NL8300251A - METHOD OF MANUFACTURING A TURNING ANOD FOR ROENTGEN TUBES AND ANODE THAT OBTAINED - Google Patents
METHOD OF MANUFACTURING A TURNING ANOD FOR ROENTGEN TUBES AND ANODE THAT OBTAINED Download PDFInfo
- Publication number
- NL8300251A NL8300251A NL8300251A NL8300251A NL8300251A NL 8300251 A NL8300251 A NL 8300251A NL 8300251 A NL8300251 A NL 8300251A NL 8300251 A NL8300251 A NL 8300251A NL 8300251 A NL8300251 A NL 8300251A
- Authority
- NL
- Netherlands
- Prior art keywords
- tungsten
- alloy
- molybdenum
- base body
- target layer
- Prior art date
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 31
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 19
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 claims description 18
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 11
- 238000007750 plasma spraying Methods 0.000 claims description 11
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 claims description 9
- 229910001182 Mo alloy Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 8
- 229910001080 W alloy Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 7
- 229910000691 Re alloy Inorganic materials 0.000 claims description 4
- DECCZIUVGMLHKQ-UHFFFAOYSA-N rhenium tungsten Chemical compound [W].[Re] DECCZIUVGMLHKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims description 4
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 claims 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 claims 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 claims 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N rhenium atom Chemical compound [Re] WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 2
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000013077 target material Substances 0.000 description 2
- 229910001362 Ta alloys Inorganic materials 0.000 description 1
- VXYAXARSCYHTTI-UHFFFAOYSA-N [Ta].[Re].[W] Chemical compound [Ta].[Re].[W] VXYAXARSCYHTTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 1
- 238000005267 amalgamation Methods 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 1
- 238000004043 dyeing Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- UONOETXJSWQNOL-UHFFFAOYSA-N tungsten carbide Chemical compound [W+]#[C-] UONOETXJSWQNOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J35/00—X-ray tubes
- H01J35/02—Details
- H01J35/04—Electrodes ; Mutual position thereof; Constructional adaptations therefor
- H01J35/08—Anodes; Anti cathodes
- H01J35/10—Rotary anodes; Arrangements for rotating anodes; Cooling rotary anodes
- H01J35/108—Substrates for and bonding of emissive target, e.g. composite structures
Landscapes
- Powder Metallurgy (AREA)
- Coating By Spraying Or Casting (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
* v *< EHN 10.557 ! N.V. Philips ' Gloeilampenfabrieken te Eindhoven.* v * <EHN 10,557! N.V. Philips' Incandescent lamp factories in Eindhoven.
Werkwijze voor het vervaardigen van een draaianode voer röntgenbuizen en zo verkregen anode.Method for manufacturing a rotary anode using X-ray tubes and anode thus obtained.
De uitvinding heeft betrekking op een werkwijze voor het vervaardigen van een draaianode voor röntgenbuizen, waarbij een bas is lichaam wordt vervaardigd uit een molybdeenlegering en op het basislichaam een treflaag uit wolfraam of een wolfraamlegering wordt aangebracht door plas-5 maspuiten.The invention relates to a method of manufacturing a rotary anode for X-ray tubes, wherein a base body is made of a molybdenum alloy and a base layer of tungsten or a tungsten alloy is applied to the base body by plasma spraying.
De uitvinding heeft tevens betrekking op de met deze werkwijze verkregen draaianode.The invention also relates to the rotary anode obtained with this method.
De uitvinding stelt zich tot opgave draaianoden te verschaffen die kunnen worden toegepast in röntgenbuizen die onder een hoge belasting 10 warden gebruikt zoals röntgenbuizen voer medische doeleinden.The invention aims to provide rotary anodes that can be used in high-load X-ray tubes such as X-ray tubes for medical purposes.
