CN119896077A - 显示面板及其制造方法 - Google Patents

Abstract

本申请公开了一种显示面板及其制造方法。显示面板包括依次设置的第一基底、平坦层、第一电极、发光层以及第二电极；平坦层远离第一基底的表面具有凹凸形貌；第一电极延续平坦层的凹凸形貌；发光层延续第二电极的凹凸形貌；第二电极延续发光层的凹凸形貌。本申请通过双平坦层结构使凹凸形貌易于制备，使第一电极、发光层以及第二电极构成凹凸形貌，通过凹凸形貌的反射作用以及折射作用改变原有的光传播路径，减少大角度传播的光线，从而降低显示面板内的全反射，从而提高了显示面板的光取出效率。

Description

显示面板及其制造方法 技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板及其制造方法。

背景技术

显示面板，例如OLED(Organic Light-Emitting Diode，有机发光二极管)，或者QLED(Quantum Dot Light Emitting Diodes，量子点发光二极管)等由于其自发光的特点，已经被越来越广泛的应用在手机、平板、电脑电视等各种显示装置中。

但是，这些自发光显示面板普遍存在光取出效率较低的问题。

发明内容

本申请的目的在于提供一种光取出效率高的显示面板及其制造方法。

本申请公开了一种显示面板，包括：

第一基底；

平坦层，位于第一基底的一侧，所述平坦层包括靠近第一基底的第一平坦层以及远离所述第一基底的第二平坦层，所述第一平坦层靠近所述第二平坦层的一侧表面平整，所述第二平坦层具有凹凸形貌；

第一电极，位于平坦层远离所述第一基底的一侧，所述第一电极延续所述平坦层的凹凸形貌；

发光层，位于所述第一电极远离所述第一基底的一侧，所述发光层延续所述第一电极的凹凸形貌；

第二电极，位于所述发光层远离所述第一电极的一侧，所述第二电极延续所述发光层的凹凸形貌。

可选地，所述显示面板还包括像素界定层，所述像素界定层位于所述第一电极与所述发光层之间，所述像素界定层界定出像素区与非像素区；所述平坦层的凹凸形貌位于所述像素区。

可选地，所述平坦层的凹凸形貌包括若干第一凸起结构，所述第一凸起结构朝所 述第一电极方向凸起。

可选地，所述第一凸起结构在第一方向上的高度小于等于所述第二平坦层的厚度。

可选地，所述显示面板还包括隔离层，所述隔离层位于所述第一平坦层与所述第二平坦层之间，所述隔离层的厚度小于等于500nm。

可选地，所述第一凸起结构的部分外表面与第一方向的夹角大于等于40°且小于等于60°。

可选地，若干所述第一凸起结构在第一方向上的正投影分布于所述像素区在第一方向上的正投影的边缘区域。

可选地，若干所述第一凸起结构在第一方向上的正投影布满所述像素区在第一方向上的正投影区域。

可选地，所述显示面板还包括位于所述第二电极远离所述发光层一侧的填充层，所述填充层内设置有透镜结构，所述透镜结构朝远离所述第二电极方向凸起。

可选地，所述透镜结构在第一方向上的正投影与所述像素区部分重叠，重叠面积大于等于所述透镜结构在第一方向上正投影面积的一半，且小于所述透镜结构在第一方向上正投影的面积；所述透镜结构覆盖部分所述凹凸形貌。

可选地，所述填充层内设置有若干透镜结构，所述若干透镜结构环绕设置于所述像素区的边缘。

可选地，所述透镜结构的折射率大于所述填充层内非所述透镜结构区域的折射率。

可选地，所述填充层包括位于所述第二电极远离所述发光层一侧的第一填充层；以及位于所述第一填充层远离所述第二电极一侧的第二填充层；所述透镜结构位于所述第二填充层；所述第一填充层包括向所述第二电极凸起的第二凸起结构，所述第二凸起结构在第一方向上的正投影位于所述透镜结构远离所述像素区的一侧。

