JP2005187323A - 日射遮蔽体形成用タングステン酸化物微粒子の製造方法、日射遮蔽体形成用タングステン酸化物微粒子および日射遮蔽体形成用分散液並びに日射遮蔽体 - Google Patents

Abstract

【課題】
可視光透過率を高く保ったまま、赤外線の透過率を低くできる日射遮蔽体に用いるタングステン酸化物微粒子とその製造方法、当該タングステン酸化物微粒子を用いた日射遮蔽体形成用分散液および日射遮蔽体を提供する。
【解決手段】
タングステン酸を大気中で焼成して焼成粉とし、当該焼成粉をＮ₂ガスをキャリアとしたＨ₂ガスを供給しながら加熱して還元処理を行い、日射遮蔽体に用いるタングステン酸化物微粒子を得、当該微粒子と、高分子系分散剤と、トルエンとを混合し、粉砕・分散処理することによって日射遮蔽体形成用分散液を製造した。製造された当該分散液と、ＵＶ硬化樹脂と、トルエンとを、混合・攪拌して日射遮蔽体形成用分散液を調製し、当該日射遮蔽体形成用分散液を樹脂フィルム上へ塗布した後、ＵＶを照射し日射遮蔽体を得た。
【選択図】なし

Description

本発明は、可視光領域においては透明で、赤外線領域においては吸収を持つ日射遮蔽体形成用タングステン酸化物微粒子の製造方法、日射遮蔽体形成用タングステン酸化物微粒子および該日射遮蔽体形成用タングステン酸化物微粒子が分散されてなる日射遮蔽体形成用分散液並びに日射遮蔽体に関する。

陽光や電球などの外部光源から熱成分を除去、減少する方法として、従来、ガラス表面等に赤外線を反射する材料からなる被膜を形成して熱線反射ガラスとし、当該熱線反射ガラスを用いて外部光源から熱成分を除去、減少することが行われていた。そして、その赤外線反射材料には、ＦｅＯｘ、ＣｏＯｘ、ＣｒＯｘ、ＴｉＯｘなどの金属酸化物や、Ａｇ、Ａｕ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ａｌなどの金属材料が選択されてきた。

ところが、これら金属酸化物や金属材料には、熱効果に大きく寄与する赤外線以外に可視光も同時に反射もしくは吸収する性質があるため、当該熱線反射ガラスの可視光透過率が低下してしまう問題があった。特に、建材、乗り物、電話ボックスなどに用いられる基材においては可視光領域で高い透過率が必要とされることから、上記金属酸化物などの材料を利用する場合には、その膜厚を非常に薄くしなければならなかった。このため、スプレー焼付けやＣＶＤ法、あるいはスパッタリング法や真空蒸着法などの物理成膜法を用いて、膜厚１０ｎｍレベルの薄膜として成膜して用いる方法が採られている。

しかし、これらの成膜方法は大がかりな装置や真空設備を必要とし、生産性や大面積化に難点があり、膜の製造コストが高くなる問題点がある。また、これらの材料を用いて日射遮蔽特性を高くしようとすると、可視光領域の反射率も同時に高くなってしまう傾向があり、鏡のようなギラギラした外観を与えて、美観を損ねてしまう欠点もあった。更に、これらの材料で成膜された膜は、電気抵抗値が比較的低くなって電波に対する反射が高くなり、例えば携帯電話やテレビ、ラジオなどの電波を反射して受信不能になったり、周辺地域に電波障害を引き起こしたりするなどの問題点もあった。

このような問題点を改善するためには、膜の物理特性として可視光領域の光の反射率が低くて赤外線領域の反射率が高く、かつ膜の表面抵抗値が概ね１０⁶Ω/□以上に制御可能な膜が必要であると考えられる。

また、可視光透過率が高く、しかも優れた日射遮蔽機能を持つ材料として、アンチモン錫酸化物（以下、ＡＴＯと略す）や、インジウム錫酸化物（以下、ＩＴＯと略す）が知られている。これらの材料は、可視光反射率が比較的低いためギラギラした外観を与えることはない。しかし、プラズマ周波数が近赤外線領域にあるために、可視光により近い近赤外域において反射・吸収効果が未だ十分でない。更に、これらの材料は、単位重量当たりの日射遮蔽力が低いため、高遮蔽機能を得るには使用量が多くなって原料コストが割高となるという問題を有していた。

さらに、日射遮蔽機能を有する赤外線遮蔽膜材料として、酸化タングステン、酸化モリブデン、酸化バナジウムをわずかに還元した膜が挙げられる。これらの膜はいわゆるエレクトロクロミック材料として用いられる材料であるが、充分に酸化された状態では透明であり、電気化学的な方法で還元すると長波長の可視光領域から近赤外領域にかけて吸収を生じるようになる。

特許文献１では、透明なガラス基板上に、基板側より第１層として周期律表のＩＩＩａ族、ＩＶａ族、Ｖｂ族、ＶＩｂ族及びＶＩＩｂ族から成る群から選ばれた少なくとも１種の金属イオンを含有する複合酸化タングステン膜を設け、前記第１層上に第２層として透明誘電体膜を設け、該第２層上に第３層として周期律表のＩＩＩａ族、ＩＶａ族、Ｖｂ族、ＶＩｂ族及びＶＩＩｂ族から成る群から選ばれた少なくとも１種の金属イオンを含有する複合酸化タングステン膜を設け、かつ前記第２層の透明誘電体膜の屈折率が前記第１層及び前記第３層の複合酸化タングステン膜の屈折率よりも低くする熱線遮蔽ガラスが提案されている。また、当該文献によれば、金属イオンを含有する複合酸化タングステン膜は、特に大面積化及び生産性等の観点からスパッタリング法によって成膜する旨記載されている。

また、特許文献２では、特許文献１と同様の方法で、透明なガラス基板上に、基板側より第１層として第１の誘電体膜を設け、該第１層上に第２層として酸化タングステン膜を設け、該第２層上に第３層として第２の誘電体膜を設けた熱線遮蔽ガラスが提案されている。

また、特許文献３では、特許文献１と同様な方法で、透明な基板上に、基板側より第１層として同様の金属元素を含有する複合酸化タングステン膜を設け、前記第１層上に第２層として透明誘電体膜を設けた熱線遮蔽ガラスが提案されている。

また、特許文献４では、タングステンからなるターゲットを用い、二酸化炭素を含む雰囲気中でスパッタリングすることで、高遮熱性を有し、面内における光学特性が均一な酸化タングステン膜を安定して生産できる、電波透過型熱線遮蔽膜の成膜方法が提案されている。

特開平８−５９３００号公報 特開平８−１２３７８号公報 特開平８−２８３０４４号公報 特開平１０−１８３３３４号公報

例えば、特許文献１〜特許文献４に記載されているように、従来、タングステン化合物を含む赤外線遮蔽層の製造方法としては、スパッタリング法が用いられてきた。しかし、このような物理成膜法では、大がかりな装置や真空設備を必要とし生産性の観点から課題があり、大面積化を行うことは技術的には可能であっても膜の製造コストが高くなるという課題もあった。また、日射遮蔽体としての観点からは、赤外域や近赤外域の遮蔽性能を落とすことなく、より可視光線域での光透過性を向上させるという課題がある。また、生産性の観点より当該赤外線遮蔽層を単層膜とした場合、当該赤外線遮蔽層が酸化し易く、傷つき易いという耐久性の弱さも問題となっていた。

