JP2002341378A - Thin film transistor panel and liquid crystal display device - Google Patents
Thin film transistor panel and liquid crystal display deviceInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、薄膜トランジスタ
(TFT:Thin Film Transistor)を備えたアクティブマトリ
クス方式のTFTパネルおよび液晶表示装置に関する。The present invention relates to a thin film transistor
The present invention relates to an active matrix type TFT panel provided with (TFT: Thin Film Transistor) and a liquid crystal display device.
【0002】[0002]
【従来の技術】(1)液晶表示装置の駆動回路 まず、アクティブマトリックス方式の液晶表示装置の駆
動回路について説明する。図7は、液晶表示装置の配線
系統の概要を示す図である。表示領域110には、信号
線105と走査線106とがマトリクス状に交差して配
置されている。信号線と走査線との交差部には、画素部
スイッチング素子と、画素電極と、液晶とを含む液晶表
示素子109が設けられている。この表示領域110
は、信号線とともに、たとえば4個のブロックに分けら
れている。駆動回路は、X軸に沿うようにX側駆動回路
領域に配置された信号線駆動回路119と、Y軸に沿う
ようにY側駆動回路領域に配置された走査線駆動回路1
02とを有する。信号線駆動回路は、各ブロックに対応
するように、ブロックの数だけ信号線駆動回路119が
備えられる。各ブロックの映像信号131,132,1
33,134はI/Oインタフェイス129を経て、各
信号線駆動回路119に供給される。また、各ブロック
の駆動制御信号141,142,143,144は、や
はりI/Oインタフェイス129を経て各信号ブロック
駆動回路119に供給される。Y側駆動回路の駆動を制
御する走査線駆動制御信号130は、シフトレジスタ1
51、レベルシフタ152、バッファ153を経由して
各走査線106に供給される。2. Description of the Related Art (1) Driving Circuit of Liquid Crystal Display First, a driving circuit of an active matrix type liquid crystal display will be described. FIG. 7 is a diagram illustrating an outline of a wiring system of the liquid crystal display device. In the display area 110, signal lines 105 and scanning lines 106 are arranged so as to intersect in a matrix. A liquid crystal display element 109 including a pixel portion switching element, a pixel electrode, and a liquid crystal is provided at an intersection of the signal line and the scanning line. This display area 110
Is divided into, for example, four blocks together with the signal lines. The driving circuit includes a signal line driving circuit 119 disposed in the X-side driving circuit area along the X-axis and a scanning line driving circuit 1 disposed in the Y-side driving circuit area along the Y-axis.
02. The signal line driving circuits 119 are provided as many as the number of signal line driving circuits 119 so as to correspond to each block. Video signal 131, 132, 1 of each block
33 and 134 are supplied to each signal line drive circuit 119 via the I / O interface 129. The drive control signals 141, 142, 143, 144 of each block are also supplied to each signal block drive circuit 119 via the I / O interface 129. The scanning line drive control signal 130 for controlling the driving of the Y-side drive circuit is supplied to the shift register 1
51, the level shifter 152, and the buffer 153 are supplied to each scanning line 106.
【0003】1個の信号線駆動回路は、768本の信号
線の駆動を担当する。この信号線の本数は、画質の等級
に応じて変えることができる。I/Oインタフェイス1
29には、映像信号並び換え回路124を含む信号処理
回路122から、映像信号が、その信号駆動回路に供給
される。さらに、I/Oインタフェイス129には、駆
動方向切換タイミング出力回路123を含むタイミング
回路121から駆動同期信号が、走査線駆動回路と信号
線駆動回路とに供給される。One signal line driving circuit is responsible for driving 768 signal lines. The number of the signal lines can be changed according to the image quality grade. I / O interface 1
29, the video signal is supplied from the signal processing circuit 122 including the video signal rearranging circuit 124 to the signal drive circuit. Further, the I / O interface 129 is supplied with a drive synchronization signal from the timing circuit 121 including the drive direction switching timing output circuit 123 to the scan line drive circuit and the signal line drive circuit.
【0004】図8は、信号線ブロック駆動回路の内容を
ブロック1およびブロック2について示す概略構成図で
ある。駆動のスタート信号は、その入力線161を経て
入力され、また、駆動方向の切り換えの切換信号は、そ
の駆動方向切換信号線118を経て駆動方向切換回路1
12に入力される。スタート信号および切換信号は、と
もにタイミング回路121から出力される。これら両信
号は駆動方向切換回路112を経てシフトレジスタ11
3に入力され、さらにバッファ回路114を経由してn
型トランジスタとp型トランジスタとからなるアナログ
スイッチ116に供給される。これらの信号は、信号線
を所定の方向に駆動する。映像信号は、映像信号入力線
117から映像信号並び換え回路を経由して、アナログ
スイッチ116に入力され、アナログスイッチ116か
ら表示領域の画素電極に映像信号電圧を印加する。各ア
ナログスイッチ116は、24本の信号線に映像信号電
圧を供給する。各ブロックには、32個のアナログスイ
ッチ116が配置されるので、合計768本の信号線1
05が1つのブロックに含まれる。上記したように、こ
の本数は、目標とする画質のグレードに応じて増減する
ことができる。映像信号は、信号処理回路122に含ま
れる映像信号並び換え回路124において、タイミング
回路121からもたらされる信号に基づいて、駆動方向
の逆転にともなって必要となる映像信号の並び換えが既
になされている。このため、駆動方向を逆転させても映
像信号がそれにともなって並び換えられるので、正常な
画面が表示される。FIG. 8 is a schematic configuration diagram showing the contents of a signal line block driving circuit for blocks 1 and 2. The drive start signal is input via the input line 161, and the drive direction switching signal is transmitted via the drive direction switch signal line 118 to the drive direction switching circuit 1.
12 is input. The start signal and the switching signal are both output from the timing circuit 121. These two signals pass through the drive direction switching circuit 112 and are transmitted to the shift register 11.
3 and further via buffer circuit 114 to n
It is supplied to an analog switch 116 composed of a p-type transistor and a p-type transistor. These signals drive the signal lines in a predetermined direction. The video signal is input from the video signal input line 117 to the analog switch 116 via the video signal rearranging circuit, and applies the video signal voltage from the analog switch 116 to the pixel electrode in the display area. Each analog switch 116 supplies a video signal voltage to 24 signal lines. Since 32 analog switches 116 are arranged in each block, a total of 768 signal lines 1 are provided.
05 is included in one block. As described above, this number can be increased or decreased according to the target image quality grade. In the video signal, the video signal rearrangement circuit 124 included in the signal processing circuit 122 has already rearranged the video signal necessary for the reversal of the driving direction based on the signal provided from the timing circuit 121. . Therefore, even if the driving direction is reversed, the video signals are rearranged accordingly, and a normal screen is displayed.
【0005】タイミング回路には、上記の駆動方向を切
り換えるタイミングを決める駆動方向切換タイミング回
路123が備えられており、たとえば1フレームごとに
駆動方向を逆転させる。The timing circuit is provided with a drive direction switching timing circuit 123 for determining the timing for switching the drive direction, and reverses the drive direction for each frame, for example.
【0006】図9は、シフトレジスタ113からアナロ
グスイッチ116にいたる部分の概略構成図である。シ
フトレジスタ113から出力されるアナログスイッチ制
御信号はアナログスイッチ制御信号線173を経てバッ
ファ回路114に入力される。バッファ回路では、駆動
方向の切り換えに応じて、p型トランジスタおよびn型
トランジスタ171,172を作動させて、正電圧また
は負電圧を信号線に印加する。このような電圧の極性の
反転は、液晶に一方の電圧が印加され続けると液晶の動
作が異常になるので、これを避けるために、通常行なわ
れている。FIG. 9 is a schematic configuration diagram of a portion from the shift register 113 to the analog switch 116. The analog switch control signal output from the shift register 113 is input to the buffer circuit 114 via the analog switch control signal line 173. In the buffer circuit, the p-type transistor and the n-type transistors 171 and 172 are operated according to the switching of the driving direction, and a positive voltage or a negative voltage is applied to the signal line. Such a reversal of the polarity of the voltage is usually performed in order to avoid the abnormal operation of the liquid crystal when one voltage is continuously applied to the liquid crystal.