可选地，所述第一填充层包括若干所述第二凸起结构，若干所述第二凸起结构在第一方向上的正投影环绕设置于所述透镜结构的周侧。

可选地，所述第一电极为反射电极，所述第二电极为透射电极。

可选地，所述第一电极为透射电极，所述第二电极为反射电极。

本申请还公开了一种显示面板的制造方法，包括：

提供第一基底；

在第一基底的一侧依次形成平坦层、第一电极、发光层以及第二电极；所述平坦层上具有凹凸形貌，所述第一电极、所述发光层以及所述第二电极延续所述平坦层的凹凸形貌。

可选地，所述平坦层包括第一平坦层、隔离层以及第二平坦层；制备平坦层时，先在第一基底的一侧涂覆负胶，进行曝光显影形成第一平坦层；在所述第一平坦层远离所述第一基底的一侧制备隔离层；在所述隔离层远离所述第一平坦层的一侧涂覆正胶，进行曝光显影形成具备凹凸形貌的第二平坦层。

可选地，所述显示面板的制造方法包括在所述第二电极远离所述发光层的一侧形成封装层；在所述封装层远离所述第二电极的一侧形成透镜结构；在所述封装层远离所述第二电极的一侧形成填充层，所述填充层包裹所述透镜结构；在所述填充层远离所述封装层的一侧设置第二基底。

可选地，显示面板的制造方法包括提供第二基底；在所述第二基底的一侧形成第二填充层，所述第二填充层远离所述第二基底的一侧具有凹陷结构；在所述第二填充层远离所述第二基底的一侧形成所述第一填充层，所述第一填充层填充所述凹陷结构；所述第一基底与所述第二基底通过所述第一填充层粘接

与相关技术相比，本申请通过双平坦层结构使凹凸形貌易于制备，使第一电极、发光层以及第二电极构成凹凸形貌，通过凹凸形貌的反射作用以及折射作用改变原有的光传播路径，减少大角度传播的光线，从而降低显示面板内的全反射，提高了显示面板的光取出效率。

应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，并不能限制本说明书。

附图说明

此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本说明书的实施例，并与说明书一起用于解释本说明书的原理。

图1为本申请显示面板一实施例的结构示意图。

图2为本申请显示面板另一实施例的结构示意图。

图3为本申请显示面板另一实施例的结构示意图。

图4为本申请显示面板另一实施例的结构示意图。

图5为本申请显示面板另一实施例的结构示意图。

图6为本申请显示面板一实施例的透镜结构的排布俯视示意图。

图7为本申请显示面板另一实施例的透镜结构的排布俯视示意图。

图8为本申请显示面板一实施例的第一凸起结构的排布俯视示意图。

图9为本申请显示面板另一实施例的第一凸起结构的排布俯视示意图。

图10为本申请显示面板一实施例的制造流程示意图。

图11为本申请显示面板一实施例的中平坦层的制造流程示意图。

图12为本申请显示面板一实施例的中局部结构的制造流程示意图。

图13为本申请显示面板另一实施例的中局部结构的制造流程示意图。

图14为本申请显示面板又一实施例的中局部结构的制造流程示意图。

附图标记说明：第一基底、10；彩膜层11；平坦层、20；第一平坦层、21；第二平坦层、22；第一凸起结构、221；隔离层、23；第一电极、30；像素界定层、40；凸柱、41；发光层、50；第二电极、60；封装层、70；第一无机封装层、71；第一有机封装层、72；第二无机封装层、73；填充层、80；透镜结构、81；第一填充层、82；第二填充层、83；第二凸起结构、84；第二基底、90；像素区、100；非像素区、200。

具体实施方式

这里将详细地对示例性实施例进行说明，其示例表示在附图中。下面的描述涉及附图时，除非另有表示，不同附图中的相同数字表示相同或相似的要素。以下示例性实施例中所描述的实施方式并不代表与本说明书相一致的所有实施方式。相反，它们仅是与如所附权利要求书中所详述的、本说明书的一些方面相一致的装置和方法的例子。

在本申请使用的术语是仅仅出于描述特定实施例的目的，而非旨在限制本公开。除非另作定义，本说明书使用的技术术语或者科学术语应当为本申请所属领域内设有一般技能的人士所理解的通常意义。本说明书以及权利要求书中使用的“第一”“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。同样，“一个”或者“一”等类似词语也不表示数量限制，而是表示存在个。 “多个”或者“若干”表示两个及两个以上。除非另行指出，“前部”、“后部”、“下部”和/或“上部”等类似词语只是为了便于说明，而并非限于一个位置或者一种空间定向。“包括”或者“包含”等类似词语意指出现在“包括”或者“包含”前面的元件或者物件涵盖出现在“包括”或者“包含”后面列举的元件或者物件及其等同，并不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而且可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。

