaに等しいツェナーダイオードを上記ツェナーダイオードDzとして使用することにより、別途電源を用意することなく、基準電位発生回路における第1の端子T1に第1の電位Vaを与えることができる。なお、1個のツェナーダイオードの降伏電圧が第1の端子T1に与えるべき第1の電位Vaよりも低い場合には、複数のツェナーダイオードを互いに直列に接続してそれらの降伏電圧の和が第1の電位Vaに等しくなるようにしてもよい(以下の他の実施形態や変形例においても同様)。 When the reference potential generating circuit configured as described above is operated, the first potential Va is supplied from the predetermined power source to the first terminal T1, and the second potential Vss is supplied to the second terminal T2 from the predetermined power source. Or the second terminal T2 is grounded (see FIG. 2). In the present embodiment, the first potential Va is higher than the second potential Vss, and the potential Vdd of the power supply line Lvdd to which the adjustment switch element group is connected is higher than the first potential Va (the power supply line Lvdd The potential Vdd may be lower than the first potential Va, but it is preferable that the potential Vdd is higher than the first potential Va for the operation of the P-channel transistors constituting the adjustment switch element group. Further, in order to give the first potential Va to the first terminal T1, a constant voltage circuit that generates the first potential Va using the Zener diode Dz as shown in FIG. 3 is used instead of the power source. Also good. This constant voltage circuit includes a Zener diode Dz whose anode is grounded, and a resistance element Rcv having one end connected to the power supply line Lvdd and the other end connected to the cathode of the Zener diode Dz. The Zener diode Dz and the resistance element Rcv Is connected to the first terminal T1 in the reference potential generating circuit. According to such a configuration, by using a Zener diode whose breakdown voltage is equal to the first potential Va as the Zener diode Dz, the first terminal T1 in the reference potential generation circuit can be connected to the reference potential generating circuit without preparing a separate power source. The first potential Va can be applied. When the breakdown voltage of one Zener diode is lower than the first potential Va to be applied to the first terminal T1, a plurality of Zener diodes are connected in series with each other and the sum of the breakdown voltages is the first. It may be made equal to the potential Va of 1 (the same applies to other embodiments and modifications described below).
一方、2m個の制御端子Tc(1)〜Tc(2m)のいずれか1つにはローレベルの信号が与えられ、他の制御端子にはハイレベルの信号が与えられる。これにより、調整用スイッチング素子群のうちローレベルの信号が与えられた制御端子に(ゲート端子の)接続されたPチャネルトランジスタのみがオン状態となり(以下、このオン状態となるトランジスタを「ONトランジスタ」という)、調整用抵抗列10aにおける抵抗素子間の接続点のうちONトランジスタの接続される接続点のみが当該ONトランジスタを介して電源ラインLvddに電気的に接続される。なお、調整用スイッチング素子群を構成するPチャネルトランジスタの数およびそのオン/オフを制御するための信号を与えるべき制御端子の数は2m個であるので、mビットの選択信号を与えれば、調整用スイッチング素子群を構成するいずれか1つのPチャネルトランジスタのみをオンさせることができる。具体的には、mビットの選択信号を入力とし、上記の制御端子Tc(1)〜Tc(2m)にそれぞれ与えるべき信号を制御信号として出力するデコーダを設ければよい。
On the other hand, 2 m pieces of control terminal Tc (1) to any one of to Tc (2 m) is given a low-level signal, a high level signal is applied to the other control terminal. As a result, only the P-channel transistor (of the gate terminal) connected to the control terminal to which the low level signal is given is turned on in the adjustment switching element group (hereinafter, the transistor in the on state is referred to as “ON transistor”. ”), Only the connection point to which the ON transistor is connected among the connection points between the resistance elements in the
本実施形態では上記のようにして、第1の端子T1に第1の電位Vaが、第2の端子T2に第2の電位Vssがそれぞれ与えられ、上記のようなmビットの選択信号によって制御端子Tc(1)〜Tc(2m)のいずれか1つにのみローレベルの信号が与えられ他の制御端子にはハイレベルの信号が与えられる。これにより、主として第1の電位Vaおよび第2の電位Vssと分圧用抵抗列10を構成する抵抗素子R(1)〜R(n+1)の抵抗値とに基づき、当該抵抗素子間の接続点の電位が決定され、これらの電位が基準電位Vref(1)〜Vref(n)として出力される。図1に示すように、第1の端子T1と分圧用抵抗列10との間には調整用抵抗列10aが接続され、かつ、その調整用抵抗列10aにおける抵抗素子Ra(1)〜Ra(2m+1)間の接続点と電源ラインLvddとの間には調整用スイッチング素子TFT(1)〜TFT(2m)が接続されているので、上記のようにして生成される基準電位Vref(1)〜Vref(n)は、調整用抵抗列10aにおける抵抗素子Ra(1)〜Ra(2m+1)の抵抗値および調整用スイッチング素子群におけるONトランジスタの位置(これは上記mビットの選択信号によって決まる)にも依存する。したがって、選択信号によって調整用スイッチング素子群におけるONトランジスタを変更することで、分圧用抵抗列10から出力される基準電位Vref(1)〜Vref(n)を調整することができる。
In the present embodiment, as described above, the first potential Va is applied to the first terminal T1, and the second potential Vss is applied to the second terminal T2, respectively. The control is performed by the m-bit selection signal as described above. Only one of the terminals Tc (1) to Tc (2 m ) is given a low level signal, and the other control terminals are given a high level signal. Thereby, based on the first potential Va and the second potential Vss and the resistance values of the resistance elements R (1) to R (n + 1) constituting the voltage dividing
なお、図1に示した構成では、第1および第2の電位Va,Vssを第1および第2の端子T1,T2にそれぞれ与えるための電源またはツェナーダイオードによる定電圧回路や、調整用スイッチング素子群に与えるべき制御信号を生成するデコーダ等は、基準電位発生回路に含まれていないが、これを基準電位発生回路に含める構成としてもよい(この点に関しては以下の他の実施形態および変形例についても同様である)。 In the configuration shown in FIG. 1, a constant voltage circuit using a power supply or a Zener diode for supplying the first and second potentials Va and Vss to the first and second terminals T1 and T2, respectively, or an adjustment switching element A decoder or the like for generating a control signal to be given to the group is not included in the reference potential generation circuit, but may be included in the reference potential generation circuit (in this regard, other embodiments and modifications described below) The same applies to.
図4は、本実施形態に係る基準電位発生回路においてONトランジスタを変更したときの出力特性を示している。図4において、直線CL(1)は、分圧用抵抗列10に最も遠いトランジスタTFT(1)がONトランジスタである場合の各基準電位Vref(1)〜Vref(n)を示す点を結ぶ直線であり、直線CL(2m)は、分圧用抵抗列10に最も近いトランジスタTFT(2m)がONトランジスタである場合の各基準電位Vref(1)〜Vref(n)を示す点を結ぶ直線である。したがって、mビットの選択信号の設定によって調整用スイッチング素子群においてONトランジスタを変更することにより、これら2つの直線CL(1)とCL(2m)とによって挟まれた範囲で各基準電位Vref(1)〜Vref(n)を調整することができる。
FIG. 4 shows output characteristics when the ON transistor is changed in the reference potential generating circuit according to the present embodiment. In FIG. 4, a straight line CL (1) is a straight line connecting points indicating the reference potentials Vref (1) to Vref (n) when the transistor TFT (1) farthest from the voltage dividing
<1.2 シミュレーション>
上記のように本実施形態では、調整用スイッチング群においてONトランジスタを変更することにより、分圧用抵抗列10から出力される基準電位Vref(1)〜Vref(n)を調整することができる。本実施形態のようにスイッチング素子のオン/オフによって基準電位を調整する構成の場合、そのスイッチング素子のオン抵抗のばらつきが基準電位に影響するが、基準電位の精度を高めるためには、このオン抵抗のばらつきの影響を出来るだけ少なくするのが好ましい。そこで本願発明者は、調整用のスイッチング素子のオン抵抗のばらつきによる基準電位への影響(出力特性への影響)を調べるために、上記第1の実施形態に相当する基準電位発生回路と上記第1の実施形態に対応する従来の基準電位発生回路とについて計算機シミュレーションを行った。
<1.2 Simulation>
As described above, in this embodiment, the reference potentials Vref (1) to Vref (n) output from the voltage dividing
図5(a)は、本シミュレーションの対象とされた回路構成のうち本実施形態に相当する回路構成(以下「第1の回路構成」という)を示している。この第1の回路構成は、分圧用抵抗列10に相当する1個の5.6kΩの抵抗素子と、調整用抵抗列10aに相当する18Ωの10個の抵抗素子からなる抵抗列と、これらの抵抗素子間の9個の接続点と8Vの電源ラインとの間にそれぞれ接続された9個のスイッチング素子としての薄膜トランジスタTFT(1)〜TFT(9)とを備えており、調整用抵抗列10aに相当する18Ωの10個の抵抗素子からなる抵抗列と分圧用抵抗列に相当する5.6kΩの抵抗素子との接続点の電位が、基準電位として出力される。また、第1の電位として3.0Vが与えられ、第2の電位として0Vが与えられる(第2の端子T2に相当する端子が接地される)ものとし、調整用スイッチング素子群を構成する各薄膜トランジスタTFT(1)〜TFT(9)のオン抵抗Ron1は8kΩ±10%(8kΩを中心としてばらつきが±10%)であるものとする。
FIG. 5A shows a circuit configuration corresponding to the present embodiment (hereinafter referred to as “first circuit configuration”) among the circuit configurations targeted for the simulation. The first circuit configuration includes one resistor element of 5.6 kΩ corresponding to the voltage dividing
図5(b)は、本シミュレーションの対象とされた回路構成のうち従来の基準電位発生回路に相当する回路構成(以下「第2の回路構成」という)を示している。この第2の回路構成は、分圧用抵抗列に相当する8kΩの抵抗素子および5.15kΩの抵抗素子からなる抵抗列と、調整用抵抗列に相当する50Ωの9個の抵抗素子からなる抵抗列と、これらの抵抗素子間の9個の接続点と8Vの電源ラインとの間にそれぞれ接続された9個のスイッチング素子としての薄膜トランジスタTFT(1)〜TFT(9)とを備えており、分圧用抵抗列を構成する8kΩの抵抗素子と5.15kΩの抵抗素子との接続点の電位が基準電位として出力される。また、分圧用抵抗列は、その一端が調整用抵抗列の一端に接続され、その他端が接地されており、調整用抵抗列の他端には、第1の回路構成とは異なり、外部から電位が与えられない。調整用スイッチング素子群を構成する各薄膜トランジスタTFT(1)〜TFT(9)のオン抵抗Ron2は500Ω±10%であるものとする。 FIG. 5B shows a circuit configuration corresponding to a conventional reference potential generating circuit (hereinafter referred to as “second circuit configuration”) among the circuit configurations targeted for this simulation. The second circuit configuration includes a resistor string composed of an 8 kΩ resistor element corresponding to a voltage dividing resistor string and a 5.15 kΩ resistor element, and a resistor string composed of nine 50 Ω resistor elements corresponding to an adjusting resistor string. Thin film transistors TFT (1) to TFT (9) as nine switching elements respectively connected between nine connection points between these resistance elements and an 8V power supply line. The potential at the connection point between the 8 kΩ resistor element and the 5.15 kΩ resistor element constituting the pressure resistor string is output as the reference potential. The voltage dividing resistor string has one end connected to one end of the adjusting resistor string and the other end grounded. Unlike the first circuit configuration, the other end of the adjusting resistor string is externally connected. No potential is applied. It is assumed that the on-resistance Ron2 of the thin film transistors TFT (1) to TFT (9) constituting the adjustment switching element group is 500Ω ± 10%.