Uit de Duitse octrooiaanvrage 23 46 925 is een werkwijze bekend voor het vervaardigen van een anode, waarbij op een basislichaam uit gesmolten molybdeen of een molybdeenlegering een treflaag (dat wil zeggen de laag waarop de elektronen bij toepassing van de draaianode in een 15 röntgenbuis inslaan) uit wolfraam of een wolfraam rheniumlegering wordt aangebracht, in de genoemde octrooiaanvrage wordt aangegeven dat de treflaag kan warden aangebracht door plasmaspuiten. Nadere bijzonderheden met betrekking tot dit proces die tot dichte lagen zouden kunnen voeren ontbreken echter.German patent application 23 46 925 discloses a method for manufacturing an anode, wherein on a base body of molten molybdenum or a molybdenum alloy a target layer (ie the layer on which the electrons strike in an X-ray tube when the rotary anode is used) tungsten or a tungsten rhenium alloy is applied, the said patent application indicates that the target layer can be applied by plasma spraying. However, further details regarding this process that could lead to dense layers are lacking.
20 Bij het onder atmosferische druk plasmaspuiten van wolfraam of wolfraamlegering kan men volgens de literatuur over het algemeen geen dichtheid hoger dan ca. 92 - 94% van de theoretische dichtheid verkrijgen (zie bijvoorbeeld R. Glatzleetal, Mstall 24 , 823 FF 1970). Een dergelijke dichtheid is voor draaianoden onvoldoende; bij een dergelijke 25 dichtheid is het niet roogelijk een goed vacuum in de röntgenbuis te handhaven.In the case of plasma spraying of tungsten or tungsten alloy under atmospheric pressure, it is generally not possible according to the literature to obtain a density higher than about 92-94% of the theoretical density (see for instance R. Glatzleetal, Mstall 24, 823 FF 1970). Such a density is insufficient for rotary anodes; at such a density, it is not reasonable to maintain a good vacuum in the x-ray tube.
Men heeft wel geprobeerd de dichtheid te verhogen door dicht-sinteren van de wolfraamlaag. Daarbij verkrijgt men maximaal een dichtheid van 97% (R. Glazle et al. ibidem). De voorgeschreven sinterbehandeling (tot 15 uren op 2600°C) leidt bij de molybdeenlegeringen die normaliter 30 in basislichamen worden toegepast tot een zodanig verlies van de sterkte-eigenschappen dat toepassing in een röntgenbuis onmogelijk wordt. Het plasmaspuiten van wolfraam onder verlaagde druk is op zich bekend uit Moses A. Levinstein, Cienca Y technics de la Soldadure (Madrid) 12, 8300251 * * EHN 10.557 2Attempts have been made to increase the density by densely sintering the tungsten layer. A maximum density of 97% is thereby obtained (R. Glazle et al. Ibidem). The prescribed sintering treatment (up to 15 hours at 2600 ° C) in the molybdenum alloys normally used in base bodies results in such a loss of strength properties that application in an X-ray tube becomes impossible. The plasma spraying of tungsten under reduced pressure is known per se from Moses A. Levinstein, Cienca Y technics de la Soldadure (Madrid) 12, 8300251 * * EHN 10.557 2
No. 66, bladzijden 1-9 (1962) (zie ook Chemical Abstracts, 58, 4243 f 1963). Daarbij wordt echter een dichtheid van maximaal 92,7% verkregen. Tevens is aangegeven dat drukverlaging tot lagere dichtheden leidt.No. 66, pages 1-9 (1962) (see also Chemical Abstracts, 58, 4243 f 1963). However, a density of up to 92.7% is obtained. It has also been indicated that pressure drop leads to lower densities.