そこで、本発明の課題とするところは、可視光透過率を高く保ったまま、赤外線の透過率を低くできる日射遮蔽体に用いるタングステン酸化物微粒子とその製造方法、当該タングステン酸化物微粒子を用いた日射遮蔽体形成用分散液および日射遮蔽体を提供することである。

発明者等は、鋭意研究の結果、可視光透過率を高く保ったまま、赤外線の透過率を低くした日射遮蔽体へ好個に適用できるタングステン酸化物の微粒子を得た。そして、当該タングステン酸化物の微粒子分散液を作製したところ、高コストの物理成膜法を用いずに、簡便な塗布法等で日射遮蔽膜を形成して日射遮蔽体を製造でき、従来問題となっていた赤外域や近赤外域の遮蔽性能を落とすことなく、可視光線域での光透過性をより向上させること、また、日射遮蔽層の酸化し易さや傷つき易さに伴う耐久性の改善を図ることが可能であることを見出した。さらに、当該タングステン酸化物の微粒子は、適宜な樹脂への練り込み法等の簡便な方法で、赤外域や近赤外域の遮蔽性能を落とすことなく、可視光線域での光透過性に優れた日射遮蔽体を形成可能であることを見出し本発明に至った。

すなわち、本発明の第１の発明は、タングステン酸（Ｈ₂ＷＯ₄）、または、タングステン酸（Ｈ₂ＷＯ₄）と三酸化タングステン微粒子との混合物を、不活性ガスまたは不活性ガスと還元性ガスとの混合ガス雰囲気下で焼成することにより、一般式ＷｙＯｚ（但し、Ｗはタングステン、Ｏは酸素、２.２≦ｚ/ｙ≦２.９９９）で表されるタングステン酸化物微粒子を生成させることを特徴とする日射遮蔽体形成用タングステン酸化物微粒子の製造方法である。

本発明の第２の発明は、タングステン酸（Ｈ₂ＷＯ₄）、または、タングステン酸（Ｈ₂ＷＯ₄）と三酸化タングステン微粒子との混合物と、Ｍ元素の酸化物または／および水酸化物（但し、Ｍは、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類元素、Ｚｒ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｒｕ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｔｌ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｂ、Ｆ、Ｐ、Ｓ、Ｓｅ、Ｂｒ、Ｔｅ、Ｔｉ、Ｎｂ、Ｖ、Ｍｏ
、Ｔａ、Ｒｅのうちから選択される１種類以上の元素）とを、混合した混合粉、
または／および
タングステン酸（Ｈ₂ＷＯ₄）、または、タングステン酸（Ｈ₂ＷＯ₄）と三酸化タングステン微粒子との混合物と、前記Ｍ元素の、金属塩の水溶液、金属酸化物のコロイド溶液、アルコキシ溶液のうちから選択される１種以上とを、混合して乾燥した乾燥粉を、不活性ガス、または不活性ガスと還元性ガスとの混合ガス雰囲気下で焼成することにより、一般式ＭｘＷｙＯｚ（但し、Ｍは前記Ｍ元素、Ｗはタングステン、Ｏは酸素、０.００１≦ｘ/ｙ≦１、２.２≦ｚ/ｙ≦３.０）で表されるタングステン酸化物微粒子を生成させることを特徴とする日射遮蔽体形成用タングステン酸化物微粒子の製造方法である。

本発明の第３の発明は、第１、第２の発明に記載の日射遮蔽体形成用タングステン酸化物微粒子の製造方法により製造されたことを特徴とする日射遮蔽体形成用タングステン酸化物微粒子である。

本発明の第４の発明は、第３の発明に記載の日射遮蔽体形成用タングステン酸化物微粒子であって、その粉体色が、国際照明委員会（ＣＩＥ）が推奨しているＬ^*ａ^*ｂ^*表色系（ＪＩＳ Ｚ８７２９）における粉体色において、Ｌ^*が２５〜８０、ａ^*が−１０〜１０、ｂ^*が−１５〜１５の範囲内にあることを特徴とする日射遮蔽体形成用タングステン酸化物微粒子である。

本発明の第５の発明は、第３または第４の発明記載の日射遮蔽体形成用タングステン酸化物微粒子が、溶媒中に分散されていることを特徴とする日射遮蔽体形成用分散液である。

本発明の第６の発明は、第３または第４の発明記載の日射遮蔽体形成用タングステン酸化物微粒子が、樹脂中に分散されていることを特徴とする日射遮蔽体である。

本発明によれば、可視光透過率を高く保ったまま、赤外線の透過率を低くできるという、日射遮蔽膜、日射遮蔽体として優れた機能を発揮するタングステン酸化物微粒子を容易に製造できる。そして、当該タングステン酸化物微粒子を用いてタングステン酸化物微粒子分散液を作製し、さらに、当該タングステン酸化物微粒子分散液を用いて、高コストな物理成膜法を用いること無く、簡便な塗布法等で日射遮蔽膜を形成し、赤外域や近赤外域の遮蔽性能を落とすことなく、可視光線域での光透過性が優れた日射遮蔽体を、安価な生産コストで製造することができる。さらに、当該タングステン酸化物微粒子を適宜な樹脂へ練り込み法等により分散させることで、赤外域や近赤外域の遮蔽性能を落とすことなく、可視光線域での光透過性が優れた日射遮蔽体を安価な生産コストで製造することができる。

以下、本発明の実施の形態について、具体的に説明する。
本発明者らは、可視光透過率を高く保ったまま、赤外線の透過率を低くできるタングステン酸化物として、
（Ａ）タングステン酸（Ｈ₂ＷＯ₄）または／および三酸化タングステン微粒子を、不活性ガスまたは不活性ガスと還元性ガスとの混合ガス雰囲気下で焼成することにより得られる一般式ＷｙＯｚ（但し、Ｗはタングステン、Ｏは酸素、２.２≦ｚ/ｙ≦２.９９９）で表されるタングステン酸化物微粒子、
（Ｂ）タングステン酸（Ｈ₂ＷＯ₄）または／および三酸化タングステン微粒子と、Ｍ元素の酸化物または／および水酸化物（但し、Ｍは、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類元素、Ｚｒ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｒｕ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｔｌ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｂ、Ｆ、Ｐ、Ｓ、Ｓｅ、Ｂｒ、Ｔｅ、Ｔｉ、Ｎｂ、Ｖ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｒｅのうちから選択される１種類以上の元素（本明細書においてＭ元素と記載する。））とを、混合した混合粉、
または／および、
タングステン酸（Ｈ₂ＷＯ₄）または／および三酸化タングステン微粒子と、前記Ｍ元素の、金属塩の水溶液、金属酸化物のコロイド溶液、アルコキシ溶液のうちから選択される１種以上とを、混合して乾燥した乾燥粉を、不活性ガス、または、不活性ガスと還元性ガスとの混合ガス雰囲気下で焼成することにより、一般式ＭｘＷｙＯｚ（但し、Ｍは前記Ｍ元素、Ｗ：タングステン、Ｏ：酸素、０.００１≦ｘ/ｙ≦１、２.２≦ｚ/ｙ≦３.０）で表されるタングステン酸化物微粒子、に想到した。