図6(a)(b)は上記シミュレーションの結果を示す図である。このうち図6(a)は、調整用スイッチング素子群においてONトランジスタを変えた場合の基準電位としての出力電圧の変化を示している。図6(a)において“○”は本実施形態に相当する第1の回路構成における出力電圧を示しており、“×”は従来例に相当する第2の回路構成における出力電圧を示している。また、実線はオン抵抗が本来の設定値(第1の回路構成では18Ω、第2の回路構成では50Ω)である場合においてONトランジスタを変えたときの出力電圧(基準電位)を変化を、一点鎖線はオン抵抗が本来の設定値から10%だけ小さい値である場合においてONトランジスタを変えたときの出力電圧(基準電位)を変化を、点線はオン抵抗が本来の設定値から10%だけ大きい値である場合においてONトランジスタを変えたときの出力電圧(基準電位)を変化を、それぞれ示している。 FIGS. 6A and 6B are diagrams showing the results of the simulation. Among these, FIG. 6A shows a change in the output voltage as the reference potential when the ON transistor is changed in the adjustment switching element group. In FIG. 6A, “◯” indicates the output voltage in the first circuit configuration corresponding to the present embodiment, and “X” indicates the output voltage in the second circuit configuration corresponding to the conventional example. . The solid line shows the change in the output voltage (reference potential) when the ON transistor is changed when the ON resistance is the original set value (18Ω in the first circuit configuration, 50Ω in the second circuit configuration). The chain line shows a change in the output voltage (reference potential) when the ON transistor is changed when the on-resistance is 10% smaller than the original set value, and the dotted line shows a 10% larger on-resistance than the original set value. In the case of the value, the change in the output voltage (reference potential) when the ON transistor is changed is shown.
このような図6(a)に示されたシミュレーション結果によれば、第1および第2の回路構成の双方において、ONトランジスタの変更により出力電圧が2.92V〜3.01Vという約90mVの幅の範囲(以下「調整範囲」という)で調整される。そして、オン抵抗が10%ばらついたときの当該ばらつきによる出力電圧の変動幅(以下「誤差幅」という)は、本実施形態に相当する第1の回路構成によれば、従来例に相当する第2の回路構成の場合よりも低減される。すなわち、オン抵抗が10%ばらつくことによる出力電圧の誤差幅は、ONトランジスタの変更に応じて図6(b)に示すようになる。これは、オン抵抗が10%ばらつくことによる出力電圧の誤差幅が、従来例に相当する第2の回路構成では、上記調整範囲に亘って約20mVであるのに対し、本実施形態に相当する第1の回路構成では、上記調整範囲において約3mV〜19mVとなることを示している。このように本シミュレーションによれば、本実施形態では調整用スイッチング素子のオン抵抗のばらつきによる出力電圧の誤差幅が低減されることがわかる。 According to such a simulation result shown in FIG. 6A, in both the first and second circuit configurations, the output voltage is about 90 mV of 2.92 V to 3.01 V by changing the ON transistor. (Hereinafter referred to as “adjustment range”). The fluctuation range of the output voltage due to the variation when the on-resistance varies by 10% (hereinafter referred to as “error width”) is, according to the first circuit configuration corresponding to this embodiment, the first corresponding to the conventional example. It is reduced as compared with the case of the circuit configuration of 2. That is, the error width of the output voltage due to the variation of the ON resistance by 10% is as shown in FIG. 6B according to the change of the ON transistor. This corresponds to the present embodiment, whereas the error width of the output voltage due to the 10% variation in the on-resistance is about 20 mV over the adjustment range in the second circuit configuration corresponding to the conventional example. The first circuit configuration indicates that the adjustment range is approximately 3 mV to 19 mV. Thus, according to this simulation, it can be seen that in this embodiment, the error width of the output voltage due to variations in the on-resistance of the adjustment switching element is reduced.
また、調整用スイッチング素子を薄膜トランジスタで実現する場合、従来例に相当する第2の回路構成では、オン抵抗が500Ωであってチャネル幅が数100μm〜数1000μmとなるのに対し、本実施形態に相当する第1の回路構成では、オン抵抗が8kΩであってチャネル幅が数μm〜10数μmとなる。したがって、本実施形態は、実現のための回路面積の点においても従来例に比べ格段に有利である。なお、従来例に相当する第2の回路構成(図5(b))において、調整用スイッチング素子としての薄膜トランジスタのオン抵抗を500Ωから100Ω〜200Ω程度にまで小さくすると、オン抵抗のばらつき(10%)による出力電圧の誤差幅が本実施形態に相当する第1の構成例の場合よりも小さくなる。しかし、この場合、第2の回路構成におけるスイッチング素子としての薄膜トランジスタのチャネル幅が数mm〜10mm程度となって非実用的なものとなる。 When the adjustment switching element is realized by a thin film transistor, the second circuit configuration corresponding to the conventional example has an on-resistance of 500Ω and a channel width of several hundreds μm to several thousand μm. In the corresponding first circuit configuration, the on-resistance is 8 kΩ and the channel width is several μm to several tens μm. Therefore, this embodiment is much more advantageous than the conventional example in terms of circuit area for realization. In the second circuit configuration corresponding to the conventional example (FIG. 5B), when the ON resistance of the thin film transistor as the adjustment switching element is reduced from 500Ω to about 100Ω to 200Ω, the ON resistance variation (10% ) Is smaller than that in the first configuration example corresponding to the present embodiment. However, in this case, the channel width of the thin film transistor as the switching element in the second circuit configuration is about several mm to 10 mm, which is impractical.
<1.3 効果>
上記のように本実施形態では、図1に示すように、調整用抵抗列10aは、その一端が分圧用抵抗列10に接続されると共に、その他端が第1の端子T1に接続され、その第1の端子T1には外部の電源またはツェナーダイオードによる定電圧回路等から第1の電位Vaが与えられる。これより、調整用スイッチング素子としての各薄膜トランジスタTFT(1)〜TFT(2m)のオン抵抗を調整用抵抗列10aの抵抗値よりも十分に大きく設定することで、調整用抵抗列10aにおける抵抗素子間の接続点のうち調整用スイッチ素子の1つであるONトランジスタが接続される点(以下「ONトランジスタ接続点」)の電位を第1の電位Vaにほぼ等しくすることができる(ただし、分圧用抵抗列10の抵抗値が調整用抵抗列10aの抵抗値よりも十分に大きいことが前提となる)。例えば、上記シミュレーションの対象としての第1の回路構成では、図5(a)に示すように、調整用スイッチング素子としての各薄膜トランジスタTFT(1)〜TFT(2m)のオン抵抗は8kΩ±10%であって調整用抵抗列10a全体の抵抗値である18Ω×10=180Ωよりも十分に大きい(この例では、分圧用抵抗列100の抵抗値(5.6kΩ)も調整用抵抗列10aの抵抗値(180Ω)よりも十分に大きい)。このような設定によれば、ONトランジスタ接続点と第2の電位Vssが与えられるべき第2の端子T2との間の抵抗列、すなわちONトランジスタTFT(j)の接続点と分圧用抵抗列10との間の調整用抵抗素子Ra(j+1)〜Ra(2m+1)を分圧用抵抗列10に加えた抵抗列によって、出力電圧としての基準電位Vref(1)〜Vref(n)が決定される(ここで、jは2m以下の自然数)。したがって、選択信号によってスイッチング素子群におけるONトランジスタを変更することで基準電位Vref(1)〜Vref(n)を調整することができる。
<1.3 Effect>
As described above, in the present embodiment, as shown in FIG. 1, the
上記構成より、調整用のスイッチング素子としての各薄膜トランジスタTFT(1)〜TFT(2m)のオン抵抗は、従来の基準電位発生回路における調整用スイッチング素子のオン抵抗に比べて大きな値に設定される。したがって、上記シミュレーションの対象としての第1の回路構成と第2の回路構成との比較についての既述の説明からも明らかなように、本実施形態に係る基準電位発生回路は、従来の基準電位発生回路に比べ、実現に必要な回路面積を低減することができる。 With the above configuration, the on-resistance of each of the thin film transistors TFT (1) to TFT (2 m ) as the adjustment switching element is set to a larger value than the on-resistance of the adjustment switching element in the conventional reference potential generation circuit. The Therefore, as is clear from the above description regarding the comparison between the first circuit configuration and the second circuit configuration as the object of the above simulation, the reference potential generation circuit according to the present embodiment has a conventional reference potential. Compared with the generation circuit, the circuit area required for realization can be reduced.
また、本実施形態によれば、調整用抵抗列10aの一端に分圧用抵抗列10が接続されると共に他端に第1の電位Vaが電源または定電圧回路等により与えられ、基準電位を生成するための抵抗列(分圧用抵抗列10および調整用抵抗列10a)に調整用スイッチング素子TFT(1)〜TFT(2m)のオン抵抗が直接的には含まれない構成となっている。このため、調整用スイッチング素子としての各薄膜トランジスタTFT(1)〜TFT(2m)のオン抵抗のばらつきによる基準電位への影響が低減される。その結果、上述のシミュレーション結果からも明らかなように、本実施形態によれば、オン抵抗のばらつきによる出力電圧の変動幅(誤差幅)が小さくなるので、調整用のスイッチング素子を有する従来の基準電位発生回路に比べ、高い精度で基準電位を生成することができる。
In addition, according to the present embodiment, the voltage dividing
なお、本実施形態によれば、生成される基準電位Vref(1)〜Vref(n)は、主として分圧用抵抗列10で第1の電位Vaと第2の電位Vssとの電位差を分圧することにより決定されるので、調整用抵抗列10aおよび調整用スイッチング素子による比較的小さな基準電位の変更ではなく基準電位を大きく変更したい場合には、第1の電位Vaおよび第2の電位Vssの一方または双方を変更すればよい。したがって、本実施形態によれば、従来に比べ、生成される基準電位の大きな変更も容易である。
According to the present embodiment, the generated reference potentials Vref (1) to Vref (n) mainly divide the potential difference between the first potential Va and the second potential Vss by the voltage dividing
<1.4 変形例>
以下、上記第1の実施形態の各種変形例について説明する。なお以下において、上記第1の実施形態と同一または対応する部分には同一の参照符号を付して詳しい説明を省略する。
<1.4 Modification>
Hereinafter, various modifications of the first embodiment will be described. In the following, the same or corresponding parts as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.
図7は、上記第1の実施形態の第1の変形例の構成を示す回路図である。本変形例では、調整用スイッチング素子群を構成する薄膜トランジスタTFT(1)〜TFT(2m)としてPチャネル薄膜トランジスタに代えてNチャネル薄膜トランジスタが使用され、それに応じて、制御端子Tc(1)〜Tc(2m)のいずれか1つにのみハイレベルの信号が与えられ他の制御端子にはローレベルの信号が与えられる。ハイレベルの与えられた制御端子に(ゲート端子が)接続されたNチャネル薄膜トランジスタがONトランジスタとなる。本変形例におけるその他の構成については上記第1の実施形態と同様である。このような本変形例によっても上記第1の実施形態と同様の効果が得られる。なお、調整用スイッチング素子としての薄膜トランジスタTFT(1)〜TFT(2m)が接続される電源ラインLvddの電位Vddが第1の電位Vaよりも高い場合は、上記第1の実施形態のように調整用スイッチング素子としてPチャネルトランジスタを使用するのがスイッチング素子としての動作上は好ましいが、当該電源ラインLvddの電位Vddが第1の電位Vaよりも低い場合には、調整用スイッチング素子としてNチャネルトランジスタを使用するのが好ましい。 FIG. 7 is a circuit diagram showing a configuration of a first modification of the first embodiment. In this modification, N-channel thin film transistors are used instead of P-channel thin film transistors as the thin film transistors TFT (1) to TFT (2 m ) constituting the adjustment switching element group, and the control terminals Tc (1) to Tc are correspondingly used. Only one of (2 m ) is given a high level signal, and the other control terminals are given a low level signal. An N-channel thin film transistor connected to a control terminal having a high level (a gate terminal) becomes an ON transistor. Other configurations in this modification are the same as those in the first embodiment. Also by this modification, the same effect as that of the first embodiment can be obtained. When the potential Vdd of the power supply line Lvdd to which the thin film transistors TFT (1) to TFT (2 m ) as the adjustment switching elements are connected is higher than the first potential Va, as in the first embodiment. Use of a P-channel transistor as the adjustment switching element is preferable in terms of operation as a switching element. However, when the potential Vdd of the power supply line Lvdd is lower than the first potential Va, an N-channel is used as the adjustment switching element. It is preferable to use a transistor.