Uit E. Muehlfcerger "A high energy plasma coating process", 5 Eroc. 7th Intern. Metal Spraying Conf. 1973, Londen (zie ook hetFrom E. Muehlfcerger "A high energy plasma coating process", 5 Eroc. 7th Intern. Metal Spraying Conf. 1973, London (see also it
Amerikaanse octrooischrift 38 39 618) is een werkwijze bekend voor het plasmaspuiten van materialen zoals tantaal, wolfraamcarbide en dergelijke, waarbij plasmastramen met snelheden van Mach 3 kunnen worden toegepast. Om dergelijke snelheden te verkrijgen wordt in een ruimte 10 onder een druk van minder dan een half atmosfeer en bij voorkeur veel minder, gespoten. Proeven hebben echter aangetoond dat· op deze wijze i weliswaar lagen van voldoende dichtheid worden verkregen, maar dat de verkregen lagen toch niet geschikt zijn om als treflaag te dienen omdat bij de beschreven werkwijze de noodzakelijke procesomstandigheden ver-15 oorzaken dat de wolfraamdeeltjes in een te koude toestand worden af gezet, waardoor een globulaire structuur met te weinig binding tussen de deeltjes onderling wordt verkregen. Verrassenderwijs is gebleken dat, bij gebruik van een aanzienlijk verminderde hoeveelheid plasmagas (ca.U.S. Pat. No. 3,839,618) discloses a method of plasma spraying materials such as tantalum, tungsten carbide and the like, using plasma streams at Mach 3 rates. To achieve such speeds, a space 10 is sprayed under a pressure of less than half an atmosphere and preferably much less. However, tests have shown that although layers of sufficient density are obtained in this way, the layers obtained are nevertheless not suitable for serving as a target layer because in the process described the necessary process conditions cause the tungsten particles to form in a cold state, so that a globular structure with too little bonding between the particles is obtained. Surprisingly, it has been found that, when using a considerably reduced amount of plasma gas (ca.
1/5 van de hierboven beschreven methode) en een aanzienlijk minder lage 20 tegendruk waardoor plasmastramen met slechts subsonische tot sonische snelheden worden opgewekt, wolfraamlagen worden verkregen die zowel een goede binding tussen de deeltjes onderling als een hoge dichtheid hebben. Deze lagen zijn zeer geschikt gebleken als tref lagen voor Rö-draaianodes.1/5 of the method described above) and a considerably less low back pressure, whereby plasma streams are generated at only subsonic to sonic speeds, tungsten layers are obtained which have both a good bond between the particles and a high density. These layers have proved to be very suitable as targets for Rö rotary anodes.
Het is nu gebleken dat draaiancdes geschikt voor toepassing 25 in röntgenbuizen kunnen worden verkregen met een werkwijze die volgens de uitvinding het kenmerk draagt dat een cylindervormig lichaam uit een molybdeenlegering met een dichtheid groter of gelijk aan 90% van de theoretische dichtheid onder vergroting van de ontrek en verkleining van de hoogte wordt vervormd met een deformatiegraad van tenminste 70% tot een 30 platte schijf, de verkregen schijf door mechanische bewerking de vorm van het basislichaam wordt gegeven, waarna het basislichaam wordt voorverwarmd en een laag met een dichtheid van tenminste 97% en een dikte tussen 0,2 en 2 mm uit wolfraam of een wolfraamrheniumlegering wordt aangebracht door plasmaspuiten in een atmosfeer die minder dan 1% zuurstof bevat met 35 een druk tussen 20 en 70 kPa, waarbij het basislichaam wordt geroteerd en een temperatuur bezit van 1000 - 1600° C en indien ncdig de verkregen laag wordt nabewerkt en spanningsarm gegloeid.It has now been found that rotation angles suitable for use in X-ray tubes can be obtained by a method according to the invention characterized in that a cylindrical body of a molybdenum alloy with a density greater than or equal to 90% of the theoretical density while increasing the tensile strength and height reduction is deformed by a degree of deformation of at least 70% into a flat disk, the resulting disk is mechanically shaped into the base body, after which the base body is preheated and a layer with a density of at least 97% and a thickness between 0.2 and 2 mm of tungsten or a tungsten rhenium alloy is applied by plasma spraying in an atmosphere containing less than 1% oxygen at a pressure between 20 and 70 kPa, the base body being rotated and having a temperature of 1000 - 1600 ° C and, if necessary, the resulting layer is post-processed and stress-annealed.
