DE7238237U - Halbleiter-Diode zur Erzeugung von Mikrowellen - Google Patents
Halbleiter-Diode zur Erzeugung von MikrowellenInfo
- Publication number
- DE7238237U DE7238237U DE7238237U DE7238237DU DE7238237U DE 7238237 U DE7238237 U DE 7238237U DE 7238237 U DE7238237 U DE 7238237U DE 7238237D U DE7238237D U DE 7238237DU DE 7238237 U DE7238237 U DE 7238237U
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- semiconductor diode
- generating microwaves
- active zone
- layer
- diode according
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 14
- 239000002296 pyrolytic carbon Substances 0.000 claims description 5
- 239000003245 coal Substances 0.000 claims description 4
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims description 4
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XRZCZVQJHOCRCR-UHFFFAOYSA-N [Si].[Pt] Chemical compound [Si].[Pt] XRZCZVQJHOCRCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 238000009795 derivation Methods 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Electrodes Of Semiconductors (AREA)
Description
SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT München 2, den 18. ΟΚΈ 1972
Berlin und München Wittelsbacherplatz 2
72/1184
Die
Halbleiter-Diode zur Erzeugung von Mikrowellen
Neuerung betrifft eine Halbleiter-Diode zur Er-
zeugung von Mikrowellen, die zur Abführung der in ihrer
i aktiven Zone entstehenden Wärme auf einer Bodenplatte
Iv angeordnet ist,, welche eine Wärmesenke darstellt.
Ii In Bauteilen wie den genannten Halbleiter-Dioden ist die
> : Wechselwirkungszone sehr klein und somit die Energiedichte
I.: extrem hoch. Da außerdem ein großer Anteil der zugeführten
I Energie in der aktiven Zone in Wärme umgesetzt wird,
I 10 bildet die Abführung dieser Verlustwärme ein entscheidendes
;; Problem für die Lebensdauer und den Wirkungsgrad derartiger
I Dioden.
I . Bisher wurde die Verlustwärme über eine Wärmesenke abge-
I 15 führt, die in unmittelbarer Nähe der aktiven Zone ange-
I ordnet war und aus gut wärmeleitenden Materialien wie
I Kupfer oder Diamant bestand. Diamant hat gegenüber Kupfer
K zwar den wichtigen Vorteil einer sechsfach besseren Wärme-
·, ableitung, ist aber erheblich aufwendiger zu verarbeiten.
I 20
fc ' Aufgabe der vorliegenden Neuerung ist es, eine Halbleiter-
1 Diode zur Erzeugung von Mikrowellen anzugeben, bei der die
I Verlustwärme sehr einfach und wirksam abgeführt werden kann.
■ Zur Lösung dieser Aufgabe wird gemäß der Neuerung vorge-
25 schlagen, im Bereich der aktiven Zone der Halbleiter-Diode eine Wärmesenke aus pyrolitischer Kohle anzuordnen.
'!· VPA 9/170/2017 Les/Fck - 2 -
Bei einer neuerungsgemäßen Halbleiter-Diode wird die
entstehende Verlustwärme sehr gut abgeleitet, denn die
pvrolitische Kohle hat eine anisotrope Wärmeleitfähigkeit, die in der Richtung höchstmöglicher Wärmeleitung etwa
die Vierte von Diamant erreicht. Es empfiehlt sich daher,
die pyrolitische Kohle so anzuordnen, daß die Richtung der höchsten Wärmeleitfähigkeit mit der Richtung des
kürzesten von der aktiven Zone wegführenden Weges zusammenfällt. Die Herstellung einer neuerungsgemäß vorgeschlagenen
Wärmesenke bereitet keinerlei Schwierigkeiten. So kann beispielsweise die endgültige Form der Wärmesenke einfach
und ohne eine Nachbehandlung aus der Gasphase erzeugt werden. Insgesamt ist also bei einer Halbleiter-Diode der
eingangs genannten Art mit sehr einfachen aufwandsparenden Mitteln eine große Lebensdauer bzw. ein hoher Wirkungsgrad
erzielt.
Wegen der relativ hohen elektrischen Leitfähigkeit von pyrolitischer Kohle sollte zwischen diesem Material und
dem Hochfrequenzraum der Halbleiter-Diode eine gut "leitende Schicht angeordnet sein. Als günstig hat sich erwiesen, der
Kohle eine dünne Goldschicht aufzutragen.
An einem Ausführungsbeispiel soll die Neuerung nachstehend . anhand der Figur der Zeichnung näher erläutert v/erden.