図8は、上記第1の実施形態の第2の変形例の構成を示す回路図である。本変形例は、調整用抵抗列10aにおける抵抗素子間の2m個の接続点と電源ラインLvddとの間に、調整用スイッチング素子群を構成する各薄膜トランジスタTFT(1)〜TFT(2m)と直列に抵抗素子Rc(1)〜Rc(2m)が挿入されている点で上記第1の実施形態と相違する。既述のように上記第1の実施形態では、調整用スイッチング素子としての各薄膜トランジスタTFT(1)〜TFT(2m)のオン抵抗は調整用抵抗列10aの抵抗値よりも十分に大きくなるように設定されるが、調整用スイッチング素子として実際に形成される薄膜トランジスタのオン抵抗が十分に大きくない場合には、本変形例のように各薄膜トランジスタTFT(1)〜TFT(2m)と直列に抵抗素子を挿入する構成とすればよい。これにより、薄膜トランジスタTFT(1)〜TFT(2m)のオン抵抗が十分に大きくない構成においても、上記第1の実施形態と同様の効果が得られる。
FIG. 8 is a circuit diagram showing a configuration of a second modification of the first embodiment. In this modification, the thin film transistors TFT (1) to TFT (2 m ) constituting the adjustment switching element group between 2 m connection points between the resistance elements in the
図9は、上記第1の実施形態の第3の変形例の構成を示す回路図である。本変形例は、図7に示した上記第1の変形例において、調整用抵抗列10aにおける抵抗素子間の2m個の接続点と電源ラインLvddとの間に、調整用スイッチング素子群を構成する各薄膜トランジスタTFT(1)〜TFT(2m)と直列に抵抗素子Rc(1)〜Rc(2m)が挿入された構成となっている。調整用スイッチング素子として実際に形成される薄膜トランジスタのオン抵抗が十分に大きくない場合に、本変形例のように抵抗素子を挿入することにより、薄膜トランジスタTFT(1)〜TFT(2m)のオン抵抗が十分に大きくない構成においても、上記第1の実施形態と同様の効果が得られる。
FIG. 9 is a circuit diagram showing a configuration of a third modification of the first embodiment. In this modification, in the first modification shown in FIG. 7, an adjustment switching element group is configured between 2 m connection points between the resistance elements in the
<2.第2の実施形態>
<2.1 構成および動作>
図10は、本発明の第2の実施形態に係る基準電位発生回路の構成を示す回路図である。この基準電位発生回路も、液晶パネル等を構成する基板上において例えば階調電圧を生成するためにスイッチング素子として薄膜トランジスタを用いて実現されるが、このような用途や実現方法に限定されるものではなく、例えばICチップ内でスイッチング素子としてMOSトランジスタ等を用いて実現してもよい。本実施形態における構成のうち上記第1の実施形態と同一または対応する部分には同一の参照符号を付して詳しい説明を省略する。
<2. Second Embodiment>
<2.1 Configuration and operation>
FIG. 10 is a circuit diagram showing a configuration of a reference potential generating circuit according to the second embodiment of the present invention. This reference potential generation circuit is also realized by using a thin film transistor as a switching element, for example, for generating a gradation voltage on a substrate constituting a liquid crystal panel or the like, but is not limited to such an application or an implementation method. For example, it may be realized by using a MOS transistor or the like as a switching element in the IC chip. In the configuration of this embodiment, the same or corresponding parts as those of the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.
図10に示すように、この基準電位発生回路は、互いに直列に接続されたn+1個の抵抗素子R(1),R(2),…,R(n),R(n+1)からなる分圧用抵抗列10と、互いに直列に接続された2m+1個の抵抗素子Rb(1),Rb(2),……,Rb(2m),Rb(2m+1)からなる調整用抵抗列10bと、当該調整用抵抗列10bを構成する抵抗素子間の2m個の接続点にそれぞれ接続された2m個の調整用スイッチング素子としてのNチャネル薄膜トランジスタTFT(1),TFT(2),…,TFT(2m)とを備えており、外部から所定電位を与えるべき端子として、第1の電位Vbを与えるべき第1の端子T1と、第2の電位Vddを与えるべき第2の端子T2とを有し、発生すべき基準電位を調整するための制御信号を与えるべき端子として2m個の制御端子Td(1),Td(2),…,Td(2m)を有している。そして、分圧用抵抗列10は、その一端が調整用抵抗列10bの一端に接続され、その他端が第2の端子T2に接続されている。調整用抵抗列10bの他端は、第1の端子T1に接続されている。また、調整用スイッチング素子群を構成する2m個のトランジスタTFT(1)〜TFT(2m)は、それらのドレイン端子が調整用抵抗列10bにおける抵抗素子間の接続点にそれぞれ接続され、それらのソース端子が電源ライン(低圧側電源ラインまたは接地ライン)Lvssに接続され、それらのゲート端子が上記制御端子Td(1)〜Td(2m)にそれぞれ接続されている。
As shown in FIG. 10, this reference potential generating circuit is for voltage division comprising n + 1 resistance elements R (1), R (2),..., R (n), R (n + 1) connected in series.
上記のように構成された基準電位発生回路を動作させる際には、第1の端子T1に第1の電位Vbが所定電源から与えられ、第2の端子T2に第2の電位Vddが所定電源から与えられる。本実施形態では、第1の電位Vbは第2の電位Vddよりも低く、調整用スイッチ素子群が接続される電源ラインLvssの電位Vssは、第1の電位Vbよりも低い(電源ラインLvssの電位Vssは、第1の電位Vbよりも高くてもよいが、調整用スイッチ素子群を構成するNチャネルトランジスタの動作上は電位Vssが第1の電位Vbよりも低いことが好ましい)。また、第1の端子T1に第1の電位Vbを与えるために、電源に代えて、図11に示すようにツェナーダイオードDz2を利用して第1の電位Vbを生成する定電圧回路を用いてもよい。この定電圧回路は、アノードが接地されたツェナーダイオードDz2と、一端が第2の電位Vddの電源ライン(所定電源)に接続され他端がツェナーダイオードDz2のカソードに接続された抵抗素子Rcv2とからなり、ツェナーダイオードDz2と抵抗素子Rcv2との接続点が上記基準電位発生回路における第1の端子T1に接続される。このような構成によれば、降伏電圧が第1の電位Vbに等しいツェナーダイオードを上記ツェナーダイオードDz2として使用することにより、別途電源を用意することなく、基準電位発生回路における第1の端子T1に第1の電位Vbを与えることができる。 When operating the reference potential generating circuit configured as described above, the first potential Vb is supplied from the predetermined power source to the first terminal T1, and the second potential Vdd is supplied to the second terminal T2 from the predetermined power source. Given by. In the present embodiment, the first potential Vb is lower than the second potential Vdd, and the potential Vss of the power supply line Lvss to which the adjustment switch element group is connected is lower than the first potential Vb (the power supply line Lvss Although the potential Vss may be higher than the first potential Vb, it is preferable that the potential Vss is lower than the first potential Vb in the operation of the N-channel transistors constituting the adjustment switch element group. Further, in order to apply the first potential Vb to the first terminal T1, a constant voltage circuit that generates the first potential Vb using the Zener diode Dz2 as shown in FIG. 11 is used instead of the power source. Also good. This constant voltage circuit includes a Zener diode Dz2 whose anode is grounded, and a resistance element Rcv2 whose one end is connected to the power supply line (predetermined power supply) of the second potential Vdd and the other end is connected to the cathode of the Zener diode Dz2. Thus, the connection point between the Zener diode Dz2 and the resistance element Rcv2 is connected to the first terminal T1 in the reference potential generation circuit. According to such a configuration, a Zener diode having a breakdown voltage equal to the first potential Vb is used as the Zener diode Dz2, so that the first terminal T1 in the reference potential generating circuit can be connected to the reference potential generating circuit without preparing a separate power source. The first potential Vb can be applied.