在本说明书使用的术语是仅仅出于描述特定实施例的目的，而非旨在限制本公开。在本说明书和所附权利要求书中所使用的单数形式的“一种”、“所述”和“该”也旨在包括多数形式，除非上下文清楚地表示其他含义。还应当理解，本文中使用的术语“和/或”是指并包含一个或多个相关联的列出项目的任何或所有可能组合。

相关技术中，显示面板因波导效应与全反射导致出光效率低。

为解决上述技术问题，本申请提供了一种显示面板，其包括：

第一基底10；

平坦层20，位于第一基底10的一侧，所述平坦层20包括靠近第一基底10的第一平坦层21以及远离所述第一基底10的第二平坦层22，所述第一平坦层21靠近所述第二平坦层22的一侧表面平整，所述第二平坦层22具有凹凸形貌；

第一电极30，位于平坦层20远离第一基底10的一侧，第一电极30延续平坦层20的凹凸形貌；

发光层50，位于第一电极30远离第一基底10的一侧，发光层50延续第一电极30的凹凸形貌；

第二电极60，位于发光层50远离第一电极30的一侧，第二电极60延续发光层50的凹凸形貌。

本申请通过双平坦层结构使凹凸形貌易于制备，使第一电极、发光层以及第二电极构成凹凸形貌，通过凹凸形貌的反射作用以及折射作用改变原有的光传播路径，减少大角度传播的光线，从而降低显示面板内的全反射，从而提高了显示面板的光取出效率。

以下将对符合上述创作构思的本申请实施例进行详细说明。

如图1所示，该第一基底10可以为刚性第一基底。其中，该刚性第一基底可以为玻璃第一基底或PMMA(Polymethyl methacrylate，聚甲基丙烯酸甲酯)第一基底等。当然，该第一基底10还可以为柔性第一基底。其中，该柔性第一基底可以为PET(Polyethylene terephthalate，聚对苯二甲酸乙二醇酯)第一基底、PEN(Polyethylene naphthalate two formic acid glycol ester，聚萘二甲酸乙二醇酯)第一基底或PI(Polyimide，聚酰亚胺)第一基底。

如图1所示，平坦层20位于第一基底10的一侧。在示例性的实施方式中，第一基底10与平坦层20之间设置有驱动结构层，此处未在视图中示出，驱动结构层的具体结构根据实际需求灵活设置，本申请对此不作限定。平坦层20覆盖第一基底10，平坦层20远离第一基底10的一侧表面具有凹凸形貌。该平坦层20包括有机材料层，例如，可以为光刻胶材质，凹凸形貌可以通过曝光工艺制备。该凹凸形貌包括第一凸起结构221，第一凸起结构221自平坦层20向远离第一基底10的方向凸起。第一凸起结构221远离第一基底10一侧的表面的坡度角为α，40°≤α≤60°。该坡度角α指第一凸起结构221远离第一基底10一侧的表面与第一方向的夹角，40°≤α≤60°指第一凸起结构221远离第一基底10一侧的表面具有部分区域与第一方向的夹角α在40°与60°之间，该部分区域可以为第一凸起结构221远离第一基底10一侧的表面的任何区域。在本实施例中，第一方向为垂直于第一基底10平面的方向。

如图1所示，本申请的显示面板还包括第一电极30、发光层50以及第二电极60。第一电极30位于平坦层20远离第一基底10的一侧，第一电极30延续平坦层20的凹凸形貌。发光层50位于第一电极30远离平坦层20的一侧，发光层50延续第一电极30的凹凸形貌。发光层50可以为OLED(Organic Light-Emitting Diode，有机发光二极管)发光层，或者QLED(Quantum Dot Light Emitting Diodes，量子点发光二极管)发光层等。第二电极60位于发光层50远离第一电极30的一侧，第二电极60延续发光层50的凹凸形貌。在一可选实施例中，第一电极30为透射电极，第二电极60为反射电极；在另一可选实施例中，第一电极30为反射电极，第二电极60为透射电极。