Das schematisch in der Figur dargestellte Ausführungsbeispiel ist eine Doppeltrift-Diode. Dabei sind mit 1 die ·
hochdotierte N+-Schicht, mit 2 die N-Schicht - sie bilden
zusammen einen ersten Triftraum - sowie mit 3 die P-Schicht und mit k die wiederum hochdotierte P -Schicht - sie bilden
zusammen den zweiter· Triftraum - bezeichnet. Den Stirnflächen dieser Trifträume sind in üblicher Weise mehrere dünne Lagen
VPA 9/170/2017 - 3 -
zur Herstellung des ohmschen Kontaktes aufgebracht. Im dargestellten Ausführungsbeispiel sind es zwei
ungefähr 0,035 /um dicke Chromlagen - in der Figur mit 5, 6 bezeichnet - sowie zwei ungefähr 0,1 /um dicke,
mit 7, θ bezeichnete Platinlagen und in direktem Kontakt mit der P+-Schicht h eine 0,04 /um dicke, mit 9 bezeichnete
Platin-Silizium-Schicht. Jeweils die äußersten, mit 10, 11 bezeichneten Lagen bestehen aus Gold und sind
ungefähr 1 /um dick. Der Goldschicht 11 ist direkt die neuerungsgemäß vorgesehene Wärmesenke aus pyrolitischer
Kohle, in der Figur mit 12 bezeichnet, aufgetragen. Diese Wärmesenke ist an der der Diode zugewandten Seite
- in der Figur nicht dargestellt - zur Herabsetzung von Hochfrequenzveriusten vergoldet.
4 Schutzansprüche
1 Figur
1 Figur
VPA 9/170/2017 - 4 -
7281237-18.71
Claims (1)
- Schutzanst>rUcheHalbleiter-Diode zur Erzeugung von Mikrowellen, die zur Abführung der in ihrer aktiven Zone entstehenden Wärme auf einer Bodenplatte angeordnet ist, welche eine Wärmesenke darstellt, dadurch gekennzeichnet, daß die Bodenplatte aus pyrolitischer Kohle besteht.Halbleiter-Diode nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Richtung der höchsten Wärmeleitfähigkeit der pyrolitischen Kohle mit der Richtung des kürzesten von der aktiven Zone wegführenden Weges zusammenfällt.3. Halpleiter-Diode nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß zwischen der pyrolitischen Kohle und dem Hoohfrequenzraum der Halbleiter-Diode eine gut leitende Schicht angeordnet ist.4. Halbleiter-Diode nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die gut leitende Schicht aus Gold besteht.VPA 9/170/20177211237-1·. η
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE7238237U true DE7238237U (de) | 1973-08-02 |
Family
ID=1285990
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE7238237U Expired DE7238237U (de) | Halbleiter-Diode zur Erzeugung von Mikrowellen |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE7238237U (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19605302A1 (de) * | 1996-02-14 | 1997-08-21 | Fraunhofer Ges Forschung | Kühlkörper mit einer Montagefläche für ein elektronisches Bauteil |
-
0
- DE DE7238237U patent/DE7238237U/de not_active Expired
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19605302A1 (de) * | 1996-02-14 | 1997-08-21 | Fraunhofer Ges Forschung | Kühlkörper mit einer Montagefläche für ein elektronisches Bauteil |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE3687329T2 (de) | Halbleiterlaser-vorrichtung. | |
DE3943232C2 (de) | ||
DE1127488B (de) | Halbleiteranordnung aus Silizium oder Germanium und Verfahren zu ihrer Herstellung | |
DE102015113758A1 (de) | Halbleiterlaser | |
DE102017122330B4 (de) | Halbleiterlaserdiode und Halbleiterbauelement | |
DE60107620T2 (de) | Ozonerzeuger | |
WO2019086619A1 (de) | Diodenlaser | |
EP3262728A1 (de) | Verfahren zum herstellen eines diodenlasers und diodenlaser | |
DE2608562C2 (de) | ||
DE69707390T2 (de) | Strahlungsemittierende halbleiterdiode und deren herstellungsverfahren | |
DE2160005A1 (de) | Halbleiter-Injektionslaser | |
DE2552870A1 (de) | Halbleiter-laserdiode | |
DE2416147C2 (de) | Heteroübergangsdiodenlaser | |
DE2646404A1 (de) | Verfahren zur herstellung von halbleitervorrichtungen mit hoher waermeleitfaehigkeit | |
DE10214210B4 (de) | Lumineszenzdiodenchip zur Flip-Chip-Montage auf einen lotbedeckten Träger und Verfahren zu dessen Herstellung | |
DE1816204A1 (de) | Halbleiterlaser | |
DE7238237U (de) | Halbleiter-Diode zur Erzeugung von Mikrowellen | |
DE2420266A1 (de) | Optoelektronisches halbleiterbauelement | |
DE19647590A1 (de) | Hochleistungs-Halbleitermodul | |
DE69209426T2 (de) | Halbleiterlaser | |
DE112016006517T5 (de) | Halbleitervorrichtung | |
DE1439316C3 (de) | Anordnung zur Erzeugung und/oder Verstärkung elektromagnetischer Strahlung | |
EP0491389B1 (de) | Leistungshalbleiterbauelement | |
DE102019124993A1 (de) | Verfahren zum Herstellen einer Halbleiteranordnung und Diodenlaser | |
DE102018204376B4 (de) | Siliziumcarbidvorrichtungen und Verfahren zur Herstellung derselben |