一方、2m個の制御端子Td(1)〜Td(2m)のいずれか1つにはハイレベルの信号が与えられ、他の制御端子にはローレベルの信号が与えられる。これにより、調整用スイッチング素子群のうちハイレベルの信号が与えられた制御端子に(ゲート端子の)接続されたNチャネルトランジスタのみがオン状態となり(以下、このオン状態となるトランジスタも「ONトランジスタ」という)、調整用抵抗列10bにおける抵抗素子間の接続点のうちONトランジスタの接続される接続点のみが当該ONトランジスタを介して電源ラインLvssに電気的に接続される。なお、調整用スイッチング素子群を構成するNチャネルトランジスタの数およびそのオン/オフを制御するための信号を与えるべき制御端子の数は2m個であるので、mビットの選択信号を与えれば、調整用スイッチング素子群を構成するいずれか1つのNチャネルトランジスタのみをオンさせることができる。具体的には、mビットの選択信号を入力とし、上記の制御端子Td(1)〜Td(2m)にそれぞれ与えるべき信号を制御信号として出力するデコーダを設ければよい。
On the other hand, any one of the 2 m control terminals Td (1) to Td (2 m ) is given a high level signal, and the other control terminals are given a low level signal. As a result, only the N-channel transistor (of the gate terminal) connected to the control terminal to which the high level signal is given is turned on in the adjustment switching element group (hereinafter, the transistor in the on state is also referred to as “ON transistor”. ”), Only the connection point to which the ON transistor is connected among the connection points between the resistance elements in the
本実施形態では上記のようにして、第1の端子T1に第1の電位Vbが、第2の端子T2に第2の電位Vddが与えられ、上記のようなmビットの選択信号によって制御端子Tc(1)〜Tc(2m)のいずれか1つにのみハイレベルの信号が与えられ他の制御端子にはローレベルの信号が与えられる。これにより、主として第1の電位Vbおよび第2の電位Vddと分圧用抵抗列10を構成する抵抗素子R(1)〜R(n+1)の抵抗値とに基づき、当該抵抗素子間の接続点の電位が決定され、これらの電位が基準電位Vref(1)〜Vref(n)として出力される。図10に示すように、第1の端子T1と分圧用抵抗列10との間には調整用抵抗列10bが接続され、かつ、その調整用抵抗列10bにおける抵抗素子Rb(1)〜Rb(2m+1)間の接続点と電源ラインLvssとの間には調整用スイッチング素子群が接続されている。このため、上記のようにして生成される基準電位Vref(1)〜Vref(n)は、調整用抵抗列10bにおける抵抗素子Rb(1)〜Rb(2m+1)の抵抗値および調整用スイッチング素子群におけるONトランジスタの位置にも依存する。したがって、選択信号によって調整用スイッチング素子群におけるONトランジスタを変更することで、分圧用抵抗列10から出力される基準電位Vref(1)〜Vref(n)を調整することができる。
In the present embodiment, as described above, the first potential Vb is applied to the first terminal T1, the second potential Vdd is applied to the second terminal T2, and the control terminal is controlled by the m-bit selection signal as described above. Only one of Tc (1) to Tc (2 m ) is given a high level signal, and the other control terminals are given a low level signal. As a result, based on the first potential Vb and the second potential Vdd and the resistance values of the resistance elements R (1) to R (n + 1) constituting the voltage dividing
図12は、本実施形態に係る基準電位発生回路においてONトランジスタを変更したときの出力特性を示している。図12において、直線CL(1)は、分圧用抵抗列10に最も遠いトランジスタTFT(1)がONトランジスタである場合の各基準電位Vref(1)〜Vref(n)を示す点を結ぶ直線であり、直線CL(2m)は、分圧用抵抗列10に最も近いトランジスタTFT(2m)がONトランジスタである場合の各基準電位Vref(1)〜Vref(n)を示す点を結ぶ直線である。したがって、mビットの選択信号の設定によってONトランジスタを変更することにより、これら2つの直線CL(1)とCL(2m)とによって挟まれた範囲で各基準電位Vref(1)〜Vref(n)を調整することができる。
FIG. 12 shows output characteristics when the ON transistor is changed in the reference potential generating circuit according to the present embodiment. In FIG. 12, a straight line CL (1) is a straight line connecting points indicating the respective reference potentials Vref (1) to Vref (n) when the transistor TFT (1) farthest from the voltage dividing
<2.2 効果>
上記のように本実施形態では、図10に示すように、調整用抵抗列10bは、その一端が分圧用抵抗列10に接続されると共に、その他端が第1の端子T1に接続されていて、その第1の端子T1には外部の電源またはツェナーダイオードによる定電圧回路等から第1の電位Vbが与えられる。これにより、調整用スイッチング素子としての各薄膜トランジスタTFT(1)〜TFT(2m)のオン抵抗を調整用抵抗列10bの抵抗値よりも十分に大きく設定することで、調整用抵抗列10bにおける抵抗素子間の接続点のうちONトランジスタが接続される点(以下「ONトランジスタ接続点」という)の電位を第1の電位Vbにほぼ等しくすることができる(ただし、分圧用抵抗列10の抵抗値が調整用抵抗列10bの抵抗値よりも十分に大きいことが前提となる)。このような設定によれば、ONトランジスタ接続点と第2の電位Vddが与えられるべき第2の端子T2との間の抵抗列、すなわちONトランジスタTFT(j)の接続点と分圧用抵抗列10との間の調整用抵抗素子Rb(j+1)〜Rb(2m+1)を分圧用抵抗列10に加えた抵抗列により、出力電圧としての基準電位Vref(1)〜Vref(n)が決定される(ここで、jは2m以下の自然数)。したがって、選択信号によってスイッチング素子群においてONトランジスタを変更することで基準電位Vref(1)〜Vref(n)を調整することができる。
<2.2 Effect>
As described above, in this embodiment, as shown in FIG. 10, the
上記構成より、調整用のスイッチング素子としての各薄膜トランジスタTFT(1)〜TFT(2m)のオン抵抗は、上記第1の実施形態と同様、従来の基準電位発生回路における調整用スイッチング素子のオン抵抗に比べて大きな値に設定されるので、本実施形態に係る基準電位発生回路は、従来の基準電位発生回路に比べ、実現に必要な回路面積を低減することができる。また、上記第1の実施形態のように、基準電位を生成するための抵抗列(分圧用抵抗列10および調整用抵抗列10b)に調整用スイッチング素子TFT(1)〜TFT(2m)のオン抵抗が直接的には含まれない構成となっているので、調整用スイッチング素子としての各薄膜トランジスタTFT(1)〜TFT(2m)のオン抵抗のばらつきによる基準電位への影響が小さくなる。その結果、本実施形態によれば、オン抵抗のばらつきによる出力電圧の変動幅(誤差幅)が小さくなるので、調整用のスイッチング素子を有する従来の基準電位発生回路に比べ、高い精度で基準電位を生成することができる。
With the above configuration, the on-resistance of each of the thin film transistors TFT (1) to TFT (2 m ) as the adjustment switching elements is the same as that of the first embodiment, and the on-resistance of the adjustment switching element in the conventional reference potential generation circuit is Since the reference potential generating circuit according to the present embodiment is set to a larger value than the resistance, the circuit area required for realization can be reduced as compared with the conventional reference potential generating circuit. Further, as in the first embodiment, the resistor strings (voltage dividing
なお、本実施形態によれば、生成される基準電位Vref(1)〜Vref(n)は、主として分圧用抵抗列10で第1の電位Vbと第2の電位Vddとの電位差を分圧することにより決定されるので、調整用抵抗列10bおよび調整用スイッチング素子による比較的小さな基準電位の変更ではなく基準電位を大きく変更したい場合には、第1の電位Vbおよび第2の電位Vddの一方または双方を変更すればよい。
According to the present embodiment, the generated reference potentials Vref (1) to Vref (n) mainly divide the potential difference between the first potential Vb and the second potential Vdd in the voltage dividing
<2.3 変形例>
上記第2の実施形態の各種変形例について説明する。なお以下において、上記第2の実施形態と同一または対応する部分には同一の参照符号を付して詳しい説明を省略する。
<2.3 Modification>
Various modifications of the second embodiment will be described. In the following, the same or corresponding parts as those in the second embodiment are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.
図13は、上記第2の実施形態の第1の変形例の構成を示す回路図である。本変形例では、調整用スイッチング素子群を構成する薄膜トランジスタTFT(1)〜TFT(2m)としてNチャネル薄膜トランジスタに代えてPチャネル薄膜トランジスタが使用され、それに応じて、制御端子Td(1)〜Td(2m)のいずれか1つにのみローレベルの信号が与えられ他の制御端子にはハイレベルの信号が与えられる。ローレベルの与えられた制御端子に(ゲート端子が)接続されたPチャネル薄膜トランジスタがONトランジスタとなる。本変形例におけるその他の構成については上記第2の実施形態と同様である。このような本変形例によっても上記第2の実施形態と同様の効果が得られる。なお、調整用スイッチング素子としての薄膜トランジスタTFT(1)〜TFT(2m)が接続される電源ラインLvssの電位Vssが第1の電位Vbよりも低い場合は、上記第2の実施形態のように調整用スイッチング素子としてNチャネルトランジスタを使用するのがスイッチング素子としての動作上は好ましいが、当該電源ラインLvssの電位Vssが第1の電位Vbよりも高い場合には、調整用スイッチング素子としてPチャネルトランジスタを使用するのが好ましい。 FIG. 13 is a circuit diagram showing a configuration of a first modification of the second embodiment. In this modification, P-channel thin film transistors are used instead of N-channel thin film transistors as the thin film transistors TFT (1) to TFT (2 m ) constituting the adjustment switching element group, and the control terminals Td (1) to Td are correspondingly used. Only one of (2 m ) is given a low level signal, and the other control terminals are given a high level signal. A P-channel thin film transistor connected to a control terminal having a low level (a gate terminal) becomes an ON transistor. Other configurations in this modification are the same as those in the second embodiment. Also by this modification, the same effect as that of the second embodiment can be obtained. When the potential Vss of the power supply line Lvss to which the thin film transistors TFT (1) to TFT (2 m ) as the adjustment switching elements are connected is lower than the first potential Vb, as in the second embodiment. The use of an N-channel transistor as the adjustment switching element is preferable in terms of operation as a switching element, but when the potential Vss of the power supply line Lvss is higher than the first potential Vb, the P-channel is used as the adjustment switching element. It is preferable to use a transistor.
図14は、上記第2の実施形態の第2の変形例の構成を示す回路図である。本変形例では、調整用抵抗列10bにおける抵抗素子間の2m個の接続点と電源ラインLvssとの間に、調整用スイッチング素子群を構成する各薄膜トランジスタTFT(1)〜TFT(2m)と直列に抵抗素子Rd(1)〜Rd(2m)が挿入されている。既述のように上記第2の実施形態では、調整用スイッチング素子としての各薄膜トランジスタTFT(1)〜TFT(2m)のオン抵抗は調整用抵抗列10bの抵抗値よりも十分に大きくなるように設定されるが、調整用スイッチング素子として実際に形成される薄膜トランジスタのオン抵抗が十分に大きくない場合には、本変形例のように各薄膜トランジスタTFT(1)〜TFT(2m)と直列に抵抗素子を挿入する構成とすればよい。これにより、薄膜トランジスタTFT(1)〜TFT(2m)のオン抵抗が十分に大きくない構成においても、上記第2の実施形態と同様の効果が得られる。
FIG. 14 is a circuit diagram showing a configuration of a second modification of the second embodiment. In the present modification, the thin film transistors TFT (1) to TFT (2 m ) constituting the adjustment switching element group between 2 m connection points between the resistance elements in the
図15は、上記第2の実施形態の第3の変形例の構成を示す回路図である。本変形例は、図13に示した上記第1の変形例において、調整用抵抗列10bにおける抵抗素子間の2m個の接続点と電源ラインLvssとの間に、調整用スイッチング素子群を構成する各薄膜トランジスタTFT(1)〜TFT(2m)と直列に抵抗素子Rd(1)〜Rd(2m)が挿入された構成となっている。調整用スイッチング素子として実際に形成される薄膜トランジスタのオン抵抗が十分に大きくない場合に、本変形例のように抵抗素子を挿入することにより、上記第2の実施形態と同様の効果を得ることができる。
FIG. 15 is a circuit diagram showing a configuration of a third modification of the second embodiment. In this modification, in the first modification shown in FIG. 13, an adjustment switching element group is formed between 2 m connection points between the resistance elements in the
<3.第3の実施形態>
<3.1 構成および動作>
図16は、本発明の第3の実施形態に係る基準電位発生回路の構成を示す回路図である。この基準電位発生回路も、液晶パネル等を構成する基板上において例えば階調電圧を生成するためにスイッチング素子として薄膜トランジスタを用いて実現されるが、このような用途や実現方法に限定されるものではない。以下では、本実施形態における構成のうち上記第1または第2の実施形態と同一または対応する部分には同一の参照符号を付して詳しい説明を省略する。
<3. Third Embodiment>
<3.1 Configuration and operation>
FIG. 16 is a circuit diagram showing a configuration of a reference potential generating circuit according to the third embodiment of the present invention. This reference potential generation circuit is also realized by using a thin film transistor as a switching element, for example, for generating a gradation voltage on a substrate constituting a liquid crystal panel or the like, but is not limited to such an application or an implementation method. Absent. Hereinafter, the same reference numerals are given to the same or corresponding parts of the configuration of the present embodiment as in the first or second embodiment, and detailed description thereof will be omitted.