【0007】上記の信号線駆動回路および走査線駆動回
路には、基本的な論理回路、たとえばインバータ回路、
フリップフロップ回路、その他の論理回路が、信号線
(走査線)ごと、または所定本数の信号線(走査線)ご
とに周期的に配置されている。 (2)液晶表示装置の製造方法 表示領域と駆動回路領域とが一体化されたTFTパネル
では、画素トランジスタはともかく、少なくとも駆動ト
ランジスタには多結晶体シリコンが用いられる。TFT
パネルの表示領域と駆動回路領域とにわたって一体的に
多結晶体シリコン膜を形成する場合、次の方法がとられ
る。(A)減圧CVD法などにより基板上に非晶質シリ
コン膜を成膜する。その後、図10に示すように、
(B)エキシマレーザ装置を用い、パルスレーザ170
を幅方向126にずらしながら基板101上の非晶質シ
リコン膜131に照射して、多結晶体シリコン132に
結晶化してゆく。通常、レーザショットの断面のエネル
ギ分布は、図11に示すような分布を有している。ビー
ム断面のピーク幅175は、一例として、一般的に30
0〜400μmの範囲、長さ174は150〜400m
m程度である。レーザショットを幅方向にずらしながら
レーザ照射してゆく場合、図12に示すように、一定の
幅ピッチPで、レーザショット断面のエネルギピークの
部分を重複させながら、幅方向にスキャンさせてゆく。
すなわち、ビーム断面のの長手方向を表示パネルのY方
向に平行に、また、幅方向126をX方向に合わせ、1
ショット(パルス)毎に5〜50μmずつX方向にずら
しながら、約200〜300Hzの周期でパルス露光し
てゆく。The above signal line driving circuit and scanning line driving circuit include basic logic circuits such as an inverter circuit,
Flip-flop circuits and other logic circuits are periodically arranged for each signal line (scanning line) or for a predetermined number of signal lines (scanning lines). (2) Manufacturing Method of Liquid Crystal Display Device In a TFT panel in which a display region and a drive circuit region are integrated, polycrystalline silicon is used for at least the drive transistor, apart from the pixel transistor. TFT
When the polycrystalline silicon film is formed integrally over the display region and the drive circuit region of the panel, the following method is used. (A) An amorphous silicon film is formed on a substrate by a low pressure CVD method or the like. Then, as shown in FIG.
(B) Pulse laser 170 using an excimer laser device
Is irradiated on the amorphous silicon film 131 on the substrate 101 while being shifted in the width direction 126 to be crystallized into polycrystalline silicon 132. Normally, the energy distribution of the cross section of the laser shot has a distribution as shown in FIG. The peak width 175 of the beam cross section is, for example, generally 30
0-400 μm range, length 174 is 150-400 m
m. When laser irradiation is performed while shifting the laser shot in the width direction, as shown in FIG. 12, scanning is performed in the width direction at a constant width pitch P while overlapping the energy peak portions of the laser shot cross section.
That is, the longitudinal direction of the beam cross section is parallel to the Y direction of the display panel, and the width direction 126 is aligned with the X direction.
Pulse exposure is performed at a period of about 200 to 300 Hz while shifting in the X direction by 5 to 50 μm for each shot (pulse).
【0008】薄膜半導体を多結晶体シリコン膜とする理
由は、トランジスタにおける電荷担体の高い移動度を確
保するためである。非晶質シリコンにおける電荷担体の
移動度は、多結晶体シリコンにおける移動度と比べると
格段に低いので、非晶質シリコンを駆動トランジスタに
用いることはできない。従来、表示領域と駆動回路領域
とを一体的に形成していなかった場合には、表示領域の
画素トランジスタにはアモルファスシリコンを用い、別
工程で作製する駆動トランジスタには単結晶シリコンを
用いていた。多結晶体シリコンにおける電荷担体の移動
度は、単結晶シリコンにおける移動度より小さいが、結
晶粒径を粗大化させることにより、必要な移動度を確保
することができる。このため、上記のレーザビームのエ
ネルギ密度は、非晶質シリコンを多結晶体化したうえ
で、さらに結晶粒径を適切に粗大化させるエネルギ密度
でなければならない。これらの条件を満たすレーザビー
ムのエネルギ密度は、高低に限界を有する狭い範囲に限
定されるが、実施に大きな困難を生じるほどではない。The reason why the thin film semiconductor is a polycrystalline silicon film is to ensure high mobility of charge carriers in a transistor. Since the mobility of charge carriers in amorphous silicon is much lower than that in polycrystalline silicon, amorphous silicon cannot be used for a driving transistor. Conventionally, when a display region and a drive circuit region were not formed integrally, amorphous silicon was used for a pixel transistor in the display region, and single crystal silicon was used for a drive transistor manufactured in a separate process. . Although the mobility of charge carriers in polycrystalline silicon is smaller than that in single crystal silicon, the required mobility can be secured by increasing the crystal grain size. For this reason, the energy density of the above-mentioned laser beam must be such that the amorphous silicon is polycrystallized and the crystal grain size is further appropriately increased. The energy density of a laser beam satisfying these conditions is limited to a narrow range having a height limit, but not so great as to cause a great difficulty in implementation.
【0009】しかしながら、上記のレーザビームのエネ
ルギ密度は、すべてのショットにおいて適切な範囲に入
るわけではない。すなわち、数万ショットに1回程度の
オーダーで異常ショットが発生し、上記した適切なエネ
ルギ密度範囲から高い側または低い側に外れる。今のと
ころ、非常に低い頻度で発生するこの異常ショットを防
止する手立ては見出されていない。However, the energy density of the above-mentioned laser beam does not fall within an appropriate range for all shots. That is, an abnormal shot occurs on the order of about once every tens of thousands of shots, and deviates from the above-described appropriate energy density range to a higher or lower side. At present, no means has been found to prevent this abnormal shot, which occurs at a very low frequency.
【0010】上記の異常ショットの悪影響が残る箇所
は、概ね、連続するショット間のずらし距離であるスキ
ャン1ピッチ分の幅の領域が、十分粗大化した結晶粒径
とならない。たとえば、1ピッチ15μmの場合には、
ほぼ15μmの幅、150〜400mmの長さにわたっ
て十分粗大化した結晶粒とならない。この結晶粒径の粗
大化が不十分となる現象は、程度の差はあるがビームの
エネルギ密度が小さすぎても、また大きすぎても発生す
る。In areas where the adverse effects of the above-mentioned abnormal shots remain, a region having a width corresponding to one scan pitch, which is a shift distance between consecutive shots, generally does not have a sufficiently large crystal grain size. For example, when the pitch is 15 μm,
The grains do not become sufficiently coarse over a width of about 15 μm and a length of 150 to 400 mm. The phenomenon that the crystal grain size is insufficiently coarsened occurs, though varying in degree, when the energy density of the beam is too small or too large.
【0011】このため、TFTのチャネル幅方向とビー
ム断面の長手方向とが平行になる配置で、ビームをチャ
ネル長さ方向にスキャンした場合、次の問題を生じる。
すなわち、異常ショットがTFTチャネル領域で発生す
ると、結晶粒粗大化が不十分な領域が、チャネル領域を
遮断して形成されることになる。この結果、この部分の
トランジスタにおいてチャネルを通過する電荷担体は、
ソースとドレインとの間を通過する際、この結晶粒粗大
化が不十分な領域を必ず横切ることになる。この結果、
このTFTは通常の動作ができず、不良品となる。結晶
粒の粗大化が不十分な領域が、チャネル領域にかかって
いても、チャネル領域を遮断して形成されなければ、電
荷担体は結晶粒が十分成長した領域のみを通過してチャ
ネル領域を横切ることができる。For this reason, when the beam is scanned in the channel length direction in an arrangement in which the channel width direction of the TFT is parallel to the longitudinal direction of the beam cross section, the following problem occurs.
That is, when an abnormal shot occurs in the TFT channel region, a region where crystal grain coarsening is insufficient is formed by blocking the channel region. As a result, charge carriers passing through the channel in this part of the transistor are:
When passing between the source and the drain, the crystal grains necessarily cross the region where the coarsening is insufficient. As a result,
This TFT cannot operate normally and becomes a defective product. Even if the region where the crystal grains are not sufficiently coarsened is over the channel region, if the channel region is not formed by blocking the channel region, the charge carriers pass only through the region where the crystal grains are sufficiently grown and cross the channel region. be able to.