如图1所示，本申请的显示面板还包括像素界定层40，像素界定层40设置有像素开口，将显示面板分为像素区100与非像素区200。上述的凹凸形貌设置于像素区100内，示例性的，在垂直于第一基底10的方向上，凹凸形貌也可以与像素界定层40交叠，进一步提高光取出效果，也可以降低相邻子像素之间发生串扰的可能。

如图1及图8所示，在一可选实施例中，凹凸形貌包括若干第一凸起结构221。若干第一凸起结构221位于像素区100内，且分布在像素区100的边沿，即第一方向上的正投影分布于像素区100在第一方向上的正投影的边缘区域，且第一凸起结构221在第一方向上的正投影位于像素区100在第一方向上的正投影内且靠近像素区100的边界。像素界定层40在像素开口的边缘区域具有凸柱41结构，凸柱41在第一方向上的高度高于第一凸起结构221。

如图1及图9所示，在另一可选实施例中，若干第一凸起结构221在第一方向上的正投影布满像素区100在第一方向上的正投影区域，若干第一凸起结构221的具体排布方式根据实际需求设置，例如，可以按照行列整齐排布，也可以以蜂窝状排，相邻第一凸起结构221之间可以紧密相连，也可以保留一定的空隙，当保留一定的空隙时，相邻第一凸起结构221之间间隙的最大尺寸小于第一凸起结构221靠近第一基底一侧的表面的最大尺寸。

如图1所示，本申请的显示面板还包括封装层70。封装层70位于第二电极60远离发光层50的一侧。封装层70可以延续第二电极60的凹凸形貌，也可以不延续第二电极60的凹凸形貌。封装层70可以为无机封装层，例如氧化铝(Al2O3)层、氮化硅(SiNx)层或氧化硅(SiOx)层等；封装层70可以为有机封装层，例如环氧树脂层、聚酰亚胺(PI)层、聚合酰亚胺(PBI)或常规丙烯酸材料层等。封装层70可以为单层结构，也可以为多层叠加结构。

如图1所示，本申请的显示面板还包括填充层80与第二基底90。填充层80位于封装层70远离第二电极60的一侧。填充层80粘合第二基底90与封装层70。

如图1所示，在一可选实施例中，平坦层20包括第一平坦层21与第二平坦层22。第一平坦层21位于第一基底10与第二平坦层22之间。第一平坦层21靠近第一基底10的一侧与第一基底10贴合，远离第一基底10的一侧通过前烘、曝光、显影及后烘等步骤制备成表面平整的形貌。第二平坦层22位于第一平坦层21远离第一基底10的一侧。第二平坦层22通过前烘、曝光、显影及后烘等步骤制备成第一凸起结构221，第一凸起结构221在第一方向上的高度小于等于第二平坦层22的厚度，第二平坦层22也可以选择曝透也可以选择不进行曝透。第一平坦层21的厚度可以为1um～3um，例如1um、1.5um、2um、2.5um、3um等。第二平坦层22的厚度可以为1um～2um，例如1um、1.3um、1.5um、1.7um、2um等。第一平坦层21的厚度大于第二平坦层22的厚度。第一平坦层21与第二平坦层22均为有机材料，例如为光刻胶材质，第一平坦层21与第二平坦层22可以为相同的光刻胶材质，也可以为不同的光刻胶材质。当第一平坦层21与第二平坦层22为不同光刻胶时，可选地，第一平坦层21采用负胶，第二平坦层22采用正胶，这样可以同时兼顾正胶与负胶的优点，使第一凸起结构221具有更好的形貌，同时使平坦层20的平坦效果好。正胶的材质可以为甲基丙烯酸甲酯、苯乙烯或二氧化苯等，负胶的材质可以为硝基苯乙烯、苯乙烯丙烯腈共聚物或苯乙烯呋咱共聚物等。

如图1及图2所示，在一可选实施例中，平坦层20还包括隔离层23。隔离层23 位于第一平坦层21与第二平坦层22之间。隔离层可以为无机材料层，例如氮化硅(SiNx)、氧化硅(SiOx)材料层等。隔离层23的厚度小于等于500nm，可选地，隔离层23的厚度为300nm、350nm、370nm、400nm或421nm等。隔离层23的设置可以有效的防止第一平坦层21与第二平坦层22之间存在的材料互溶的问题。