Bij de werkwijze volgens de uitvinding wordt het basislichaam 8300251 tr PHN 10.557 ’ 3 bij voorkeur vccarverwarrcd op een temperatuur boven 1000° C alvorens de treflaag wordt aangebracht. Daardoor wordt een betere hechting en dichtheid van de treflaag op het basislichaam verkregen.In the method of the invention, the base body 8300251 tr PHN 10.557'3 is preferably heated at a temperature above 1000 ° C before the target is applied. As a result, a better adhesion and density of the target layer on the base body is obtained.
Om een zo groot mogelijke dichtheid te verkrijgen verdient het 5 de voorkeur een wolfraam(legering) poeder te gebruiken net een deeltjesgrootte van maximaal 45 jm,In order to obtain the greatest possible density, it is preferable to use a tungsten (alloy) powder with a particle size of maximum 45 µm,
De uitvinding wordt toegelicht aan de hand van een figuur, waarin een draaianode verkregen door toepassing van de werkwijze volgens de uitvinding is weergegeven.The invention is explained with reference to a figure, in which a rotary anode obtained by applying the method according to the invention is shown.
10 In de figuur is een draaianode weergegeven opgebouwd uit een dragerlichaam 1 en een treflaag 2. Het met 3 aangegeven gedeelte van de treflaag is de plaats waarop de elektronenstraal in de röntgeribuis wordt gefocusseerd (focusbaan 3).The figure shows a rotary anode built up of a carrier body 1 and a target layer 2. The part of the target layer, indicated by 3, is the place at which the electron beam is focused in the X-ray tube (focus path 3).
Het dragerlichaam 1 kan uit. molybdeen of alle bekende molybdeen-15 legeringen voor röntgendraaianoden zijn vervaardigd die door deformatie kunnen worden verstevigd. Bijzonder goed voldoet een gegoten of gesinterde legering met 0,40-0,60 gew. % Ti, 0,05-0,12 gew. % Zr en 0,01 -0,05 gew. % C rest Mo, een legering uit 5% W rest Mo en molybdeen dat 0,25-1,50 gew. % Y20^ bevat.The carrier body 1 can be removed. molybdenum or all known molybdenum-15 alloys for X-ray rotary nodes have been produced which can be deformed. A cast or sintered alloy with 0.40-0.60 wt. % Ti, 0.05-0.12 wt. % Zr and 0.01 -0.05 wt. % C residue Mo, an alloy of 5% W residue Mo and molybdenum containing 0.25-1.50 wt. % Y20 ^.
20 Tussen de treflaag 2 en het basislichaam 1 kunnen nog meerdere lagen aanwezig zijn bijvoorbeeld een laag van zuiver wolfraam en dergelijke. De treflaag 2 bestaat uit wolfraam of een wolfraamlegering. Alle hiertoe bekende legeringen voldoen goed. Bijzonder goede resultaten zijn verkregen met wolfraairr-rheniumlegeringen (0-10 gew. % rhenium) en met 25 wolfraam-rhenium-tantaallegeringen (0-10 gew. % rhenium, 0-4 gew. % tan-taal).Several layers may still be present between the target layer 2 and the basic body 1, for example a layer of pure tungsten and the like. The target 2 consists of tungsten or a tungsten alloy. All alloys known for this purpose are satisfactory. Particularly good results have been obtained with tungsten rhenium alloys (0-10 wt% rhenium) and with tungsten rhenium tantalum alloys (0-10 wt% rhenium, 0-4 wt% tantalum).
Het oppervlak van de treflaag uitgezonderd de focusbaan (3), en/öf van het basislichaam kan geruwd zijn om warmteafstraling te verbeteren of kan voor hetzelfde doel bekleed zijn net warmteafstraling verbeterende 3Q materialen (bijvoorbeeld ruw wolfraam of net Ti02).The target surface except the focus track (3), and / or the base body may be roughened to improve heat radiation or may be coated for the same purpose with heat radiation enhancing materials (e.g., raw tungsten or TiO2 net).
Het is mogelijk dat de treflaag een over de laagdikte verlopende samenstellingsgradient (bijvoorbeeld van het rbeniumgehalte) bezit.The target layer may have a composition gradient extending over the layer thickness (e.g., of the rbenium content).