上記（Ａ）（Ｂ）にて説明したタングステン酸化物微粒子や、当該タングステン酸化物微粒子を用い製造したタングステン酸化物微粒子分散液を用いて、高コストの物理成膜法を用いず、簡便な塗布法または練り込み法を用いて、日射遮蔽膜や、日射遮蔽体を形成することができる。当該日射遮蔽膜や、日射遮蔽体は、従来問題となっていた赤外域や近赤外域の遮蔽性能を落とすことなくより可視光線域での光透過性を向上させること、また、酸化し易さや、傷つき易さに伴う耐久性の改善を図ることができたが、これを工程順に説明する。

１．タングステン酸化物微粒子の製造
１−（Ａ）．一般式ＷｙＯｚ（但し、Ｗはタングステン、Ｏは酸素、２.２≦ｚ/ｙ≦２.９９９）で表されるタングステン酸化物微粒子の製造
タングステン酸（Ｈ₂ＷＯ₄）または／および三酸化タングステン微粒子を、不活性ガス単独または不活性ガスと還元性ガスとの混合ガス雰囲気下で焼成することにより、一般式ＷｙＯｚ（但し、Ｗはタングステン、Ｏは酸素、２.２≦ｚ/ｙ≦２.９９９）で表されるタングステン酸化物微粒子を得る工程について説明する。

原料として用いるタングステン酸（Ｈ₂ＷＯ₄）は、焼成によって酸化物となるものであれば特に制限は無い。また、原料として用いる三酸化タングステンは、前記タングステン酸（Ｈ₂ＷＯ₄）を焼成して三酸化タングステン微粒子としたものを用いてもよいし、市販品を用いてもよい。ここで、製造される日射遮蔽用タングステン酸化物微粒子の光学的特性の観点からは、原料として用いるタングステン酸（Ｈ₂ＷＯ₄）の焼成によって得られる酸化物を用いることが好ましいが、コスト、生産性の観点からは市販品等の三酸化タングステン微粒子を用いることもでき、同様の観点より、両者の混合物を使用しても良い。

前記タングステン酸（Ｈ₂ＷＯ₄）を焼成して三酸化タングステン微粒子として用いる場合、焼成時の処理温度は、望まれる三酸化タングステン微粒子の性状および光学特性の観点から、２００℃以上が好ましい。一方、焼成時の処理温度が１０００℃を越えると焼成の効果が飽和し、また、１０００℃以下であれば、光学特性の低下原因となる粒成長を回避できることから１０００℃以下が好ましい。焼成時の処理時間は処理温度に応じて適宜選択すればよいが、１０分間以上５時間以下でよい。

次に、タングステン酸（Ｈ₂ＷＯ₄）または／および三酸化タングステン微粒子に、酸素空孔を生成させるために、不活性ガス単独または不活性ガスと還元性ガスとの混合ガス雰囲気下で当該微粒子を焼成する。この焼成の際の雰囲気は、窒素、アルゴン、ヘリウムなどの不活性ガス、または、前記不活性ガスと、水素やアルコ−ルなどの還元性ガスとの混合ガスを用いることができる。不活性ガスと還元性ガスとの混合ガス雰囲気下で焼成する場合、不活性ガス中の還元性ガスの濃度は焼成温度に応じて適宜選択すれば良く、特に限定されないが、例えば２０ｖｏｌ%以下、好ましくは１０ｖｏｌ％以下、より好ましくは７ｖｏｌ％以下である。還元性ガスの濃度が２０ｖｏｌ%以下であれば、急速な還元による日射遮蔽機能を有しないＷＯ₂が生成するのを回避できるからである。

焼成の際の処理温度は雰囲気に応じて適宜選択すればよいが、雰囲気が不活性ガス単独の場合は、焼成される日射遮蔽微粒子の粒子としての結晶性や隠ぺい力の観点から６５０℃を超え１２００℃以下、より好ましくは１１００℃以下、さらに好ましくは１０００℃以下である。また、雰囲気が不活性ガスと還元性ガスとの混合ガスの場合は、当該還元ガスの存在によりＷＯ₂が生成することのない温度を適宜選択すればよい。

また、上述したように当該焼成を１ステップの処理温度下で実施してもよいが、焼成途中で雰囲気や焼成温度を変化させる複数ステップとしてもよい。例えば、第１ステップにおいて不活性ガスと還元性ガスとの混合ガス雰囲気下１００℃以上６５０℃以下で焼成し、第２ステップにおいて不活性ガス雰囲気下６５０℃を超え１２００℃以下で焼成することで、日射遮蔽特性に優れた日射遮蔽微粒子を得ることができ好ましい構成である。これらの焼成の処理時間は温度に応じて適宜選択すればよいが、５分間以上５時間以下でよい。

得られたタングステン酸化物微粒子は、国際照明委員会（ＣＩＥ）が推奨しているＬ^*ａ^*ｂ^*表色系（ＪＩＳ Ｚ８７２９）における粉体色において、Ｌ^*が２５〜８０、ａ^*が−１０〜１０、ｂ^*が−１５〜１５の範囲内にあることが好ましい。

１−（Ｂ）．一般式ＭｘＷｙＯｚ（但し、Ｍは前記Ｍ元素、Ｗはタングステン、Ｏは酸素、０.００１≦ｘ/ｙ≦１、２.２≦ｚ/ｙ≦３.０）で表されるタングステン酸化物微粒子の製造
タングステン酸（Ｈ₂ＷＯ₄）と、Ｍ元素の酸化物または／および水酸化物と、を混合した混合粉、または、三酸化タングステン微粒子と、Ｍ元素の酸化物または／および水酸化物と、を
混合した混合粉、または、タングステン酸（Ｈ₂ＷＯ₄）と三酸化タングステン微粒子との混合物と、Ｍ元素の酸化物または／および水酸化物と、を混合した混合粉、または、タングステン酸（Ｈ₂ＷＯ₄）および／または三酸化タングステン微粒子と、Ｍ元素の、金属塩の水溶液、金属酸化物のコロイド溶液、アルコキシ溶液のうちから選択される１種以上とを、混合して乾燥した乾燥粉、を、不活性ガスまたは不活性ガスと還元性ガスとの混合ガス雰囲気下で焼成することにより得られる、一般式ＭｘＷｙＯｚ（但し、Ｍは前記Ｍ元素、Ｗはタングステン、Ｏは酸素、０.００１≦ｘ/ｙ≦１、２.２≦ｚ/ｙ≦３.０）で表される日射遮蔽体形成用タングステン酸化物微粒子を得ることを特徴とするものである。尚、焼成条件は、「１．タングステン酸化物微粒子の製造」にて説明した一般式ＷｙＯｚで表されるタングステン酸化物微粒子の場合と同様である。