本実施形態に係る基準電位発生回路は、図1に示した第1の実施形態と図10に示した第2の実施形態とを組み合わせた構成となっている。すなわち図16に示すように、この基準電位発生回路は、互いに直列に接続されたn+1個の抵抗素子R(1),R(2),…,R(n),R(n+1)からなる分圧用抵抗列10と、互いに直列に接続された2m+1個の抵抗素子Ra(1),Ra(2),……,Ra(2m),Ra(2m+1)からなる高圧側調整用抵抗列10aと、互いに直列に接続された2m+1個の抵抗素子Rb(1),Rb(2),……,Rb(2m),Rb(2m+1)からなる低圧側調整用抵抗列10bと、高圧側調整用抵抗列10aを構成する抵抗素子間の2m個の接続点にそれぞれ接続された2m個の高圧側調整用スイッチング素子としてのPチャネル薄膜トランジスタTFTH(1),TFTH(2),…,TFTH(2m)と、低圧側調整用抵抗列10bを構成する抵抗素子間の2m個の接続点にそれぞれ接続された2m個の低圧側調整用スイッチング素子としてのNチャネル薄膜トランジスタTFTL(1),TFTL(2),…,TFTL(2m)とを備えており、外部から所定電位を与えるべき端子として、第1の電位Vaを与えるべき第1の端子T1と、第2の電位Vbを与えるべき第2の端子T2とを有し、発生すべき基準電位を調整するための制御信号を与えるべき端子として、2m個の高圧側制御端子Tc(1),Tc(2),…,Tc(2m)と、2m個の低圧側制御端子Td(1),Td(2),…,Td(2m)とを有している。そして、分圧用抵抗列10は、その一端が高圧側調整用抵抗列10aの一端に接続され、その他端が低圧側調整用抵抗列10bの一端に接続されている。高圧側調整用抵抗列10aの他端は第1の端子T1に、低圧側調整用抵抗列10bの他端は第2の端子T2に、それぞれ接続されている。また、高圧側調整用スイッチング素子群を構成する2m個のトランジスタTFTH(1)〜TFTH(2m)は、それらのドレイン端子が高圧側調整用抵抗列10aにおける抵抗素子間の接続点にそれぞれ接続され、それらのソース端子が電源ラインLvddに接続され、それらのゲート端子が高圧側制御端子Tc(1)〜Tc(2m)にそれぞれ接続されている。低圧側調整用スイッチング素子群を構成する2m個のトランジスタTFTL(1)〜TFTL(2m)は、それらのドレイン端子が低圧側調整用抵抗列10bにおける抵抗素子間の接続点にそれぞれ接続され、それらのソース端子が低圧側電源ライン(または接地ライン)Lvssに接続され、それらのゲート端子が低圧側制御端子Td(1)〜Td(2m)にそれぞれ接続されている。
The reference potential generating circuit according to this embodiment has a configuration in which the first embodiment shown in FIG. 1 and the second embodiment shown in FIG. 10 are combined. That is, as shown in FIG. 16, the reference potential generating circuit includes n + 1 resistance elements R (1), R (2),..., R (n), R (n + 1) connected in series to each other. For adjusting the high voltage side of the voltage resistor array 10 and 2 m +1 resistor elements Ra (1), Ra (2), ..., Ra (2 m ), Ra (2 m +1) connected in series with each other resistor array 10a and, 2 are connected in series with each other m +1 single resistor elements Rb (1), Rb (2 ), ......, Rb (2 m), Rb (2 m +1) low pressure side adjusting resistor consisting column 10b and, P-channel thin film transistor TFTH as 2 m pieces of the high pressure side adjustment switching elements connected respectively to 2 m pieces of connection points between the resistor elements forming the high-pressure side adjusting resistor array 10a (1), TFTH (2),..., TFTH (2 m ), and low-voltage side adjustment resistor string 1 N-channel thin film transistor TFTL as 2 m pieces of the low pressure side adjustment switching elements connected respectively to 2 m pieces of connection points between the resistor elements constituting the 0b (1), TFTL (2 ), ..., TFTL (2 m And a first terminal T1 to which the first potential Va is to be applied and a second terminal T2 to which the second potential Vb is to be provided, 2 m high-voltage side control terminals Tc (1), Tc (2),..., Tc (2 m ) and 2 m low-voltage terminals are terminals to which a control signal for adjusting the reference potential to be generated is to be given. Side control terminals Td (1), Td (2),..., Td (2 m ). The voltage
上記のように構成された基準電位発生回路を動作させる際には、第1の端子T1に第1の電位Vaが所定電源から与えられ、第2の端子T2に第2の電位Vbが所定電源から与えられる。本実施形態では、第1の電位Vaは第2の電位Vbよりも高くかつ高圧側電源ラインLvddの電位Vddよりも低く、低圧側電源ラインLvssの電位Vssは、第2の電位Vbよりも低い(高圧側電源ラインLvddの電位Vddは、第1の電位Vaよりも低くてもよいが、高圧側調整用スイッチ素子群を構成するPチャネルトランジスタの動作上からは電位Vddが第1の電位Vaよりも高いことが好ましい。また、低圧側電源ラインLvssの電位Vssは、第2の電位Vbよりも高くてもよいが、低圧側調整用スイッチ素子群を構成するNチャネルトランジスタの動作上は電位Vssが第2の電位Vbよりも低いことが好ましい。)。また、第1の端子T1に第1の電位Vaを与えるために、電源に代えて、図3に示すようにツェナーダイオードDzを利用して第1の電位Vaを生成する定電圧回路を用いてもよいし、第2の端子T2に第2の電位Vbを与えるために、電源に代えて、図11に示すようにツェナーダイオードDzを利用して第2の電位Vbを生成する定電圧回路を用いてもよい。 When operating the reference potential generating circuit configured as described above, the first potential Va is supplied from the predetermined power source to the first terminal T1, and the second potential Vb is supplied to the second terminal T2 from the predetermined power source. Given by. In the present embodiment, the first potential Va is higher than the second potential Vb and lower than the potential Vdd of the high-voltage power supply line Lvdd, and the potential Vss of the low-voltage power supply line Lvss is lower than the second potential Vb. (The potential Vdd of the high-voltage side power supply line Lvdd may be lower than the first potential Va, but the potential Vdd is the first potential Va from the operation of the P-channel transistors constituting the high-voltage side adjustment switch element group. In addition, the potential Vss of the low-voltage side power supply line Lvss may be higher than the second potential Vb, but in terms of the operation of the N-channel transistors constituting the low-voltage side adjustment switch element group. Vss is preferably lower than the second potential Vb). Further, in order to give the first potential Va to the first terminal T1, a constant voltage circuit that generates the first potential Va using the Zener diode Dz as shown in FIG. 3 is used instead of the power source. Alternatively, in order to apply the second potential Vb to the second terminal T2, a constant voltage circuit that generates the second potential Vb using the Zener diode Dz as shown in FIG. It may be used.
一方、2m個の高圧側制御端子Tc(1)〜Tc(2m)のいずれか1つにはローレベルの信号が与えられ、他の高圧側制御端子にはハイレベルの信号が与えられる。これにより、高圧側調整用スイッチング素子群のうちローレベルの信号が与えられた制御端子に(ゲート端子の)接続されたPチャネルトランジスタのみがオン状態となり(以下、このオン状態となるトランジスタを「高圧側ONトランジスタ」という)、高圧側調整用抵抗列10aにおける抵抗素子間の接続点のうち高圧側ONトランジスタの接続される接続点のみが当該ONトランジスタを介して高圧側電源ラインLvddに電気的に接続される。また、2m個の低圧側制御端子Td(1)〜Td(2m)のいずれか1つにはハイレベルの信号が与えられ、他の低圧側制御端子にはローレベルの信号が与えられる。これにより、低圧側調整用スイッチング素子群のうちハイレベルの信号が与えられた制御端子に(ゲート端子の)接続されたNチャネルトランジスタのみがオン状態となり(以下、このオン状態となるトランジスタを「低圧側ONトランジスタ」という)、低圧側調整用抵抗列10bにおける抵抗素子間の接続点のうち低圧側ONトランジスタの接続される接続点のみが当該ONトランジスタを介して低圧側電源ラインLvssに電気的に接続される。なお、高圧側調整用スイッチング素子群を構成するPチャネルトランジスタの数および高圧側制御端子の数はいずれも2m個であるので、mビットの高圧側選択信号により、高圧側調整用スイッチング素子群において高圧側ONトランジスタを指定することができる。同様に、mビットの低圧側選択信号により、低圧側調整用スイッチング素子群において低圧側ONトランジスタを指定することができる。
On the other hand, a low level signal is given to any one of the 2 m high voltage side control terminals Tc (1) to Tc (2 m ), and a high level signal is given to the other high voltage side control terminals. . As a result, only the P-channel transistor (of the gate terminal) connected to the control terminal to which the low level signal is applied in the high voltage side adjustment switching element group is turned on (hereinafter, the transistor in the on state is referred to as “ Among the connection points between the resistance elements in the high-voltage side
本実施形態では上記のようにして、第1の端子T1に第1の電位Vaが、第2の端子T2に第2の電位Vbが与えられ、mビットの高圧側選択信号によって高圧側制御端子Tc(1)〜Tc(2m)のいずれか1つにのみローレベルの信号が与えられ且つ他の制御端子にはハイレベルの信号が与えられるとともに、mビットの低圧側選択信号によって低圧側制御端子Td(1)〜Td(2m)のいずれか1つにのみハイレベルの信号が与えられ且つ他の制御端子にはローレベルの信号が与えられる。これにより、主として第1の電位Vaおよび第2の電位Vbと分圧用抵抗列10を構成する抵抗素子R(1)〜R(n+1)の抵抗値とに基づき、当該抵抗素子間の接続点の電位が決定され、これらの電位が基準電位Vref(1)〜Vref(n)として出力される。そして、高圧側選択信号によって高圧側調整用スイッチング素子群における高圧側ONトランジスタを変更すること、および/または、低圧側選択信号によって低圧側調整用スイッチング素子群における低圧側ONトランジスタを変更することにより、分圧用抵抗列10から出力される基準電位Vref(1)〜Vref(n)を調整することができる。
In the present embodiment, as described above, the first potential Va is applied to the first terminal T1, the second potential Vb is applied to the second terminal T2, and the high-voltage side control terminal is supplied by the m-bit high-voltage side selection signal. A low level signal is given to only one of Tc (1) to Tc (2 m ), and a high level signal is given to the other control terminals. Only one of the control terminals Td (1) to Td (2 m ) is given a high level signal, and the other control terminals are given a low level signal. As a result, based on the first potential Va and the second potential Vb and the resistance values of the resistance elements R (1) to R (n + 1) constituting the voltage dividing
図17(a)〜(c)は、本実施形態に係る基準電位発生回路において高圧側および低圧側ONトランジスタを変更したときの出力特性を示している。図17(a)は、高圧側および低圧側ONトランジスタの一方を固定し他方を変更した場合における各基準電位Vref(1)〜Vref(n)の調整範囲を示している。すなわち、低圧側ONトランジスタを低圧側調整用スイッチング素子群における中央のトランジスタTFTL(2m-1)に固定した状態で、高圧側ONトランジスタを変更することにより、細い点線で示す2つの直線CL(2m-1,1)とCL(2m-1,2m)で挟まれた範囲において各基準電位Vref(1)〜Vref(n)を調整することができる。また、高圧側ONトランジスタを高圧側調整用スイッチング素子群における中央のトランジスタTFTH(2m-1)に固定した状態で、低圧側ONトランジスタを変更することにより、一点鎖線で示す2つの直線CL(1,2m-1)とCL(2m,2m-1)で挟まれた範囲において各基準電位Vref(1)〜Vref(n)を調整することができる。なお、太線の点線は、低圧側および高圧側ONトランジスタがそれぞれ低圧側および高圧側調整用スイッチング素子群の中央のトランジスタTFTL(2m-1),TFTH(2m-1)である場合に生成される各基準電位Vref(1)〜Vref(n)を示す点を結ぶ直線(出力特性曲線)を示している。 FIGS. 17A to 17C show output characteristics when the high-voltage side and low-voltage side ON transistors are changed in the reference potential generation circuit according to the present embodiment. FIG. 17A shows the adjustment range of each of the reference potentials Vref (1) to Vref (n) when one of the high-voltage side and low-voltage side ON transistors is fixed and the other is changed. That is, by changing the high-voltage side ON transistor in a state where the low-voltage side ON transistor is fixed to the central transistor TFTL (2 m-1 ) in the low-voltage side adjustment switching element group, two straight lines CL ( Each reference potential Vref (1) to Vref (n) can be adjusted in a range between 2 m−1 , 1) and CL (2 m−1 , 2 m ). In addition, by changing the low-voltage side ON transistor in a state where the high-voltage side ON transistor is fixed to the central transistor TFTH (2 m-1 ) in the high-voltage side adjustment switching element group, two straight lines CL ( The reference potentials Vref (1) to Vref (n) can be adjusted in a range sandwiched between 1 , 2 m-1 ) and CL (2 m , 2 m-1 ). The bold dotted lines are generated when the low-voltage side and high-voltage side ON transistors are the transistors TFTL (2 m-1 ) and TFTH (2 m-1 ) in the middle of the low-voltage side and high-voltage side adjusting switching element groups, respectively. A straight line (output characteristic curve) connecting points indicating the respective reference potentials Vref (1) to Vref (n) is shown.