De draaianode wordt als volgt vervaardigd. Een cylinder uit een 35 gegoten of een gesinterde molybdeenlegering, waarvan de ontrek en de hoogte zodanig zijn gekozen dat met een enkele slag van hoge energie een schijf van de gewenste dikte en diameter met een deformatiegraad van tenminste 70% kan worden verkregen wordt voorverwarmd op 1000 - 1400° C en 8300251 _v PHN 10.557 4 tussen de blokken van een pers geplaatst en aan een snelvervonnerd slagproces onderworpen.The rotary anode is manufactured as follows. A cylinder of a cast or a sintered molybdenum alloy, the draft and height of which are chosen such that with a single stroke of high energy, a disc of the desired thickness and diameter with a deformation degree of at least 70% can be obtained is preheated to 1000 - 1400 ° C and 8300251 _v PHN 10.557 4 placed between the blocks of a press and subjected to a fast-formed impact process.
Onder een snelvervontend slagproces wordt in dit verband een vervormingsproces verstaan/ waarbij met een enkele slag van grote energie-g inhoud in een inrichting voorzien van vlakke metalen persblokken een werkstuk wordt vervormd, inrichtingen voor het uitvoeren van een dergelijke werkwijze zijn op zichzelf bekend en in de handel verkrijgbaar. Zeer goede resultaten kunnen worden verkregen met een inrichting waarbij de persblokken met grote snelheid door middel van gasdruk naar elkaar toe 10 worden bewogen (zogenaamde pneumatisch-mechanische machines).In this context, a fast-dyeing impact process is understood to mean a deformation process in which a workpiece is deformed with a single impact of large energy content in a device provided with flat metal press blocks, devices for carrying out such a method are known per se and in commercially available. Very good results can be obtained with a device in which the press blocks are moved towards each other at high speed by means of gas pressure (so-called pneumatic-mechanical machines).
Tijdens en na het deformeren treedt bij dit type vervorming geen i rekristallisatie van de verkregen deformatiestructuur op. Tijdens het vervormingsproces neemt de dichtheid toe tot bijna de theoretische dichtheid mits de uitgangsdichtheid tenminste 90% van de theoretische dicht-15 heid bedraagt. Bij voorkeur bedraagt met de eerder genoemde legeringen de deformatiegraad 80% of meer, daar hierdoor de hoogste sterkte wordt verkregen.During and after deformation, no recrystallization of the resulting deformation structure occurs with this type of deformation. During the deformation process, the density increases to almost the theoretical density provided that the starting density is at least 90% of the theoretical density. Preferably, with the aforementioned alloys, the degree of deformation is 80% or more, since this gives the highest strength.
De verkregen schijf wordt, vervolgens in de juiste vorm gebracht door mechanische bewerkingen en eventueel amzetten.The resulting disc is then reshaped by mechanical operations and optional amalgamation.
20 Het oppervlak van het basislichaam wordt goed gereinigd door middel van standaard ontvettingsmethodes.20 The surface of the base body is well cleaned by standard degreasing methods.
Het basislichaam wordt dan aangebracht in een speciale, hermetisch afsluitbare kamer. De kamer wordt geëvacueerd, gespoeld en gevuld met Ar net een 02 gehalte < 20 ppm.The base body is then placed in a special, hermetically sealable chamber. The chamber is evacuated, rinsed and filled with Ar with an O 2 content <20 ppm.