如图5所示，在一可选实施例中，封装层70包括第一无机封装层71、第一有机封装层72以及第二无机封装层73。第一无机封装层71位于第二电极60远离发光层50的一侧。第一无机封装层71靠近第二电极60的一侧与第二电极60贴合，远离第二电极60的一侧具有延续第二电极60的凹凸形貌。第一有机封装层72位于第一无机封装层71远离第二电极60的一侧。第一有机封装层72靠近第一无机封装层71的一侧与第一无机封装层71贴合，远离第一无机封装层71的一侧表面制备为平整的表面。第二无机封装层73位于第一有机封装层72远离第一无机封装层71的一侧，第二无机封装层73相对的两表面均为平整状态。有机封装层的折射率n约等于1.5，无机封装层的折射率n约等于1.8。第二无机封装层73远离第一有机封装层72的一侧设置有透镜结构81。透镜结构81可以为半球形或者是截面为半圆形的柱结构或者是近似于上述结构的其他结构。透镜结构81朝远离第二电极60的方向凸起。填充层80覆盖并包裹透镜结构81，即透镜结构81位于填充层80内。透镜结构81与填充层80的材质不同，填充层80的折射率n＝1.4，透镜结构81的折射率≥1.5。例如透镜结构81的折射率可以为1.5、1.52、1.55、1.6、1.7等。该方式优化了第一无机封装层71的出光角度，同时有效解决了光被困在在第一有机封装层72内而无法有效出光的问题。且解决了高折射率的第一有机封装层72材料由于散射粒子掺杂而打印困难，堵塞喷头的问题。

如图3所示，在一可选实施例中，封装层70包括第一无机封装层71。第一无机封装层71位于第二电极60远离发光层50的一侧。第一无机封装层71靠近第二电极60的一侧与第二电极60贴合，远离第二电极60的一侧具有延续第二电极60的凹凸形貌。填充层80位于第一无机封装层71背离第二电极60的一侧。填充层80包括第一填充层82与第二填充层83。第二填充层83的一侧与第二基底90贴合，第二填充层83背离第二基底90的一侧设置有若干凹陷结构，该凹陷结构可以为半球形凹陷或者是截面为半圆形的柱结构凹陷或者是近似于上述结构的其他结构凹陷。第一填充层82位于第二填充层83背离第二基底90的一侧。第一填充层82的一部分填充第二填充层83的凹陷结构，以形成透镜结构81。第一填充层82的另一部分粘结第二填充层83与第一无机封装层71,第二填充层83的折射率n约等于1.5，第一填充层82的折射率1.5≤n≤1.8，例如第一填充层82的折射率可以为1.5、1.52、1.55、1.6、1.8等。该 方式减少了第一无机封装层71与第一填充层82界面的全反射，同时通过透镜结构81的聚光作用，减少混色和串扰的问题。

如图3及图6及图7所示，在一可选实施例中，透镜结构81位于像素区100的边缘。具体地，透镜结构81在第一方向上的正投影与像素区100在第一方向上的正投影部分重叠，且重叠部分的面积大于透镜结构81第一方向上的正投影面积的一半，小于透镜结构81第一方向上的正投影面积。透镜结构81在第一方向上的正投影至少覆盖一个第一凸起结构221的最高点。可选地，若干透镜结构81环绕设置于像素区100的边缘。

如图4所示，在一可选实施例中，第二填充层83背离第二基底90的一侧还设置有第二凸起结构84。第二凸起结构84自第二填充层83的表面向第二电极60的方向凸起。第一填充层82覆盖并包裹第二凸起结构84，即第二凸起结构84位于第一填充层82内。第二凸起结构84在第一方向上的正投影位于透镜结构81在第一方向上的正投影远离像素区的一侧。可选地，若干第二凸起结构84第一方向上的正投影环绕于透镜结构81在第一方向上的正投影的外侧。第二凸起结构84可以为密排的半球形、截面为梯形的柱体或者截面为半圆形的柱体等形状。第二凸起结构84可以通过全反射作用，使光反射入透镜结构81中，提高光的取出效率，同时减少混色和串扰的问题。