図17(b)は、高圧側および低圧側ONトランジスタの双方を同方向に順に変更した場合における各基準電位Vref(1)〜Vref(n)の調整範囲を示している。生成される各基準電位Vref(1)〜Vref(n)を示す点を結ぶ線(以下「出力特性曲線」という)は、低圧側および高圧側ONトランジスタがそれぞれ低圧側および高圧側調整用スイッチング素子群の中央のトランジスタTFTL(2m-1),TFTH(2m-1)である場合には、太い点線の直線CL(2m-1,2m-1)で示される。低圧側調整用スイッチング素子群において低圧側ONトランジスタを中央のトランジスタTFTL(2m-1)から分圧用抵抗列10に最も遠いトランジスタTFTL(1)へと順に変更すると共に、高圧側調整用スイッチング素子群において高圧側ONトランジスタを中央のトランジスタTFTH(2m-1)から分圧用抵抗列10に最も遠いトランジスタTFTH(1)へと順に変更すると、出力特性曲線は、太い点線の直線CL(2m-1,2m-1)から細い点線の直線CL(1,1)に向かって変化する。一方、低圧側調整用スイッチング素子群において低圧側ONトランジスタを中央のトランジスタTFTL(2m-1)から分圧用抵抗列10に最も近いトランジスタTFTL(2m)へと順に変更すると共に、高圧側調整用スイッチング素子群において高圧側ONトランジスタを中央のトランジスタTFTH(2m-1)から分圧用抵抗列10に最も近いトランジスタTFTH(2m)へと順に変更すると、出力特性曲線は、太い点線の直線CL(2m-1,2m-1)から細い1点鎖線の直線CL(2m,2m)に向かって変化していく。したがって、高圧側および低圧側ONトランジスタの双方を同方向に順に変更することにより、2つの点線CL(1,1)とCL(2m,2m)で挟まれた範囲において各基準電位Vref(1)〜Vref(n)を調整することができる。
FIG. 17B shows the adjustment range of each of the reference potentials Vref (1) to Vref (n) when both the high voltage side and low voltage side ON transistors are sequentially changed in the same direction. Lines connecting the points indicating the generated reference potentials Vref (1) to Vref (n) (hereinafter referred to as “output characteristic curve”) indicate that the low-voltage side and high-voltage side ON transistors are switching elements for adjusting the low-voltage side and the high-voltage side, respectively. In the case of the transistor TFTL (2 m-1 ) and TFTH (2 m-1 ) at the center of the group, it is indicated by a thick dotted straight line CL (2 m-1 , 2 m-1 ). In the low-voltage side adjustment switching element group, the low-voltage side ON transistor is sequentially changed from the central transistor TFTL (2 m-1 ) to the transistor TFTL (1) farthest from the voltage dividing
図17(c)は、高圧側および低圧側ONトランジスタの双方を逆方向に順に変更した場合における各基準電位Vref(1)〜Vref(n)の調整範囲を示している。図17(c)においても、低圧側および高圧側ONトランジスタがそれぞれ低圧側および高圧側調整用スイッチング素子群の中央のトランジスタTFTL(2m-1),TFTH(2m-1)である場合の出力特性曲線は、太い点線の直線CL(2m-1,2m-1)で示される。低圧側調整用スイッチング素子群において低圧側ONトランジスタを中央のトランジスタTFTL(2m-1)から分圧用抵抗列10に最も遠いトランジスタTFTL(1)へと順に変更すると共に、高圧側調整用スイッチング素子群において高圧側ONトランジスタを中央のトランジスタTFTH(2m-1)から分圧用抵抗列10に最も近いトランジスタTFTH(2m)へと順に変更すると、出力特性曲線は、太い点線の直線CL(2m-1,2m-1)から細い点線の直線CL(1,2m)に向かって変化する。一方、低圧側調整用スイッチング素子群において低圧側ONトランジスタを中央のトランジスタTFTL(2m-1)から分圧用抵抗列10に最も近いトランジスタTFTL(2m)へと順に変更すると共に、高圧側調整用スイッチング素子群において高圧側ONトランジスタを中央のトランジスタTFTH(2m-1)から分圧用抵抗列10に最も遠いトランジスタTFTH(1)へと順に変更すると、出力特性曲線は、太い点線の直線CL(2m-1,2m-1)から細い1点鎖線の直線CL(2m,1)に向かって変化していく。したがって、高圧側および低圧側ONトランジスタの双方を逆方向に順に変更することにより、2つの点線CL(1,2m)とCL(2m,1)で挟まれた範囲において各基準電位Vref(1)〜Vref(n)を調整することができる。
FIG. 17C shows the adjustment range of each of the reference potentials Vref (1) to Vref (n) when both the high-voltage side and low-voltage side ON transistors are sequentially changed in the reverse direction. Also in FIG. 17C, the low-voltage side and high-voltage side ON transistors are the transistors TFTL (2 m-1 ) and TFTH (2 m-1 ) in the middle of the low-voltage side and high-voltage side adjusting switching element groups, respectively. The output characteristic curve is indicated by a thick dotted straight line CL (2 m−1 , 2 m−1 ). In the low-voltage side adjustment switching element group, the low-voltage side ON transistor is sequentially changed from the central transistor TFTL (2 m-1 ) to the transistor TFTL (1) farthest from the voltage dividing
<3.2 効果>
上記のように本実施形態では、既述の第1の実施形態と第2の実施形態とを組み合わせた構成となっているので、低圧側選択信号によって低圧側ONトランジスタを変更することによって基準電位Vref(1)〜Vref(n)を調整することができると共に、高圧側選択信号によって高圧側ONトランジスタを変更することによって基準電位Vref(1)〜Vref(n)を調整することができる。これにより、上述の図17(a)〜(c)からも明らかなように、より広い範囲で基準電位Vref(1)〜Vref(n)の調整が可能となる。
<3.2 Effects>
As described above, in this embodiment, since the first embodiment and the second embodiment described above are combined, the reference potential is changed by changing the low-voltage side ON transistor by the low-voltage side selection signal. Vref (1) to Vref (n) can be adjusted, and the reference potentials Vref (1) to Vref (n) can be adjusted by changing the high-voltage side ON transistor according to the high-voltage side selection signal. This makes it possible to adjust the reference potentials Vref (1) to Vref (n) over a wider range, as is apparent from FIGS. 17 (a) to 17 (c).
また、本実施形態によれば、第1および第2の実施形態と同様、調整用スイッチング素子のオン抵抗が従来に比べ大きな値に設定されるので、実現に必要な回路面積を低減することができる。さらに、本実施形態によれば、第1および第2の実施形態と同様、調整用スイッチング素子のオン抵抗のばらつきによる出力電圧(基準電位)の変動幅(誤差幅)が小さくなるので、調整用のスイッチング素子を有する従来の基準電位発生回路に比べ、高い精度で基準電位を生成することができる。 Further, according to the present embodiment, as in the first and second embodiments, the on-resistance of the adjustment switching element is set to a larger value than in the conventional case, so that the circuit area required for realization can be reduced. it can. Further, according to the present embodiment, as in the first and second embodiments, the fluctuation range (error width) of the output voltage (reference potential) due to the variation in the on-resistance of the adjustment switching element is reduced. The reference potential can be generated with higher accuracy than the conventional reference potential generation circuit having the switching elements.
<3.3 変形例>
上記第3の実施形態において、高圧側調整用スイッチング素子群に関する部分については第1の実施形態と同様の変形が可能であり、低圧側調整用スイッチング素子群に関する部分については第2の実施形態と同様の変形が可能である。したがって、本実施形態の変形例として、第1の実施形態の第1〜第3の変形例(図7〜図9)と第2の実施形態の第1〜第3の変形例(図13〜図15)との間での組み合わせによる各種の変形例が構成可能である。
<3.3 Modification>
In the third embodiment, the portion related to the high-voltage side adjustment switching element group can be modified in the same manner as in the first embodiment, and the part related to the low-voltage side adjustment switching element group is the same as in the second embodiment. Similar variations are possible. Therefore, as a modification of the present embodiment, the first to third modifications (FIGS. 7 to 9) of the first embodiment and the first to third modifications of the second embodiment (FIG. 13 to FIG. 13). Various modifications by combination with FIG. 15) can be configured.
例えば図18は、第1の実施形態の第2の変形例(図8)と第2の実施形態の第2の変形例(図14)との組み合わせによる上記第3の実施形態の変形例の構成を示す回路図である。調整用スイッチング素子として実際に形成される薄膜トランジスタのオン抵抗が十分に大きくない場合には、本変形例のように高圧側調整用スイッチング素子としての薄膜トランジスタTFTH(1)〜TFTH(2m)および低圧側調整用スイッチング素子としての薄膜トランジスタTFTL(1)〜TFTL(2m)のそれぞれに直列に抵抗素子Rc(1)〜Rc(2m),Rd(1)〜Rd(2m)を挿入する構成とすればよい。これにより、調整用スイッチング素子としての薄膜トランジスタTFT(1)〜TFT(2m),TFTL(1)〜TFTL(2m)のオン抵抗が十分に大きくない構成においても、上記第3の実施形態と同様の効果が得られる。 For example, FIG. 18 shows a modification of the third embodiment, which is a combination of the second modification (FIG. 8) of the first embodiment and the second modification (FIG. 14) of the second embodiment. It is a circuit diagram which shows a structure. When the on-resistance of the thin film transistor actually formed as the adjustment switching element is not sufficiently high, the thin film transistors TFTH (1) to TFTH (2 m ) and the low voltage as the high-voltage side adjustment switching elements as in this modification. A configuration in which resistance elements Rc (1) to Rc (2 m ) and Rd (1) to Rd (2 m ) are inserted in series in the thin film transistors TFTL (1) to TFTL (2 m ) as the side adjustment switching elements. And it is sufficient. Thereby, even in the configuration in which the on-resistances of the thin film transistors TFT (1) to TFT (2 m ) and TFTL (1) to TFTL (2 m ) as switching elements for adjustment are not sufficiently large, Similar effects can be obtained.
<4.基準電位発生回路の適用例>
以下、上記各実施形態またはその変形例に係る基準電位発生回路(以下、「本発明の実施形態等に係る基準電位発生回路」という)の適用例について説明する。
<4. Application example of reference potential generation circuit>
Hereinafter, application examples of the reference potential generation circuit according to each of the above-described embodiments or modifications thereof (hereinafter referred to as “reference potential generation circuit according to the embodiment of the present invention”) will be described.