25 Het is ook mogelijk He of N2 toe te passen. Alle genoemde gassen kunnen onderling vermengd en/of vermengd met H^ (0 - 25 vol. %) worden gebruikt. Deze cyclus wordt bij voorkeur enige malen herhaald on mogelijke zuurstof resten uit de kamer te verwijderen. Tenslotte wordt de kamer gevuld met een van de zojuist genoemde gassen cq. gasmengsels tot de 30 gewenste druk (20-70 kPa). Bij voorkeur wordt een druk van 30-50 kPa toegepast en gehandhaafd tijdens het spuiten. Dan wordt met een plasma-pistool het materiaal voor de tref laag op het basislichaam gespoten. (Energietoevoer aan plasmapistool ongeveer 60 kW). Bij voorkeur wordt het roterende basislichaam met het plasmapistool 0,5 minuut voorverwarmd op 35 een temperatuur boven 1000° C (1100 - 1600° C) voordat het materiaal van de tref laag wordt gespoten. Deeltjesgrootte 10-37 ^rni. Het is mogelijk de samenstelling van het spuitmateriaal continue te variëren teneinde een gradient in de samenstelling van de tref laag te verkrijgen. De tref laag 8300251 PHN 10.557 5 wordt bij voorkeur aangebracht in een laagdikte van 0/5 - 1/5 nm terwijl het basislichaam roteert. Het is mogelijk, door middel van een masker/ cm te tref laag uitsluitend ter plaatse van de focusbaan 3 aan te brengen.It is also possible to use He or N2. All mentioned gases can be used intermixed and / or mixed with H 2 (0 - 25% by volume). This cycle is preferably repeated several times to remove possible oxygen residues from the chamber. Finally, the chamber is filled with one of the gases just mentioned. gas mixtures up to the desired pressure (20-70 kPa). Preferably, a pressure of 30-50 kPa is applied and maintained during spraying. Then, with a plasma gun, the target material is sprayed onto the base body. (Power supply to plasma gun about 60 kW). Preferably, the rotating base body with the plasma gun is preheated at a temperature above 1000 ° C (1100 - 1600 ° C) for 0.5 minute before the target material is sprayed. Particle size 10-37 ^ rni. It is possible to continuously vary the composition of the spray material in order to obtain a gradient in the composition of the target layer. The target layer 8300251 PHN 10.557 5 is preferably applied in a layer thickness of 0/5 - 1/5 nm while the base body rotates. It is possible, by means of a mask / cm, to apply the target layer only at the location of the focus track 3.
Na beëindigen van het plasmaspuiten laat men het basislichaam plus 5 treflaag in de kamer afkoelen. Tenslotte wordt het verkregen produkt uit de kamer gehaald en verder bewerkt. Daarbij wordt de focusbaan 3 geslepen.After the plasma spraying has ended, the base body plus target layer is allowed to cool in the chamber. Finally, the product obtained is removed from the chamber and further processed. The focus track 3 is sharpened.
Met de werkwijze volgens de uitvinding werd bij alle genoende wolfraamlegeringen een dichtheid van meer dan 97.% verkregen. Bovendien 10 hechtte de treflaag goed en was de laag geschikt cm als treflaag te dienen dat wil zeggen de laag heeft : - goede binding tussen de deeltjes onderling, dus geen loslaten van deeltjes uit de laag, - geen abnormale gasafgifte in de buis.With the process according to the invention, a density of more than 97% was obtained in all tungsten alloys produced. In addition, the target layer adhered well and the layer was suitable to serve as a target layer, ie the layer has: - good bonding between the particles mutually, thus no release of particles from the layer, - no abnormal gas release in the tube.
15 De verkregen schijven hebben een onbalans kleiner dan 1 gramm cm.The disks obtained have an unbalance of less than 1 gram cm.