【0012】駆動回路は、上記のように形成された多結
晶体シリコン膜の上に集積回路として製造される。トラ
ンジスタの接続がアナログスイッチなどのように並列の
場合には、一部のトランジスタが不良になっても、大き
な支障なくTFTを作動させることが可能である。この
ため、レーザビーム断面の長手方向に対して、トランジ
スタを斜め方向に配列したり、または、斜め方向の重ね
合わせであるジグザグ方向に配列して、一度の1列のト
ランジスタすべてが不良になることを回避することがで
きる(特開平11-87720号公報、特願平11-349010な
ど)。The drive circuit is manufactured as an integrated circuit on the polycrystalline silicon film formed as described above. In the case where the transistors are connected in parallel as in an analog switch or the like, even if some of the transistors become defective, it is possible to operate the TFT without any serious trouble. For this reason, the transistors are arranged obliquely with respect to the longitudinal direction of the laser beam cross section, or are arranged in a zigzag direction which is a superposition of the oblique directions, and all transistors in one row at a time become defective. Can be avoided (Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-87720, Japanese Patent Application No. 11-349010, etc.).
【0013】[0013]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、駆動回
路の多くを占めるトランジスタは連続する論理回路を構
成している。このような論理回路ではその中の1つのト
ランジスタでも不良になれば、論理回路全体に支障をき
たす。However, the transistors occupying most of the driving circuit constitute a continuous logic circuit. In such a logic circuit, if even one of the transistors becomes defective, the entire logic circuit is hindered.
【0014】通常、駆動回路において、インバータやア
ナログスイッチは、何段にも組み合わされて回路を構成
するので、意識してトランジスタの方向を揃えない配置
をとっている。たとえば、図13に示すように、とくに
トランジスタ150のソース,ドレイン152,153
に挟まれるチャネル151を揃えることなく配置がなさ
れる。図13の場合に、レーザの異常ショット147に
は幅があるので、3つのトランジスタのうちのいずれか
のチャネルをわずかでも遮断する、レーザピッチ方向長
さDは、3個のチャネル部の長さ3Lより大きくなる。
図13の配置は3個のトランジスタのチャネル151が
端どうし連続して配置される極端な場合であるが、上記
のようにチャネル部を揃えない場合には、レーザの異常
ショットによってチャネル部が遮断される確率は大きな
ものとなる。Usually, in a drive circuit, since inverters and analog switches are combined in any number of stages to form a circuit, the arrangement is such that the directions of the transistors are not aligned in a conscious manner. For example, as shown in FIG.
Are arranged without aligning the channels 151 sandwiched between them. In the case of FIG. 13, since the abnormal shot 147 of the laser has a width, any channel of any one of the three transistors is slightly interrupted. The length D in the laser pitch direction is the length of the three channel portions. It becomes larger than 3L.
The arrangement shown in FIG. 13 is an extreme case where the channels 151 of the three transistors are arranged continuously from one end to the other. If the channels are not aligned as described above, the channels are interrupted by an abnormal laser shot. The probability is high.
【0015】また、上記駆動回路には、当然のことなが
らインバータ回路のような2個のトランジスタが直列に
接続された論値回路が膨大な数形成される。従来、信号
線駆動回路領域119に設けられるインバータ回路で
は、トランジスタのチャネルの幅方向は、Y軸に平行、
すなわちレーザショットの長さ方向に平行であり、2個
のトランジスタが別々の線に沿っていた。すなわち、図
14のB部およびC部を拡大した図15に示すように、
インバータ回路を構成する2つの直列接続のトランジス
タは、それぞれの別の直線にチャネル幅方向を沿わせて
配列されていた。Further, in the above-mentioned driving circuit, an enormous number of logical circuits in which two transistors such as an inverter circuit are connected in series are naturally formed. Conventionally, in the inverter circuit provided in the signal line driving circuit region 119, the width direction of the channel of the transistor is parallel to the Y axis,
That is, the two transistors were along separate lines, parallel to the length of the laser shot. That is, as shown in FIG. 15 in which the B and C parts in FIG. 14 are enlarged,
The two series-connected transistors that constitute the inverter circuit are arranged on different straight lines along the channel width direction.
【0016】図16に示すように、信号線駆動回路領域
に配置されるインバータ回路を構成する、n型トランジ
スタのチャネルと、p型トランジスタのチャネルとは、
揃わないように配置されていた。上記インバータ回路の
信号線駆動回路における周期をSとするとき、このよう
な配置の場合、上記の異常ショットがチャネルを遮断す
る確率は、トランジスタ配置因子(2L)/Sに比例す
る。異常ショットに起因する不具合は、実際には、上記
エキシマレーザが異常ショットする確率に依存するが、
不具合が生じると、そのTFTパネルは使用できなくな
るので、できるだけ不具合の確率を小さくすることが要
望されている。As shown in FIG. 16, the channel of the n-type transistor and the channel of the p-type transistor which constitute the inverter circuit arranged in the signal line driving circuit region are:
They were arranged so that they did not line up. When the period in the signal line drive circuit of the inverter circuit is S, in such an arrangement, the probability of the abnormal shot blocking the channel is proportional to the transistor arrangement factor (2L) / S. The defect caused by the abnormal shot actually depends on the probability that the excimer laser makes an abnormal shot.
When a failure occurs, the TFT panel cannot be used. Therefore, it is desired to reduce the probability of the failure as much as possible.
【0017】そこで、本発明は、直列接続を含む駆動回
路において、レーザの異常ショットに起因する不良発生
の確率を極力小さくするTFTパネルおよび液晶表示装
置を提供することを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a TFT panel and a liquid crystal display device which minimize the probability of occurrence of a defect due to an abnormal laser shot in a drive circuit including a series connection.
【0018】[0018]
【課題を解決するための手段】本発明のTFTパネル
は、基板上に形成された表示領域と駆動回路領域とを有
し、液晶表示装置において液晶を駆動するTFTパネル
である。このTFTパネルで、TFTパネル上のトラン
ジスタは、基板上の多結晶体シリコン膜に形成され、そ
の多結晶体シリコン膜は、基板上に成膜された非晶質シ
リコン膜に、細長い矩形断面のレーザビームショットを
幅方向にずらしながら照射することにより形成されたも
のであり、駆動回路領域において、トランジスタのうち
第1のトランジスタと第2のトランジスタとが、そのチ
ャネル幅方向をレーザビームの矩形断面の長手方向に平
行にして、その長手方向に平行な1本の直線に沿って1
列に並ぶように配列している(請求項1)。A TFT panel according to the present invention is a TFT panel having a display area and a drive circuit area formed on a substrate, and driving liquid crystal in a liquid crystal display device. In this TFT panel, a transistor on the TFT panel is formed on a polycrystalline silicon film on a substrate, and the polycrystalline silicon film is formed on an amorphous silicon film formed on the substrate by a thin rectangular cross section. This is formed by irradiating a laser beam shot while shifting it in the width direction. In the drive circuit region, the first transistor and the second transistor among the transistors are arranged so that the channel width direction is the rectangular cross section of the laser beam. Parallel to the longitudinal direction, and along one straight line parallel to the longitudinal direction.
They are arranged in a line (claim 1).
【0019】また、本発明のTFTパネルは、基板上に
形成された表示領域と駆動回路領域とを有し、液晶表示
装置において液晶を駆動するTFTパネルである。この
TFTパネルでは、駆動回路領域において、TFTパネ
ル上のトランジスタのうち第1のトランジスタと第2の
トランジスタとが、そのチャネル幅方向を1本の直線に
平行にして、その1本の直線に沿って1列に並ぶように
配列している(請求項2)。Further, the TFT panel of the present invention is a TFT panel having a display area and a drive circuit area formed on a substrate, and for driving a liquid crystal in a liquid crystal display device. In this TFT panel, in the drive circuit region, the first transistor and the second transistor among the transistors on the TFT panel have their channel width directions parallel to one straight line, and follow the one straight line. (Claim 2).
【0020】この構成により、駆動回路領域の2以上の
トランジスタが、チャネル幅方向を共通の仮想の1本の
直線に平行にして、その直線に沿って1列に配列され
る。このため、2以上のトランジスタが異なる直線に沿
って配置される場合よりも、これらトランジスタのうち
のいずれか1つでも、異常ショットによってチャネルが
遮断される確率を減少させることができる。According to this configuration, two or more transistors in the drive circuit region are arranged in a line along the common virtual straight line with the channel width direction parallel to one common straight line. For this reason, the probability that the channel is cut off due to the abnormal shot can be reduced in any one of these transistors as compared with the case where two or more transistors are arranged along different straight lines.