<4.1 第1の適用例>
図19は、本発明の実施形態等に係る基準電位発生回路を使用した第1の液晶表示装置を示すブロック図である。この第1の液晶表示装置は、デジタル駆動方式を採用しており、電源回路110と、タイミング発生器120と、LCDコントローラ130と、ドライバ回路140と、表示部としての画素アレイ180とを備えている。LCDコントローラ130は、当該液晶表示装置の外部から与えられる制御信号および映像信号に基づき、タイミング発生器120やドライバ回路140に与えるべき制御信号C1,C2およびドライバ回路140に与えるべきデジタル映像信号VDを生成する。タイミング発生器120は、LCDコントローラ130からの制御信号C1に基づき、各部の動作タイミングを決定するための各種の制御信号C3,C4を生成する。電源回路110は、当該液晶表示装置の外部から与えられる電源に基づき、当該液晶表示装置の各部の動作に必要な電源電圧Ea,Ec等を生成する。
<4.1 First application example>
FIG. 19 is a block diagram showing a first liquid crystal display device using the reference potential generation circuit according to the embodiment of the present invention. This first liquid crystal display device adopts a digital drive system, and includes a
画素アレイ180は、複数のデータ信号線と、当該複数のデータ信号線と交差する複数の走査信号線と、当該複数のデータ信号線と当該複数の走査信号線との交差点にそれぞれ対応してマトリクス状に配置された複数の画素形成部とを備えており、各画素形成部は、対応するデータ信号線にソース端子が接続されると共に対応する走査信号線にゲート端子が接続されるスイッチング素子としての薄膜トランジスタと、当該薄膜トランジスタのドレイン端子に接続された画素電極と、上記複数の画素形成部に共通的に設けられた共通電極と、上記複数の画素形成部に共通的に設けられ当該画素電極と当該共通電極とによって電圧の印加される液晶層とを有している。
The
ドライバ回路140は、画素アレイ180における上記複数の走査信号線を順次に選択するための走査信号SCを上記複数の走査信号線に印加する走査信号線駆動回路としてのゲートドライバ142と、表示すべき画像を表す複数のデータ信号VAを画素アレイ180における上記複数のデータ信号線にそれぞれ印加するデータ信号線駆動回路としてのソースドライバ144とを備えている。ソースドライバ144は、デジタルインタフェース回路152とビデオ回路154とを含んでいる。デジタルインタフェース回路152には、LCDコントローラ130から画素単位のシリアル信号として上記デジタル映像信号VDが入力され、当該デジタルインタフェース回路152は、そのデジタル映像信号VDにシリアル−パラレル変換を施して1水平期間毎に1ライン分の画像信号を出力する。ビデオ回路154は、1水平期間毎に出力される1ライン分の画像信号をアナログ電圧信号に変換することにより上記複数のデータ信号VAを生成し、これらのデータ信号VAを画素アレイ180における上記複数のデータ信号線に印加する。
The driver circuit 140 should display a
このようにして画素アレイ180は、上記複数の走査信号線に走査信号SCが印加されると共に上記複数のデータ信号線に上記複数のデータ信号VAが印加されることにより、各画素形成において画素電極と共通電極とによって形成される画素容量に、表示すべき画像の画素値に相当する電圧が保持される。そして、各画素容量に保持された電圧が液晶層に印加されて当該液晶層の光透過率が制御されることにより画像が表示される。
In this way, the
図20は、上記構成の液晶表示装置におけるビデオ回路154の構成を示すブロック図である。このビデオ回路154は、階調電圧発生回路162と、階調電圧選択回路164と、出力回路166とからなる。階調電圧発生回路162には、本発明の実施形態等に係る上述の基準電位発生回路が使用され、電源回路110からの電源電圧に基づき複数の基準電位が階調電圧として生成されると共に、LCDコントローラ130からの制御信号に基づき内部の調整用スイッチング素子のオン/オフが制御されることにより、階調電圧として出力される複数の基準電位が調整される。階調電圧選択回路164には、デジタルインタフェース回路152から1水平ライン分(すなわち画素アレイ180におけるデータ信号線の本数分)のデジタル映像信号VDが入力され、当該階調電圧選択回路164は、各データ信号線に対応する当該デジタル映像信号(R(赤)、G(緑)、またはB(青)のデジタル映像信号)VDに基づき、階調電圧発生回路162からの複数の階調電圧のうちいずれかの1つの階調電圧を選択する。このようにして各データ信号線につき選択された階調電圧は、出力回路166に入力され、出力回路166における電圧ホロア等によるバッファを介してデータ信号VAとしてソースドライバ144から出力される。
FIG. 20 is a block diagram showing a configuration of the
上記のように本発明の実施形態等に係る基準電位発生回路を液晶表示装置におけるビデオ回路154内の階調電圧発生回路162として使用することにより、階調電圧発生回路162における回路規模の増大を抑えると共に、スイッチング素子のオン抵抗のばらつきにかかわらず十分な精度を確保しつつ、生成すべき階調電圧を適切に調整することができる。したがって、このような用途での本発明の適用は、液晶パネル等を構成する基板上に表示部と一体的に階調電圧発生回路およびそれを含むドライバ回路を薄膜トランジスタにより形成する場合に特に有効である。
As described above, by using the reference potential generation circuit according to the embodiment of the present invention as the gradation
<4.2 第2の適用例>
図21は、本発明の実施形態等に係る基準電位発生回路を使用した第2の液晶表示装置を示すブロック図である。この第2の液晶表示装置は、アナログ駆動方式を採用しており、電源回路110と、タイミング発生器120と、LCDコントローラ130と、ビデオ回路160と、ドライバ回路170と、表示部としての画素アレイ180とを備えている。この第2の液晶表示装置の構成のうち上記第1の液晶表示装置と同一または類似の部分には同一の参照符号を付して詳しい説明を省略する。
<4.2 Second Application Example>
FIG. 21 is a block diagram showing a second liquid crystal display device using the reference potential generation circuit according to the embodiment of the present invention. This second liquid crystal display device adopts an analog drive system, and includes a
第2の液晶表示装置におけるLCDコントローラ130は、当該液晶表示装置の外部から与えられる映像信号に基づき、表示すべき画像を表すデジタル映像信号VDをビデオ回路160に供給する。ビデオ回路160は、そのデジタル映像信号VDに基づき、R(赤)、G(緑)、B(青)の3つアナログ映像信号VAを生成し、これらをドライバ回路170に供給する。
The
ドライバ回路170は、表示すべき画像を表すアナログ電圧信号VAを画素アレイ180における複数のデータ信号線に順次に印加するデータ信号線駆動回路としてのソースドライバ174と、画素アレイ180における複数の走査信号線を順次に選択するための走査信号SCを当該複数の走査信号線に印加する走査信号線駆動回路としてのゲートドライバ172とを備えている。ソースドライバ174は、ビデオ回路160からのアナログ映像信号VAをサンプリングし、サンプリングされたアナログ映像信号VAを画素アレイ180における上記複数のデータ信号線に順次に印加する。
The
このようにして画素アレイ180は、上記複数の走査信号線に走査信号SCが印加されると共に上記複数のデータ信号線に上記アナログ映像信号VAが順次に印加されることにより、各画素形成部において画素電極と共通電極とによって形成される画素容量に、表示すべき画像の画素値に相当する電圧が保持される。そして、各画素容量に保持された電圧が液晶層に印加されて当該液晶層の光透過率が制御されることにより画像が表示される。
In this manner, the
上記のような第2の液晶表示装置におけるビデオ回路160は、各データ信号線についてのアナログ映像信号を生成するのではなく、ソースドライバ174に供給すべきR(赤)、G(緑)、B(青)の3つのデジタル映像信号VDをアナログ映像信号VAに変換する点で、上記第1の液晶表示装置におけるビデオ回路154と相違するが、基本的な構成は同様である。すなわち、第2の液晶表示装置におけるビデオ回路160も、図20に示すように、階調電圧発生回路162と、階調電圧選択回路164と、出力回路166とからなり、入力されるデジタル映像信号の数や、出力されるアナログ映像信号の数の違いを除けば、その構成および動作は上記第1の液晶表示装置におけるビデオ回路154と同様である。
The
上記のように本発明の実施形態等に係る基準電位発生回路を液晶表示装置におけるビデオ回路160内の階調電圧発生回路として使用することにより、階調電圧発生回路における回路規模の増大を抑えると共に、スイッチング素子のオン抵抗のばらつきにかかわらず十分な精度を確保しつつ、生成すべき階調電圧を適切に調整することができる。したがって、このような用途での本発明の適用は、液晶パネルを構成する基板上に表示部と一体的に階調電圧発生回路およびそれを含むドライバ回路を薄膜トランジスタにより形成する場合に特に有効である。
As described above, by using the reference potential generation circuit according to the embodiment of the present invention as the gradation voltage generation circuit in the
<4.3 第3の適用例>
図22は、本発明の実施形態等に係る基準電位発生回路を使用したドライバ回路の要部の構成を示すブロック図である。本発明の実施形態等に係る基準電位発生回路は、液晶表示装置等のソースドライバやゲートドライバにおけるシフトレジスタのクロック信号の生成に使用可能である。すなわち図22に示すように、本適用例に係るドライバ回路の要部は、レベルシフタとしての比較器194と、当該比較器194に入力すべき基準電位Vrefを生成するための基準電位生成回路192とを備えており、これら比較器194および基準電位生成回路192により、シフトレジスタ196を駆動するための高振幅クロック信号CKhを生成するクロック信号生成回路が構成される。比較器194は、その正端子に外部から低振幅クロック信号CKlが入力され、その負端子に基準電位生成回路192からの基準電位Vrefが入力される。これにより、比較器194は、低振幅クロック信号CKlの電位が上記基準電位Vref以下のときには、予め決められた高振幅信号におけるローレベルの電位を出力し、低振幅クロック信号CKlの電位が上記基準電位Vrefよりも高いときには、予め決められた高振幅信号におけるハイレベルの電位を出力する。このようにして比較器194は、低振幅クロック信号CKlを高振幅クロック信号CKhに変換するレベルシフタとして動作する。
<4.3 Third application example>
FIG. 22 is a block diagram showing a configuration of a main part of a driver circuit using the reference potential generating circuit according to the embodiment of the present invention. The reference potential generation circuit according to the embodiment of the present invention can be used to generate a clock signal of a shift register in a source driver or a gate driver of a liquid crystal display device or the like. That is, as shown in FIG. 22, the main part of the driver circuit according to this application example includes a
上記のように低振幅クロック信号CKlを高振幅クロック信号CKhに変換するための基準電位Vrefを生成する基準電位生成回路192として、本発明の実施形態等に係る基準電位発生回路を使用することができる。このとき、基準電位生成回路192では、LCDコントローラ等からの制御信号に基づき内部の調整用スイッチング素子のオン/オフが制御されることにより、レベルシフタを構成する薄膜トランジスタ個々のばらつきに起因する該回路におけるオフセット電圧や低振幅クロック信号CLlのレベルのばらつき等に応じて、生成される基準電位が調整される。このように本発明の実施形態等に係る基準電位発生回路を使用することにより、ドライバ回路内の基準電位生成回路192において、回路規模の増大を抑えると共に、スイッチング素子のオン抵抗のばらつきにかかわらず十分な精度を確保することができる。したがって、このような用途での本発明の適用は、液晶パネル等を構成する基板上に表示部と一体的に上記基準電位生成回路192を含むドライバ回路を薄膜トランジスタにより形成する場合に特に有効である。
As described above, the reference potential generation circuit according to the embodiment of the present invention may be used as the reference
10 …分圧用抵抗列
10a …(高圧側)調整用抵抗列
10b …(低圧側)調整用抵抗列
140,170 …ドライバ回路
144,174 …ソースドライバ(データ線駆動回路)
154,160 …ビデオ回路
162 …階調電圧発生回路
192 …基準電位生成回路
Dz …ツェナーダイオード
E1,E2…電源
R(i) …分圧用抵抗列における抵抗素子(i=1,2,…,n,n+1)
Ra(j)…(高圧側)調整用抵抗列における抵抗素子(j=1,2,…,2m+1)
Rb(j)…(低圧側)調整用抵抗列における抵抗素子(j=1,2,…,2m+1)
T1 …第1の端子
T2 …第2の端子
Tc(k)…高圧側制御端子(k=1,2,…,2m)
Td(k)…低圧側制御端子(k=1,2,…,2m)
Lvdd …高圧側電源ライン
Lvss …低圧側電源ライン
TFT(k) …薄膜トランジスタ(調整用スイッチング素子)
(k=1,2,…,2m)
TFTH(k) …薄膜トランジスタ(高圧側調整用スイッチング素子)
(k=1,2,…,2m)
TFTL(k) …薄膜トランジスタ(低圧側調整用スイッチング素子)
(k=1,2,…,2m)
Va …第1の電位
Vb …第2の電位
Vdd …高圧側電源電位
Vref(i) …基準電位(i=1,2,…,n)
DESCRIPTION OF
154, 160 ...