20 25 30 35 830025120 25 30 35 8 300 251
Claims (14)
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
NL8300251A NL8300251A (en) | 1983-01-25 | 1983-01-25 | METHOD OF MANUFACTURING A TURNING ANOD FOR ROENTGEN TUBES AND ANODE THAT OBTAINED |
US06/569,869 US4534993A (en) | 1983-01-25 | 1984-01-11 | Method of manufacturing a rotary anode for X-ray tubes and anode thus produced |
EP84200081A EP0116385A1 (en) | 1983-01-25 | 1984-01-23 | Method of manufacturing a rotary anode for X-ray tubes and anode thus produced |
JP59010356A JPS59141144A (en) | 1983-01-25 | 1984-01-25 | Method of producing x-ray tube rotary anode and rotary anode |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
NL8300251 | 1983-01-25 | ||
NL8300251A NL8300251A (en) | 1983-01-25 | 1983-01-25 | METHOD OF MANUFACTURING A TURNING ANOD FOR ROENTGEN TUBES AND ANODE THAT OBTAINED |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
NL8300251A true NL8300251A (en) | 1984-08-16 |
Family
ID=19841280
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
NL8300251A NL8300251A (en) | 1983-01-25 | 1983-01-25 | METHOD OF MANUFACTURING A TURNING ANOD FOR ROENTGEN TUBES AND ANODE THAT OBTAINED |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4534993A (en) |
EP (1) | EP0116385A1 (en) |
JP (1) | JPS59141144A (en) |
NL (1) | NL8300251A (en) |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL8402828A (en) * | 1984-09-14 | 1986-04-01 | Philips Nv | METHOD FOR MANUFACTURING A ROTARY TURNAROUND AND ROTARY TURNAROOD MANUFACTURED BY THE METHOD |
EP0359865A1 (en) * | 1988-09-23 | 1990-03-28 | Siemens Aktiengesellschaft | Anode plate for a rotary anode X-ray tube |
AT397005B (en) * | 1991-05-07 | 1994-01-25 | Plansee Metallwerk | METHOD FOR PRODUCING AN X-RAY ROTARY ANODE |
US5246742A (en) * | 1991-05-07 | 1993-09-21 | Schwarzkopf Technologies Corporation | Method of posttreating the focal track of X-ray rotary anodes |
AT1984U1 (en) * | 1997-04-22 | 1998-02-25 | Plansee Ag | METHOD FOR PRODUCING AN ANODE FOR X-RAY TUBES |
US20070207338A1 (en) * | 2006-03-01 | 2007-09-06 | Plasma Processes, Inc. | X-ray target and method for manufacturing same |
US20080081122A1 (en) * | 2006-10-03 | 2008-04-03 | H.C. Starck Inc. | Process for producing a rotary anode and the anode produced by such process |
US20080118031A1 (en) * | 2006-11-17 | 2008-05-22 | H.C. Starck Inc. | Metallic alloy for X-ray target |
US7601399B2 (en) * | 2007-01-31 | 2009-10-13 | Surface Modification Systems, Inc. | High density low pressure plasma sprayed focal tracks for X-ray anodes |
US20090060139A1 (en) * | 2007-08-28 | 2009-03-05 | Subraya Madhusudhana T | Tungsten coated x-ray tube frame and anode assembly |
US9159523B2 (en) | 2007-08-28 | 2015-10-13 | General Electric Company | Tungsten oxide coated X-ray tube frame and anode assembly |
US7720200B2 (en) * | 2007-10-02 | 2010-05-18 | General Electric Company | Apparatus for x-ray generation and method of making same |
US8699667B2 (en) | 2007-10-02 | 2014-04-15 | General Electric Company | Apparatus for x-ray generation and method of making same |
CN105895474A (en) * | 2014-05-06 | 2016-08-24 | 苏州艾默特材料技术有限公司 | Preparation method for anode target of X ray tube |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3493415A (en) * | 1967-11-16 | 1970-02-03 | Nasa | Method of making a diffusion bonded refractory coating |
BE758645A (en) * | 1969-11-08 | 1971-05-06 | Philips Nv | PROCESS FOR THE MANUFACTURE OF ROTARY ANODES FOR TUBESA RAYONSX |
US3839618A (en) * | 1972-01-03 | 1974-10-01 | Geotel Inc | Method and apparatus for effecting high-energy dynamic coating of substrates |
NL7216500A (en) * | 1972-12-06 | 1974-06-10 | ||
NL158967B (en) * | 1972-12-07 | 1978-12-15 | Philips Nv | PROCESS FOR THE MANUFACTURE OF A LAYERED ROENTGEN TURNODE, AS WELL AS A LAYERED ROENTGEN TURNODE THEREFORE. |