【0021】本発明者らは、並列に接続された複数のト
ランジスタにおいて、1回の異常ショットのために大量
のトランジスタのチャネル部を異常ショットが遮断する
ことを防止する発明を完成した(特願平11-349010)。
しかしながら、駆動回路においては、トランジスタは並
列接続のトランジスタばかりではない。とくに、直列に
接続された2個のトランジスタによって形成されるイン
バータ回路などの場合、並列接続されたトランジスタに
対する構成とは異なる構成をとることが望ましい場合が
生じる。The present inventors have completed an invention for preventing a plurality of transistors connected in parallel from interrupting a channel portion of a large number of transistors due to one abnormal shot by an abnormal shot (Japanese Patent Application Hei 11-349010).
However, in the driving circuit, the transistors are not limited to transistors connected in parallel. In particular, in the case of an inverter circuit formed by two transistors connected in series, it may be desirable to adopt a configuration different from the configuration of the transistors connected in parallel.
【0022】たとえば、直列接続されているTFTのう
ちの一つでも、そのチャネルが結晶粒径の成長不十分領
域によって遮断されると、論理回路が直列接続された信
号線に接続される画素トランジスタの列が正常に作動し
ない。このような場合、直列接続された論理回路の所定
部分を構成するすべてのTFTが同時に不良となる場合
と、このうちの一つのTFTが不良になる場合とで、結
果に差は生じない。したがって、このような所定部分の
なかの一つのTFTが不良になる確率を小さくすること
ができれば、所定部分を構成するすべてのTFTが同時
に不良になる確率と、一つのTFTが不良になる確率と
が同じになってもよい。一つのTFTが不良になって
も、すべてのTFTが不良になっても、その論理回路が
不良になるという点で、同じだからである。For example, if the channel of one of the TFTs connected in series is cut off by a region where the crystal grain size is insufficiently grown, a pixel circuit in which a logic circuit is connected to a signal line connected in series Column does not work properly. In such a case, there is no difference between the case where all the TFTs constituting a predetermined portion of the serially connected logic circuit fail simultaneously and the case where one of the TFTs fails. Therefore, if the probability that one TFT in such a predetermined portion becomes defective can be reduced, the probability that all the TFTs constituting the predetermined portion become defective simultaneously and the probability that one TFT becomes defective are reduced. May be the same. This is because even if one TFT becomes defective or all the TFTs become defective, the logic circuit becomes defective.
【0023】上記の本発明は、上記の考え方を根底にし
て、複数のトランジスタのチャネル幅方向を1本の直線
に平行にして、その1本の直線に沿って1列に並ぶ構成
をとる。なお、上記の1本の直線は、仮想的な直線であ
る。後出する第2の直線も同様である。Based on the above concept, the present invention has a configuration in which the channel width direction of a plurality of transistors is parallel to one straight line, and the transistors are arranged in a line along one straight line. The one straight line is a virtual straight line. The same applies to the second straight line described later.
【0024】上記本発明のTFTパネルでは、薄膜トラ
ンジスタパネルは、交差して配線された複数の第1信号
線および複数の第2信号線と、ならびにその交差部位に
位置する複数の画素トランジスタを含む表示領域と、表
示領域の辺縁に沿って、第1信号線の延びる方向に交差
するように位置する第1信号線回路領域と、第2信号線
の延びる方向に交差するように位置する第2信号線回路
領域とからなる駆動回路領域を備え、第1信号線回路領
域において、所定本数の第1信号線ごとに第1および第
2のトランジスタが配置され、第1のトランジスタと第
2のトランジスタとが、そのチャネル幅方向を1本の直
線に平行にして、その1本の直線に沿って1列に並ぶよ
うに配列することができる(請求項3)。In the above-described TFT panel of the present invention, the thin-film transistor panel includes a plurality of first signal lines and a plurality of second signal lines that are wired in an intersecting manner, and a plurality of pixel transistors located at the intersections. Region, a first signal line circuit region positioned to intersect in a direction in which the first signal line extends along a periphery of the display region, and a second signal line circuit region positioned to intersect in a direction in which the second signal line extends. A driving circuit region including a signal line circuit region, wherein in the first signal line circuit region, first and second transistors are arranged for every predetermined number of first signal lines, and a first transistor and a second transistor are provided. Can be arranged so that their channel width direction is parallel to one straight line and are arranged in a line along the one straight line (claim 3).
【0025】この構成により、所定本数の対応するピッ
チで配置される2以上のトランジスタが、チャネル幅方
向を共通の仮想の1本の直線に沿わせ1列に並ぶように
配置される。このため、2以上のトランジスタが異なる
直線に沿って配列される場合よりも、これらトランジス
タのうちのいずれか1つでも、異常ショットによってチ
ャネルが遮断される確率を減少させることができる。According to this structure, two or more transistors arranged at a predetermined number of corresponding pitches are arranged so as to be arranged in a line with the channel width direction along one common virtual straight line. Therefore, the probability that the channel is interrupted by an abnormal shot can be reduced in any one of the transistors, as compared with a case where two or more transistors are arranged along different straight lines.
【0026】なお、上記の1本の直線は所定本数の第1
信号線ごとに、たとえばX方向の長さ周期Sごとに1本
ずつ互いに平行な直線が定まり、その1本の直線に2以
上のトランジスタがそのチャネル幅方向を平行にして1
列に配列される。The one straight line is a predetermined number of first straight lines.
For each signal line, for example, one straight line parallel to each other is determined for each length cycle S in the X direction.
Arranged in columns.
【0027】上記本発明のTFTパネルでは、1本の直
線が、第1信号線に略平行であることが望ましい(請求
項4)。In the TFT panel of the present invention, it is desirable that one straight line is substantially parallel to the first signal line.
【0028】レーザアニールの際の基板配置やレーザビ
ームのスキャン、および信号線や走査線の配線などを、
単純明快に行なうことができる。また、レーザビーム断
面の長手方向を信号線または走査線に沿わせることによ
り、異常ショットの被害を小さい範囲に限定することが
できる。Scanning of the substrate arrangement and laser beam during laser annealing, and wiring of signal lines and scanning lines are performed.
It can be done simply and clearly. Further, by making the longitudinal direction of the laser beam cross section along the signal line or the scanning line, damage of an abnormal shot can be limited to a small range.
【0029】上記本発明のTFTパネルでは、第1およ
び第2のトランジスタと、表示領域の画素に配置された
トランジスタとが、そのチャネル幅方向を平行にして1
本の直線に沿って1列に並ぶことができる(請求項
5)。In the above-described TFT panel of the present invention, the first and second transistors and the transistor arranged in the pixel in the display area are arranged such that their channel width directions are parallel to each other.
They can be arranged in a line along the straight line of the book (claim 5).
【0030】この構成により、駆動回路領域のトランジ
スタだけでなく、駆動回路領域のトランジスタと画素ト
ランジスタとを含めて、異常ショットによる不具合発生
の確率を小さくすることができる。With this configuration, it is possible to reduce the probability of occurrence of a failure due to an abnormal shot, including not only the transistors in the drive circuit region but also the transistors in the drive circuit region and the pixel transistors.
【0031】上記本発明のTFTパネルでは、1本の直
線に沿って1列に並ぶ第1および第2のトランジスタ
は、論理回路に含まれる、その構成要素のトランジスタ
とすることができる(請求項6)。In the TFT panel of the present invention, the first and second transistors arranged in one line along one straight line can be transistors of the constituent elements included in the logic circuit. 6).
【0032】この結果、論理回路の構成要素の2つのト
ランジスタのいずれか1つでも、異常ショットによって
論理回路における不良発生確率を小さくすることができ
る。論理回路はインバータ回路でも、NOT回路、NA
ND回路、フリップフロップ回路など何でもよい。As a result, even in any one of the two transistors constituting the logic circuit, the probability of occurrence of a failure in the logic circuit due to an abnormal shot can be reduced. The logic circuit may be an inverter circuit, a NOT circuit, a NA
Anything such as an ND circuit and a flip-flop circuit may be used.