Ra (j) (high voltage side) resistance elements in the adjustment resistor array (j = 1, 2,..., 2 m +1)
Rb (j)... (Low voltage side) resistance elements in the adjusting resistor string (j = 1, 2,..., 2 m +1)
T1 ... 1st terminal T2 ... 2nd terminal Tc (k) ... High voltage side control terminal (k = 1, 2, ..., 2 m )
Td (k) ... low-voltage side control terminal (k = 1, 2, ..., 2 m )
Lvdd ... High voltage side power supply line Lvss ... Low voltage side power supply line TFT (k) ... Thin film transistor (switching element for adjustment)
(K = 1, 2,..., 2 m )
TFTH (k) ... Thin film transistor (switching element for high voltage side adjustment)
(K = 1, 2,..., 2 m )
TFTL (k) ... Thin film transistor (low-voltage side adjustment switching element)
(K = 1, 2,..., 2 m )
Va ... first potential Vb ... second potential Vdd ... high-voltage side power supply potential Vref (i) ... reference potential (i = 1, 2, ..., n)
Claims (17)
前記抵抗列を構成する抵抗素子間の少なくとも1つの接続点に対応して設けられたスイッチング素子を備え、
前記少なくとも1つの接続点は、対応する前記スイッチング素子を介して電源ラインに接続され、
前記基準電位は、前記スイッチング素子のオン/オフによって調整されることを特徴とする基準電圧発生回路。 It has a resistor string composed of a plurality of resistor elements connected in series with each other, a first predetermined potential is given to one end of the resistor string, and a second predetermined potential is given to the other end. A reference potential generating circuit for generating a potential,
A switching element provided corresponding to at least one connection point between the resistance elements constituting the resistance string;
The at least one connection point is connected to a power line via the corresponding switching element;
The reference voltage generating circuit, wherein the reference potential is adjusted by turning on / off the switching element.
前記抵抗列は、
基準電位を生成するための分圧用抵抗列と、
前記基準電位を調整するための調整用抵抗列とを含み、
前記調整用抵抗列を構成する抵抗素子間の少なくとも1つの接続点に対応してスイッチング素子が設けられ、
前記少なくとも1つの接続点は、対応する前記スイッチング素子を介して電源ラインに接続され、
前記分圧用抵抗列の一端は、前記調整用抵抗列の一端に接続され、
前記分圧用抵抗列は、前記第1および第2の所定電位ならびに前記スイッチング素子のオン/オフに基づき前記基準電位を生成することを特徴とする基準電位発生回路。 A reference potential generating circuit having a resistor string composed of a plurality of resistor elements connected in series to each other, wherein a first predetermined potential is applied to one end of the resistor string and a second predetermined potential is applied to the other end. And
The resistor string is
A voltage dividing resistor string for generating a reference potential;
An adjustment resistor string for adjusting the reference potential,
A switching element is provided corresponding to at least one connection point between the resistance elements constituting the adjustment resistor string,
The at least one connection point is connected to a power line via the corresponding switching element;
One end of the voltage dividing resistor string is connected to one end of the adjusting resistor string,
The voltage dividing resistor array generates the reference potential based on the first and second predetermined potentials and on / off of the switching element.
前記電源ラインの電位は前記第1の所定電位よりも高いことを特徴とする、請求項2または請求項3に記載の基準電位発生回路。 The first predetermined potential is higher than the second predetermined potential;
4. The reference potential generation circuit according to claim 2, wherein the potential of the power supply line is higher than the first predetermined potential.
前記電源ラインの電位は前記第1の所定電位よりも低いことを特徴とする、請求項2または請求項3に記載の基準電位発生回路。 The first predetermined potential is lower than the second predetermined potential;
4. The reference potential generation circuit according to claim 2, wherein the potential of the power supply line is lower than the first predetermined potential.
前記抵抗列は、
基準電位を生成するための分圧用抵抗列と、
前記基準電位を調整するための第1および第2の調整用抵抗列とを含み、
前記第1の調整用抵抗列を構成する抵抗素子間の少なくとも1つの接続点に対応して第1のスイッチング素子が設けられ、
前記第2の調整用抵抗列を構成する抵抗素子間の少なくとも1つの接続点に対応して第2のスイッチング素子が設けられ、
前記分圧用抵抗列の一端は、前記第1の調整用抵抗列の一端に接続され、
前記分圧用抵抗列の他端は、前記第2の調整用抵抗列の一端に接続され、
前記第1の調整用抵抗列の他端は、前記第1の所定電位を与えられ、
前記第2の調整用抵抗列の他端は、前記第2の所定電位を与えられ、
前記第1の調整用抵抗列を構成する抵抗素子間の接続点は、対応する前記第1のスイッチング素子を介して第1の電源ラインに接続され、
前記第2の調整用抵抗列を構成する抵抗素子間の接続点は、対応する前記第2のスイッチング素子を介して第2の電源ラインに接続され、
前記分圧用抵抗列は、前記第1および第2の所定電位ならびに前記第1および第2のスイッチング素子のオン/オフに基づき前記基準電位を生成することを特徴とする基準電位発生回路。 A reference potential generating circuit having a resistor string composed of a plurality of resistor elements connected in series to each other, wherein a first predetermined potential is applied to one end of the resistor string and a second predetermined potential is applied to the other end. And
The resistor string is
A voltage dividing resistor string for generating a reference potential;
And first and second adjustment resistor strings for adjusting the reference potential,
A first switching element is provided corresponding to at least one connection point between the resistance elements constituting the first adjustment resistor string;
A second switching element is provided corresponding to at least one connection point between the resistance elements constituting the second adjustment resistor string;
One end of the voltage dividing resistor string is connected to one end of the first adjusting resistor string,
The other end of the voltage dividing resistor string is connected to one end of the second adjusting resistor string,
The other end of the first adjustment resistor string is given the first predetermined potential,
The other end of the second adjustment resistor string is given the second predetermined potential,
A connection point between the resistance elements constituting the first adjustment resistor string is connected to the first power supply line via the corresponding first switching element,
The connection point between the resistance elements constituting the second adjustment resistor string is connected to the second power supply line via the corresponding second switching element,
The voltage dividing resistor array generates the reference potential based on the first and second predetermined potentials and on / off of the first and second switching elements.
前記第1の所定電位は前記第2の所定電位よりも高く、
前記第1の電源ラインの電位は前記第1の所定電位よりも高いことを特徴とする、請求項6から請求項8までのいずれか1項に記載の基準電位発生回路。 The second predetermined potential is higher than the potential of the second power supply line,
The first predetermined potential is higher than the second predetermined potential;
9. The reference potential generation circuit according to claim 6, wherein a potential of the first power supply line is higher than the first predetermined potential. 10.
前記第2の所定電位を生成する第2の電源と
を更に備えることを特徴とする、請求項1から請求項9までのいずれか1項に記載の基準電位発生回路。 A first power source for generating the first predetermined potential;
10. The reference potential generation circuit according to claim 1, further comprising a second power source that generates the second predetermined potential. 11.
前記第2の所定電位を生成する第2の電源と
を更に備えることを特徴とする、請求項1から請求項9までのいずれか1項に記載の基準電位発生回路。 A constant voltage circuit including a Zener diode having a breakdown voltage corresponding to the first predetermined potential, and generating the first predetermined potential based on the breakdown voltage;
10. The reference potential generation circuit according to claim 1, further comprising a second power source that generates the second predetermined potential. 11.
前記第2の所定電位に応じた降伏電圧を有するツェナーダイオードを含み、当該降伏電圧に基づき前記第2の所定電位を生成する定電圧回路と
を更に備えることを特徴とする、請求項1から請求項9までのいずれか1項に記載の基準電位発生回路。 A first power source for generating the first predetermined potential;
2. A constant voltage circuit including a Zener diode having a breakdown voltage corresponding to the second predetermined potential, and generating the second predetermined potential based on the breakdown voltage. Item 10. The reference potential generation circuit according to any one of Items 9 to 9.
前記第2の所定電位に応じた降伏電圧を有するツェナーダイオードを含み、当該降伏電圧に基づき前記第2の所定電位を生成する第2の定電圧回路と
を更に備えることを特徴とする、請求項1から請求項9までのいずれか1項に記載の基準電位発生回路。 A first constant voltage circuit including a Zener diode having a breakdown voltage corresponding to the first predetermined potential, and generating the first predetermined potential based on the breakdown voltage;
And a second constant voltage circuit including a Zener diode having a breakdown voltage corresponding to the second predetermined potential, and generating the second predetermined potential based on the breakdown voltage. 10. The reference potential generating circuit according to claim 1, wherein the reference potential generating circuit is any one of claims 1 to 9.
請求項1から請求項13までのいずれか1項に記載の基準電位発生回路により複数の階調電圧を生成する階調電圧発生回路を備え、当該複数の階調電圧に基づき前記複数のデータ信号を生成することを特徴とするデータ信号線駆動回路。 A plurality of pixel forming portions for forming an image to be displayed; a plurality of data signal lines for transmitting a plurality of data signals which are analog voltage signals representing the image to be displayed to the plurality of pixel forming portions; A data signal line driving circuit for a display device comprising:
14. A gradation voltage generation circuit that generates a plurality of gradation voltages by the reference potential generation circuit according to claim 1, wherein the plurality of data signals are based on the plurality of gradation voltages. Generating a data signal line driver circuit.
請求項1から請求項13までのいずれか1項に記載の基準電位発生回路により複数の階調電圧を生成する階調電圧発生回路を備え、当該複数の階調電圧に基づき前記デジタル映像信号をアナログ電圧信号に変換することにより前記ビデオ信号を生成することを特徴とするビデオ回路。 A plurality of pixel forming portions for forming an image to be displayed; a plurality of data signal lines for transmitting a video signal which is an analog voltage signal representing the image to be displayed to the plurality of pixel forming portions; In a display device comprising a data signal line driving circuit for sequentially applying a video signal to the plurality of data signal lines, the video signal is based on a digital video signal inputted from the outside as a signal representing the image to be displayed. A video circuit to generate,
A gradation voltage generation circuit that generates a plurality of gradation voltages by the reference potential generation circuit according to any one of claims 1 to 13, wherein the digital video signal is generated based on the plurality of gradation voltages. A video circuit, wherein the video signal is generated by converting into an analog voltage signal.
請求項1から請求項13までのいずれか1項に記載の基準電位発生回路と、
前記低振幅のクロック信号の電位を前記基準電位発生回路によって生成される基準電位と比較することにより前記高振幅のクロック信号を生成する比較器と
を備えることを特徴とするクロック信号生成回路。
A clock signal generation circuit for generating a high amplitude clock signal from a low amplitude clock signal,
A reference potential generation circuit according to any one of claims 1 to 13,
A clock signal generation circuit comprising: a comparator for generating the high amplitude clock signal by comparing the potential of the low amplitude clock signal with a reference potential generated by the reference potential generation circuit.
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