ここで、本発明において用いるタングステン化合物は、原料コストや排ガス処理の観点からタングステン酸が好ましい。
また、三酸化タングステンを原料とする場合は、「１．タングステン酸化物微粒子の製造」にて説明したものと同様に、タングステン酸（Ｈ₂ＷＯ₄）を焼成して三酸化タングステン微粒子として使用してもよいし、市販品を用いてもよい。タングステン酸（Ｈ₂ＷＯ₄）を焼成して三酸化タングステン微粒子として使用する場合は、「１．タングステン酸化物微粒子の製造」にて説明したものと同様に製造すればよい。

添加するときの原料の種類は、酸化物または／および水酸化物が好ましい。このＭ元素の酸化物、水酸化物とタングステン酸（Ｈ₂ＷＯ₄）または／および三酸化タングステン微粒子とを混合する。混合工程は、市販のらいかい機、ニーダー、ボールミル、サンドミル、ペイントシェカー等で行えばよい。

また、タングステン酸（Ｈ₂ＷＯ₄）または／および三酸化タングステン微粒子と、前記Ｍ元素の、金属塩の水溶液、金属酸化物のコロイド溶液、アルコキシ溶液のうちから選択される１種以上とを、混合して乾燥した乾燥粉を用いる場合、塩を形成するための相手方のイオンは特に限定されるものでなく、例えば硝酸イオン、硫酸イオン、塩化物イオン、炭酸イオンなどが挙げられる。乾燥温度や時間は特に限定されるものでない。

次に、上記混合物または乾燥粉に、酸素空孔を生成させるために、不活性ガス単独または不活性ガスと還元性ガスとの混合ガス雰囲気下で焼成する。この焼成の際の雰囲気は、窒素、アルゴン、ヘリウムなどの不活性ガス、または、前記不活性ガスと、水素やアルコ−ルなどの還元性ガスとの混合ガスを用いることができる。不活性ガスと還元性ガスとの混合ガス雰囲気下で焼成する場合、不活性ガス中の還元性ガスの濃度は焼成温度に応じて適宜選択すれば良く、特に限定されないが、例えば２０ｖｏｌ%以下、好ましくは１０ｖｏｌ％以下、より好ましくは７ｖｏｌ％以下である。還元性ガスの濃度が２０ｖｏｌ％以下であれば、急速な還元による日射遮蔽機能を有しないＷＯ₂が生成を回避できるからである。

焼成の際の処理温度は、雰囲気に応じて適宜選択すればよいが、雰囲気が不活性ガス単独の場合は、焼成される日射遮蔽用微粒子の粒子としての結晶性や隠ぺい力の観点から６５０℃を超え１２００℃以下、より好ましくは１１００℃以下、さらに好ましくは１０００℃以下である。また、雰囲気が不活性ガスと還元性ガスとの混合ガスの場合は、当該還元ガスの存在によりＷＯ₂が生成することのない温度を適宜選択すればよい。
また、上述したように当該焼成を１ステップの処理温度下で実施してもよいが、焼成途中で雰囲気や焼成温度を変化させる複数ステップとしてもよい。例えば、第１ステップにおいて、不活性ガスと還元性ガスとの混合ガス雰囲気下で１００℃以上６５０℃以下で焼成し、第２ステップにおいて不活性ガス雰囲気下、６５０℃を超え１２００℃以下で焼成することで、日射遮蔽特性に優れた日射遮蔽微粒子を得ることができ好ましい構成である。これらの焼成の処理時間は温度に応じて適宜選択すればよいが、５分間以上５時間以下でよい。

得られたタングステン酸化物微粒子は、国際照明委員会（ＣＩＥ）が推奨しているＬ^*ａ^*ｂ^*表色系（ＪＩＳ Ｚ８７２９）における粉体色において、Ｌ^*が２５〜８０、ａ^*が−１０〜１０、ｂ^*が−１５〜１５の範囲内にあることが好ましい。当該粉体色を有するタングステン酸化物微粒子は、十分な日射遮蔽機能を発揮する。

２．タングステン酸化物微粒子
上記１−（Ａ）．１−（Ｂ）．の工程によって得られたタングステン酸化物微粒子は、一般式ＷｙＯｚ（但し、Ｗはタングステン、Ｏは酸素、２.２≦ｚ/ｙ≦２.９９９）で表されるタングステン酸化物微粒子、または、一般式ＭｘＷｙＯｚ（但し、Ｍは前記Ｍ元素、Ｗはタングステン、Ｏは酸素、０.００１≦ｘ/ｙ≦１、２.２≦ｚ/ｙ≦３.０）で表されるタングステン酸化物微粒子である。
当該ＷｙＯｚで表されるタングステン酸化物微粒子は、高い可視光透過率を維持したまま、赤外線を遮蔽する特徴を有している日射遮蔽微粒子であり、ｚ／ｙの値が２．２以上であれば、日射遮蔽機能を有しないＷＯ₂の生成が回避され、２．９９９以下であれば、十分な伝導電子が生成されるので、十分な日射遮蔽機能を発揮することとなり好ましい。

また、当該ＭｘＷｙＯｚで表されるタングステン酸化物微粒子は、ｘの値が０．００１以上あれば、十分な伝導電子を生成し、１以下であれば不純物の生成を回避できるので好ましい。即ち、当該範囲において十分な日射遮蔽機能を発揮する。また、ｚ/ｙの値が２．２以上あれば、日射遮蔽機能を有しないＷＯ₂の生成を回避でき、２．９９９以下であれば、十分な伝導電子を生成する。この結果、当該範囲において十分な日射遮蔽機能を発揮する。ここで、元素Ｍは、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類金属、Ｚｒ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｒｕ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｔｌ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｂ、Ｆ、Ｐ、Ｓ、Ｓｅ、Ｂｒ、Ｔｅ、Ｔｉ、Ｎｂ、Ｖ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｒｅのうちから選択される１種類以上の元素であることが好ましい。また、日射遮蔽特性を向上させる観点からは前記Ｍ元素において、アルカリ金属、アルカリ土類金属、遷移金属に属する金属が好ましく、さらに、耐候性を向上させる観点からは、３Ｂ族元素、４Ａ族元素、４Ｂ族元素や５Ｂ族元素に属するものが好ましい。

また、本発明のタングステン酸化物微粒子の粒子径は、当該微粒子の使用目的によって適宜選定することができる。例えば、日射遮蔽材の透明性を保持した応用に使用する場合は、粒子径を８００ｎｍ以下にすることが好ましい。粒子径が８００ｎｍよりも小さい粒子は、光を完全に遮蔽することがないため、可視光線領域の視認性を保持し、同時に効率良く透明性を保持することが可能となるからである。