【0033】上記本発明のTFTパネルでは、1列に並
ぶ第1および第2のトランジスタは、所定本数の第1信
号線ごとに対応する第1信号線回路領域の等ピッチの領
域ごとに位置することができる(請求項7)。In the above-mentioned TFT panel of the present invention, the first and second transistors arranged in one row are located at equal pitch regions of the first signal line circuit region corresponding to a predetermined number of first signal lines. (Claim 7).
【0034】この構成により、周期的に1本の直線にそ
のチャネル幅方向を重ね1列にしてトランジスタをまと
めて配置させることができる。このため、第1信号線回
路領域の全体にわたって、上記の不良発生確率を低下さ
せることができる。また、同じ配置の繰返しという意味
で、TFTパネルの設計の労力を軽減することができ
る。上記の等ピッチは、第1信号線のピッチでもよい
し、複数本の第1信号線ごとのピッチでもよい。According to this configuration, the transistors can be arranged collectively in a line with the channel width direction periodically superposed on one straight line. For this reason, the above-described failure occurrence probability can be reduced over the entire first signal line circuit region. Further, in the sense that the same arrangement is repeated, the labor for designing the TFT panel can be reduced. The above-mentioned equal pitch may be the pitch of the first signal lines, or may be the pitch of a plurality of first signal lines.
【0035】上記本発明のTFTパネルでは、第2信号
線回路領域において、1本の直線に平行な第2の直線が
定められ、第2信号線回路領域に配置された少なくとも
2つのトランジスタがそのチャネル幅方向を、第2の直
線に平行にしてその第2の直線に沿って1列に並ぶ配置
とすることができる(請求項8)。In the TFT panel according to the present invention, a second straight line parallel to one straight line is defined in the second signal line circuit area, and at least two transistors arranged in the second signal line circuit area include the second straight line. The channel width direction may be parallel to the second straight line and arranged in a line along the second straight line (claim 8).
【0036】この構成により、第2信号線回路領域で
も、トランジスタを全体の統制をとらずに配置していた
場合よりも、異常ショットに起因する不具合発生の確率
を低くすることができる。なお、上記の第2の直線は、
第2信号線回路領域にわたって1本定められる。According to this configuration, even in the second signal line circuit area, the probability of occurrence of a defect due to an abnormal shot can be reduced as compared with a case where transistors are arranged without taking control of the whole. Note that the second straight line is
One is defined over the second signal line circuit area.
【0037】上記本発明のTFTパネルでは、第2の直
線に沿って1列に並ぶ少なくとも2つのトランジスタ
は、論理回路に含まれる、その構成要素のトランジスタ
とすることができる(請求項9)。In the TFT panel of the present invention, the at least two transistors arranged in a line along the second straight line can be the constituent transistors included in the logic circuit.
【0038】この構成により、上記論理回路が異常ショ
ットで不具合を発生する確率を減少させることができ
る。論理回路はインバータ回路でも、NOT回路、NA
ND回路、フリップフロップ回路など何でもよい。With this configuration, it is possible to reduce the probability that the logic circuit causes a failure in an abnormal shot. The logic circuit may be an inverter circuit, a NOT circuit, a NA
Anything such as an ND circuit and a flip-flop circuit may be used.
【0039】上記本発明のTFTパネルでは、第2信号
線回路領域に配置されるトランジスタが、そのチャネル
幅方向を1本の直線に交差させるように配置されること
ができる(請求項10)。In the TFT panel of the present invention, the transistors arranged in the second signal line circuit area can be arranged so that the channel width direction intersects one straight line.
【0040】この構成では、レーザビームの長手方向は
チャネル長方向に平行になる。このため、異常ショット
が第2信号線回路領域のトランジスタのチャネル領域に
かかることがあっても、チャネル長を遮断するように異
常ショットが配置されない。したがって、第2信号線回
路領域のトランジスタが異常ショットによって不良とな
ることはない。In this configuration, the longitudinal direction of the laser beam is parallel to the channel length direction. For this reason, even if the abnormal shot may reach the channel region of the transistor in the second signal line circuit region, the abnormal shot is not arranged so as to cut off the channel length. Therefore, the transistor in the second signal line circuit area does not fail due to the abnormal shot.
【0041】上記本発明のTFTパネルでは、第1信号
線が信号線であり、第1信号線回路領域が信号線回路領
域であり、第2信号線が走査線であり、第2信号線回路
領域が走査線回路領域であるようにできる(請求項1
1)。また、第1信号線が走査線であり、第1信号線回
路領域が走査線回路領域であり、第2信号線が信号線で
あり、第2信号線回路領域が信号線回路領域であるよう
にできる(請求項12)。In the TFT panel of the present invention, the first signal line is a signal line, the first signal line circuit area is a signal line circuit area, the second signal line is a scanning line, and the second signal line circuit is The region may be a scanning line circuit region.
1). The first signal line is a scanning line, the first signal line circuit region is a scanning line circuit region, the second signal line is a signal line, and the second signal line circuit region is a signal line circuit region. (Claim 12).
【0042】いずれの場合でも、レーザアニールの異常
ショットに起因する不良トランジスタの発生を最小限に
抑え、配線等の製造工程を簡単明瞭なものにすることが
できる。In any case, the generation of defective transistors due to abnormal shots in laser annealing can be minimized, and the process of manufacturing wiring and the like can be made simple and clear.
【0043】本発明の液晶表示装置は、液晶と、液晶を
駆動するために配置された上記ののいずれかのTFTと
を備えた液晶表示装置である(請求項13)。A liquid crystal display device according to the present invention is a liquid crystal display device comprising a liquid crystal and any one of the above-mentioned TFTs arranged for driving the liquid crystal.
【0044】この構成により、歩留りが高く、したがっ
て安価なTFTパネルを得られるので、安価な液晶表示
装置を提供することが可能になる。With this configuration, a high yield and therefore an inexpensive TFT panel can be obtained, so that an inexpensive liquid crystal display device can be provided.
【0045】[0045]
【発明の実施の形態】次に図面を用いて本発明の実施の
形態について説明する。Embodiments of the present invention will now be described with reference to the drawings.
【0046】(実施の形態1)図1は、本発明の実施の
形態1におけるTFTの信号線駆動回路領域のトランジ
スタの配列を示す図である。信号線回路領域19におい
て、レーザビームの断面17の長手方向に平行な1本の
直線に重なるように、トランジスタ30が配列されてい
る。当然のことながら、チャネル31およびソース,ド
レイン部32,33も、上記長手方向に平行な直線に重
なるように位置している。(Embodiment 1) FIG. 1 is a diagram showing an arrangement of transistors in a signal line drive circuit region of a TFT according to Embodiment 1 of the present invention. In the signal line circuit region 19, the transistors 30 are arranged so as to overlap with one straight line parallel to the longitudinal direction of the cross section 17 of the laser beam. As a matter of course, the channel 31 and the source / drain portions 32 and 33 are also located so as to overlap the straight line parallel to the longitudinal direction.
【0047】トランジスタがこのような配列をとる場
合、異常ショットがチャネルを遮断するとき、図1の3
個のトランジスタのすべてのチャネルを遮断する。した
がって、異常ショットによってトランジスタが不良にな
るときは、3個がともに不良になる。しかしながら、図
1に示す配列の場合、1個のトランジスタでも不良にな
る確率は、図13に示す配列の場合よりも小さくなる。
その程度は、大雑把に3分の1程度である。信号線回路
において、論理回路を構成するトランジスタは、通常、
1個でも不良になるとその論理回路は誤動作するので、
液晶表示装置用のTFTとして使えない。このため、1
個のトランジスタの不良と、すべてのトランジスタの不
良とは、同じことになる。したがって、上記の配列をと
ることによって、いずれか1個のトランジスタが不良に
なる確率を低くできることは、大きな歩留り向上をもた
らす。In the case where the transistors have such an arrangement, when an abnormal shot cuts off the channel, 3 in FIG.
Block all channels of the transistors. Therefore, when a transistor becomes defective due to an abnormal shot, all three become defective. However, in the case of the arrangement shown in FIG. 1, the probability that one transistor becomes defective is smaller than that in the case of the arrangement shown in FIG.
The extent is roughly one third. In a signal line circuit, a transistor constituting a logic circuit is usually
If even one becomes defective, the logic circuit malfunctions.