如图3及图4所示，在一可选实施例中，本申请的显示面板还包括彩膜层11。当第一电极30为透射电极，第二电极60为反射电极时，彩膜层11位于第一基底10与平坦层20之间，且彩膜层11在第一方向上的正投影覆盖像素区100与透镜结构81的外边界。当第一电极30为反射电极，第二电极60为透射电极时，彩膜层11位于第二基底90与填充层80之间，且彩膜层11在第一方向上的正投影覆盖像素区100与透镜结构81的外边界。

如图10所示，本申请还公开了一种显示面板的制造方法，包括：

提供第一基底10。

在第一基底10的一侧依次形成平坦层20、第一电极30、发光层50以及第二电极60。平坦层20上具有凹凸形貌，第一电极30、发光层50以及第二电极60延续平坦层20的凹凸形貌。

如图11所示，在一可选实施例中，平坦层20包括第一平坦层21、隔离层23以及第二平坦层22。制备平坦层20时，先在第一基底10的一侧涂覆负胶，进行曝光显影形成第一平坦层21。在第一平坦层21远离第一基底10的一侧制备隔离层23。在隔离层23远离第一平坦层21的一侧涂覆正胶，进行曝光显影形成具备凹凸形貌的第二 平坦层22，该凹凸形貌包括若干第一凸起结构221。

如图12所示，在一可选实施例中，显示面板的制造方法还包括在第二电极60远离发光层50的一侧形成封装层70。在封装层70远离第二电极的一侧形成透镜结构81。在封装层70远离第二电极60的一侧形成填充层80，填充层80包裹透镜结构。在填充层80远离封装层70的一侧设置第二基底90。

如图13所示，在一可选实施例中，显示面板的制造方法还包括提供第二基底90。在第二基底90的一侧形成第二填充层83，第二填充层83远离第二基底90的一侧具有凹陷结构。在第二填充层83远离第二基底90的一侧形成第一填充层82，第一填充层82填充凹陷结构以形成透镜结构81。第一基底10与第二基底90通过第一填充层82粘接。

如图14所示，在一可选实施例中，显示面板的制造方法还包括提供第二基底90。在第二基底90的一侧形成第二填充层83，在第二填充层83远离第二基底90的一侧形成凹陷结构与第二凸起结构84，第二凸起结构84位于凹陷结构的外侧。在第二填充层83远离第二基底90的一侧形成第一填充层82，第一填充层82填充凹陷结构以形成透镜结构81。第一填充层82同时覆盖第二凸起结构84。第一基底10与第二基底90通过第一填充层82粘接。

本领域技术人员在考虑说明书及实践这里申请的发明后，将容易想到本说明书的其它实施方案。本说明书旨在涵盖本说明书的任何变型、用途或者适应性变化，这些变型、用途或者适应性变化遵循本说明书的一般性原理并包括本说明书未申请的本技术领域中的公知常识或惯用技术手段。说明书和实施例仅被视为示例性的，本说明书的真正范围和精神由下面的权利要求指出。

应当理解的是，本说明书并不局限于上面已经描述并在附图中示出的精确结构，并且可以在不脱离其范围进行各种修改和改变。本说明书的范围仅由所附的权利要求来限制。

以上所述仅为本说明书的较佳实施例而已，并不用以限制本说明书，凡在本说明书的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本说明书保护的范围之内。

Claims (20)

1. 一种显示面板，其特征在于，包括：

   第一基底；

   平坦层，位于第一基底的一侧，所述平坦层包括靠近第一基底的第一平坦层以及远离所述第一基底的第二平坦层，所述第一平坦层靠近所述第二平坦层的一侧表面平整，所述第二平坦层具有凹凸形貌；