さらに、可視光領域の透明性を重視する場合は、粒子による光の散乱も考慮する必要がある。透明性を重視したとき、粒子径は２００ｎｍ以下、好ましくは１００ｎｍ以下が好ましい。理由は、粒子の粒子径が大きいと幾何学散乱もしくはミー散乱によって、４００ｎｍ〜７８０ｎｍの可視光線領域の光が散乱され、日射遮蔽材の外観が曇りガラスのようになり、鮮明な透明性が得られにくくなるからである。粒子径が２００ｎｍ以下になると、上記散乱が低減し、レイリー散乱領域になる。レイリー散乱領域では、散乱光は粒子径の６乗に反比例して低減するため、粒子径の減少に伴い散乱が低減し透明性が向上する。さらに、１００ｎｍ以下になると散乱光は非常に少なくなり好ましい。また、粒子径が１ｎｍ以上のタングステン酸化物微粒子は工業的な製造が容易である。

上述した、粒子径を選択することにより、タングステン酸化物微粒子を媒体中に分散させた日射遮蔽材料微粒子分散体のヘイズ値を、可視光透過率８５％以下でヘイズ３０％以下とすることができる。ヘイズが３０％よりも小さい値であると、鮮明な透明性が得られる。このようにして得られた日射遮蔽体形成用タングステン酸化物微粒子は、上記の特性を有することから、日射遮蔽体微粒子として優れた光学特性を発揮する。

３．日射遮蔽体形成用分散液
前記日射遮蔽体形成用タングステン酸化物微粒子を適宜な溶媒中に混合、分散したものが、本発明に係る日射遮蔽体形成用分散液である。当該溶媒は特に限定されるものでなく、塗布・練り込み条件、塗布・練り込み環境、さらに、無機バインダーや樹脂バインダーを含有させたときは、当該バインダーに合わせて適宜選択すればよい。例えば、水、エタノール、プロパノール、ブタノール、イソプロピルアルコール、イソブチルアルコール、ジアセトンアルコールなどのアルコール類、メチルエーテル,エチルエーテル,プロピルエーテルなどのエーテル類、エステル類、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、シクロヘキサノン、イソブチルケトンなどのケトン類、トルエンなどの芳香族炭化水素類といった各種の有機溶媒が使用可能であり、また必要に応じて酸やアルカリを添加してｐＨ調整してもよい。さらに、分散液中における微粒子の分散安定性を一層向上させるためには、各種の界面活性剤、カップリング剤などの添加も勿論可能である。

本発明に係る日射遮蔽体形成用分散液の特徴は、タングステン酸化物微粒子を溶媒中に分散したときの、タングステン酸化物微粒子の分散状態を測定することで確認することができる。例えば、本発明に係るタングステン酸化物微粒子が、溶媒中において粒子および粒子の凝集状態として存在する状態の液から試料をサンプリングし、市販されている種々の粒度分布計で測定することで確認することができる。粒度分布計としては、例えば、動的光散乱法を原理とした大塚電子（株）社製ＥＬＳ−８０００を用いることができる。

タングステン酸化物微粒子の分散粒子径は、光学特性の観点から４００ｎｍ以下まで十分細かく、かつ、均一に分散していることが好ましい。４００ｎｍ以下の粒径であれば、日射遮蔽膜や成形体（板、シートなど）が、単調に透過率の減少した灰色系のものになってしまうのを回避できるからである。また、タングステン酸化物微粒子が凝集して粗大粒子凝集となり、当該粗大粒子が多数存在すると、当該粗大粒子が光散乱源となり、日射遮蔽膜や成形体となったときに曇り（ヘイズ）が大きくなり、可視光透過率が減少する原因となることがあるので、粗大粒子生成を回避することが好ましい。尚、明細書において「分散粒子径」とは「凝集粒子径」を意味するものである。

タングステン酸化物微粒子の溶媒への分散方法は、微粒子を分散液中へ均一に分散する方法であれば特に限定されず、例えば、ビーズミル、ボールミル、サンドミル、ペイントシェーカー、超音波ホモジナイザーなどが挙げられる。これらの器材を用いた分散処理工程によって、タングステン酸化物微粒子の溶媒中への分散と同時にタングステン酸化物粒子同士の衝突等による微粒子化も進行し、タングステン酸化物粒子をより微粒子化して分散させることができる（すなわち、粉砕・分散処理することができる）。

４．日射遮蔽体の製造
４−（Ａ）．塗布操作による場合
上記日射遮蔽体形成用分散液を、適宜な透明基材上に塗布して被膜を形成する場合の塗布法は、例えばスピンコート法、バーコート法、スプレーコート法、ディップコート法、スクリーン印刷法、ロールコート法、流し塗りなど、分散液を平坦かつ薄く均一に塗布できる方法であればいずれの方法でもよい。

また、上記日射遮蔽体形成用分散液が、無機バインダーとして、珪素、ジルコニウム、チタン、もしくはアルミニウム等の元素を金属アルコキシドおよびその加水分解重合物として含む分散液である場合、当該分散液の塗布後の基材加熱温度は１００℃以上とすることが好ましい。基材温度を１００℃以上とすることで、塗膜中に含まれるアルコキシドまたはその加水分解重合物の重合反応を完結させることができ、また水や有機溶媒が膜中に残留して、加熱後の膜における可視光透過率の低減の原因となるのを回避することができるからである。さらに、同様の理由により、当該溶媒の沸点が１００℃以上の場合は、当該溶媒の沸点以上で加熱を行うことが望ましい。

また、上記日射遮蔽体形成用分散液が、樹脂バインダーを含む分散液である場合、当該分散液を基材に塗布後、それぞれの樹脂の硬化方法に従って硬化させればよい。例えば、当該樹脂バインダーが、紫外線硬化樹脂であれば紫外線を適宜照射すればよく、また常温硬化樹脂であれば塗布後そのまま放置しておけばよい。このため、当該構成を有する日射遮蔽体形成用分散液は、既存の窓ガラス等への現場における塗布が可能である。

４−（Ｂ）．練り込み操作による場合
上記日射遮蔽体形成用分散液を樹脂に練り込むときは、当該樹脂の融点付近の温度（２００〜３００℃前後）にて加熱混合する。そして、日射遮蔽体を樹脂に混合した後、これをペレット化し、各方式でファイルやボ−ドを形成することが可能である。形成方法としては、例えば、押し出し成形法、インフレーション成形法、溶液流延法、キャスティング法などが適用可能である。この時のフィルムやボ−ドの厚さは、使用目的に応じて適宜選定すればよい。当該樹脂に対するタングステン酸化物の微粒子の添加量は、基材の厚さや必要とされる光学特性、機械特性に応じて適宜選択することが可能であるが、一般的に、当該樹脂に対して５０重量％以下とすることが好ましい。