It cannot be used as a TFT for a liquid crystal display device. Therefore, 1
The defect of one transistor is the same as the defect of all transistors. Therefore, by adopting the above arrangement, the probability that any one transistor becomes defective can be reduced, which leads to a large improvement in yield.
【0048】この結果、設計段階でレーザビーム断面の
長手方向に平行な1本の直線にチャネルを揃えて配列す
るという簡単な手法を用いることにより、レーザの異常
ショットに起因するTFTの不良品の発生を防止するこ
とが可能となる。As a result, by using a simple method of aligning and arranging the channels in one straight line parallel to the longitudinal direction of the laser beam cross section at the design stage, defective TFTs caused by abnormal laser shots can be eliminated. It is possible to prevent occurrence.
【0049】(実施の形態2)図2は、本発明の実施の
形態における液晶表示装置を示す模式図である。表示領
域10の下側の辺縁部19に信号線回路領域が形成さ
れ、表示領域10の両側の側辺部2a,2bに走査線回
路領域が設けられている。図2においては、駆動回路領
域を実際よりも大きく表示している。信号線回路領域1
9には、直列接続されたn型トランジスタ3nとp型ト
ランジスタ3pとからなるインバータ回路15が配置さ
れ、これら2個のトランジスタのチャネル幅Wの方向が
Y方向に揃い互いに重なっている。すなわち、ゲートG
の長手方向が重なっている。チャネル幅方向平行にして
1列に沿わせる直線は、図2の場合、ゲートGの中央を
通るゲートに沿った直線(仮想的な1本の直線)と考え
ることができる。(Embodiment 2) FIG. 2 is a schematic diagram showing a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention. A signal line circuit area is formed on the lower edge 19 of the display area 10, and a scanning line circuit area is provided on both sides 2 a and 2 b of the display area 10. In FIG. 2, the drive circuit area is shown larger than it actually is. Signal line circuit area 1
In FIG. 9, an inverter circuit 15 including an n-type transistor 3n and a p-type transistor 3p connected in series is arranged, and the direction of the channel width W of these two transistors is aligned in the Y direction and overlaps each other. That is, the gate G
Are overlapped in the longitudinal direction. In FIG. 2, the straight line parallel to the channel width direction and along one row can be considered as a straight line (virtual one straight line) along the gate passing through the center of the gate G.
【0050】Vssは接地電圧であり、Vddはトランジス
タを駆動するための外部駆動電圧である。このインバー
タ回路は、INで入力された高低電圧と逆の電圧をOU
Tに出力し、次に接続される論理回路に発信する回路で
ある。Vss is a ground voltage, and Vdd is an external drive voltage for driving the transistor. This inverter circuit outputs a voltage opposite to the high / low voltage input at IN to OU.
This is a circuit that outputs to T and transmits to the next connected logic circuit.
【0051】このようなインバータ回路は、信号線回路
領域に所定本数の信号線ごとに多数組み込まれている。
図2に示すインバータ回路を構成する2つのトランジス
タは、そのチャネル幅Wを同じ方向にして1列に並んで
いる。すなわち、2つのトランジスタ3n,3pのゲー
トGが重なっている。図3において、インバータ回路が
配置されるX方向の長さ周期Sは、対応する信号線の所
定本数によって決められる。すなわち、周期Sは、信号
線1本当りの信号線駆動領域のX方向の長さ、またはそ
の整数倍と考えることができる。上記の配置により、異
常ショットに起因する不具合を生じるトランジスタ配置
因子は、L/Sとなり、従来のトランジスタ配置因子の
半分に減少する。この結果、異常ショットに起因する不
具合発生を半分に減らすことができ、歩留り向上に資す
ることが可能となる。A large number of such inverter circuits are incorporated in the signal line circuit area for every predetermined number of signal lines.
Two transistors constituting the inverter circuit shown in FIG. 2 are arranged in a line with the same channel width W in the same direction. That is, the gates G of the two transistors 3n and 3p overlap. In FIG. 3, a length cycle S in the X direction in which the inverter circuits are arranged is determined by a predetermined number of corresponding signal lines. That is, the cycle S can be considered to be the length in the X direction of the signal line drive region per signal line, or an integral multiple thereof. With the above arrangement, the transistor arrangement factor that causes a defect due to the abnormal shot is L / S, which is reduced to half of the conventional transistor arrangement factor. As a result, the occurrence of malfunctions due to abnormal shots can be reduced by half, which can contribute to an improvement in yield.
【0052】図2において、走査線回路領域2aのイン
バータ回路は、いずれのトランジスタ23n,23p,
24n,24pも、信号線回路領域のインバータ回路と
同様に、チャネル幅Wの方向を1本の直線(仮想的な第
2の直線)に沿わせてその直線に沿って1列に並んで配
置されている。この1本の直線は、ゲートGに沿ってゲ
ートの中央部を通る直線と考えることができる。走査線
駆動領域2aのインバータ回路を上記の配置に設定する
ことにより、各トランジスタをX方向にランダムにずら
して配置する構成よりも、異常ショットによって不具合
が発生する確率を減少させることができる。In FIG. 2, the inverter circuit in the scanning line circuit area 2a includes any of the transistors 23n, 23p,
Similarly to the inverter circuits in the signal line circuit area, the channels 24n and 24p are arranged in a line along the straight line (virtual second straight line) along the direction of the channel width W. Have been. This one straight line can be considered as a straight line passing through the center of the gate along the gate G. By setting the inverter circuits in the scanning line drive region 2a in the above arrangement, the probability of occurrence of a failure due to an abnormal shot can be reduced as compared with a configuration in which the transistors are randomly shifted in the X direction.
【0053】(実施の形態3)図4は、本発明の実施の
形態3における液晶表示装置の模式図である。本実施の
形態では、信号線駆動領域19では、インバータ回路は
実施の形態1と同じように、2つのトランジスタ3n,
3pは、Y方向に延びる1本のゲートGにそのチャネル
幅方向を沿わせて1列に並んで配置されている。しか
し、走査線駆動領域2aでは、インバータ回路を構成す
る2つのトランジスタ23n,24nは、X方向に平行
な、2つの異なるゲートGにそのチャネル幅Wの方向を
沿わせて配置されている。(Embodiment 3) FIG. 4 is a schematic diagram of a liquid crystal display device according to Embodiment 3 of the present invention. In the present embodiment, in the signal line drive region 19, the inverter circuit includes two transistors 3n, 3n, as in the first embodiment.
3p are arranged in one row along one channel G extending in the Y direction along the channel width direction. However, in the scanning line driving region 2a, the two transistors 23n and 24n forming the inverter circuit are arranged on two different gates G parallel to the X direction along the channel width W direction.
【0054】信号線駆動領域では、実施の形態1と同様
に、異常ショットに起因する不具合の発生確率を半減さ
せることができる。また、走査線駆動領域2aでは、レ
ーザショットはチャネル長さL方向に平行になるので、
たとえそのレーザショットが異常ショットであっても、
その異常ショットがチャネル長さを遮断することがな
い。このため、電荷担体は、異常ショットの影響を受け
ない部分を通ってチャネル長を通過することができる。
このため、たとえ、異常ショットがチャネル領域に掛か
ることがあっても、その異常ショットがチャネル長を遮
断することがないので、不具合となることが防止され
る。In the signal line drive region, as in the first embodiment, the probability of occurrence of a defect caused by an abnormal shot can be halved. In the scanning line driving region 2a, the laser shot is parallel to the channel length L direction.
Even if the laser shot is an abnormal shot,
The abnormal shot does not interrupt the channel length. Thus, the charge carriers can pass through the channel length through a portion that is not affected by the abnormal shot.
For this reason, even if an abnormal shot may hit the channel region, the abnormal shot does not interrupt the channel length, thereby preventing a problem.