DE2346925A1 (en) * | 1973-09-18 | 1975-03-27 | Siemens Ag | Molybdenum rotary anodes for X-ray tubes - mfd. from sheet metal, may contain alloying elements and are cheaper than sintered anodes |
IT1023141B (en) * | 1973-11-02 | 1978-05-10 | Tokyo Shibaura Electric Co | ROTARY ANODIC STRUCTURE FOR X-RAY TUBE |
US3936689A (en) * | 1974-01-10 | 1976-02-03 | Tatyana Anatolievna Birjukova | Rotary anode for power X-ray tubes and method of making same |
AT336143B (en) * | 1975-03-19 | 1977-04-25 | Plansee Metallwerk | X-ray anode |
US4132916A (en) * | 1977-02-16 | 1979-01-02 | General Electric Company | High thermal emittance coating for X-ray targets |
US4327305A (en) * | 1978-11-20 | 1982-04-27 | The Machlett Laboratories, Inc. | Rotatable X-ray target having off-focal track coating |
NL7903389A (en) * | 1979-05-01 | 1980-11-04 | Philips Nv | METHOD FOR IMPROVING THE HEAT-DRAWING PROPERTIES OF A ROTARY TURNAROOD AND SO THAT TURNAROUNDED. |
NL7906417A (en) * | 1979-08-27 | 1981-03-03 | Philips Nv | METHOD OF MANUFACTURING A TURNING ANOD FOR ROENTGEN TUBES AND ANODE THAT OBTAINED |
-
1983
- 1983-01-25 NL NL8300251A patent/NL8300251A/en not_active Application Discontinuation
-
1984
- 1984-01-11 US US06/569,869 patent/US4534993A/en not_active Expired - Fee Related
- 1984-01-23 EP EP84200081A patent/EP0116385A1/en not_active Ceased
- 1984-01-25 JP JP59010356A patent/JPS59141144A/en active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0116385A1 (en) | 1984-08-22 |
JPS59141144A (en) | 1984-08-13 |
US4534993A (en) | 1985-08-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
NL8300251A (en) | METHOD OF MANUFACTURING A TURNING ANOD FOR ROENTGEN TUBES AND ANODE THAT OBTAINED | |
JP2690260B2 (en) | Method for forming coating layer by plasma spraying magnetic-cermet dielectric composite particles | |
US5470527A (en) | Ti-W sputtering target and method for manufacturing same | |
US20060172454A1 (en) | Molybdenum alloy | |
JP2004523093A (en) | Reactive brazing of tungsten or molybdenum bodies to carbonaceous supports | |
JPH06212389A (en) | Method of enhancing structural integrality of joint of spray cast article | |
WO1997037801A1 (en) | Single phase tungsten-titanium sputter targets and method of producing same | |
US6132812A (en) | Process for making an anode for X-ray tubes | |
NL8402828A (en) | METHOD FOR MANUFACTURING A ROTARY TURNAROUND AND ROTARY TURNAROOD MANUFACTURED BY THE METHOD | |
JPH0229634B2 (en) | ||
JPH01136962A (en) | Coating method | |
JPH08279344A (en) | X-ray tube and its manufacture | |
JP3086447B1 (en) | Tungsten target for sputtering and method for producing the same | |
NL7906417A (en) | METHOD OF MANUFACTURING A TURNING ANOD FOR ROENTGEN TUBES AND ANODE THAT OBTAINED | |
JPS60194067A (en) | Formation of hard film | |
JPH0480493B2 (en) | ||
JPS62290051A (en) | Heat radiating film for x-rays tube target | |
EP0174393B1 (en) | Method for producing high density tungsten-rhenium alloys | |
CN116022839B (en) | Preparation method for preparing micro-nano structure at one time, micro-nano structure and application thereof | |
JP3204809B2 (en) | Method for producing impregnated cathode assembly | |
JPH03159978A (en) | Method for forming metallic film onto ceramic surface by ion mixing method | |
JPH01107439A (en) | Rotary anode for x rays tube | |
JPS5816298B2 (en) | Ex-sensor rotary target information | |
JPS62170138A (en) | Positive electrode fox x ray tube and its manufacture | |
JPH02184577A (en) | Ceramics bonding parts |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A1B | A search report has been drawn up | ||
A85 | Still pending on 85-01-01 | ||
BV | The patent application has lapsed |