上記日射遮蔽体を練り込む樹脂は、特に限定されるものではなく用途に応じて選択可能であるが、例えばＰＥＴ樹脂、アクリル樹脂、ポリアミド樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリカーボネート樹脂、オレフィン樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、フッ素樹脂、ポリエチレン、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、エチレン酢酸ビニル共重合体、ポリスチレン樹脂、ポロプロピレン樹脂、ポリビニルブチラール樹脂などが挙げられる。

５．日射遮蔽体の日射遮蔽効果
タングステン酸化物微粒子の分散粒子径が８００ｎｍ以下で十分細かく、かつ均一に分散した日射遮蔽体は、光の透過率において波長３５０ｎｍ〜６００ｎｍに極大値を、波長６００〜１５００ｎｍに極小値を持ち、透過率の極大値と極小値とを百分率で表現したとき、極大値（％）−極小値（％）≧１５（ポイント）、即ち、極大値と極小値との差が百分率で５ポイント以上の特性を有する日射遮蔽体が得られる。

日射遮蔽体における透過率の極大値と極小値との差は、この差の値が大きいほど日射遮蔽特性が優れる。これは、タングステン酸化物微粒子の透過プロファイルは、波長３５０ｎｍ〜６００ｎｍに極大値を、波長６００〜１５００ｎｍに極小値を持っていること、一方、可視光波長域は３８０ｎｍ〜７８０ｎｍで、人間の視感度が５５０ｎｍ付近をピ−クとする釣鐘型であることによる。すなわち、当該透過特性を有する本発明に係る日射遮蔽体は、可視光を有効に透過しそれ以外の赤外線を有効に反射・吸収することが理解される。

６．その他
本発明に係る日射遮蔽体へ更に紫外線遮蔽機能を付与させるため、無機系の酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウムなどの粒子、有機系のベンゾフェノン、ベンゾトリアゾ−ルなどの１種若しくは２種以上を添加してもよい。
また、本発明に係る日射遮蔽体の透過率を向上させるために、さらにＡＴＯ、ＩＴＯ、アルミニウム添加酸化亜鉛などの粒子を混合してもよい。これらの透明粒子を日射遮蔽体へ適宜量添加すると、７５０ｎｍ付近の透過率が増加し、かつ赤外線を遮蔽するため、可視光透過率が高く、かつ日射遮蔽特性のより高い日射遮蔽体が得られる。

また、ＡＴＯ、ＩＴＯ、アルミニウム添加酸化亜鉛などの粒子を分散した分散液へ、本発明に係る日射遮蔽体形成用分散液を添加すれば、本発明に係る日射遮蔽体を構成するタングステン酸化物の膜色は青色なため、ＡＴＯ、ＩＴＯ、アルミニウム添加酸化亜鉛等の膜を着色すると同時に、その日射遮蔽効果を補助することもできる。この場合、主体となるＡＴＯ、ＩＴＯ、アルミニウム添加酸化亜鉛などに対し、本発明に係る日射遮蔽体形成用分散液をほんの僅か添加することで日射遮蔽効果を補助できる。この結果、原料コストの高いＡＴＯやＩＴＯ等の必要添加量を、大幅に減少させることが可能となり分散液コストを下げることができる。

また、本発明に係る日射遮蔽体形成用分散液を用いた日射遮蔽体の形成は、焼成時の熱による液体成分の分解反応、または、化学反応を用いたものではないため、特性の安定した日射遮蔽体を形成することができる。
さらに、上述したような優れた日射遮蔽効果を発揮するタングステン酸化物微粒子は、無機材料であるので有機材料と比べて耐候性に優れており、例えば、太陽光線（紫外線）の当たる部位に使用しても色や諸機能の劣化はほとんど生じない。この結果、車両、ビル、事務所、一般住宅などの窓材や、電話ボックス、ショーウィンドー、照明用ランプ、透明ケースなどに使用される単板ガラス、合わせガラス、プラスチックス、繊維、その他の日射遮蔽機能を必要とする日射遮蔽体などの広汎な分野に用いることができる。

以下、本発明について実施例を挙げて具体的に説明する。但し、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。

［実施例１］
タングステン酸（Ｈ₂ＷＯ₄）５０ｇを入れた石英ボートを箱型電気炉にセットし、大気中６００℃の温度で１時間焼成し焼成粉を得た。次に、当該焼成粉２０ｇを入れた石英ボ−トを２５ｍｍφの石英管状炉にセットし、Ｎ₂ガスをキャリアとした５％Ｈ₂ガスを供給しながら加熱し、６００℃の温度で１時間の還元処理を行って微粒子（ａ）を得た。
次に、当該微粒子（ａ）５重量％、高分子系分散剤５重量％、トルエン９０重量％を秤量し、０．３ｍｍφＺｒＯ₂ビ−ズを入れたペイントシェーカーで６時間粉砕・分散処理することによって日射遮蔽体形成用分散液（Ａ液）を調製した。ここで、日射遮蔽体形成用分散液（Ａ液）内におけるタングステン酸化物微粒子の分散粒子径を測定したところ、粉砕・分散処理の効果によって６９ｎｍとなっていた。

次に、得られた分散液（Ａ液）１．６ｇ、ＵＶ硬化樹脂０．５ｇ、残部トルエンとを秤量し、混合・攪拌して日射遮蔽体形成用分散液（Ｂ液）を調製した。そして、バーＮｏ１２のバーコーターを用い、膜厚５０μｍのＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレ−ト）フィルム上へ日射遮蔽体形成用分散液（Ｂ液）を塗布した後、７０℃、１分間の条件で高圧水銀ランプを照射し、実施例１に係る日射遮蔽体Ａを得た。

ここで、（株）日立製作所製の分光光度計Ｕ−４０００を用い、日射遮蔽体Ａの光学特性として、可視光透過率と日射遮蔽特性とを測定した。尚、当該測定における日射遮蔽特性評価は、日射遮蔽体の透過率を百分率で表現し、その百分率の極大値と極小値との差をポイントとして求めたものである。そして、日射遮蔽体Ａの可視光透過率と日射遮蔽特性とを測定した結果、可視光透過率５９％、透過率の極大値と極小値との差４１．６ポイントの値を得た。この値を図１に示す。

［実施例２］
実施例１において調製した日射遮蔽体形成用分散液（Ｂ液）を、バーＮｏ８のバーコーターを用いてＰＥＴフィルム上へ塗布した以外は、実施例１と同様にして日射遮蔽体Ｂを得た。
そして、日射遮蔽体Ｂに対して、実施例１と同様に可視光透過率と日射遮蔽特性とを測定した。この値を図１に示す。

［実施例３］
実施例１と同様のタングステン酸３２．３ｇへ、水酸化バリウムを添加して十分混合した。水酸化バリウムの添加量は、三酸化タングステン中のＷの重量に対し水酸化バリウム中のＢａの重量比が０．０１となるようにした。そして、当該混合物２０ｇを石英管状炉にセットした以外は、実施例１と同様にして微粒子（ｃ）と日射遮蔽体Ｃとを得た。
そして、日射遮蔽体Ｃに対して、実施例１と同様に可視光透過率と日射遮蔽特性とを測定した。この値を図１に示す。