【0055】(実施の形態4)図5および図6は、本発
明の実施の形態4における液晶表示装置を示す図であ
る。図5および図6において、インバータ回路は複数本
の信号線5について1つずつ配置されている。その複数
本の信号線のうちの1本に接続される画素トランジスタ
13のゲートGが、インバータ回路15の2つのトラン
ジスタの共通のゲートの方向Gと一致する。画素トラン
ジスタ13は、信号線5と走査線6とが交差する画素領
域9に配置されている。カラー表示画面の画素領域9に
は、普通、複数の画素トランジスタが配置されている
が、上記画素トランジスタ13はそのうちの1つのトラ
ンジスタである。(Embodiment 4) FIGS. 5 and 6 show a liquid crystal display device according to Embodiment 4 of the present invention. 5 and 6, one inverter circuit is arranged for each of the plurality of signal lines 5. The gate G of the pixel transistor 13 connected to one of the plurality of signal lines coincides with the direction G of the common gate of the two transistors of the inverter circuit 15. The pixel transistor 13 is disposed in a pixel region 9 where the signal line 5 and the scanning line 6 intersect. Usually, a plurality of pixel transistors are arranged in the pixel region 9 of the color display screen, and the pixel transistor 13 is one of them.
【0056】上記の構成により、信号線駆動領域のイン
バータ回路を構成するトランジスタだけでなく、画素ト
ランジスタのチャネル部が異常ショットで不具合を発生
する確率を低減することが可能となる。According to the above configuration, it is possible to reduce the probability that not only the transistors constituting the inverter circuit in the signal line driving region but also the channel portion of the pixel transistor will be defective due to an abnormal shot.
【0057】上記において、本発明の実施の形態につい
て説明を行なったが、上記に開示された本発明の実施の
形態は、あくまで例示であって、本発明の範囲はこれら
発明の実施の形態に限定されない。たとえば、本発明の
範囲はつぎの事項を含むものである。 (a)レーザビーム断面の長手方向は、信号線に平行の
場合も、走査線に平行な場合も含まれる。 (b)チャネル幅方向を同じ直線に沿わせ1列に並ぶト
ランジスタの組は、インバータ回路に限定されない。フ
リップフロップ回路などすべての論理回路を構成するト
ランジスタが上記配置をとる場合も含まれる。論理回路
を構成しないトランジスタが上記配置をとるトランジス
タの中に含まれていてもよい。 (c)第1信号線回路領域において、1本の直線とは、
複数の直線にトランジスタがそのチャネル幅方向を重ね
て1列にまとめられることを表わしている。1本を超え
る数の直線にトランジスタがまとめられてもよいこと
は、いうまでもない。すなわち、1本を超える数の直線
のいずれを、当該1本の直線ととってもよい。第2信号
線回路領域の第2の直線についても同様である。 (d)直線にそのチャネル幅方向を平行にして1列に並
ぶ複数のトランジスタは、互いに直列に接続されている
必要はない。直列または並列が定義されない複数のトラ
ンジスタが上記直線に1列にまとめられていてもよい。Although the embodiments of the present invention have been described above, the embodiments of the present invention disclosed above are merely examples, and the scope of the present invention is not limited to these embodiments. Not limited. For example, the scope of the present invention includes the following items. (A) The longitudinal direction of the cross section of the laser beam includes a case parallel to the signal line and a case parallel to the scanning line. (B) The set of transistors arranged in one line with the channel width direction along the same straight line is not limited to the inverter circuit. The case where the transistors constituting all the logic circuits such as the flip-flop circuit have the above arrangement is also included. A transistor which does not constitute a logic circuit may be included in the transistors having the above arrangement. (C) In the first signal line circuit area, one straight line is
This indicates that the transistors are arranged in a line with a plurality of straight lines overlapping the channel width direction. It goes without saying that the transistors may be arranged in more than one straight line. That is, any one of more than one straight line may be taken as the one straight line. The same applies to the second straight line in the second signal line circuit area. (D) A plurality of transistors arranged in a line with the channel width direction parallel to a straight line need not be connected to each other in series. A plurality of transistors whose series or parallel is not defined may be arranged in a line in the straight line.
【0058】本発明の範囲は、特許請求の範囲の記載に
よって示され、さらに特許請求の範囲と均等の意味およ
び範囲内でのすべての変更を含むものである。The scope of the present invention is shown by the description of the claims, and further includes meanings equivalent to the claims and all modifications within the scope.
【0059】[0059]
【発明の効果】本発明の液晶表示装置およびTFTパネ
ルを用いることにより、非晶質シリコン膜を多結晶体シ
リコン膜にレーザアニールする際に異常ショットが発生
しても、それが直ちに不具合にならない構造の液晶表示
装置およびTFTパネルを得ることができる。By using the liquid crystal display device and the TFT panel of the present invention, even if an abnormal shot occurs during laser annealing of an amorphous silicon film to a polycrystalline silicon film, it does not immediately become a problem. A liquid crystal display device and a TFT panel having a structure can be obtained.
【図1】 本発明の実施の形態1における液晶表示装置
を説明する図である。FIG. 1 is a diagram illustrating a liquid crystal display device according to Embodiment 1 of the present invention.
【図2】 本発明の実施の形態2における液晶表示装置
を説明する図である。FIG. 2 is a diagram illustrating a liquid crystal display device according to Embodiment 2 of the present invention.
【図3】 図2の信号線駆動領域におけるインバータの
拡大図である。FIG. 3 is an enlarged view of an inverter in a signal line driving region of FIG. 2;
【図4】 本発明の実施の形態3における液晶表示装置
を説明する図である。FIG. 4 is a diagram illustrating a liquid crystal display device according to Embodiment 3 of the present invention.
【図5】 本発明の実施の形態4における液晶表示装置
を説明する図である。FIG. 5 is a diagram illustrating a liquid crystal display device according to Embodiment 4 of the present invention.
【図6】 図5における画素トランジスタと信号線駆動
領域のインバータ回路との位置関係を示す図である。6 is a diagram showing a positional relationship between a pixel transistor in FIG. 5 and an inverter circuit in a signal line driving region.
【図7】 一般的な液晶表示装置の駆動回路の概要を説
明する図である。FIG. 7 is a diagram illustrating an outline of a drive circuit of a general liquid crystal display device.
【図8】 図7の液晶表示装置の信号線駆動回路の概略
構成図である。8 is a schematic configuration diagram of a signal line driving circuit of the liquid crystal display device of FIG.
【図9】 図8のアナログスイッチの概略構成図であ
る。FIG. 9 is a schematic configuration diagram of the analog switch of FIG. 8;
【図10】 アクティブマトリックス方式の液晶表示装
置の作製において、レーザショットのスキャン方法を示
す図である。FIG. 10 is a diagram showing a laser shot scanning method in manufacturing an active matrix liquid crystal display device.
【図11】 レーザショットの断面におけるエネルギ分
布を示す図である。FIG. 11 is a diagram showing an energy distribution in a cross section of a laser shot.
【図12】 レーザショットのずらしピッチを説明する
図である。FIG. 12 is a diagram illustrating a shift pitch of a laser shot.
【図13】 従来の液晶表示装置の駆動回路領域におけ
るトランジスタの配置を例示する図である。FIG. 13 is a diagram illustrating an example of an arrangement of transistors in a driving circuit region of a conventional liquid crystal display device.
【図14】 従来の液晶表示装置における表示領域およ
び駆動領域を示す図である。FIG. 14 is a diagram showing a display area and a drive area in a conventional liquid crystal display device.
【図15】 従来の液晶表示装置において、信号線駆動
領域および走査線駆動領域にインバータ回路を配置した
ことを示す図である。FIG. 15 is a view showing that an inverter circuit is arranged in a signal line driving region and a scanning line driving region in a conventional liquid crystal display device.