   第一电极，位于平坦层远离所述第一基底的一侧，所述第一电极延续所述平坦层的凹凸形貌；

   发光层，位于所述第一电极远离所述第一基底的一侧，所述发光层延续所述第一电极的凹凸形貌；

   第二电极，位于所述发光层远离所述第一电极的一侧，所述第二电极延续所述发光层的凹凸形貌。
2. 根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括像素界定层，所述像素界定层界定出像素区与非像素区；所述平坦层的凹凸形貌位于所述像素区。
3. 根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述平坦层的凹凸形貌包括若干第一凸起结构，所述第一凸起结构朝所述第一电极方向凸起。
4. 根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述第一凸起结构在第一方向上的高度小于等于所述第二平坦层的厚度。
5. 根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括隔离层，所述隔离层位于所述第一平坦层与所述第二平坦层之间，所述隔离层的厚度小于等于500nm。
6. 根据权利要求3至5中任意一项所述的显示面板，其特征在于，所述第一凸起结构的部分外表面与第一方向的夹角大于等于40°且小于等于60°。
7. 根据权利要求3至5中任意一项所述的显示面板，其特征在于，若干所述第一凸起结构在第一方向上的正投影分布于所述像素区在第一方向上的正投影的边缘区域。
8. 根据权利要求3至5中任意一项所述的显示面板，其特征在于，若干所述第一凸起结构在第一方向上的正投影布满所述像素区在第一方向上的正投影区域。
9. 根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括位于所述第二电极远离所述发光层一侧的填充层，所述填充层内设置有透镜结构，所述透镜结 构朝远离所述第二电极方向凸起。
10. 根据权利要求9所述的显示面板，其特征在于，所述透镜结构在第一方向上的正投影与所述像素区部分重叠，重叠面积大于等于所述透镜结构在第一方向上正投影面积的一半，且小于所述透镜结构在第一方向上正投影的面积；所述透镜结构覆盖部分所述凹凸形貌。
11. 根据权利要求10所述的显示面板，其特征在于，所述填充层内设置有若干所述透镜结构，所述若干透镜结构环绕设置于所述像素区的边缘。
12. 根据权利要求9至11中任意一项所述的显示面板，其特征在于，所述透镜结构的折射率大于所述填充层内非所述透镜结构区域的折射率。
13. 根据权利要求9至11中任意一项所述的显示面板，其特征在于，所述填充层包括位于所述第二电极远离所述发光层一侧的第一填充层；以及位于所述第一填充层远离所述第二电极一侧的第二填充层；所述透镜结构位于所述第二填充层；所述第一填充层包括向所述第二电极凸起的第二凸起结构，所述第二凸起结构在第一方向上的正投影位于所述透镜结构远离所述像素区的一侧。
14. 根据权利要求13所述的显示面板，其特征在于，所述第一填充层包括若干所述第二凸起结构，若干所述第二凸起结构在第一方向上的正投影环绕设置于所述透镜结构的周侧。
15. 根据权利要求1至5或权利要求9至11中任意一项所述的显示面板，其特征在于，所述第一电极为反射电极，所述第二电极为透射电极。
16. 根据权利要求1至5中任意一项所述的显示面板，其特征在于，所述第一电极为透射电极，所述第二电极为反射电极。
17. 一种显示面板的制造方法，其特征在于，包括：

    提供第一基底；

    在第一基底的一侧依次形成平坦层、第一电极、发光层以及第二电极；所述平坦层上具有凹凸形貌，所述第一电极、所述发光层以及所述第二电极延续所述平坦层的凹凸形貌。
18. 根据权利要求17所述的显示面板的制造方法，其特征在于，所述平坦层包括第一平坦层、隔离层以及第二平坦层；制备平坦层时，先在第一基底的一侧涂覆负胶，进行曝光显影形成第一平坦层；在所述第一平坦层远离所述第一基底的一侧制备隔离层；在所述隔离层远离所述第一平坦层的一侧涂覆正胶，进行曝光显影形成具备凹凸形貌的第二平坦层。
19. 根据权利要求17所述的显示面板的制造方法，其特征在于，包括：在所述第二电极远离所述发光层的一侧形成封装层；在所述封装层远离所述第二电极的一侧形成透镜结构；在所述封装层远离所述第二电极的一侧形成填充层，所述填充层包裹所述透镜结构；在所述填充层远离所述封装层的一侧设置第二基底。
20. 根据权利要求17所述的显示面板的制造方法，其特征在于，包括：提供第二基底；在所述第二基底的一侧形成第二填充层，所述第二填充层远离所述第二基底的一侧具有凹陷结构；在所述第二填充层远离所述第二基底的一侧形成第一填充层，所述第一填充层填充所述凹陷结构；所述第一基底与所述第二基底通过所述第一填充层粘接。