［実施例４］
実施例１と同様のタングステン酸３２．３ｇへ、硝酸バリウム水溶液を添加して、攪拌しながら１１０℃に加熱して蒸発乾固した。硝酸バリウム水溶液の添加量は、三酸化タングステン中のＷの重量に対し硝酸バリウム水溶液中のＢａの重量比が０．０１となるようにした。そして、当該混合物２０ｇを石英管状炉にセットした以外は、実施例１と同様にして微粒子（ｄ）と日射遮蔽体Ｄとを得た。
そして、日射遮蔽体Ｄに対して、実施例１と同様に可視光透過率と日射遮蔽特性とを測定した。この値を図１に示す。

［実施例５］
実施例１と同様のタングステン酸３２．３ｇへ、硝酸ランタン水溶液を添加して、攪拌しながら１１０℃に加熱して蒸発乾固した。硝酸バリウム水溶液の添加量は、三酸化タングステン中のＷの重量に対し硝酸ランタン水溶液中のＬａの重量比が０．０１となるようにした。そして、当該混合物２０ｇを石英管状炉にセットした以外は、実施例１と同様にして微粒子（ｅ）と日射遮蔽体Ｅとを得た。
そして、日射遮蔽体Ｅに対して、実施例１と同様に可視光透過率と日射遮蔽特性とを測定した。この値を図１に示す。

［実施例６］
実施例１と同様のタングステン酸３２．３ｇへ、塩化銅水溶液を添加して、攪拌しながら１１０℃に加熱して蒸発乾固した。塩化銅水溶液の添加量は、三酸化タングステン中のＷの重量に対し塩化銅水溶液中のＣｕの重量比が０．０１となるようにした。そして、当該混合物２０ｇを石英管状炉にセットした以外は、実施例１と同様にして微粒子（ｆ）と日射遮蔽体Ｆとを得た。
そして、日射遮蔽体Ｆに対して、実施例１と同様に可視光透過率と日射遮蔽特性とを測定した。この値を図１に示す。

［実施例７］
実施例１と同様のタングステン酸３２．３ｇへ、硝酸セリウム水溶液を添加して、攪拌しながら１１０℃に加熱して蒸発乾固した。硝酸セリウム水溶液の添加量は、三酸化タングステン中のＷの重量に対し硝酸セリウム水溶液中のＣｅの重量比が０．０１となるようにした。そして、当該混合物２０ｇを石英管状炉にセットした以外は、実施例１と同様にして微粒子（ｇ）と日射遮蔽体Ｇとを得た。
そして、日射遮蔽体Ｇに対して、実施例１と同様に可視光透過率と日射遮蔽特性とを測定した。この値を図１に示す。

［実施例８］
実施例１と同様のタングステン酸３２．３ｇへ、硝酸マグネシウム水溶液を添加して、攪拌しながら１１０℃に加熱して蒸発乾固した。硝酸マグネシウム水溶液の添加量は、タングステン酸中のＷの重量に対し硝酸マグネシウム水溶液中のＭｇの重量比が０．０１となるようにした。そして、当該混合物２０ｇを石英管状炉にセットした以外は、実施例１と同様にして微粒子（ｈ）と日射遮蔽体Ｈとを得た。
そして、日射遮蔽体Ｈに対して、実施例１と同様に可視光透過率と日射遮蔽特性とを測定した。この値を図１に示す。

［実施例９］
実施例１と同様のタングステン酸３２．３ｇへ、硝酸アルミニウム水溶液を添加して、攪拌しながら１１０℃に加熱して蒸発乾固した。硝酸アルミニウム水溶液の添加量は、タングステン酸中のＷの重量に対し硝酸アルミニウム水溶液中のＡｌの重量比が０．１となるようにした。そして、当該混合物２０ｇを石英管状炉にセットし、バーＮｏ２４のバーコーターを用いた以外は、実施例１と同様にして微粒子（ｉ）と日射遮蔽体Ｉとを得た。
尚、分散粒子径の測定をおこなったところ１５０ｎｍであった。そして、日射遮蔽体Ｉに対して、実施例１と同様に可視光透過率と日射遮蔽特性とを測定した。この値を図１に示す。

［実施例１０］
実施例１と同様のタングステン酸３２．３ｇへ、硝酸銀水溶液を添加して、攪拌しながら１１０℃に加熱して蒸発乾固した。硝酸銀水溶液の添加量は、タングステン酸中のＷの重量に対し硝酸銀水溶液中のＡｇの重量比が０．０５となるようにした。そして、当該混合物２０ｇを石英管状炉にセットした以外は、実施例１と同様にして微粒子（ｊ）と日射遮蔽体Ｊとを得た。
そして、日射遮蔽体Ｊに対して、実施例１と同様に可視光透過率と日射遮蔽特性とを測定した。この値を図１に示す。

［実施例１１］
実施例１において、石英管状炉へ供給するＮ₂ガスをキャリアとした５％Ｈ₂ガスを、Ｎ₂ガス単独に代替した以外は実施例１と同様にして微粒子（ｋ）と日射遮蔽体Ｋとを得た。
そして、日射遮蔽体Ｋに対して、実施例１と同様に可視光透過率と日射遮蔽特性とを測定した。この値を図１に示す。

［比較例１］
実施例１において、石英管状炉へ供給するＮ₂ガスをキャリアとした５％Ｈ₂ガスを、大気に代替した以外は実施例１と同様にして微粒子（ｌ）と日射遮蔽体Ｌとを得た。
そして、日射遮蔽体Ｌに対して、実施例１と同様に可視光透過率と日射遮蔽特性とを測定した。この値を図１に示す。

［実施例１２］
実施例１と同様のタングステン酸を用い、雰囲気としてＮ₂ガスをキャリアーとした５％Ｈ₂ガスを供給しながら加熱し、６００℃の温度で１時間の還元処理を行って微粒子（ａ）を得た。次に、この微粒子（ａ）へ、雰囲気をＮ₂ガスとし、８００℃の温度で１時間の処理を行い、当該処理の後、得られた被処理物をペイントシェーカーで３時間粉砕・分散処理を行って微粒子（ｍ）を得た。この微粒子（ｍ）を用いた以外は、実施例１と同様にして日射遮蔽体Ｍを得た。
そして、日射遮蔽体Ｍに対して、実施例１と同様に可視光透過率と日射遮蔽特性とを測定した。この値を図１に示す。

［実施例１３］
実施例１２において、バーコーターとしてバーＮｏ．８を用いた以外は、実施例１２と同様にして日射遮蔽体Ｎを得た。
そして、日射遮蔽体Ｎに対して、実施例１と同様に可視光透過率と日射遮蔽特性とを測定した。この値を図１に示す。

［実施例１４］
実施例１２において、バーコーターとしてバーＮｏ．１６を用いた以外は、実施例１２と同様にして日射遮蔽体Ｏを得た。
そして、日射遮蔽体Ｏに対して、実施例１と同様に可視光透過率と日射遮蔽特性とを測定した。この値を図１に示す。