【図16】 図14のB部の拡大図である。FIG. 16 is an enlarged view of a portion B in FIG. 14;
2a,2b 走査線駆動領域、3n インバータ回路の
n型トランジスタ、3p インバータ回路のp型トラン
ジスタ、5 信号線、6走査線、9 画素領域、10
表示領域、15 インバータ回路、17 レーザショッ
ト照射部、19信号線駆動領域、23n,23p,24
n,24p 走査線駆動領域のインバータ回路のトラン
ジスタ、30 トランジスタ(MOS)、31 チャネ
ル、32 ソース、33 ドレイン、L チャネル長
さ、G ゲート、S インバータ回路のX方向周期長
さ、W チャネル幅、Vss 接地電圧、Vdd 外部駆動
電圧。2a, 2b scanning line driving area, 3n inverter circuit n-type transistor, 3p inverter circuit p-type transistor, 5 signal lines, 6 scanning lines, 9 pixel areas, 10
Display area, 15 inverter circuit, 17 laser shot irradiation section, 19 signal line drive area, 23n, 23p, 24
n, 24p Transistor of the inverter circuit in the scanning line drive area, 30 transistors (MOS), 31 channels, 32 sources, 33 drains, L channel length, G gate, S Inverter circuit X direction cycle length, W channel width, Vss Ground voltage, Vdd External drive voltage.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H092 JA24 KA04 KA05 MA30 NA30 PA06 2H093 NA16 NC22 NC34 ND53 5F052 AA02 BA01 BA02 BA04 BA07 BB07 DA01 DB02 JA01 5F110 AA30 BB02 BB03 CC01 GG02 GG13 NN72 NN77 PP03 PP05 PP06 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 2H092 JA24 KA04 KA05 MA30 NA30 PA06 2H093 NA16 NC22 NC34 ND53 5F052 AA02 BA01 BA02 BA04 BA07 BB07 DA01 DB02 JA01 5F110 AA30 BB02 BB03 CC01 GG02 GG13 NN05 NN06 PP03 PP03
Claims (13)
領域とを有し、液晶表示装置において液晶を駆動する薄
膜トランジスタパネルであって、 前記薄膜トランジスタパネル上のトランジスタは、前記
基板上の多結晶体シリコン膜に形成され、その多結晶体
シリコン膜は、前記基板上に成膜された非晶質シリコン
膜に、細長い矩形断面のレーザビームショットを幅方向
にずらしながら照射することにより形成されたものであ
り、 前記駆動回路領域において、前記トランジスタのうち第
1のトランジスタと第2のトランジスタとが、そのチャ
ネル幅方向を前記レーザビームの矩形断面の長手方向に
平行にして、その長手方向に平行な1本の直線に沿って
1列に並ぶように配列している、薄膜トランジスタパネ
ル。1. A thin film transistor panel having a display region and a drive circuit region formed on a substrate and driving liquid crystal in a liquid crystal display device, wherein the transistor on the thin film transistor panel is a polycrystalline transistor on the substrate. And a polycrystalline silicon film formed by irradiating the amorphous silicon film formed on the substrate with a laser beam shot having a narrow rectangular cross section while shifting the width direction. In the drive circuit region, a first transistor and a second transistor among the transistors have their channel width directions parallel to the longitudinal direction of the rectangular cross section of the laser beam, and are parallel to the longitudinal direction. A thin film transistor panel arranged in a line along a straight line.
領域とを有し、液晶表示装置において液晶を駆動する薄
膜トランジスタパネルであって、 前記駆動回路領域において、前記薄膜トランジスタパネ
ル上のトランジスタのうち第1のトランジスタと第2の
トランジスタとが、そのチャネル幅方向を1本の直線に
平行にして、その1本の直線に沿って1列に並ぶように
配列している、薄膜トランジスタパネル。2. A thin film transistor panel having a display region and a drive circuit region formed on a substrate and driving liquid crystal in a liquid crystal display device, wherein in the drive circuit region, a transistor on the thin film transistor panel is provided. A thin film transistor panel in which a first transistor and a second transistor are arranged so that their channel width direction is parallel to one straight line and arranged in a line along the one straight line.
て配線された複数の第1信号線および複数の第2信号線
と、ならびにその交差部位に位置する複数の画素トラン
ジスタを含む前記表示領域と、前記表示領域の辺縁に沿
って、前記第1信号線の延びる方向に交差するように位
置する第1信号線回路領域と、前記第2信号線の延びる
方向に交差するように位置する第2信号線回路領域とか
らなる駆動回路領域を備え、 前記第1信号線回路領域において、所定本数の第1信号
線ごとに前記第1および第2のトランジスタが配置さ
れ、前記第1のトランジスタと第2のトランジスタと
が、そのチャネル幅方向を前記1本の直線に平行にし
て、その1本の直線に沿って1列に並ぶように配列して
いる、請求項1または2に記載の薄膜トランジスタパネ
ル。3. The thin film transistor panel includes a plurality of first signal lines and a plurality of second signal lines that are wired in an intersecting manner, and the display area including a plurality of pixel transistors located at the intersections thereof. A first signal line circuit area located along the edge of the display area so as to intersect with the direction in which the first signal line extends, and a second signal located so as to intersect with the direction in which the second signal line extends. A driving circuit region comprising a first circuit line region and a first circuit region, wherein the first and second transistors are arranged for every predetermined number of first signal lines in the first signal line circuit region; 3. The thin film transistor according to claim 1, wherein the transistors are arranged so that their channel width direction is parallel to the one straight line and arranged in a line along the one straight line. 4. Nell.
平行である、請求項3に記載の薄膜トランジスタパネ
ル。4. The thin film transistor panel according to claim 3, wherein said one straight line is substantially parallel to said first signal line.
前記表示領域の画素に配置されたトランジスタとが、そ
のチャネル幅方向を平行にして前記1本の直線に沿って
1列に並んでいる、請求項1〜4のいずれかに記載の薄
膜トランジスタパネル。5. The first and second transistors,
The thin film transistor panel according to any one of claims 1 to 4, wherein the transistors arranged in the pixels of the display area are arranged in a single line along the one straight line with their channel width directions parallel.
および第2のトランジスタは、論理回路に含まれる、そ
の構成要素のトランジスタである、請求項1〜5のいず
れかに記載の薄膜トランジスタパネル。6. A first liner arranged in a line along the one straight line
The thin film transistor panel according to claim 1, wherein the second transistor and the second transistor are transistors included in a logic circuit and are constituent elements thereof.
ジスタは、前記所定本数の第1信号線ごとに対応する前
記第1信号線回路領域の等ピッチの領域ごとに位置して
いる、請求項1〜6のいずれかに記載の薄膜トランジス
タパネル。7. The first and second transistors arranged in one row are located at equal pitch regions of the first signal line circuit region corresponding to the predetermined number of first signal lines, respectively. A thin-film transistor panel according to claim 1.
1本の直線に平行な第2の直線が定められ、前記第2信
号線回路領域に配置された少なくとも2つのトランジス
タがそのチャネル幅方向を、前記第2の直線に平行にし
てその第2の直線に沿って1列に並んでいる、請求項1
〜7のいずれかに記載の薄膜トランジスタパネル。8. A second straight line parallel to the one straight line is defined in the second signal line circuit region, and at least two transistors disposed in the second signal line circuit region are arranged in a channel width direction. Are arranged in a line along the second straight line parallel to the second straight line.
8. The thin film transistor panel according to any one of claims 1 to 7.
くとも2つのトランジスタは、論理回路に含まれる、そ
の構成要素のトランジスタである、請求項8に記載の薄
膜トランジスタパネル。9. The thin film transistor panel according to claim 8, wherein the at least two transistors arranged in a line along the second straight line are transistors included in a logic circuit and are constituent elements thereof.
トランジスタが、そのチャネル幅方向を前記1本の直線
に交差させるように配置されている、請求項1〜9のい
ずれかに記載の薄膜トランジスタパネル。10. The transistor according to claim 1, wherein the transistor arranged in the second signal line circuit region is arranged so that a channel width direction thereof intersects the one straight line. Thin film transistor panel.
第1信号線回路領域が信号線回路領域であり、前記第2
信号線が走査線であり、前記第2信号線回路領域が走査
線回路領域である、請求項1〜10のいずれかに記載の
薄膜トランジスタパネル。11. The first signal line is a signal line, the first signal line circuit region is a signal line circuit region, and the second signal line circuit region is a signal line circuit region.
The thin film transistor panel according to claim 1, wherein the signal lines are scanning lines, and the second signal line circuit area is a scanning line circuit area.
第1信号線回路領域が走査線回路領域であり、前記第2
信号線が信号線であり、前記第2信号線回路領域が信号
線回路領域である、請求項1〜10のいずれかに記載の
薄膜トランジスタパネル。12. The first signal line is a scanning line, the first signal line circuit region is a scanning line circuit region, and the second signal line is a scanning line circuit region.
The thin film transistor panel according to any one of claims 1 to 10, wherein the signal line is a signal line, and the second signal line circuit region is a signal line circuit region.
置された請求項1〜12のいずれかに記載の薄膜トラン
ジスタとを備えた、液晶表示装置。13. A liquid crystal display device comprising: a liquid crystal; and the thin film transistor according to claim 1 arranged to drive the liquid crystal.
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- 2001-05-16 JP JP2001146254A patent/JP4879406B2/en not_active Expired - Fee Related
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