［実施例１５］
Ｈ_２ＷＯ_４５４．２ｇへ、スノ−テックスＮ（日産化学社製）を２．８ｇ添加して十分攪拌した後、乾燥した。当該乾燥物を、Ｎ_２ガスをキャリア−とした２％Ｈ_２ガスを供給しながら加熱し、８００℃の温度で３０分間焼成した後、当該ガスをＮ_２ガスに切り替え、同温度でさらに９０分間焼成して微粒子ｎを得た。微粒子ｎの粉体色は、Ｌ^*が３５．４４４６、ａ^*が２．０３９１、ｂ^*が−７．４７３８であり、粉末Ｘ線回折による結晶相の同定の結果、Ｓｉ_{０．０４３}ＷＯ_{２．８３９}単相であった。以上のようにして微粒子ｎを調製し、これを用いた以外は、実施例１と同様にして日射遮蔽体Ｐを得た。
そして、日射遮蔽体Ｐに対して、実施例１と同様に可視光透過率と日射遮蔽特性とを測定した。この値を図１に示す。

［実施例１６］
水１６．５ｇへ、Ｃｓ_２ＣＯ_３１０．８ｇを溶解し、当該溶液をＨ_２ＷＯ_４５０ｇに添加して十分攪拌した後、乾燥した。当該乾燥物を、Ｎ_２ガスをキャリアとした２％Ｈ_２ガスを供給しながら加熱し、８００℃の温度で３０分間焼成した後、当該ガスＮ_２ガスに切り替え、同温度でさらに９０分間焼成して微粒子ｏを得た。微粒子ｏの粉体色は、Ｌ^*が３７．４５６２、ａ^*が−０．３４８５、ｂ^*が−４．６９３９であり、粉末Ｘ線回折による結晶相の同定の結果、Ｃｓ_０．33ＷＯ₃単相であった。以上のようにして微粒子ｏを調製し、これを用いた以外は、実施例１と同様にして日射遮蔽体Ｑを得た。
そして、日射遮蔽体Ｑに対して、実施例１と同様に可視光透過率と日射遮蔽特性とを測定した。この値を図１に示す。

［実施例１７］
水１００ｇへ、Ｃｓ_２ＣＯ_３９．８ｇを溶解し、さらにスノ−テックスＮ（日産化学社製）を２．４ｇ添加した溶液を、Ｈ_２ＷＯ_４４５．３ｇへ添加して十分攪拌した後、乾燥した。当該乾燥物を、Ｎ_２ガスをキャリアとした２％Ｈ_２ガスを供給しながら加熱し、８００℃の温度で３０分間焼成した後、当該ガスをＮ_２ガスに切り替え、同温度でさらに９０分間焼成して微粒子ｐを得た。微粒子ｐの粉体色は、Ｌ^*が４１．１７８０、ａ^*が−１．６６９９、ｂ^*が−８．５７２２であり、粉末Ｘ線回折による結晶相の同定の結果、Ｃｓ_０．33ＷＯ₃単相であった。以上のようにして微粒子ｐを調製し、これを用いた以外は、実施例１と同様にして日射遮蔽体Ｒを得た。
そして、日射遮蔽体Ｒに対して、実施例１と同様に可視光透過率と日射遮蔽特性とを測定した。この値を図１に示す。

図１に示した結果から明らかなように、実施例１〜１７に係る日射遮蔽体Ａ〜Ｋ、Ｍ〜Ｒにおいて、透過率の極大値と極小値との差により評価した日射遮蔽特性は、いずれも百分率で１５ポイント以上であった。一方、比較例１に係る日射遮蔽体Ｌにおいて、当該日射遮蔽特性は１５ポイント未満であった。
以上のことより、本発明に係る、容易で生産コストの低い製造方法により得られたタングステン酸化物微粒子より調製した日射遮蔽体は、透過率の極大値と極小値との差がいずれも百分率で１５ポイント以上であるという優れた光学特性を有していることが判明した。

本発明に係る日射遮蔽体の光学特性の測定結果一覧表である。

Claims (6)

1. タングステン酸（Ｈ₂ＷＯ₄）、または、タングステン酸（Ｈ₂ＷＯ₄）と三酸化タングステン微粒子との混合物を、不活性ガスまたは不活性ガスと還元性ガスとの混合ガス雰囲気下で焼成することにより、一般式ＷｙＯｚ（但し、Ｗはタングステン、Ｏは酸素、２.２≦ｚ/ｙ≦２.９９９）で表されるタングステン酸化物微粒子を生成させることを特徴とする日射遮蔽体形成用タングステン酸化物微粒子の製造方法。
2. タングステン酸（Ｈ₂ＷＯ₄）、または、タングステン酸（Ｈ₂ＷＯ₄）と三酸化タングステン微粒子との混合物と、Ｍ元素の酸化物または／および水酸化物（但し、Ｍは、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類元素、Ｚｒ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｒｕ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｔｌ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｂ、Ｆ、Ｐ、Ｓ、Ｓｅ、Ｂｒ、Ｔｅ、Ｔｉ、Ｎｂ、Ｖ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｒｅのうちから選択される１種類以上の元素）とを、混合した混合粉、
   または／および
   タングステン酸（Ｈ₂ＷＯ₄）、または、タングステン酸（Ｈ₂ＷＯ₄）と三酸化タングステン微粒子との混合物と、前記Ｍ元素の、金属塩の水溶液、金属酸化物のコロイド溶液、アルコキシ溶液のうちから選択される１種以上とを、混合して乾燥した乾燥粉を、
   不活性ガス、または不活性ガスと還元性ガスとの混合ガス雰囲気下で焼成することにより、一般式ＭｘＷｙＯｚ（但し、Ｍは前記Ｍ元素、Ｗはタングステン、Ｏは酸素、０.００１≦ｘ/ｙ≦１、２.２≦ｚ/ｙ≦３.０）で表されるタングステン酸化物微粒子を生成させることを特徴とする日射遮蔽体形成用タングステン酸化物微粒子の製造方法。
3. 請求項１、２のいずれかに記載の日射遮蔽体形成用タングステン酸化物微粒子の製造方法により製造されたことを特徴とする日射遮蔽体形成用タングステン酸化物微粒子。
4. 請求項３記載の日射遮蔽体形成用タングステン酸化物微粒子であって、
   その粉体色が、国際照明委員会（ＣＩＥ）が推奨しているＬ^*ａ^*ｂ^*表色系（ＪＩＳ Ｚ８７２９）における粉体色において、Ｌ^*が２５〜８０、ａ^*が−１０〜１０、ｂ^*が−１５〜１５の範囲内にあることを特徴とする日射遮蔽体形成用タングステン酸化物微粒子。
5. 請求項３または４記載の日射遮蔽体形成用タングステン酸化物微粒子が、溶媒中に分散されていることを特徴とする日射遮蔽体形成用分散液。
6. 請求項３または４記載の日射遮蔽体形成用タングステン酸化物微粒子が、樹脂中に分散されていることを特徴とする日射遮蔽体。

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